ES2636867T3 - Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS - Google Patents
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Abstract
Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricación de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una cámara de revestimiento, en el que para la fabricación de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realización del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energético referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia (1) y/o por secuencia de pulsos de potencia (3), caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.
Description
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DESCRIPCION
Procedimiento para la fabricacion de capas decorativas de material duro por HIPIMS
La invencion se refiere a un procedimiento para el revestimiento de sustratos con una capa decorativa de material duro, que se realiza en una camara de revestimiento en vaclo, depositandose la capa decorativa de material duro mediante un proceso reactivo HIPIMS (High Power Pulse Magnetron Sputtering), y regulandose el contenido energetico en los pulsos de potencia de manera que la capa de material duro depositada presenta un color homogeneo, una lisura elevada y una dureza elevada.
Estado de la tecnica
La patente US4415421A describe un procedimiento para la fabricacion de capas decorativas doradas, que comprende la deposicion de una capa protectora firme de TiN mediante evaporacion por haz de electrones y la deposicion de una capa de oro sobre la superficie de la capa de TiN mediante metalizado al vaclo de oro.
La patente EP0201508B1 describe capas de TiN doradas, dotadas de oro y su procedimiento de fabricacion.
No obstante, en el patente DE3134587C2 se menciona que para la aplicacion practica no es muy apropiado el oro como material para la fabricacion de laminas doradas, ya que por un lado es caro y por otro lado no presenta una buena resistencia a la abrasion y por ello se deteriora facilmente. Por este motivo en el documento DE3134587C2 se propone usar un revestimiento que presente en lugar de una capa dorada de oro, una capa dorada de una aleacion de Cu-Sn-Al. La capa dorada de Cr-Sn-Al se debe aplicar en el revestimiento entre un revestimiento primario y un revestimiento final. Los revestimientos primario y final se pueden fabricar segun el documento DE3134587C2 en tanto que se aplica cada vez una pintura de un material como poliester, resina acrllica o poliuretano mediante pulverizacion o aplicacion por cepillo, luego se calienta y a continuation se seca obteniendo un espesor predeterminado. Para la capa final se debe usar una pintura transparente.
Otra posibilidad de fabricar un revestimiento dorado sin tener que usar oro como material de capa se representa en la publication para information de solicitud de patente DE3150039A1. Segun el documento DE3150039A1 se fabrica una capa dorada sin oro de TiN y ZrN, que presenta una buena resistencia a la abrasion.
De manera similar el documento DE3731127C2 propone un procedimiento para el revestimiento decorativo de sustratos, en el que una capa dorada se deposita mediante evaporacion por arco catodico de un objetivo de una aleacion de Ti, Zr o TiZr, realizandose el revestimiento en una atmosfera reactiva que contiene gas nitrogeno, y presentando el objetivo una tension negativa respecto al anodo. El documento DE3731127C2 ensena que usando un objetivo de una aleacion de TiZr y gas nitrogeno se pueden fabricar capas doradas, que presentan una composition TixZn.xN con 0<x<1, y cuya impresion de color varla con x. Ademas, el documento DE3731127C2 ensena que usando un objetivo de Ti y gas nitrogeno como gas reactivo y adicionalmente tambien gases que contienen O2 y/o C como gas de dosificacion se pueden fabricar capas de TiN, que estan dotadas con O2 y/o C, y cuya impresion de color varla con el contenido relativo de dotation. Ademas, el documento DE3731127C2 ensena que usando un objetivo de Zr y gas nitrogeno como reactivo y adicionalmente tambien gases que contienen O2 y/o C como gas de dosificacion se pueden fabricar capas de ZrN de color de oro blanco, que estan dotadas con O2 y/o C, y cuya impresion varla con el contenido relativo de dotacion.
La patente EP1614764B1 describe un objeto decorativo con un revestimiento dorado, cuyo color se consigue mediante la deposicion de una multiplicidad de pares superpuestos de capas alternantes de TiN y ZrN, y situandose la relation entre el peso de Zr y la suma de los pesos de Zr y Ti en el revestimiento entre el 50% y 80%. Por un lado, esta estructura multicapa se preocupa de conferir un color conforme a aquel del oro 2N18 o 1N14 o 3N18 y, por otro lado, se hace posible que en el caso de desgaste de las capas exteriores siempre se mantenga la impresion de color. En el documento EP1614764B1 tambien se menciona que el procedimiento para la deposicion de la capa decorativa sobre un objeto debe ser un procedimiento de pulverizacion, en el que se usan fuente de pulverizacion que contienen Ti y Zr.
R. Hallman informa en su tesina de licenciatura “A Study of TiN Coatings on Medical Implants Deposited by HiPIMS”, que se ha realizado en la Universidad Tecnica de Luleain en Suecia, que pudo fabricar capas de TiN con distintas impresiones de color de amarillo dorado hasta parduzco mediante HIPIMS. Hallmann menciona que se pudo constatar una fuerte influencia de propiedades de capa determinadas, como p. ej. porosidad y densidad, en la impresion de color y tambien se ha encontrado una correlacion sencilla entre impresion de color y contenido de oxlgeno.
En la revista Surface and Coatings Technology 116-119 (1999) 278-283, Roquiny informa sobre la influencia del contenido de nitrogeno en el color de las capas de TiN que se depositan usando procesos de pulverizacion reactivos. El color de las capas de TiN depositadas vario segun Roquini del gris metalico a traves del oro hasta rojo parduzco en el caso de elevation del flujo de nitrogeno.
A.P. Ehiasarian et. al. informan en “influence of high power impulse magnetron sputtering plasma ionization on the
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microstructure of TiN thin films” Journal of applied physics 109, 104314 (2011) sobre la deposition de TiN mediante HIPMS. No obstante, la generation de colores de capa homogeneos con el revestimiento mediante procesos reactivos de pulverization o HIPIMS supone un gran desaflo. En el revestimiento mediante procesos reactivos de pulverization o HIPIMS se usa con frecuencia un objetivo metalico como fuente de material de pulverizacion, a este respecto, se usa al menos un gas reactivo que reacciona al menos parcialmente con el material de la superficie objetivo, de manera que las zonas de la superficie objetivo se recubren con el material ceramico en general, resultante de la reaction. El grado de recubrimiento depende de los parametros del proceso, por ejemplo, muy fuertemente del flujo de gas reactivo. Este fenomeno se menciona normalmente envenenamiento del objetivo. Se dice que un objetivo esta completamente envenenado cuando la superficie objetivo esta totalmente recubierta. Basicamente el envenenamiento del objetivo representa una gran problematica para la fabrication de capas decorativas mediante procesos reactivos de pulverizacion o HIPIMS, ya que en tales procesos el envenenamiento del objetivo conduce normalmente a la aparicion de comportamientos de histeresis con vistas a los parametros del proceso y en general a inestabilidades del proceso.
Por lo tanto no es rentable la fabricacion industrial de capas decorativas con color de capa homogeneo mediante procesos reactivos de pulverizacion o HIPIMS, en particular no cuando se deberlan usar camaras de revestimiento de grandes dimensiones, ya que en este caso todavla serla mayor la inhomogeneidad del color de capa resultante en los sustratos revestidos que estan distribuidos sobre la camara de revestimiento.
Ademas, hay una problematica adicional en el uso de procesos HIPIMS, a saber, que debido a la variation en virtud del pulso de la potencia de pulverizacion usada aparecen oscilaciones de la presion parcial reactiva en la camara de revestimiento durante el proceso de revestimiento, que tambien conducen a una inhomogeneidad del color de capa resultante.
Objetivo de la presente Invention
El objetivo de la presente invencion es proporcionar un procedimiento para el revestimiento de superficies de sustratos con capas decorativas de material duro que, por un lado, le confieren a las superficies revestidas un aspecto en color permanente y, por otro lado, posibilite un ajuste sencillo de una impresion de color homogenea.
Description de la presente Invencion
El objetivo de la presente invencion se consigue al proporcionar un procedimiento segun la revindication 1.
El inventor ha encontrado que sorprendentemente es posible producir capas de material duro con una impresion de color muy homogenea, una dureza muy elevada y una superficie de capa muy lisa mediante procesos reactivos HIPIMS, que debido a estar propiedades de capa son muy apropiados en particular para aplicaciones decorativas, cuando en el proceso HIPIMS se usan pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo de al menos, preferentemente mayor de 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia. Bajo una secuencia de pulsos de potencia entendemos un paquete de pulsos de potencia.
La figura 4 muestra representaciones a modo de ejemplo de posibles desarrollos de potencia en el objetivo, para establecer una mejor comprension de los terminos usados en el marco de la presente invencion.
Bajo el termino “pulsos de potencia o secuencia de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo”, en el sentido de la presente invencion se entiende el contenido energetico total que se introduce en la superficie objetivo durante la duration del pulso, tpulso, de un pulso de potencia 1 o durante la duration de la secuencia, tsecuencia de pulsos, de una secuencia de pulsos de potencia 3, considerandose como superficie objetivo la superficie del objetivo sobre la que se proyecta de forma efectiva el plasma durante la duracion del pulso, tpulso, del pulso de potencia 1 o durante la duracion de la secuencia (duracion del paquete de pulsos), tsecuencia de pulsos, de una secuencia de pulsos de potencia 3. Esta superficie objetivo tambien se designa con frecuencia como “Racetrack” y se puede reconocer en el objetivo como superficie de remocion.
El contenido energetico requerido segun la invencion en un pulso de potencia 1 durante el proceso HIPIMS se puede conseguir, por ejemplo, mediante el ajuste de una potencia del pulso, P, correspondientemente muy elevada y/o una longitud de pulso o duracion del pulso, tpulso, correspondientemente muy grande. La potencia del pulso, P, correspondiente y duracion del pulso, tpulso, naturalmente solo se pueden ajustar tan grandes que el material del objetivo no se sobrecargue termicamente en la disposition de camara de revestimiento correspondiente. De manera similar el contenido energetico total segun la invencion, requerido en una secuencia de pulsos de potencia 3 durante el proceso HIPIMS se puede conseguir mediante un ajuste de las potencias de pulso, P, de los pulsos que forman la secuencia o el paquete de pulsos dentro de una secuencia de pulsos de potencia 3 y/o mediante el ajuste de la duracion de la secuencia, tsecuencia de pulsos, de la secuencia de pulsos de potencia 3.
Los procesos HIPIMS realizados segun la invencion discurren de forma muy estable y sorprendentemente ni la estabilidad del proceso ni la homogeneidad de las propiedades de capa importantes para aplicaciones decorativas de las capas de material duro fabricadas de esta manera se menoscaban debido a posibles fenomenos de envenenamiento del objetivo y/o oscilaciones de la presion parcial reactiva.
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Concretamente la presente invencion se refiere a un procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricacion de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una camara de revestimiento, aplicandose para la fabricacion de la capa de material duro un proceso reactivo HIPIMS, en el que se usa al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realizacion del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, realizandose el proceso HIPIMS usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo de al menos, preferentemente mayor de 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia y de este modo se genera una impresion de color homogenea de la capa de material duro.
No se puede excluir que, junto a los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia (paquetes de pulsos de potencia) que satisfacen estos requisitos, tambien se puedan usar pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia (paquetes de pulsos de potencia), que no satisfacen el requisito mencionado, a saber respecto al contenido energetico. A este respecto, se puede suponer que al menos el 50% de los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia aplicados deberlan satisfacer el requisito mencionado. En la forma de realizacion actual, practicamente todos los pulsos de potencia o secuencias de pulsos de potencia satisfacen el requisito mencionado o los requisitos todavla a mencionar aun mas estrictos.
A continuacion se puede usar un funcionamiento mixto con pulsos de potencia y con secuencias de pulsos de potencia.
A continuacion se indica que la solicitacion termica del objetivo, mediante potencia del pulso y duracion del pulso o mediante potencias de pulso individuales y duracion de la secuencia (duracion del paquete de pulsos) tambien se determina por el Duty-Cycle seleccionado, es decir por
• la relacion de duracion del pulso (tiempo ON) respecto a periodo del pulso (tiempo ON + tiempo OFF) en el caso de pulsos de potencia o
• la relacion de duracion (de la secuencia) del paquete de pulsos respecto al periodo del paquete de pulsos (paquete de pulsos tiempo ON + paquete de pulsos tiempo OFF).
Preferentemente el contenido energetico de al menos, preferentemente mayor de 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia se introduce ajustando una densidad de potencia de al menos, preferentemente mayor de 100 W/cm2, preferentemente con una densidad de corriente de al menos, preferentemente mayor de 0,2 A/cm2.
Segun una forma de realizacion preferida de la presente invencion, el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo de al menos, preferentemente mayor de 1 Joule/cm2 por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia.
Preferentemente este contenido energetico por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia se introduce ajustando una densidad de potencia de al menos, preferentemente mayor de 500 W/cm2, preferentemente con una densidad de corriente de al menos, preferentemente mayor de 1 A/cm2.
Segun una forma de realizacion especialmente preferida de la presente invencion, el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo de al menos, preferentemente mayor de 10 Joule/cm2 por pulso de potencia o por secuencia de pulsos de potencia.
Preferentemente este contenido de potencia se introduce ajustando una densidad de potencia de al menos, preferentemente mayor de 1000 W/cm2, preferentemente con una densidad de corriente de al menos, preferentemente mayor de 2 A/cm2.
Preferentemente la concentracion del gas reactivo en la camara de revestimiento se controla mediante la regulacion - control o reglaje - de un flujo de gas reactivo.
La presente invencion se describe aun mas a continuacion mediante algunos ejemplos y por las figuras 1 a 3:
La Figura 1 muestra las coordenadas de color CIELab a* y b*, que se han medido de las capas de TiN y TiCN fabricadas segun la invencion, que se han depositado con flujo de gas nitrogeno creciente o con flujo de gas acetileno creciente. Mediante el ajuste de distintos flujos de gas nitrogeno se pudieron fabricar capas TiN con distintos estandares de oro. De manera similar se pudieron fabricar capas TiCN con distintos colores mediante el ajuste de distintos flujos de gas acetileno.
La Figura 2 muestra las coordinadas de color CIELab a* y b* y los factores de luminosidad L*, que se han medido de capas TiCN depositadas segun la invencion, que se han aplicado en el mismo lote de revestimiento de los objetivos de Ti y usando un flujo de gas reactivo que contiene N2 y C2H2 sobre diferentes
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sustratos. Los sustratos se han distribuido desde el principio del procedimiento de revestimiento a lo largo de la altura de la camara de revestimiento, a fin de verificar la homogeneidad de la impresion de color respecto a la altura de la camara de revestimiento. Se pudo confirmar una homogeneidad muy buena del color de capa dentro de la camara de revestimiento. La altura de revestimiento o la altura de la camara de revestimiento definida para el revestimiento de sustratos era en este ejemplo de 400 mm, no obstante, la altura de revestimiento para la realizacion de un proceso segun la invencion no esta limitada a esta altura, es decir, la altura de revestimiento tambien puede ser mayor o menor.
La Figura 3 muestra las coordenadas de color CIELab a* y b* y los factores de luminosidad L*, que se han medido de capas de TiN doradas depositadas segun la invencion, que se han aplicado en el mismo lote de revestimiento de los objetivos de Ti y usando un flujo de gas reactivo que contiene N2 sobre diferentes sustratos. Los sustratos se han distribuido desde el principio del procedimiento de revestimiento a lo largo de la altura de la camara de revestimiento, a fin de verificar la homogeneidad de la impresion de color respecto a la altura de la camara de revestimiento. Se pudo confirmar una homogeneidad muy buena del color de capa dentro de la camara de revestimiento. La altura de revestimiento o la altura de la camara de revestimiento definida para el revestimiento de sustratos era en este ejemplo de 400 mm, no obstante, la altura de revestimiento para la realizacion de un proceso segun la invencion no esta limita a esta altura, es decir, la altura de revestimiento tambien puede ser mayor o menor.
Se puedo constatar una homogeneidad excelente de la impresion de color a lo largo de toda la altura de capa en el caso de las capas de TiCN y TiN depositadas segun la invencion, segun se puede ver en las Figura 2 y 3.
Las capas doradas con una estructura de capa multicapa de varias capas delgadas de TiN y ZrN depositadas de forma alternante tambien se pueden fabricar de forma excelente usando un procedimiento segun la presente invencion. Por ejemplo, en tanto que en el mismo proceso de revestimiento HIPIMS se usa gas nitrogeno como gas reactivo y al menos un objetivo HIPIMS de Ti y un objetivo HIPIMS de Zr se posiciona y opera en la camara de revestimiento, de manera que sobre los sustratos a revestir se depositan de forma alternante capas de TiN y ZrN.
Segun la presente invencion se pueden producir de forma muy sencilla distintos colores del estandar de oro en las capas de material duro depositadas segun la invencion mediante el ajuste de diferentes flujos de nitrogeno, en particular al usar objetivos que contienen Ti o preferentemente de objetivos que se componen de titanio.
Segun la invencion el flujo de nitrogeno se puede regular exactamente de modo que la impresion de color se corresponde preferentemente con un color conforme a aquel de oro 2N18 o 1N14 o 3N18.
El inventor ha constatado que las capas de material duro con colores bonitos para aplicaciones decorativas se pueden fabricar usando objetivos que comprenden titanio o titanio y aluminio o zirconio.
Segun una forma de realizacion preferida de un procedimiento segun la invencion se usa al menos un objetivo que se compone de titanio, de titanio y aluminio o de zirconio.
Para la fabricacion de nitruros, oxidos, carburos, oxinitruros o carbonitruros, que le pueden dar a las capas fabricadas segun la invencion las distintas propiedades de capa e impresiones de color, se puede hacer entrar gas nitrogeno o gas oxlgeno o un gas que contiene carbono, por ejemplo, C2H2 o CH4, o una mezcla de los mismos, por ejemplo N2 y C2H2, en la camara de revestimiento para la realizacion del proceso HIPIMS.
Preferentemente se aplica un revestimiento segun la presente invencion sobre sustratos en los que la capa de material duro debe tener una funcion decorativa.
Los procedimientos segun la invencion aqul descritos son muy apropiados en particular para el revestimiento de diferentes objetos decorativos como sustratos, que se pueden componer de diferentes materiales. Una ventaja muy grande en el uso de un procedimiento segun la presente invencion para la fabricacion de capas decorativas de material duro es que tambien se es capaz de revestir sustratos sensibles a la temperatura, que no se deben exponer, por ejemplo, a temperaturas por encima de 200° C. Esto es posible, ya que los procesos HIPIMS segun la invencion se pueden realizar de modo que la duracion de un pulso de potencia, tpulso, o la duracion de los pulsos individuales dentro de una secuencia de pulsos de potencia o la duracion de una secuencia de pulsos de potencia, tsecuencia de pulsos, as! como las pausas entre pulsos (Duty-Cycle) y la superficie objetivo determinante se pueden seleccionar de modo que se pueden mantener temperaturas de revestimiento muy bajas, es decir, temperaturas de sustrato muy bajas durante el proceso de revestimiento, sin que se produzcan inestabilidades de proceso.
Segun la invencion se pueden producir capas de material duro con diferentes colores del estandar de oro mediante el ajuste de un flujo de nitrogeno correspondiente, pero tambien se pueden ajustar otras capas de material duro cuya impresion de color en zona de revestimiento grande mediante el ajuste del flujo de gas reactivo usado correspondientemente o de la concentracion de diferentes gases reactivos.
En el marco de la presente invencion se han fabricado segun la invencion, por ejemplo, capas decorativas de material duro con color predeterminado e impresion de color excelentemente homogenea, dureza muy elevada y
superficie super lisa. Los flujos de gas reactivo usados, as! como las propiedades mecanicas medidas de las capas de material duro fabricadas estan inscritos en la tabla 1. Todos los procesos se han realizado con temperaturas de sustrato entre 150° C y 500° C.
5 Tabla 1: Flujos de gas reactivo usados y propiedades mecanicas de las distintas capas de material duro de TiN, TiCN y TiC depositadas segun la invencion para la consecucion de distintos colores homogeneos predeterminados para aplicaciones decorativas
- Ejemplo
- Ar N2 C2H2 Dureza H|T Modulo de elasticidad
- [sccml [sccml [sccml [GPa] [GPa]
- 1
- 210 50 0 33 420
- 2
- 210 50 6 32 440
- 3
- 210 50 14 37 400
- 4
- 210 30 20 36,3 450
- 5
- 210 40 20 44 462
- 6
- 210 20 24 38,3 426
- 7
- 150 30 30 42,4 465
10 La estabilidad mecanica muy elevada de estas capas de material duro o la combinacion muy buena de dureza y modulo de elasticidad, hacen posible que estas capas le confieran a los objetos a revestir con ellas un aspecto de color permanente.
Estas capas presentan una adherencia muy buena al sustrato y tienen una resistencia al desgaste muy elevada. Por 15 lo tanto estas capas decorativas de material duro se pueden usar durante anos.
Los procedimientos segun la presente invencion hacen posible que se consigan impresiones de color muy homogeneas, incluso cuando los sustratos presentan grandes superficies a revestir.
20 Los procedimientos segun la presente invencion son ventajosos en particular cuando se deben distribuir varios sustratos a lo largo de la altura de una gran camara de revestimiento y se debe conseguir una impresion de color homogenea en todos los sustratos.
Claims (12)
- 5101520253035404550REIVINDICACIONES1. Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricacion de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una camara de revestimiento, en el que para la fabricacion de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realizacion del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energetico referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia (1) y/o por secuencia de pulsos de potencia (3), caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.
- 2. Procedimiento segun la reivindicacion 1, caracterizado por que el contenido energetico referido a la superficie objetivo en los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia es al menos de 1 Joule/cm2 por pulso de potencia (1) o por secuencia de pulsos de potencia (3).
- 3. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el contenido energetico referido a la superficie objetivo en los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia es al menos de 10 Joule/cm2 por pulso de potencia (1) o por secuencia de pulsos de potencia (3).
- 4. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el contenido energetico referido a la superficie objetivo en los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia se aplica ajustando la densidad de potencia por pulso de potencia (1) o por secuencia de pulsos de potencia (3).
- 5. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores 1 a 3, caracterizado por que el contenido energetico referido a la superficie objetivo en los pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia se aplica mediante el ajuste de la duracion del pulso de potencia (tpulso) o de la duracion de la secuencia de pulsos de potencia (tsecuencia depulsos).
- 6. Procedimiento segun una de las reivindicaciones 4 o 5, caracterizado por que se ajusta una densidad de potencia de al menos 100 W/cm2.
- 7. Procedimiento segun la reivindicacion 6, caracterizado por que se ajusta una densidad de potencia de al menos 500 W/cm2.
- 8. Procedimiento segun la reivindicacion 7, caracterizado por que se ajusta una densidad de potencia de al menos 1000 W/cm2.
- 9. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la duracion de un pulso de potencia, tpulso, o la duracion del pulso individual dentro de una secuencia de pulsos de potencia o la duracion de una secuencia de pulsos de potencia, tsecuencia de pulsos, as! como las pausas entre pulsos correspondientes (Duty-Cycle) y la superficie objetivo determinante se seleccionan de manera que una temperatura del sustrato no aumenta por encima de 200° C durante el proceso de revestimiento.
- 10. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que como gas reactivo se usa gas nitrogeno, gas oxlgeno o un gas que contiene carbono o una mezcla de los mismos.
- 11. Procedimiento segun una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el objetivo se compone de titanio o de titanio y aluminio o de zirconio.
- 12. Procedimiento segun la reivindicacion 11, caracterizado por que el objetivo se compone de titanio y como gas reactivo se usa gas nitrogeno, controlandose la concentracion de gas nitrogeno en la camara de revestimiento mediante la regulacion de un flujo de gas nitrogeno y regulandose el flujo de gas nitrogeno de manera que la impresion de color de un color se corresponda correspondientemente con aquella del oro 2N18 o 1N14 o 3N18.
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US20050103620A1 (en) * | 2003-11-19 | 2005-05-19 | Zond, Inc. | Plasma source with segmented magnetron cathode |
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DE102006061324B4 (de) * | 2006-06-20 | 2008-07-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Regelung eines reaktiven Hochleistungs-Puls-Magnetronsputterprozesses und Vorrichtung hierzu |
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