FI98660C - Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi - Google Patents
Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi Download PDFInfo
- Publication number
- FI98660C FI98660C FI901418A FI901418A FI98660C FI 98660 C FI98660 C FI 98660C FI 901418 A FI901418 A FI 901418A FI 901418 A FI901418 A FI 901418A FI 98660 C FI98660 C FI 98660C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- thickness
- layers
- determining
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
98660
Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi
Esillä olevan keksinnön kohteena on menetelmä ohui-5 den kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi.
Pinta-plasmoni-spektroskopiaan liittyvien aikaisemmin tunnettujen menetelmien yhteydessä on erittäin ohuen kerroksen taitekerroin tai paksuus voitu määrittää sivut-10 täisessä suunnassa vain erotuksella > 0,5 x 0,5 mm2.
Pinta-plasmonit (= PSP) ovat sidottuja säteilemättö-miä sähkömagneettisia aaltoja, jotka esiintyvät polarisaa-tiovarausten yhteydessä ja etenevät metallin ja eristeen rajapintaa pitkin (vrt. E. Burstein, W.P. Chen, Y.J. Chen 15 ja A. Hartstein, J. Vac. Sei. Technol. 11, 1004 (1974). Plasmonien kenttävoimakkuus on maksimiarvossaan metalli-pinnalla ja vähentyy ekspotentiaalisesti pystysuorassa suunnassa sekä metallin että eristeen rajapintaan mentäessä (vrt. H. Raether: Physics of Thin Films (julkaisijat G.
20 Hass, M.H. Francombe ja R.W. Hoffmann), osa 9, 145 - 261, ·.·. J. Wiley, New York 1977).
Dissipaatio- ja säteilyhäviöiden johdosta nämä aallot tulevat vaimennetuiksi myös etenemissuunnassaan (vrt.
T. Inagaki, K. Kagani ja E.T. Arawaka, Phys. rev. B24, 25 3644 (1981) ja B. Rothenhäusler, J. Rabe, P. Korpiun ja W.
Knoll, Surf. Sei. 137, 373 (1984)). Kiinnostus pinta-plas- • · · V · moneihin on viime vuosina lisääntynyt, koska niitä on eri laisten pintaspektroskooppisten tutkimusten yhteydessä käytetty adsorboivien aineiden ja ohutkalvokerrosten pääl-30 lä menestyksellisesti kenttävoimakkuuden lisäämiseksi (vrt. Electromagnetic Surface Excitation, R.F. Wallis ja
« « I
G. I. Stegemann, kustantaja Springer, Berliini 1986).
• · *·;·' PSP:tä voidaan pitää pintaominaisvalona (vrt.
: · : W. Knoll, B. Rothenhäusler ja W. Hickel, SPIE Proceedings, 35 Los Angeles, 1988), jonka optiset ominaisuudet ovat ta- 98660 2 saisten sähkömagneettisten aaltojen kaltaisia. Esimerkki-julkaisuina tästä voidaan mainita: PSP:n taipuminen di-elektrisen vaihehilan kautta (vrt. B. Rothenhäusler ja W. Knoll, Appi. Phys. Letters 51, 783 (1987)), PSP:n ja 5 ohjausfotonikentän välinen interferometria (vrt. B. Roth enhäusler ja W. Knoll, J. Opt. Soc. Am. B5, 1401 (1988)) sekä Pinta-plasmoni-mikroskopia (vrt. B. Rothenhäusler ja W. Knoll, Nature 332, 615 (1988)).
Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on tarjota 10 käyttöön menetelmä erittäin ohuiden kerrosten taiteker-toimen ja/tai paksuuden määrittämiseksi olennaisesti paremmalla sivuttaisella hajotuksella.
Keksinnön mukaisesti onnistutaan hämmästyttävällä tavalla parantamaan kulmariippuvaisen pinta-plasmoni-15 mikroskopian avulla sivuttainen hajotus arvoon > 5 x 5 pm asti.
Esillä olevan keksinnön kohteena on menetelmä kerrospaksuudeltaan < 1 pm olevien kerrosten taitekertoimen ja/tai paksuuden määrittämiseksi. Menetelmälle on tunnus-20 omaista, että määritettävä kerros asetetaan kiinteälle kantajalle, joka muodostuu lasista päällystettynä ohuella kromikerroksella ja tämän päällä olevasta kultakerrokses-ta, tuetulle kerrokselle suoritetaan pintaplasmonimikros-kopiatutkimus käyttäen laserlähdettä tulokulmassa b°, re-25 kisteröidään kerroksesta heijastunut kuva kerroksen sivu-hajotuskuvan saamiseksi, määritetään heijastuneen valon • · · V ’ intensiteetti heijastuneesta kuvasta ja määritetään ker roksen paksuus heijastuneen valon intensiteetin ja tulo-kulman b° funktiona.
30 Keksinnön mukaisesti on mahdollista määrittää ky- seisten kerrosten kerrospaksuus pystysuoralla hajotuksella • * * > 0,1 nm ja samanaikaisella sivuhajotuksella > 5 pm.
• ·
Tutkittavat kerrokset asetetaan tällöin etupäässä metalli- tai puolijohdepinnalle.
35 Keksinnön mukainen menetelmä yhdessä SPM:n käytön kanssa sopii erityisen hyvin kontrasteiltaan vähäisten 98660 3 koekappaleiden, kuten esimerkiksi yksittäisten lipidiker-rosten tai erityisellä tavalla muotoiltujen Si02-vaimennus-kerrosten tutkimiseen.
Keksinnön mukainen menetelmä toteutetaan yksityis-5 kohtaisesti seuraavalla tavalla.
Pinta-plasmonit herätetään kytkinlaitteen (vrt. H.
Raether: Physics of Thin Films (julkaisijat G. Hass, M.H. Francombe ja R.W. Hoffmann), osa 9, 145 - 261, J. Wiley,
New York, 1977), kuten hila-, Otto- tai Kretschmann-jär-10 jestelyn, sopivimmin Kretschmann-järjestelyn, avulla mono kromaattista rinnakkaisvaloa käyttäen. Valonlähteenä toimii edullisesti helium/neon-laser. Kretschmann-järjeste-lyssä prisman peruspinta joko päällystetään suoraan metalli- tai puolijohdekerroksella tai prismaan liimataan 15 vastaavalla tavalla päällystetty lasikantoainekerros, jon ka päällystämätön puoli on varustettu immersionesteellä. Metallikerrokset on tehty sopivimmin hopeasta tai kullasta tai kromin ja kullan muodostamasta kerrosjärjestelmästä.
Keksinnön mukainen menetelmä sopii lisäksi antu-20 reiden valmistukseen, jolloin tutkittava kerros on kemiallisesti, fysikaalis-kemiallisesti tai biologisesti aktiivinen ja mahdollistaa ajasta riippuvien kemiallisten biologisten ja/tai fysikaalisten prosessien ilmaisemisen. Kemiallisesti, fysikaalis-kemiallisesti tai vastaavasti 25 biologisesti aktiivisilla kerroksilla ymmärretään keksin-nön mukaisesti kerroksia, joiden avulla voidaan esimerkiksi toteuttaa kemiallisia tai vastaavasti erityisiä adsorp-tioreaktioita tai vaikuttaa fysikaalis- kemiallisella ta- • · .* “ valla fysikaalisiin ominaisuuksiin.
·.· * 30 Keksinnön mukaisen pinta-plasmoni-mikroskoopin ra- kenne on esitetty kaavamaisesti kuviossa 1, jossa: • · ··. 1 = valonlähde; 2 = koekappale (lipidikerros); 3 = metallikerros; 4 = lasikantoainekerros; 5 = immersioneste; 6 = lasiprisma; 35 7 = linssi; 8 = videokamera (kuvaruutu).
98660 4
Tutkittavat kerrokset asetetaan metalli- tai puoli-johdekerroksen päälle. Tutkittavina kerroksina tulevat esimerkiksi sellaiset kerrokset kysymykseen, jotka voidaan muodostaa Langmuir-Blodgett-tekniikan avulla adsorboimalla 5 nestefaasista (self assembly -tekniikka), tai linkoamalla (= spin coating), vaimentamalla tai adsorboimalla kaasu-faasista.
Langmuir-Blodgett-tekniikka on sinänsä tunnettu. Sen yhteydessä tutkittavan kerroksen muodostava aine liuote-10 taan orgaaniseen, veteen liukenemattomaan liuottimeen, esimerkiksi kloroformiin, tämä liuos levitetään Langmuir-kalvovaa'an vesipintaan ja liuotinta haihduttamalla muodostetaan yksimolekyläärinen kerros veden pinnalle. Tätä ilman ja veden välisessä rajapinnassa olevaa pintakalvoa 15 puristetaan sitten kalvovaa'an liikkuvan puomin avulla kokoon siten, että tulokseksi saadaan vain yhden molekyy-liasennon sisältävä määrätty kerros. Tämä yksimolekyylinen kerros siirretään sitten kantoaineen vakiosuuruisessa pintapaineessa tapahtuvan kastopäällystyksen avulla sanotun 20 kantoaineen pinnalle.
Jonkin edellä selostetun menetelmän mukaisesti valmistettu koekappale tutkitaan pinta-plasmoni-mikroskoopin (= SPM, vrt. edellä mainittu julkaisu Nature 332, 615 (1988)) avulla. Tällöin pinta-plasmonit, jotka tulevat .25 kokeen yhteydessä hajotetuiksi, yhtyvät prisman välityk- • · · sellä valoksi, joka kootaan yhteen linssin avulla, jolloin • · · syntyy rajapinnan kuva. Tämä kuva voidaan tallentaa video-kameran avulla ja varastoida magneettinauhalle myöhemmin • « • tapahtuvaa analyysiä varten.
• · · ’·* 30 Ohuiden kerrosten taitekertoimen ja paksuuden mää- rittämiseksi sivuttaisella hajotuksella 5x5 pm2, tämä • · SPM-menetelmä toteutetaan kulmasta riippuvalla tavalla r * plasmoniresonanssin alueella. SPM-kuvat tallennetaan va-• ·’ lonlähteen tulokulmasta riippuen (vrt. kuvio 1) magneet- 35 tinauhalle ja/tai ne arvioidaan kuvankäsittelyjärjestelmän 98660 5 avulla. Tällöin laajuudeltaan 5x5 pm2 olevan pinnan keskimääräinen 'harmaa arvo' tulee kuvassa määritetyksi. Tämä arvo vastaa tähän kohtaan heijastunutta valonvoimakkuutta. Maksimaalisen valonvoimakkuuden normituksen avulla saadaan 5 selville suhteellinen heijastunut voimakkuus. Tällä tavoin saadut voimakkuudet piirretään näkyviin kulman funktiona (vrt. kuvio 2). Fresnelin teorian avulla (vrt. H. Wolter, Handbuch der Physik (julk. S. FlPgge, Springer 56)) sovitetaan simuloidut ja mitatut käyrät yhteen. Tämän sovi-10 tuksen avulla saadaan arvioidun 5x5 pm2 suuruisen pinnan paksuus ja taitekerroin suoraan selville.
Esimerkki 1
Dimyristoyylifosfatidihappoa (= DMPA) (kloroformiin liuotettuna) sekoitetaan puhtaaseen veteen ja tämä seos 15 siirretään liuottimen haihtumisen jälkeen Langmuir-
Blodgett-tekniikan avulla 5-8 π»Ν·ηΓ1 paineessa (rinnak-kaiselofaasissa) 2,5 nm kromikerroksella ja 40 nm kulta-kerroksella päällystetylle lasikantoaineelle. On tunnettua, että rinnakkaiseloalueella olevat lipidimonokerrokset 20 käsittävät näennäisesti kaksiulotteiset kiteisten ja amorfisten alueiden muodostamat järjestelmät. On odotettavissa, että nämä alueet ovat erilaisia paksuuden ja taiteker-toimen suhteen.
Kulmariippuvaisen SPM:n avulla voidaan - kuten edel-25 lä on selostettu - saada erilliset luonteenomaiset taite- • · · kertoimen ja paksuuden arvot näitä kiteisiä ja amorfisia • · · alueita varten. Tulokset on esitetty kuviossa 2. Kuviossa .. 2a [%] merkitsee heijastunutta voimakkuutta prosentteina • · ·"' ja b [°] tulokulmaa asteina ilmaistuna. Päällystämättömän • 4 * * 30 metallin resonanssikäyrä on amorfisia alueita varten (ym- :***: pyrät) siirtynyt vähemmän kuin kiteisiä alueita (pisteet) • · ,***. varten.
Koska monokerroksen paksuus kondensoidun faasin kiteisillä alueilla tunnetaan synkrotroni-röntgensäteilyko-35 keiden (ks. C. Helm, PHD Thesis, Munchen 1988) perusteel- 98660 6 la, saadaan taitekertoimeksi arvo nx = 1,51. Nestemäis-ten/amorfisten alueiden paksuudet on vesipinnan röntgen-heijastusmittauksessa määritetty sangen epätarkasti, mutta paksuusarvon suuruudeksi voidaan kuitenkin arvioida 5 1,55 nm. Tällöin amorfisten alueiden taitekertoimeksi saa daan arvo n2 = 1,304. Tällöin on kysymys yllättävän alhaisesta arvosta, jota kuitenkin voidaan verrata yhtä alhaisen, röntgentutkimusten avulla saavutetun amorfisten vaiheiden elektronitiheysarvon kanssa.
10 Esimerkki 2
Kromi/kultakerrokselle - esimerkin 1 yhteydessä kuvatulla tavalla - asetetaan elektronimikroskopiaverkon avulla kuparista muodostettu Si02-kerros. Tällä tavoin valmistettu koekappale tutkitaan keksinnön mukaisen menetel-15 män avulla. Si02-kerroksen taitekerroin on 1,46. Sopien hyvin yhteen värähtelevän kvartsikiteen avulla suoritetun vaimennusprosessin yhteydessä määritetyn paksuusarvon kanssa saadaan tulokseksi paksuusarvo 3 nm.
• 1 • · ··· • · · • · · • · · * • · • · • · · • · 1 « · • ♦ · 1 • · « » · • · • · · ♦ ·
Claims (3)
1. Menetelmä alle 1 pm olevien kerrosten taiteker-toimen tai paksuuden määrittämiseksi, tunnettu 5 siitä, että määritettävä kerros asetetaan kiinteälle kantajalle, joka muodostuu lasista päällystettynä ohuella kromikerroksella ja tämän päällä olevasta kultakerrokses-ta, tuetulle kerrokselle suoritetaan pintaplasmonimikros-kopiatutkimus käyttäen laserlähdettä tulokulmassa b°, re-10 kisteröidään kerroksesta heijastunut kuva kerroksen sivu-hajotuskuvan saamiseksi, määritetään heijastuneen valon intensiteetti heijastuneesta kuvasta ja määritetään kerroksen paksuus heijastuneen valon intensiteetin ja tulo-kulman b° funktiona.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tun nettu siitä, että määritettävien kerrosten kerrospaksuus määritetään pystysuoralla hajotuksella a 0,1 nm ja samanaikaisella sivuhajotuksella > 5 pm.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, t u n-20 n e t t u siitä, että tutkittavaa kerrosta käytetään toiminnaltaan ajasta riippuvan anturin valmistamiseen. • 1 • · · • 1· • · · « · · • · • · • · · • · · • · « · < · · • « · • · • · • · · j : 98660
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3909144A DE3909144A1 (de) | 1989-03-21 | 1989-03-21 | Verfahren zur bestimmung von brechungsindex und schichtdicke duenner schichten |
DE3909144 | 1989-03-21 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI901418A0 FI901418A0 (fi) | 1990-03-21 |
FI98660B FI98660B (fi) | 1997-04-15 |
FI98660C true FI98660C (fi) | 1997-07-25 |
Family
ID=6376799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI901418A FI98660C (fi) | 1989-03-21 | 1990-03-21 | Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5237392A (fi) |
EP (1) | EP0388874B1 (fi) |
JP (1) | JPH02285205A (fi) |
KR (1) | KR900014855A (fi) |
AT (1) | ATE105403T1 (fi) |
AU (1) | AU622992B2 (fi) |
CA (1) | CA2012598A1 (fi) |
DE (2) | DE3909144A1 (fi) |
FI (1) | FI98660C (fi) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3909143A1 (de) * | 1989-03-21 | 1990-09-27 | Basf Ag | Verfahren zur untersuchung von oberflaechenstrukturen |
KR100352585B1 (ko) * | 1995-12-29 | 2002-12-31 | 주식회사 포스코 | 프리즘 커플러 장치 및 제어방법 |
SE9700384D0 (sv) * | 1997-02-04 | 1997-02-04 | Biacore Ab | Analytical method and apparatus |
US6052191A (en) * | 1998-10-13 | 2000-04-18 | Northrop Grumman Corporation | Coating thickness measurement system and method of measuring a coating thickness |
DE19955556B4 (de) * | 1998-11-20 | 2004-09-09 | Graffinity Pharmaceuticals Ag | Meßanordnung zum parallelen Auslesen von SPR-Sensoren |
US6683695B1 (en) | 1999-07-21 | 2004-01-27 | Electronic Design To Market, Inc. | Method and apparatus for detecting properties of reflective transparent surface coatings on a sheet of transparent material |
DE10008006C2 (de) | 2000-02-22 | 2003-10-16 | Graffinity Pharm Design Gmbh | SPR-Sensor und SPR-Sensoranordnung |
GB0013139D0 (en) * | 2000-05-30 | 2000-07-19 | Univ Nottingham | Improvements in and relating to microscopy |
US6731380B2 (en) | 2001-06-18 | 2004-05-04 | Applied Optics Center Of Delaware, Inc. | Method and apparatus for simultaneous measurement of the refractive index and thickness of thin films |
KR20030047567A (ko) * | 2001-12-11 | 2003-06-18 | 한국전자통신연구원 | 표면 플라즈몬 공명 센서 시스템 |
DE10163657B4 (de) * | 2001-12-21 | 2008-05-08 | Gedig, Erk, Dr. | Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung dünner Schichten |
US7088449B1 (en) * | 2002-11-08 | 2006-08-08 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Dimension measurement approach for metal-material |
US6970256B1 (en) * | 2003-04-16 | 2005-11-29 | Jackson John H | Apparatus and methods for measuring thickness and refractive index |
US7362442B2 (en) * | 2004-02-20 | 2008-04-22 | The University Of Maryland | Far-field optical microscope with a nanometer-scale resolution based on the in-plane image magnification by surface plasmon polaritons |
US7417749B1 (en) | 2004-09-01 | 2008-08-26 | Electric Design To Market, Inc. | Method and apparatus for protecting an optical transmission measurement when sensing transparent materials |
US20060054843A1 (en) * | 2004-09-13 | 2006-03-16 | Electronic Design To Market, Inc. | Method and apparatus of improving optical reflection images of a laser on a changing surface location |
US7327445B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-02-05 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Enhanced surface plasmon resonance sensor using Goos-Hänchen effect |
US20070177150A1 (en) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Gruhlke Russell W | Surface plasmon resonance biosensor using coupled surface plasmons to decrease width of reflectivity dip |
US7652760B1 (en) | 2006-04-05 | 2010-01-26 | Electronic Design To Market, Inc. | System for detecting coatings on transparent or semi-transparent materials |
US7583368B1 (en) | 2006-04-05 | 2009-09-01 | Electronic Design To Market, Inc. | Method of enhancing measurement of stress in glass |
DE102008041825A1 (de) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | Manroland Ag | Zerstörungsfreies Prüfverfahren des Aushärtungs- oder Trocknungsgrades von Farben und Lacken |
WO2010122547A1 (en) * | 2009-04-20 | 2010-10-28 | Bio-Rad Laboratories Inc. | Non-scanning surface plasmon resonance ( spr) system |
US9360302B2 (en) * | 2011-12-15 | 2016-06-07 | Kla-Tencor Corporation | Film thickness monitor |
CN112683182B (zh) * | 2020-12-30 | 2022-12-06 | 国高材高分子材料产业创新中心有限公司 | 一种金属线镀层厚度的测试方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4625114A (en) * | 1985-07-15 | 1986-11-25 | At&T Technologies, Inc. | Method and apparatus for nondestructively determining the characteristics of a multilayer thin film structure |
GB8618159D0 (en) * | 1986-07-25 | 1986-09-03 | Pa Consulting Services | Spectrometer based instruments |
GB2197065A (en) * | 1986-11-03 | 1988-05-11 | Stc Plc | Optical sensor device |
CA1321488C (en) * | 1987-08-22 | 1993-08-24 | Martin Francis Finlan | Biological sensors |
DE3906521A1 (de) * | 1989-03-02 | 1990-09-13 | Basf Ag | Verfahren zum auslesen von informationen, die in duennen polymerschichten gespeichert sind |
DE3909143A1 (de) * | 1989-03-21 | 1990-09-27 | Basf Ag | Verfahren zur untersuchung von oberflaechenstrukturen |
-
1989
- 1989-03-21 DE DE3909144A patent/DE3909144A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-03-16 JP JP2064450A patent/JPH02285205A/ja active Pending
- 1990-03-20 AU AU51475/90A patent/AU622992B2/en not_active Ceased
- 1990-03-20 AT AT9090105199T patent/ATE105403T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-03-20 CA CA002012598A patent/CA2012598A1/en not_active Abandoned
- 1990-03-20 DE DE59005573T patent/DE59005573D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-20 EP EP90105199A patent/EP0388874B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-21 FI FI901418A patent/FI98660C/fi not_active IP Right Cessation
- 1990-03-21 KR KR1019900003787A patent/KR900014855A/ko active IP Right Grant
-
1992
- 1992-08-13 US US07/928,083 patent/US5237392A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU5147590A (en) | 1990-09-27 |
JPH02285205A (ja) | 1990-11-22 |
DE3909144A1 (de) | 1990-09-27 |
ATE105403T1 (de) | 1994-05-15 |
AU622992B2 (en) | 1992-04-30 |
EP0388874A2 (de) | 1990-09-26 |
US5237392A (en) | 1993-08-17 |
EP0388874A3 (de) | 1992-05-20 |
FI98660B (fi) | 1997-04-15 |
FI901418A0 (fi) | 1990-03-21 |
CA2012598A1 (en) | 1990-09-21 |
EP0388874B1 (de) | 1994-05-04 |
KR900014855A (ko) | 1990-10-25 |
DE59005573D1 (de) | 1994-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI98660C (fi) | Menetelmä ohuiden kerrosten taitekertoimen ja kerrospaksuuden määrittämiseksi | |
Debono et al. | Self-assembly of short and long-chain n-alkyl thiols onto gold surfaces: A real-time study using surface plasmon resonance techniques | |
US7339681B2 (en) | Surface plasmon resonance microscope using common-path phase-shift interferometry | |
US7177030B2 (en) | Determination of thin film topography | |
Berger et al. | Resolution in surface plasmon microscopy | |
US5116121A (en) | Examination of physical properties of thin films | |
Amador et al. | Use of self-assembled monolayers to covalently tether protein monolayers to the surface of solid substrates | |
JPH06300530A (ja) | 横方向に不均質な極薄物体層を横方向に解像して検査する装置 | |
Manera et al. | Functional magneto-plasmonic biosensors transducers: Modelling and nanoscale analysis | |
JPH03115834A (ja) | 薄い層の物理特性を検査する方法 | |
Lazzara et al. | Mounted nanoporous anodic alumina thin films as planar optical waveguides | |
Zhang et al. | Measuring particle-substrate distance with surface plasmon resonance microscopy | |
CN113466090A (zh) | 一种基于差分去噪的表面等离激元成像*** | |
Gonella et al. | Spectro-ellipsometry on cadmium stearate Langmuir–Blodgett films | |
Li et al. | Antenna array-enhanced attenuated total reflection IR analysis in an aqueous solution | |
Reznickova et al. | Copper–gold sandwich structures on PE and PET and their SERS enhancement effect | |
Zhizhin et al. | FT-IR surface electromagnetic waves (SEW) absorption spectroscopy of very thin films on metals | |
Arnold et al. | Enhanced Raman scattering from benzene condensed on a silver grating | |
Bortchagovsky et al. | On the modulation of optical transmission spectra of thin dye layers by a supporting medium | |
CN111693502B (zh) | 一种结合空腔增强与表面增强的液相拉曼增强光谱衬底 | |
Akashi et al. | Grating Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography for Fluorescence Microscopy | |
Futamata | Highly-sensitive ATR Raman spectroscopy using Surface-Plasmon-Polariton | |
US6800370B2 (en) | Photoresponsive surfaces | |
Hooper | Chemical interactions of metals on organic thin films | |
Hoffmann et al. | Chemical imaging of structured SAMs with a novel SFG microscope |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB | Publication of examined application | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: BASF AKTIENGESELLSCHAFT |