DE4112632A1 - Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen - Google Patents
Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellenInfo
- Publication number
- DE4112632A1 DE4112632A1 DE4112632A DE4112632A DE4112632A1 DE 4112632 A1 DE4112632 A1 DE 4112632A1 DE 4112632 A DE4112632 A DE 4112632A DE 4112632 A DE4112632 A DE 4112632A DE 4112632 A1 DE4112632 A1 DE 4112632A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- coated
- amorphous
- substrate
- monomolecular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
- B05D1/185—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping applying monomolecular layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/14—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M15/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, with macromolecular compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
- D06M15/19—Treating fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, with macromolecular compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with synthetic macromolecular compounds
- D06M15/37—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D06M15/643—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds containing silicon in the main chain
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M15/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, with macromolecular compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
- D06M15/19—Treating fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, with macromolecular compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with synthetic macromolecular compounds
- D06M15/37—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D06M15/643—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds containing silicon in the main chain
- D06M15/6436—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds containing silicon in the main chain containing amino groups
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M23/00—Treatment of fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, characterised by the process
- D06M23/005—Applying monomolecular films on textile products like fibres, threads or fabrics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
Die jetzige Erfindung bezieht sich auf eine schmutzabweisende
Substanz, die Oberflächen eine schmutzabweisende Eigenschaft
verleiht und einen niedrigen Reibungkoeffizienz besitzt, die Ober
flächen auch wasser- und ölabstoßende Eigenschaften verleiht, die
das Licht durchlassen, reflektieren oder auch löschen, wie etwa
Glas (für Konstruktionszwecke, Schaufenster, Möbel, Automobile,
elektrische Fahrzeuge, Flugzeuge, Schiffe, Armband-, Wand-,
Stand-und Turmuhren, Beleuchtungsvorrichtungen, Gehäuse, ver
schiedene Instrumente, Kameraabdeckungen, Wasserbecken und ähnli
ches); Kunststoff (für Konstruktionszwecke, Automobile, Fahrrä
der, SRT-Abdeckungen, Schreibpapier, Produkte für den Haushalt,
usw.); Linsen und Objektive aus Glas (für Fotoapparate, Videoka
meras, Ferngläser, Zielfernröhre für Gewehre, Vermessungsinstru
mente und ähnliches) Kunststofflinsen (für Brillen und ähnli
ches) Objektive und Linsen aus Glas oder Kunststoff, deren Ober
flächen mit einem nicht-reflektierenden Film versehen sind (für
Brillen, usw.); Spiegeln (zum Gebrauch im Haus, in Automobilen,
für Konstruktionszwecke und ähnliches); Röhren für bildliche
Darstellungen (Braun-Röhre für Fernsehgeräte, Braun-Röhre für
CRT, LCD, TFT, FL, Kathodenstrahlröhre usw); weitere Keramiken
und keramische Model (um die Abgase von Automobilen und Küchen
dünste abzuleiten und ähnliches); Porzellan (Kunstobjekte, Tisch
geschirr, Toiletten, Kacheln, Isoliervorrichtungen usw.); alle
Arten von Metall, Leder usw., Holz und Hölzern, die mit einem
Überzug versehen sind (für Konstruktionszwecke, Möbel, Handwerks
gegenstände, Geschirr, buddhistische Altarinstallationen, bud
dhistische Hausaltäre usw.); Gestein (für Gartendekoration, Grab
mäler, usw.); Textilen, die aus Tier-, Pflanzen- und Kunststof
fasern bestehen, beschichtetem Metall, Kunststoffen (für
Schiffe, Automobile, Motorräder, Fahrräder, Maschinen für Zivil
konstruktionszwecke, landwirtschaftliche Maschinen, Flugzeuge,
Teile von Raketen usw.); darüber hinaus bezieht sich die gegenwär
tige Erfindung auf eine Methode, diese oben genannte Substanz
herzustellen.
Nicht-reflektierende Filme werden gewöhnlich z. B. auf die Ober
fläche von Objektiven und Linsen aus Kunststoff und Glas auf
getragen. Ein solcher nicht-reflektierender Film bedarf deshalb
einer speziellen Behandlung weil Fingerabdrücke, Fette, Staub und
ähnliches allzu leicht auf einer solchen Oberfläche abgelagert
werden. Sind diese einmal auf der Oberfläche deponiert, können
sie nicht leicht weggewischt werden wegen der minderwertigen
wasser- und ölabweisenden Eigenschaften des Films. Es wäre des
halb vom Nutzen, dem Film mit einer schmutzabweisenden Eigen
schaft zu versehen.
Es ist bekannt, daß eine schmutzabweisende Eigenschaft dargebo
ten werden kann, wenn auf der Oberfläche eines Substrats wie etwa
Metall oder ähnliches ein Film von Polytetrafluoroethylen oder
Silikonöl gebildet wird. Dennoch kann der Film von Polytetrafluor
ethylen oder Silikonöl nicht in einen noch dünneren Film um
gewandelt werden. Zum Beispiel, wenn der Polytetrafluoroethy
lenfilm auf dem nicht-reflektierenden Film auf einem Objektiv
oder einer Linse aus Kunststoff oder Glas gebildet wird, wird
eine Kohärenz zwischen dem Polytetrafluoroethylenfilm und dem
nicht-reflektierenden Überzug des Objektivs oder der Linse wegen
der Dicke des Polytetrafluoroethylenfilms induziert. Das durch
die beiden Filme durchgelassene Licht färbt sich oder es kann
kein Licht durch die beiden Filme dringen. Aus diesem Grunde kann
ein solcher Film auf einem solchen Objektiv oder einer solchen
Linse nicht verwendet werden. Falls der auf dem nicht-reflek
tierenden Überzug eines Objektivs zu bildende Film ein dünner
Film wie etwa ein monomolekularer Film ist ( d. h., die Dicke
dieses Films beträgt die Länge eines einzigen Moleküls), kann
eine Kohärenz unterbunden werden.
Der ausgehärtete, filmbildende Wirkstoff, der aus dem oben be
schriebenen kaltaushärtenden Polysilazan oder Polysiloxazan
besteht, ist eine aushärtende, organische Silikonverbindung, die
durch die folgende Gattungsformel dargestellt werden kann:
wobei R1 und R2 jeweils ein Wasserstoff-Atom oder ein monovalen
ter organischer Rest sind, die identisch sind oder sich von
einander unterscheiden, wie z. B., ein Alkylrest, ein Alkenyl
rest, ein Arylrest, ein Zykloalkylrest, oder ein halogenisierter
Kohlenwasserstoffrest, die sich identisch miteinander aufweisen
den Reste oder sich voneinander unterscheidenden Reste, wie etwa
ein Perfluoroalkylrest, bei dem mit Kohlenwasserstoff-Atome
gebundene Wasserstoff-Atome teils oder vollständig durch Halogen-
Atome ersetzt werden, ein substituierter Kohlenwasserstoffrest,
der beispielsweise einen funktionalen Rest enthält wie etwa
einen Alkoxyrest, einen hydrolysbaren Rest und, darüber hinaus,
einen Epoxyrest, z. B. NH2, CH2, CH2 -Rest, wobei a, b jeweils eine
positive Nummer von = 0-1,5 und m 1, n 0 repräsentieren.
Als die oben beschriebenen aushärtenden, organischen Silikon-Ver
bindung, werden diejenigen verwendet, die z. B. folgende Struktur
einheit besitzen:
CH₃Si (NH)1.5
CH₃Si (OCH₃)NH
R³O
CH₂=C-(CH₂CH₂Si(NH)1.5),
CH₃Si (OCH₃)NH
R³O
CH₂=C-(CH₂CH₂Si(NH)1.5),
wobei R³ ein Wasserstoff-Atom oder einen Methylrest darstellt,
1=1-3.
Als Verfahren, um einen solchen monomolekularen Film auf einem
Substrat zu bilden, ist das Langmuir-Verfahren bekannt, das darin
besteht, einen monomolekularen Film auf einer Wasseroberfläche zu
bilden, das Substrat in Kontakt mit der Wasseroberfläche zu
bringen, um somit den monomolekularen Film von der Wasseroberflä
che auf das Substrat zu transferieren. Ein durch das Langmuir-
Verfahren gebildeter monomolekularer Film kann bekanntlich entwe
der als kristallartiger oder amorpher, monomolekularer Film
klassifiziert werden. Wenn die Temperatur einer wäßrigen Phase
unter dem Schmelzpunkt des monomolekularen Films liegt, werden
zweidimensionale, voneinander getrennte Kristallite sofort nach
der Ausdehnung auf dem Substrat gebildet, und wenn sie dann unter
Verwendung von Kompression zusammengebracht werden, so daß sie
morphologisch einen uniformen, kristallinen, monmolekularen Film
zu bilden scheinen; wenn die Temperatur der wäßrigen Phase höher
ist als der Schmelzpunkt des monomolekularen Films, werden amor
phe Domänen sofort nach der Ausdehnung des Films auf dem Substrat
gebildet, und wenn sie dann und der Verwendung von Kompression
zusammengebracht werden, scheinen sie einen uniformen, amorphen,
monomolekularen Film zu bilden. Die Kühlung und Herausbildung des
amorphen, monomolekularen Films kann einen monomolekularen Film
mit viel wenigeren Defekten herstellen als jene, die in den
kristallinen, monomolekularen Filmen gefunden werden.
Um einen monomolekularen Film auf dem vorhererwähnten nicht
reflektierenden Film eines Objektivs oder einer Linse aus Kunst
stoff oder Glas zu bilden, wird die Oberfläche des Substrats etwa
drei Minuten lang mit einer Lösung angefeuchtet, die durch die
Verdünnung von 3%, nach Gewicht eines aus einem kaltaushärtenden
Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten,
filmbildenden Wirkstoffs mit 97%, Fleon 113 nach Gewicht präpa
riert wird. Da die Kontrolle der Dicke über die Herstellung des
monmolekularen Films schwierig handzuhaben ist, wird der Film
zuerst in einer mehr als notwendigen Dicke auf das Substrat
aufgetragen. Nachträglich wird die übermäßige Dicke abgetragen.
Wenn ein monomolekularer Film nach dem oben erwähnten Verfahren
hergestellt wird, können fremde Materien in Berührung mit der
Oberfläche des Films kommen. Deshalb werden die unnotwendigen
Schichten dieses Films mit gasförmigem Fleon 113 abgetragen. Dann
wird der Film für etwa eine Stunde lang getrocknet. Nach diesem
Verfahren können die fremden Materien abgewaschen werden.
Es ist dennoch sehr schwierig, die Temperatur beim bekannten
Verfahren so zu kontrollieren, daß bei der Herstellung eines
monomolekularen Films der hergestellte Film jemals vollständig
amorph wird. Auch die Temperatur kann bei diesem Verfahren nicht
erhöht werden, weil dies eine minderwertige Adhäsion des Films
verursachen, sowie seine Haltbarkeit und
Verschleißbarkeit niedrig halten und auch einen niedrigen Produk
tivitätsertrag bei der Herstellung des Films veranlassen kann.
Darüber hinaus auch deshalb, weil das bekannte Verfahren
Geräte mit einem großen Maßstab und einem komplexen Verfahren
sablauf verlangt, ist die Kontrolle über die Schritte des Verfah
rens diffizil. Außerdem wird nach diesem Verfahren der überschüs
sige Teil des Films mit gasartigen Fleon 113 abgetragen. Dennoch
ist die Kontrolle über das Material Fleon 113 schwierig wegen der
riesigen Menge, die verwendet werden muß. Zusätzlich generiert
die enorme Menge von Fleon 113, die verwendet wird, Fleongas, die
ursächlich Teil des Gegenwartsproblems der Zerstörung von der
Ozonschicht in der Atmosphäre ist.
Auf den oben genannten Erkenntnissen fußend, hat der jetzige Er
finder die Absicht, eine verbesserte schmutzabweisende Substanz
sowie ein verbessertes Verfahren, diese herzustellen, bereitzu
stellen.
Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung vor, daß die
schmutzabweisende Substanz ein auf einem Substrat gebildeter,
amorpher, monomolekularer Film aus einem aus einem kaltaushär
tenden Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärtetem
filmbildenden Wirkstoff ist.
Als Verfahren für die Herstellung der schmutzabweisenden Substanz
sieht die Erfindung vor, daß eine eine Lösung eines aus kaltaus
härtenden Polysilasan oder Polysiloxasan selektierter, ausgehär
teter, filmbildender Wirkstoff vakuumverdampft wird und daß auf
einem Substrat ein amorpher monomolekularer Film aus einem aus
kalthärtenden Polysilazan oder Polysiloxazan selektierter, aus
gehärteter, filmbildender Wirkstoff gebildet wird.
Die oben erwähnten Lösung wird durch die Verdünnung eines aus
kalthärtendem Polysilizan oder Polysiloxazan selektierten, aus
gehärteten, filmbildenden Wirkstoffs mit einem aus einer fluo
rierten Verbindung bestehenden Lösungsmittel präpariert.
Die folgenden Materialien können als Substrat verwendet werden,
das den amorphen, monomolekularen Film trägt: Glas, Linsen und
Objektive aus Glas, Spiegel, Kunststoff, Linsen und Objektive aus
Kunststoff, Metall, Keramik, Porzellan, Leder, Hölzern, Gestein,
Textilien, beschichtete Metalle, beschichteter Kunststoff, be
schichtete Hölzer oder hartbeschichtetes Glas, hartbeschichteter
Kunststoff, hartbeschichtete Metalle, hartbeschichtete Keramik
und ähnliches.
Es ist schwierig, die Filmdicke des amorphen, monomolekularen
Films zu kontrollieren, wenn sie weniger als 0,1 nm beträgt; es
ist leicht, die übermäßige Dicke abzutragen, wenn sie 300 nm
übersteigt. Falls sie, z. B., 120 nm übersteigt, wird Kohärenz
zwischen dem amorphen, monomolekularen Film und dem nicht-reflek
tierenden Film einer Linse stattfinden, wenn dieser als Substrat
verwendet wird. Die Filmstärke wird deshalb innerhalb der Reich
weite von 1 nm bis 120 nm gewählt. Die Filmstärke zwischen der
Reichweite 10 nm bis 20 nm gewählt, falls der amorphe, monomole
kulare Film in einer Kunststoff- oder Glaslinse oder -objektiv
verwendet wird.
Anders als in den obengenannten Beispielen können Kunststoffe
oder Metalle, die mit einem beschichteten Film versehen worden
sind, als Substrat benutzt werden, auf dem der amorphe, monomole
kulare Film aufgetragen wird.
Nach der jetzigen Erfindung, kann dem Film wasser- und ölabwei
sende Eigenschaften mittels der Verwendung von einem aus kalthär
tendem Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärte
ten, filmbildenden Wirkstoff dem Film verliehen werden.
Darüber hinaus ist der gebildete Film dünn, weil er monomolekular
ist. Der Film kann auch deshalb das Auftreten von Kohärenz unter
binden, auch wenn dieser auf der nicht-reflektierenden Beschich
tung einer Kunststoff- oder Glaslinse oder eines -objektivs
verwendet wird; weiterhin kann der monomolekulare Film nicht
herauskristallisiert werden und besitzt wenigere Defekte, die zu
einer verbesserten Festigkeit und Haltbarkeit sowie zu einer
niedrigeren Verschleißbarkeit führen.
Auf der anderen Seite wird durch die Bildung eines monomolekula
ren Films eines aus kaltaushärtendem Polysilazan oder Polysiloxa
zan bestehenden ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoffs auf dem
Substrat mittels eines Vakuumverdampfungsverfahrens Kritallisa
tionswasser im Vakuum dem Prozeß entzogen, was zu der schnellen
Bildung eines amorphen, monomolekularen Films führt, der eine
exzellente Härte, Haltbarheit und eine niedrige Verschleißbarkeit
besitzt, aber auch wenigere Defekte aufweist.
Zusätzlich durch die Bildung eines amorphen, monomolekularen
Films eines aus einem kaltaushärtenden Polysilazan oder Polysi
loxazan selektierten, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoffs
auf einem Substrat mittels des Vakuumverdampfungsverfahrens ist
die Bildung eines amorphen, monomolekularen Films mit einer Dicke
von der Länge eines einzigen Moleküls möglich, der dem Substrat
fest anhaftet, da der ausgehärtete, filmbildende Wirkstoff hoch
aktiv und das Substrat zur Zeit des Vakuumverdampfungsverfahrens
erwärmt worden ist. Darüber hinaus, da der amorphe, monomoleku
lare Film leicht abgetragen werden kann. Wenn die Dicke des Films
mehr als 300 nm beträgt, ist die Verwendung von Fleon 113 nicht
mehr erforderlich.
Die jetzige Erfindung wird unten in Verkörperungen exemplifi
ziert:
Wasserfreies, gasförmiges Ammoniak wurde in eine Lösung aus 50 Teilen n-C8F17, CH2, CH SiOl3 nach Gewicht und 750 Teilen Trich loromonoflouromethan nach Gewicht eingeführt, um die Temperatur der Lösung zu erhöhen, um Trichloromonofluoromethan in den Rück lauf zu bringen. Nachdem 15.5 Teile gasförmiges Ammoniak nach Gewicht auf diese Weise eingeführt worden ist, wurde die Zufuhr von Ammoniak unterbrochen. Danach wurde die Lösung vier Stunden lang unter Hitze gerührt, währenddessen gasförmiger Stickstoff durch Rücklauf eingeführt wurde. Abgesetztes Ammoniumfluorid wurde durch Filtration getrennt und Tricloromonoflouromethan mittels Verdampfung aus dem Filtrat entfernt, um ein weißes Festpulver zu erhalten, das einen aus 39,8 Teilen Polysilasan nach Gewicht bestehenden, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff bildete. Eine passende Menge von einer Polysilasanlösung, die zu einer 3% nach Gewicht bildenden Konzentration mittels Trichloro monofluoromethan als Lösungsmittel einer fluorierten Verbindung (ausgeschlossen aus den Fleon betreffenden Verordnungen) in einem aus Wolfram bestehenden (Molybdän und Tantal könnten statt dessen verwendet werden), hitzebeständigem Gefäß vorbereitet wurde. Der Grad des Vakuums innerhalb des Vakuumsverdampfers wurde mittels einer getriebenen Vakuumpumpe auf etwa 6·10-5 mb (der präzise Grad kann innerhalb der Skala 6·10-4 bis 6·10-5 gewählt werden) gesetzt. Anschließend wurde das hitzebeständige Gefäß unter elektischen Strom gesetzt, um die Polysilazanlösung verdampfen zu lassen. Dies resultierte in der Ablagerung des monomolekularen Polysalazanfilms auf einem nicht erwärmten (d. h. bei normaler Temperatur liegenden) Substrat. Da das hitzebestän dige Gefäß mittels elektrischer Spannung auf ca. 160°C erhitzt wurde, wurde auch die Atmosphäre innerhalb des Vakuumverdampfers erwärmt - zusammen mit der daraus resultierender Erwärmung des Substrats -, auch wenn Wärme diesem nicht unmittelbar zugefügt wurde.
Wasserfreies, gasförmiges Ammoniak wurde in eine Lösung aus 50 Teilen n-C8F17, CH2, CH SiOl3 nach Gewicht und 750 Teilen Trich loromonoflouromethan nach Gewicht eingeführt, um die Temperatur der Lösung zu erhöhen, um Trichloromonofluoromethan in den Rück lauf zu bringen. Nachdem 15.5 Teile gasförmiges Ammoniak nach Gewicht auf diese Weise eingeführt worden ist, wurde die Zufuhr von Ammoniak unterbrochen. Danach wurde die Lösung vier Stunden lang unter Hitze gerührt, währenddessen gasförmiger Stickstoff durch Rücklauf eingeführt wurde. Abgesetztes Ammoniumfluorid wurde durch Filtration getrennt und Tricloromonoflouromethan mittels Verdampfung aus dem Filtrat entfernt, um ein weißes Festpulver zu erhalten, das einen aus 39,8 Teilen Polysilasan nach Gewicht bestehenden, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff bildete. Eine passende Menge von einer Polysilasanlösung, die zu einer 3% nach Gewicht bildenden Konzentration mittels Trichloro monofluoromethan als Lösungsmittel einer fluorierten Verbindung (ausgeschlossen aus den Fleon betreffenden Verordnungen) in einem aus Wolfram bestehenden (Molybdän und Tantal könnten statt dessen verwendet werden), hitzebeständigem Gefäß vorbereitet wurde. Der Grad des Vakuums innerhalb des Vakuumsverdampfers wurde mittels einer getriebenen Vakuumpumpe auf etwa 6·10-5 mb (der präzise Grad kann innerhalb der Skala 6·10-4 bis 6·10-5 gewählt werden) gesetzt. Anschließend wurde das hitzebeständige Gefäß unter elektischen Strom gesetzt, um die Polysilazanlösung verdampfen zu lassen. Dies resultierte in der Ablagerung des monomolekularen Polysalazanfilms auf einem nicht erwärmten (d. h. bei normaler Temperatur liegenden) Substrat. Da das hitzebestän dige Gefäß mittels elektrischer Spannung auf ca. 160°C erhitzt wurde, wurde auch die Atmosphäre innerhalb des Vakuumverdampfers erwärmt - zusammen mit der daraus resultierender Erwärmung des Substrats -, auch wenn Wärme diesem nicht unmittelbar zugefügt wurde.
Mittels der Verdampfung einer erforderlichen Menge von einer
Polysilazanlösung konnte ein amorpher monomolekularer Film herge
stellt werden, bei dem die Größe der monomolekularen Kristalliten
wesentlich zunimmt. Bei nachfolgender Kühlung und Herauskristal
lisierung des amorphen, monomolekularen Films konnte
ein monomolekularer Film mit wenigeren Defekten hergestellt
werden. Durch eine Kontrolle der Spannung des elektrischen Stroms
sowie seiner Anwendungszeit auf das hitzebeständige Gefäß, konnte
die Größe des monomolekularen Cristallits von 0,1 nm auf 300 nm
gesteigert werden; die Dicke des monmolekularen Polysilasanfilms
auf dem Substrat konnte kontrolliert werden, wie in der Beziehung
zwischen dem Volumen der Polysilazanlösung und der hergestellten
Filmdicke des amorphen monomolekularen Films gezeigt werden kann:
Darüber hinaus wurden die folgenden Verfahren angewandt, um den
Stand des Wachstums von dem monomolekularen Film zu testen:
- 1) eine Polysilazanlösung wurde in einem Vakuumverdampfer kontinuierlich verdampft, um einen 300-nm-Film auf dem Sub strat zu bilden.
- 2) eine Polysilazanlösung wurde in einem Vakuumverdampfer verdampft und, als zuerst ein 150-nm-Film entstanden war, wurde die Verdampfung unterbrochen. Danach wurde wieder verdampft in einem Vakuum, um einen zweiten 150-nm-Film, d. h., um insgesamt einen 300-nm-Film zu bilden.
- 3) eine Polysilazanlösung wurde in einem Vakuumverdampfer verdampft, um zuerst einen 200-nm-Film auf dem Substrat zu bilden. Dann wurde die Verdampfung unterbrochen. Danach wurde wieder in einem Vakuum verdampft, um wieder einen 150- nm-Film, d. h., um insgesamt einen 350-nm-Film zu bilden.
- 4) eine Polysilazanlösung wurde in einem Vakuumverdampfer verdampft, um einen Film mit einer auf dem Substrat herge stellten Dicke von weniger als 300 nm herzustellen; die Verdampfung wurde dann eingestellt. Danach wurde das im Vakuumverdampfer liegende Substrat wieder dem Polysilazan lösung-Verdampfungsverfahren ausgesetzt.
- Das Ergebnis war, daß in den Fällen (1) und (2) kein Abrieb effekt beobachtet werden konnte, während ein 50-nm-Defekt für die Filme, deren Dicke mehr als 300 nm betrugen, festge stellt wurde. Darüber hinaus konnte bei der fortgesetzten Verdampfung im Falle (4) kein weiteres Wachstum der Filmdicke wahrgenommen werden.
Da Silanolreste, die mittels einer Hydrolyse des Silazan-Verbin
dungen gebildet werden, höchst aktiv sind, ist die Adhäsion
bemerkenswert erhöht und die Oberfläche des Substrats durch
Erwärmung auch aktiviert, es kann angenommen werden, daß in dem
Polysilazanfilm das Polysilazan am Substrat fest haftet. Darüber
hinaus, wie aus den Ergebnissen des vorangegangen Tests zu
schließen ist, kann angenommen werden, daß der amorphe, monomole
kulare Film, dessen Dicke der Länge eines einzigen Polysilazan
moleküls entspricht, mittels der Verdampfung der Polysilazanlö
sung in einem Vakuumverdampfer bis zu einer Dicke von 300 nm
gebildet wird. Es wurde festgestellt, daß die weitere Verdampfung
der Silazanlösung zu einem Verlust der über 300 nm übersteigenden
Filmdicke führte.
Nachdem das Substrat zusammen mit dem schon abgesetzten amorphen,
monomolekularen Polysilazanfilm in einer m-Xylen-Hexafluoridlö
sung angefeuchtet wurde, konnte der Teil des monomolekularen
Films, der dicker als 300 nm war, abgestreift werden, um den
erwünschten amorphen, monomolekularen Film mit eine Dicke von der
Länge eines einzigen Moleküls zu erhalten. Ein dünner, amorpher,
monomolekularer Film, dessen Dicke der Länge eines einzigen
Moleküls entsprach, konnte ohne die Verwendung von Fleon 113 und
ohne die Bildung eines Zwischenraums auf dem Substrat gebildet
werden.
In den Verkörperungen 1 bis 14 wurden Kunststofflinsen aus
Polymethylmethacrylat (PMMA) als Substrate verwendet; in den
Verkörperungen 15 bis 28 wurden Linsen aus Diethlenglykol bis
Allylcarbonat (CR-39) als Substrate verwendet; in den Verkörpe
rungen 29 bis 42 wurden Glaslinsen als Substrate verwendet und in
den Verkörperungen 43 bis 56 wurden Glaslinsen verwendet, die mit
einer nicht-reflektierenden Beschichtung versehen worden waren.
Als die Metallverdampfung durchgeführt wurde, wurde das Volumen
einer Lösung eines aus kalthärtendem Polysilazan oder Polysi
loxazan selektierten, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoffs und
die Dauer der Metallverdampfung variiert. In Fällen der Über
schreitung der Filmstärke von mehr als 300 nm konnte der über
flüssige Film leicht mittels Metaxylenhexafluorid abgetragen wer
den.
In jeder Verkörperung wurde der Kontaktwinkel mit einem Kontakt
winkelmeter gemessen, während der Scheitel der Konvexoberfläche
von der Linse wie auch die Planfläche so waagerecht wie möglich
gehalten wurde (+ oder -30 war der maximal zugelassene Abwei
chungsbereich). Die Ergebnisse sind unten aufgeführt (+ oder -2°
Abweichung entsteht bei der Bemessung mit dem Kontaktwinkelmeter.
Der Maximalwert der Messung wird in der folgenden Tabelle
gezeigt).
Wie in den Kontaktwinkeln der einzelnen Verkörperungen deutlich
gezeigt worden ist, wurde bestätigt, daß die amorphen, monomole
kularen Filme aus einem aus kalthärtenden Polysilasan oder Polysi
loxasan selektierten, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff,
die auf den Substraten gebildet wurden, eine ausgezeichnete
wasserabweisende Eigenschaft besitzen.
Der amorphe, monomolekulare Film mit einer Dicke, die größer ist
als 0,1 nm, konnte durch die getroffene Auswahl zwischen dem
Volumen des aus kaltaushärtenden Polysilazan oder Polysiloxazan
selektierten, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoffs und der
Verdampfungszeit erzielt werden, und der Kontaktwinkel erreichte
mehr als 102,0°. Es wurde bestätigt, daß er wasserabweisende
Eigenschaften besaß.
Dagegen wurden die Glasplatten der obengenannten Verkörperungen
verwendet, um Aquarien zu konstruieren, die dann mit Wasser
gefüllt wurden, um Experimente bezüglich der Moosentwicklung
durchzuführen. Ein Moosbewuchs kam niemals vor 60 Tagen zustande,
und erst nach 90 Tagen konnte ein geringfügiger Moosbewuchs auf
den Glasplatten festgestellt werden. So wie die wasserabweisende
Eigenschaft experimentell bestätigt wurde, wie oben beschrieben,
wurde die Antibeschlag-Wirkung der beschichteten Glasplatten
gleichzeitig getestet. Bestätigt wurde so auch die Antibeschlag-
Wirkung der behandelten Glasplatten.
Bei jeder Verkörperung konnten Fingerabdrücke, Fette und Staub
extrem leicht abgewischt werden, was demonstrierte, daß die Filme
ausgezeichnete ölabweisende Eigenschaften besaßen.
Bei den individuellen Verkörperungen wurden die Filmen Ver
schleißfestigkeittests mit einem Druck von 3 kg ausgesetzt.
Jeder Film konnte solchem Druck bis zu 10000 Male widerstehen,
was die ausgezeichnete Haltbarkeit und Verschleißfestigkeit der
Filme der jetzigen Erfindung bestätigte.
Darüber hinaus konnte bei den Kunststofflinsen, den Glasplatten
und den Glaslinsen als Substrate der oben beschriebenen Verkörpe
rungen eine Vickers-Widerstandsfähigkeit von 8 nach dem Vickers-
Festigkeitsmeßgerät festgestellt werden: D. h. ein Festigkeits
grad, der dem des Saphirs gleicht, was deshalb auch eine aus
gezeichnete Verschleißfestigkeit bedeutet.
Keramik oder Keramikformen wurden auch als Substrat verwendet.
Wie oben erwähnt, wurde auf ihnen der amorphe, monomolekulare
Film aus einem aus kalthärtendem Polysilazan oder Polysiloxazan
selektierten, ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff in einer
Dicke zwischen 0,1 nm bis 120 nm gebildet. Das Ergebnis, wie
oben schon bemerkt wurde, konnte bestätigt werden, daß wasser-
und ölabweisende Eigenschaften erlangt werden und auch ein
Vickers-Festigkeitsgrad von 8, d,i, eine einem Saphir gleiche
Festigkeit erreicht, um so die Verschleißfestigkeit zu verbes
sern. Besonders bei der Verwendung von Keramikformen ist ein
solcher Film optimal geeignet für die Abgasableitung für Automo
bile wie auch für Ableitung von Küchendunst. Weiterhin kann der
Film in beiden Fällen als elektrischer Isolierstoff verwendet
werden, da Silikonfluorid elektrisch-isolierende Eigenschaften
besitzt.
Porzellan für Kunstobjekte, Geschirr, Toiletten und keramische
Isolatoren wurden auch als Substrate verwendet. Wie oben bemerkt
wurde, konnte der amorphe, monomolekulare Film aus einem aus
kalthärtendem Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, aus
gehärteten, filmbildenden Wirkstoff auf ihnen mit einer Dicke
von 0,1 nm bis 3000 nm gebildet werden. Danach konnte, wie auch
oben, bestätigt werden, daß wasser- und ölabweisende Eigenschaf
ten vorhanden waren wie auch ein Vickers-Festigkeitsgrad von 8
(der gleiche wie bei einem Saphir) und somit wurde eine verbes
serte Verschleißfestigkeit erlangt. Darüber hinaus können die
präparierten Gegenstände als Isolatoren verwendet werden, da
Silikonfluorid isolierende Eigenschaften besitzt.
Auch verschiedene Metalle wurden als Substrate verwendet. Wie
oben erwähnt, wurde der amorphe, monomolekulare Film aus einem
aus kalthärtendem Polysilazan oder Polysiloxagan selektierten,
ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff auf ihnen mit einer Dicke
von 0,1 nm bis 300 nm gebildet. Wie oben wurde danach bestätigt,
daß wasser- und ölabweisende Eigenschaften vorhanden waren und
daß auch ein Vickers-Festigkeitsgrad von 8 erreicht wurde, d.i.
ein Grad, der dem eines Saphirs gleicht, und somit konnte eine
verbesserte Verschleißfestigkeit erlangt werden. Weiterhin, kann
der Film auf solchen präparierten Gegenständen als elektrischer
Isolierstoff verwendet werden, z. B. als eine Beschichtung für
elektrische Drähte, da Silikonfluorid elektrisch-isolierende
Eigenschaften besitzt.
Beschichtete Metalle für alle Typen von Transportfahrzeuge,
einschließlich Automobile und ähnliches, oder Kunststoffteile
wurden auch als Substrate verwendet. Wie oben notiert, konnte
der amorphe, monomolekulare Film aus einem aus kalthärtendem
Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten,
filmbildenden Wirkstoff auf den Beschichtungsmembranen der
Metalle mit einer Dicke von 0,1 nm bis 300 nm gebildet werden.
Wie oben wurde nachfolgend bestätigt, daß wasser- und ölabwei
sende Eigenschaften vorhanden waren und, daß auch ein Vickers-
Festigkeitsgrad von 8 konnte erreicht wurde, d. h., ein Festig
keitsgrad, der dem von einem Saphir gleicht; und somit konnte
eine verbesserte Verschleißfestigkeit erlangt werden.
Darüber hinaus wurden Leder (einschließlich Felle), Hölzer (für
Konstruktionszwecke, Möbel, Handwerksgegenstände, Geschirr,
buddhistische Altarbeschläge, buddhistische Hausaltäre), Grab
male, und Textilien aus Tier-, Pflanzen- und Kunstfaser als
Substrate verwendet. Wie oben notiert, konnte der amorphe, mono
molekulare Film aus einem aus kalthärtendem Polysilazan oder
Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten, filmbildenden
Wirkstoff auf ihnen mit einer Dicke von 0,1 nm bis 300 nm gebil
det werden. Damach konnte bestätigt werden, daß wasser- und
ölabweisende Eigenschaften vorhanden waren und in allen Fällen
ein höher Verschleißfestigkeitsgrad erreicht werden konnte.
Nach der jetzigen Erfindung versieht die Verwendung von einem aus
kalthärtendem Polysilazan oder Polysoloxazan selektierten, aus
gehärteten, filmbildenden Wirkstoff den Film mit wasser- und
ölabweisende Eigenschaften. Weil der Film als monomolekularer
Film dünn ist, kann er das Auftreten von Kohärenz unterbinden,
auch wenn der Film auf einem nicht-reflektierenden Film einer
Kunststoff- oder Glaslinse aufgetragen wird. Darüber hinaus ist
der monomolekulare Film amorph und besitzt deshalb wenigere
Defekte, und die ausgezeichnete Härte, Haltbarkeit und
Verschleißfestigkeit können so verbessert werden.
Indem ein monomolekularer Film aus einem aus kalthärtendem
Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten,
filmbildenden Wirkstoff auf ein Substrat mittels des Vakuumver
dampfungsverfahrens aufgetragen wird, kann Kristallationswasser
im Vakuum entfernt werden, was zu der leichten und schnellen
Bildung des amorphen monomolekularen Films führt, der was Härte,
Haltbarkeit und Verschleißfestigkeit betrifft, überlegen ist und
wenigere Defekte aufweist. Deshalb wird der Produktionsertrag des
Verfahrens verbessert. Indem ein monomolekularer Film aus einem
aus kalthärtendem Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten,
ausgehärteten, filmbildenden Wirkstoff auf ein Substrat mittels
eines oben beschriebenen Vakuumverdampfungsverfahrens entsteht,
wird das Substrat z. Z. der Verdampfung erwärmt und die Oberfläche
somit aktiviert. Danach kann eine erste Schicht des mit einer
Dicke von einer einzigen molekularen Länge amorphen, monomoleku
laren Films sich mit dem Substrat verbinden, so daß die zweite
Schicht und die auf dieser zweiten Schicht daraufliegenden
Schichten von der ersten Schicht leicht abgetragen werden können.
Die zweite Schicht und die auf ihr liegenden anderen Schichten
können mit einer Lösung wie etwa einer Meta-Xylenhexafluoridlö
sung abgetragen werden - ohne die Verwendung von Fleon 113.
Demgemäß kann der Umweltverschmutzung, einschließlich Zerstörung
der Ozonschicht vorgebeugt werden.
Claims (7)
1. Schmutzabweisende Substanz, dadurch gekennzeichnet, daß diese
ein auf einem Substrat gebildeter amorpher, monomolekularer
Film aus einem aus einem kaltaushärtenden Polysilazan oder
Polysiloxazan selektierten, ausgehärtetem filmbildenden Wirk
stoff ist.
2. Die schmutzabweisende Substanz nach Patentanspruch 1
dadurch charakterisiert, daß das Substrat aus Glas, Glaslin
sen, Kunststoff, Kunststofflinsen, Metallen, Keramik,
Porzellan, Leder, Hölzern, Gestein, Textilien, beschichtetem
Metall, beschichtetem Kunststoff, beschichtetem Holz,
hartbeschichtetem Glas, hartbeschichtetem Kunststoff, hart
beschichtetem Metall oder Hartbeschichteter Keramik besteht.
3. Die schmutzabweisende Substanz nach Patentanspruch 1 oder
2, dadurch charakterisiert ist, daß die Dicke des amorphen,
monomolekularen Films aus einem aus einem kaltaushärtenden
Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten,
filmbildenden Wirkstoff zwischen 0,1 nm und 300 nm liegt.
4. Verfahren zur Herstellung einer schmutzabweisenden Substanz
dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung eines aus einem
kaltaushärtenden Polysilazan oder Polysiloxazan selektier
ten, ausgehärteten filmbildenden Wirkstoffs vakuumverdampft
wird und daß auf einem Substrat ein amorpher, monomolekula
rer Film aus einer Lösung eines aus einem kaltaushärtenden
Polysilazan oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten,
filmbildenden Wirkstoffs gebildet wird.
5. Verfahren nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
als Substrat Glas, eine Glaslinse, ein Spiegel, Kunststoff,
eine Kunststofflinse, Metalle, Keramik, Porzellan, Leder,
Hölzer, Gestein, Textilien, beschichtetes Metall, beschich
teter Kunststoff, beschichtete Hölzer, hartbeschichtetes
Glas, hartbeschichtetes Metall, oder hartbeschichtete
Keramik verwendet wird.
6. Verfahren nach Patentanspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Lösung eines aus einem kaltaushärtenden Polysilazan
oder Polysiloxazan selektierten, ausgehärteten, filmbilden
den Wirkstoff mit einem Lösungsmittel aus einer fluorierten
Verbindung verdünnt wird.
7. Verfahren nach einem der Patentansprüche 4 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß der amorphe, monomolekulare Film in
einer Dicke zwischen 0,1 nm bis 300 nm erzeugt wird.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4112632A DE4112632A1 (de) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen |
GB9208655A GB2266309A (en) | 1991-04-18 | 1992-04-22 | Silazane monomolecular film |
FR9205226A FR2690454A1 (fr) | 1991-04-18 | 1992-04-28 | Matière résistante aux taches du type polysilazane ou polysiloxazane, et son procédé de fabrication. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4112632A DE4112632A1 (de) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen |
FR9205226A FR2690454A1 (fr) | 1991-04-18 | 1992-04-28 | Matière résistante aux taches du type polysilazane ou polysiloxazane, et son procédé de fabrication. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4112632A1 true DE4112632A1 (de) | 1992-10-22 |
Family
ID=25902934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4112632A Ceased DE4112632A1 (de) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4112632A1 (de) |
FR (1) | FR2690454A1 (de) |
GB (1) | GB2266309A (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0963797A2 (de) * | 1998-05-26 | 1999-12-15 | nanoFILM, Ltd. | Verfahren zur Änderung von Oberflächen mit Ultradünnschichten |
DE19961389A1 (de) * | 1999-12-20 | 2001-06-21 | Mannesmann Vdo Ag | Schutzverschluss für Kameras |
DE102005008857A1 (de) * | 2005-02-26 | 2006-09-07 | Clariant International Limited | Verwendung von Polysilazanen als permanente Anit-Fingerprint-Beschichtung |
WO2016166527A1 (en) * | 2015-04-13 | 2016-10-20 | Pilkington Group Limited | Coated glazing |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3722418B2 (ja) * | 2000-12-08 | 2005-11-30 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜及びこれを利用した光学部材 |
EP2034052A1 (de) * | 2007-09-05 | 2009-03-11 | OCAS N.V. - Onderzoekscentrum voor Aanwending van Staal | Verfahren zur Behandlung eines Silika-beschichteten Metallsubstrats |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3701654A1 (de) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Seiko Epson Corp | Verfahren zur behandlung anorganischer ueberzuege |
DE3830427C2 (de) * | 1987-09-08 | 1990-05-10 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki, Hyogo, Jp | |
DE3920269A1 (de) * | 1989-06-21 | 1991-01-17 | Bayer Ag | Beschichtungsmittel zum herstellen haftungsmindernder beschichtungen |
-
1991
- 1991-04-18 DE DE4112632A patent/DE4112632A1/de not_active Ceased
-
1992
- 1992-04-22 GB GB9208655A patent/GB2266309A/en not_active Withdrawn
- 1992-04-28 FR FR9205226A patent/FR2690454A1/fr active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3701654A1 (de) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Seiko Epson Corp | Verfahren zur behandlung anorganischer ueberzuege |
DE3830427C2 (de) * | 1987-09-08 | 1990-05-10 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki, Hyogo, Jp | |
DE3920269A1 (de) * | 1989-06-21 | 1991-01-17 | Bayer Ag | Beschichtungsmittel zum herstellen haftungsmindernder beschichtungen |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0963797A2 (de) * | 1998-05-26 | 1999-12-15 | nanoFILM, Ltd. | Verfahren zur Änderung von Oberflächen mit Ultradünnschichten |
EP0963797A3 (de) * | 1998-05-26 | 2000-03-08 | nanoFILM, Ltd. | Verfahren zur Änderung von Oberflächen mit Ultradünnschichten |
US6171652B1 (en) | 1998-05-26 | 2001-01-09 | Brij P. Singh | Method for modifying surfaces with ultra thin films |
US6206191B1 (en) | 1998-05-26 | 2001-03-27 | Brij P. Singh | Rupturable container of amphiphilic molecules |
EP1253118A2 (de) * | 1998-05-26 | 2002-10-30 | nanoFILM, Ltd. | Verfahren zur Änderung von Oberflächen mit Ultradünnschichten |
EP1253118A3 (de) * | 1998-05-26 | 2002-11-20 | nanoFILM, Ltd. | Verfahren zur Änderung von Oberflächen mit Ultradünnschichten |
EP1464631A2 (de) * | 1998-05-26 | 2004-10-06 | nanoFILM, Ltd. | Methode zum Ändern von Oberflächen mit einem ultradünnen Film |
EP1464631A3 (de) * | 1998-05-26 | 2006-05-24 | nanoFILM, Ltd. | Methode zum Ändern von Oberflächen mit einem ultradünnen Film |
DE19961389A1 (de) * | 1999-12-20 | 2001-06-21 | Mannesmann Vdo Ag | Schutzverschluss für Kameras |
DE19961389B4 (de) * | 1999-12-20 | 2005-10-06 | Werner Wallrafen | Schutzverschluss für Kameras |
DE102005008857A1 (de) * | 2005-02-26 | 2006-09-07 | Clariant International Limited | Verwendung von Polysilazanen als permanente Anit-Fingerprint-Beschichtung |
WO2016166527A1 (en) * | 2015-04-13 | 2016-10-20 | Pilkington Group Limited | Coated glazing |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2266309A (en) | 1993-10-27 |
FR2690454A1 (fr) | 1993-10-29 |
GB9208655D0 (en) | 1992-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69011166T2 (de) | Herstellungsverfahren einer Dünnschicht aus organischem Material für eine optische Vorrichtung. | |
DE19642419A1 (de) | Verfahren und Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung | |
DE69201856T2 (de) | Mikrorauhe Metalloxidschichten auf Glassubstrat und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE102014105939B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht auf einer Silikonoberfläche und optisches Element | |
DE68912240T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines verbesserten glanzreduzierenden Lithiumsilikat-Überzuges auf einer Kathodenstrahlröhre. | |
DE2751221C2 (de) | Verfahren zur Aufbringung eines reflexionsvermindernden Belages auf Unterlagen aus organischem Material | |
DE60132914T2 (de) | Niedertemperaturverfahren zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung | |
DE3782983T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines polyimidfilms durch chemische ablagerung aus der dampfphase. | |
DE19825100A1 (de) | Mittel zur Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten | |
DE102013203080A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer korrosionsbeständigen und leitfähigen nanodicken Kohlenstoffbeschichtungsschicht und Bipolarplatte für eine Brennstoffzelle, bei welcher ein Edelstahlsubstrat verwendet wird | |
DE10302342A1 (de) | Substrat für die EUV-Mikrolithographie und Herstellverfahren hierfür | |
DE4112632A1 (de) | Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen | |
DE102008011354B3 (de) | Verfahren zum Verbinden zweier Komponenten zu einer Verbundstruktur durch "fusion bonding" sowie damit hergestellte Verbundstruktur, optisches Element, Haltevorrichtung, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage | |
DE3490105T1 (de) | Verbesserungen an Belägen, die geeignet sind, hohen thermischen Belastungen zu widerstehen, und insbesondere an Belägen für Satelliten und Raumschiffe, sowie Verfahren zur Herstellung dieser Beläge | |
DE10126364A1 (de) | Aluminium-Reflexionsspiegel und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2613924B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer FeIdeffekt-Flüssigkristallanzeigezelle | |
DE102006011973B4 (de) | Spiegel mit einer Silberschicht | |
DE2925898A1 (de) | Duennfilmdielektrikum | |
CH628673A5 (en) | Curable coating composition | |
DE657519C (de) | Verfahren zur Herstellung von Spiegeln | |
DE19511663A1 (de) | Mittelbrechende optische Schichten | |
DE102015113542A1 (de) | Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit hoher Lichttransmission und/oder niedriger Lichtreflexion | |
DE2148120B2 (de) | Verfahren zum Niederschlagen von Glasfilmen | |
DE2461096A1 (de) | Duennschichtwiderstand | |
DE2245221A1 (de) | Wellenleiter fuer kurze wellen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |