ES2286938B1 - Solucion electrolitica para el pulido electroquimico de articulos de metal. - Google Patents

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Abstract

Solución electrolítica para el pulido electroquímico de artículos de metal que constituyen el ánodo en un procedimiento de pulido por aplicación de corriente eléctrica. La solución comprende al menos un compuesto de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I, **FIGURA** sus sales o derivados, donde R{sub,1} corresponde a un radical alquil de 10 a 14 carbonos; y R{sub,2} se selecciona entre un átomo de hidrógeno y un radical alquil de 10 a 14 carbonos.

Description

Solución electrolítica para el pulido electroquímico de artículos de metal.
Sector técnico de la invención
La presente invención se refiere a una solución electrolítica para el pulido electroquímico de artículos de metal que constituyen el ánodo en un procedimiento de pulido por aplicación de corriente eléctrica. También se refiere a un nuevo procedimiento de pulido electroquímico y a un dispositivo para llevar a cabo el citado procedimiento.
Antecedentes de la invención
Los procesos de electropulido de metales se fundamentan en la extracción de iones de la superficie de dichos metales de forma geométricamente selectiva. De hecho, esta selectividad geométrica, o de forma, depende de cuales sean las restricciones al transporte iónico determinadas por la capa de electrólito que queda en contacto inmediato con la superficie de la pieza metálica a pulir, esto es, la capa de electrólito conocida como capa anódica.
Las restricciones al transporte iónico a las que se hace referencia son debidas a la polarización.
En los procesos de electropulido convencionales, la polarización produce gradientes de conductividad eléctrica en la capa anódica, debidos básicamente a diferencias de concentración de iones del metal a pulir y al aumento de la viscosidad ocasionada por el incremento de la concentración iónica.
Así, en las zonas protuberantes de la pieza metálica a pulir tienen lugar mínimos de pasividad porque se dificultan las antes mencionadas diferencias de concentración de iones, a la vez que la viscosidad es menor que en las cavidades del relieve donde suelen darse máximos de pasividad.
Como resultante el metal es extraído en mayor proporción de las zonas protuberantes respecto de las concavidades del relieve consiguiéndose el pulido de la superficie de la pieza metálica.
Sin embargo, el campo de aplicación de estos procesos de electropulido convencionales está fuertemente condicionado porque únicamente pueden alcanzarse grosores de la película o capa anódica de unas pocas micras, por lo que en definitiva únicamente pueden alisarse relieves de pocas micras. Este hecho ocasiona que para el pulido de las piezas metálicas deba realizarse primero un pulido del relieve por métodos estrictamente mecánicos y luego perfilarse o abrillantarse por aplicación de electropulido convencional, lo que dota de complejidad el proceso y lo
alarga.
Además, debe destacarse que para conseguir respetar adecuadamente la geometría a gran escala de las piezas a pulir, en un proceso de pulido mecánico es necesario utilizar, necesariamente, útiles dotados de una determinada rigidez (bandas, discos rotativos, cilindros rotativos...), que confinan la acción erosiva a zonas predeterminadas.
Esto dificulta enormemente la automatización de los procesos, máxime al tratar de pulir piezas de geometría compleja y diferentes entre sí.
Por todo ello, los inventores han desarrollado una nueva solución electrolítica que permite el pulido de piezas o artículos metálicos sin el empleo de procedimientos estrictamente mecánicos y que, utilizándose en dispositivos también desarrollados por los inventores, permiten el pulido de piezas metálicas de cualquier forma geométrica y de manera totalmente automática.
Explicación de la invención
En esencia, la solución electrolítica objeto de la invención, se caracteriza porque comprende al menos un compuesto de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I,
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sus sales o derivados, donde R_{1} corresponde a un radical alquil de 10 a 14 carbonos; y R_{2} se selecciona entre un átomo de hidrógeno y un radical alquil de 10 a 14 carbonos.
La solución electrolítica según la invención, se caracteriza también porque comprende un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 es un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono y R2 es hidrógeno; y un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 y R2 corresponden a radicales alquil de 10 a 14 átomos de
carbono.
De un modo preferente, el porcentaje en peso de compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 es un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono y R2 es hidrógeno, está comprendido entre 2,0% y 4,0%. Análogamente, el porcentaje en peso de compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 y R2 corresponden a radicales alquil de 10 a 14 átomos de carbono, está comprendido entre el 10,0% y el 17,0%.
Según otra característica de la invención, la solución electrolítica comprende un hidrocarburo en una proporción en peso respecto del compuesto o compuestos alquilbencensulfónico comprendida entre el 15% y el 75%.
Además, la solución electrolítica según la invención está caracterizada porque comprende partículas químicamente inertes.
Otro objeto de la presente invención es el uso en un procedimiento de pulido de metales por aplicación de corriente eléctrica de una solución electrolítica que comprende al menos un compuesto de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I, sus sales o derivados, donde R_{1} corresponde a un radical alquil de 10 a 14 carbonos; y R_{2} se selecciona entre un átomo de hidrógeno y un radical alquil de 10 a 14 carbonos.
Preferentemente, para el procedimiento de pulido de metales por aplicación de corriente eléctrica se emplean soluciones electrolíticas según la invención que comprenden un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 es un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono y R2 es hidrógeno; y un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 y R2 corresponden a radicales alquil de 10 a 14 átomos de carbono. Más preferentemente, la solución electrolítica empleada comprende partículas químicamente inertes en suspensión y entre un 15% y el 75% en peso de un hidrocarburo respecto del porcentaje en peso del compuesto o compuestos alquilbencensulfónicos de fórmula I.
Es también objeto de la presente invención un procedimiento de pulido de artículos metálicos por aplicación de corriente eléctrica entre un ánodo y un cátodo, siendo el ánodo el artículo de metal a pulir, que comprende al menos una etapa de interacción del citado ánodo con partículas inertes dieléctricas de tamaño superior a 100 micras.
El procedimiento según la invención se caracteriza también porque comprende ciclos en los que se suceden un semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con la solución electrolítica libre de partículas químicamente inertes y un semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con una solución electrolítica que contiene partículas químicamente inertes en suspensión.
Según otra característica del procedimiento objeto de la invención, el semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con una solución electrolítica que contiene partículas químicamente inertes en suspensión comprende, a su vez, una etapa de fluidificación de las citadas partículas y una etapa de compactación de dichas partículas.
Otro objeto de la presente invención es un dispositivo para el pulido de artículos de metal por aplicación de corriente eléctrica entre un ánodo y un cátodo, siendo el ánodo el artículo de metal a pulir, adaptado para llevar a cabo el procedimiento según se ha descrito en los párrafos anteriores.
El dispositivo según la invención se caracteriza porque comprende al menos un recipiente dividido por una pared vertical de separación que define dos vasos intercomunicados por su parte inferior, el primer de ellos adaptado para contener el ánodo de la reacción electroquímica y provisto de unos medios de separación permeables a soluciones líquidas situados en su parte inferior; y el segundo vaso provisto de unos medios de oscilación del líquido contenido en su interior.
Según otra característica del dispositivo de la invención, los medios de separación permeables a soluciones líquidas consisten en una pletina provista de múltiples orificios.
Según otra característica del dispositivo de la invención, los medios de separación permeables a soluciones líquidas consisten en una malla.
Breve descripción de los dibujos
En los dibujos adjuntos se ilustra, a título de ejemplo no limitativo, un modo de realización de un dispositivo según la invención, donde puede apreciarse además los pasos del procedimiento utilizado por el mismo. También se presentan esquemas que pretenden clarificar el comportamiento de la solución electrolítica alrededor de la pieza metálica a pulir a lo largo de procedimiento de pulido. En dichos dibujos:
la Fig. 1 corresponde a una vista en alzado y esquemática del dispositivo objeto de la invención, donde se visualizan dos vasos intercomunicados por unos medios de separación permeables;
la Fig. 2 corresponde a la misma vista que la Fig. 1 pero en un estadio del procedimiento de pulido más avanzado, concretamente cuando la pieza metálica a pulir entra en contacto con las partículas químicamente inertes;
la Fig. 3 muestra el mismo dispositivo de las Figs. 1 y 2 pero en otra etapa del semiperiodo en el que la pieza metálica está en contacto con las partículas químicamente inertes, concretamente cuando éstas están compactadas;
la Fig. 4 es un esquema de una superficie rugosa de metal a pulir, donde puede visualizarse una partícula químicamente inerte situada en contacto con la citada pieza; y
la Fig. 5 corresponde a otro esquema que ilustra el comportamiento de la solución electrolítica según la invención en las fases finales del procedimiento de pulido electrolítico.
Descripción detallada de los dibujos
A continuación, y a modo de ejemplo no limitativo, se detallan los componentes y los porcentajes en peso de una solución electrolítica 1 según la invención, útil para el pulido electroquímico de artículos de metal 2 donde el citado artículo 2 constituye el ánodo en el procedimiento de pulido.
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Ejemplo 1 Solución electrolítica para el electropulido de artículos de cobre y sus aleaciones
3
La solución final debe tener un pH comprendido entre 7,5 y 9, preferentemente de 8.
Las condiciones de trabajo en este caso y para esta solución son de:
Voltaje = 14 V Ta = 20ºC - 30ºC
t_{ciclo} = 1,2 s. t_{TOTAL} = 70 min
El t_{TOTAL} se refiere al tiempo empleado para alisar rugosidades 11 como máximo del orden de décimas de micras.
Como partículas químicamente inertes 3 se emplean esferas de vidrio de 2 mm de diámetro.
También se prevé la presencia de partículas químicamente inertes 3 de otros materiales, tal como partículas de distintos tipos de poliolefinas o de madera, siempre que tengan un tamaño superior a 100 micras.
En esta solución 1 descrita en el Ejemplo 1, como compuestos de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I se emplea la sal sódica del ácido decilbencensulfónico, que corresponde al caso de R_{1} igual a un radical alquil de 10 átomos de carbono y a un R_{2} equivalente a un átomo de hidrógeno. También se emplea la sal sódica de un ácido dialquilbencensulfónico cualquiera con radicales alquilo de 10 a 14 átomos de carbono.
En una formulación preferente de la solución electroquímica 1 de acuerdo con la invención, se incluyen compuestos que actúan como coadyuvantes, esto es, que optimizan la reología de la capa anódica, tal como moléculas de ácido graso.
Con la finalidad de detallar el procedimiento de pulido electroquímico de artículos metálicos 2 objeto de la invención, se hace referencia a las Figs 1 a 3 adjuntas. En base a estas figuras también se ilustra un modo de realización del dispositivo 4 para el pulido de artículos de metal 2 según la invención.
Así, en la Fig. 1 puede apreciarse un recipiente 5 que comprende la solución electrolítica 1 según la invención, el cual recipiente 5 está dividido en dos cubas o vasos 7 y 8 intercomunicados por su parte inferior i que quedan definidos por una pared vertical de separación 6. El primer vaso 7 está adaptado para contener el ánodo de la reacción electroquímica, que tal y como ya se ha expuesto anteriormente consiste en la pieza metálica 2 a pulir. Dicha pieza o artículo metálico 2 está fijada por unos medios de sujeción o bastidores metálicos (tal como ganchos) que aseguran el contacto eléctrico con las mismas así como su posicionamiento en el primer vaso 7 y que, a su vez, están en contacto (aunque no aparecen representados) con el terminal anódico (polo positivo) de una fuente de corriente eléctrica.
Además, en su parte inferior el primer vaso 7 del recipiente 5 comprende unos medios de separación permeables a soluciones líquidas 9, quedando definido así y en colaboración con la pared vertical de separación 6, el segundo vaso 8 con solución electrolítica 1 que está comunicado con el primero 7 a través de dichos medios de separación permeables 9. Estos medios de separación 9 consisten en una pletina provista de múltiples orificios. Preferentemente los medios de separación consisten en una malla o red.
Los medios de separación permeables 9 actúan a la vez de soporte de partículas químicamente inertes 3 que actúan erosionando la capa anódica 12 existente sobre la superficie 12 de las piezas a pulir 2.
El segundo vaso o cuba 8 del recipiente 5 comprende unos medios de oscilación 10 del líquido o solución electrolítica 1. En el caso representado en las Figs. 1 a 3, dichos medios de oscilación 10 quedan constituidos por un émbolo que se desliza verticalmente en el interior de este segundo vaso 8, provocando que la solución electrolítica 1 del recipiente 5 aumente de nivel en el primer vaso 7 al pasar dicha solución 1 a través de los medios de separación permeables 9.
Con el paso de la solución electrolítica 1 de un vaso a otro, se posibilita la formación de un lecho 14 fluidificado de partículas químicamente inertes 3 en el primer vaso 7, las cuales quedan en suspensión tal y como puede apreciarse en las Figs. 2 y 3.
En la Fig. 2 se representa con unas flechas verticales el sentido de avance del émbolo 10 y de la pieza metálica a pulir 2, mientras que con una flecha horizontal se pretende detallar el sentido que sigue la solución electrolítica 1 cuando el émbolo 10 desciende por el segundo vaso 8.
El mismo esquema de flechas se emplea en la Fig. 3, donde se ha invertido el sentido de avance del émbolo 10, que ahora es de retroceso, y del ánodo o pieza metálica a pulir 2 que también es ascendiente. Con este cambio de sentido del movimiento del émbolo 10 se consigue que una fracción de la solución electrolítica 1 regrese al segundo vaso 8. Con ello, se provoca la compactación de las partículas químicamente inertes 3. De esta forma se alcanzan máximos de densidad de partículas 3 alrededor de las piezas metálicas 2 y con ello, máximos de fricción de éstas respecto a la superficie metálica 13 a pulir.
Con un dispositivo 4 para el pulido de artículos de metal 2 como el descrito, que admite múltiples variaciones sin salir por ello del objeto de la invención, puede aplicarse un procedimiento de pulido por aplicación de corriente eléctrica entre un cátodo y un ánodo, siendo el ánodo el artículo de metal 2 a pulir, que comprende al menos una etapa de interacción del citado ánodo con partículas químicamente inertes 3 de tamaño superior a 100 micras.
El procedimiento que también es extraíble de las Figs. 1 a 3 comprende ciclos en los que se suceden un semiperiodo de interacción o inmersión del ánodo con solución electrolítica 1 libre de partículas inertes 3 (Ver Fig. 1); y un semiperiodo en el que el artículo metálico 2 a pulir o ánodo está en contacto con una solución electrolítica 1 que contiene en suspensión dichas partículas inertes 3 (Ver Figs. 2 y 3).
Dentro del semiperiodo en el que el ánodo está en contacto con la solución electrolítica 1 con partículas químicamente inertes 3 en suspensión, pueden distinguirse dos etapas o fases: una primera etapa donde las partículas están fluidificadas y el ánodo queda inmerso en este lecho fluidificado 14; y una segunda etapa donde las partículas químicamente inertes 3 están compactadas alrededor del artículo metálico a pulir entrando en contacto con el mismo de una forma más íntima tal y como se desprende de la Fig. 3.
Finalmente, aunque no aparece representado, después de la etapa de compactación de las partículas químicamente inertes 3 alrededor de la pieza o artículo metálico 2 a pulir, se sucede un semiperiodo en el que dicho artículo 2 está en contacto con la solución electrolítica 1 libre de partículas químicamente inertes 3, situación análoga a la de la Fig. 1.
La conjunción de una solución electrolítica 1 como la descrita y la aplicación de este procedimiento de pulido permite el pulido de artículos 2 cuyo relieve o geometría es relativamente compleja y presentan problemas al ser tratados por los métodos o procedimientos de pulido mecánico, destacando de estos problemas el redondeo excesivo de esquinas salientes, el alisado deficiente en las concavidades 15, excesivo tiempo de tratamiento o pulido, deformaciones, picaduras, etc.
Sin embargo, con la solución electrolítica 1 y el procedimiento según la invención, se consiguen pulidos perfectos de asperezas o rugosidades 11 del orden de hasta décimas de micrómetro, porque la presencia de al menos un compuesto de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I, y más preferentemente la presencia de al menos un compuesto dialquilbencensulfónico con radicales alquiles de 10 a 14 átomos de carbono y de al menos un compuesto alquilbencensulfónico con un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono, posibilita la formación de una capa anódica 12 alrededor del artículo de metal 2 a pulir que presenta una estructuración supramolecular.
En la Fig. 4 se ilustra un esquema donde puede apreciarse un detalle de un artículo metálico 2 con protuberancias o rugosidades 11 que configura el ánodo de la reacción electroquímica, rodeado de una película o capa anódica 12, representada por líneas discontinuas que resiguen el perfil del metal 2 y que representan la citada ordenación supramolecular de la solución electrolítica 1. También se han representado partículas químicamente inertes 3 interaccionando con el metal 2.
Esta capa anódica 12 con estructuración supramolecular puede llegar a tener un grosor estacionario del orden de décimas de milímetro. Además, desarrolla una resistividad eléctrica mayor que el resto del electrólito 1 y una gran susceptibilidad mecánica, de manera que en el semiperiodo en el que el artículo 2 a pulir está en contacto con solución electrolítica 1 con partículas químicamente inertes 3 en suspensión, estas últimas tienden a eliminar la capa anódica 12 por erosión mecánica y preferentemente, de las partes protuberantes 11 del relieve a pulir, produciéndose con facilidad un desplazamiento efectivo de la capa anódica 12 existente sobre dichas protuberancias o rugosidades 11 hacia los espacios adyacentes o concavidades 15 por debajo de las mismas.
La formulación de la solución electrolítica 1 según la invención facilita la formación de capas anódicas 12 que desarrollan gradientes, perpendiculares a su grosor, de propiedades físico-eléctricas sin límite de continuidad. Al producirse este tipo de capas anódicas 12, de grosores del mismo orden que las asperezas 11 a nivelar, se consigue una alta eficiencia de nivelación de asperezas o rugosidades 11 de muy distinto orden de magnitud.
Así, tal y como puede apreciarse en la Fig. 4 indicado con las flechas, cuando una partícula químicamente inerte 3 interacciona con la capa anódica 12 de estructuración supramolecular, el material o la solución 1 próxima a las puntas protuberantes 11 del artículo de metal 2 es desplazado hacia las zonas adyacentes hundidas o cóncavas 15. A medida que el procedimiento de pulido avanza, cada vez más predominan fenómenos que imposibilitan el contacto directo de las partículas inertes 3 con la superficie metálica 13. Esto es así porque las capas más viscosas y próximas al ánodo se comportan estadísticamente como una capa límite sin turbulencias, y que por lo tanto tiene una escasa renovación.
De esta forma, tal y como aparece en la Fig. 5, el alisamiento final de la superficie metálica 13 es intermediado por dicha capa límite, consiguiéndose con ello el alisamiento del orden de décimas de micrómetro.
Con la solución electrolítica 1 objeto de la invención se consiguen pulidos sorprendentemente finos en piezas metálicas de cobre o sus aleaciones.
Esta nueva solución electrolítica 1 permite el pulido de piezas metálicas 2 sin el empleo de procedimientos estrictamente mecánicos, pudiéndose alisar además en una sola etapa, relieves del orden de décimas de milímetros de grosor, alcanzándose rugosidades 11 finales del orden de solamente décimas de micrómetro.
Aunque en las Figs 1 a 3 aparece representado un dispositivo 4 para el pulido de artículos de metal que comprende un recipiente 5 en el que se distinguen al menos dos vasos 7 y 8, son igualmente aplicables para el pulido de piezas metálicas 2 dispositivos 4 que tengan más de dos vasos 7 y 8 intercomunicados donde al menos uno de ellos contenga las partículas químicamente inertes 3 y de un modo tal que éstas puedan ser fluidificadas.
También se prevén dispositivos 4 para el pulido de artículos de metal 2 con la solución electrolítica 1 de la invención donde los medios de oscilación 1 estén constituidos por otros dispositivos alternativos tal como agitadores de paletas o sistemas de insuflación de gases.
Evidentemente, es también aplicable para llevar a cabo el procedimiento de pulido según la invención, cualquier dispositivo 4 en el que sea una cubeta o vaso 7 u 8 internos con fondo permeable que contenga las partículas químicamente inertes 3, la que está sujeta a un movimiento relativo respecto a las paredes del recipiente 5 externo a fin de conseguir fluidificar el lecho de partículas 3 durante el semiperiodo de la etapa de interacción del ánodo con estas últimas.

Claims (14)

1. Solución electrolítica (1) para el pulido electroquímico de artículos de metal (2) que constituyen el ánodo en un procedimiento de pulido por aplicación de corriente eléctrica, caracterizada porque comprende al menos un compuesto de la familia de los alquilbencensulfónicos de fórmula I,
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sus sales o derivados, donde R_{1} corresponde a un radical alquil de 10 a 14 carbonos; y R_{2} se selecciona entre un átomo de hidrógeno y un radical alquil de 10 a 14 carbonos.
2. Solución electrolítica (1) según la reivindicación 1, caracterizada porque comprende un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 es un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono y R2 es hidrógeno; y un compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 y R2 corresponden a radicales alquil de 10 a 14 átomos de carbono.
3. Solución electrolítica (1) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizada porque el porcentaje en peso de compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 es un radical alquil de 10 a 14 átomos de carbono y R2 es hidrógeno, está comprendido entre 2,0% y 4,0%.
4. Solución electrolítica (1) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizada porque el porcentaje en peso de compuesto alquilbencensulfónico de fórmula I donde R1 y R2 corresponden a radicales alquil de 10 a 14 átomos de carbono, está comprendido entre el 10,0% y el 17,0%.
5. Solución electrolítica (1) según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque además comprende un hidrocarburo en una proporción en peso respecto del compuesto o compuestos alquilbencensulfónicos de fórmula I comprendida entre el 15% y el 75%.
6. Solución electrolítica (1) según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque además comprende partículas químicamente inertes (3).
7. Uso de la solución electrolítica (1) según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6 anteriores en un procedimiento de pulido de metales por aplicación de corriente eléctrica.
8. Procedimiento de pulido de artículos metálicos (2) por aplicación de corriente eléctrica entre un ánodo y un cátodo, siendo el ánodo el artículo de metal a pulir, caracterizado porque comprende al menos una etapa de interacción del citado ánodo con partículas químicamente inertes (3) de tamaño superior a 100 micras.
9. Procedimiento según la reivindicación 8, caracterizado porque comprende ciclos en los que se suceden un semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con la solución electrolítica (1) libre de partículas químicamente inertes (3) y un semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con una solución electrolítica que contiene partículas químicamente inertes en suspensión.
10. Procedimiento según la reivindicación 9, caracterizado porque el semiperíodo en el que el ánodo está en contacto con una solución electrolítica (1) que contiene partículas químicamente inertes (3) en suspensión comprende, a su vez, una etapa de fluidificación de las citadas partículas y una etapa de compactación de dichas partícu-
las.
11. Dispositivo (4) para el pulido de artículos de metal (2) por aplicación de corriente eléctrica entre un ánodo y un cátodo, siendo el ánodo el artículo de metal a pulir, adaptado para llevar a cabo el procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 8 a 10 anteriores.
12. Dispositivo (4) según la reivindicación 11, caracterizado porque comprende al menos un recipiente (5) dividido por una pared vertical de separación (6) que define dos vasos (7,8) intercomunicados por su parte inferior, el primer de ellos adaptado para contener el ánodo de la reacción electroquímica y provisto en su parte inferior de unos medios de separación permeables (9) a soluciones líquidas; y el segundo vaso provisto de unos medios de oscilación (10) del líquido contenido en su interior.
13. Dispositivo (4) según la reivindicación 12, caracterizada porque los medios de separación permeables (9) a soluciones líquidas consisten en una pletina provista de múltiples orificios.
14. Dispositivo según la reivindicación 12, caracterizada porque los medios de separación permeables (9) a soluciones líquidas consisten en una malla.
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