EP0547366B1 - Hochleistungsstrahler - Google Patents
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- EP0547366B1 EP0547366B1 EP92119125A EP92119125A EP0547366B1 EP 0547366 B1 EP0547366 B1 EP 0547366B1 EP 92119125 A EP92119125 A EP 92119125A EP 92119125 A EP92119125 A EP 92119125A EP 0547366 B1 EP0547366 B1 EP 0547366B1
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- dielectric
- electrode
- radiator
- high power
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
Definitions
- the invention relates to a high-power radiator, in particular for ultraviolet light, with an essentially hollow-cylindrical discharge space filled with filling gas emitting radiation under discharge conditions, the walls of which are formed by an outer and an inner dielectric, the outer surface of the outer dielectric having a first electrode is provided with a second electrode on the surface of the inner dielectric facing away from the discharge space, and with an alternating current source connected to the first and second electrodes for feeding the discharge, the second electrode and the surface of the inner dielectric facing away from the discharge space with an exchangeable liquid whose dielectric constant is at least 10 times higher than the dielectric constant of the inner dielectric and which is essential for coupling the second electrode to the discharge space and at the same time to the K COUNTING of the radiator is used, are in contact.
- UV sources The industrial use of photochemical processes depends heavily on the availability of suitable UV sources.
- the classic UV lamps provide low to medium UV intensities some discrete wavelengths, such as the low-pressure mercury lamps at 185 nm and especially at 254 nm. Really high UV power can only be obtained from high-pressure lamps (Xe, Hg), which then distribute their radiation over a larger wavelength range.
- the new excimer lasers have provided some new wavelengths for basic photochemical experiments. for cost reasons for an industrial process probably only suitable in exceptional cases.
- the discharge space is designed essentially in the form of an annular gap.
- the annular gap is delimited by coaxial quartz glass tubes.
- the surfaces of the quartz glass tubes facing away from the discharge space are provided with electrodes which are connected to an AC power source.
- the coupling of the one electrode to the alternating current source can take place by means of a liquid which acts as an electrolyte and which also serves as a coolant.
- the high-performance lamps mentioned are characterized by high efficiency, economical structure and enable the creation of large lamps, such as those used in UV polymerization and sterilization.
- wide conveyor belts or cylinders must be used rod-shaped UV lamps are irradiated.
- films, papers, cardboards, fabric sheets, etc. coated with paints, varnishes or adhesives are irradiated by UV lamps approx. 1 meter long. Since the intensity of the lamps is normally evenly distributed over the length, the edge zones of the substrate naturally receive a lower radiation dose. In order to obtain a dose that is sufficient for the process also at the edge, the emitters would have to be made considerably longer than the substrate width. This is usually ruled out on systems with conveyor belts for design reasons. The other option is to increase the intensity of the lamps to such an extent that the dose is just sufficient on the edge. This means that the central zones are considerably outshone with the corresponding energy consumption.
- the object of the invention is to create a high-power radiator, in particular for UV or VUV radiation, which is characterized in particular by high efficiency, is economical to manufacture, and in which the radiation can be emitted in a targeted manner.
- the proposed radiator is intended to enable flat substrates to be applied homogeneously.
- a high-power radiator of the type mentioned at the outset that, in order to influence the radiation characteristic of the radiator in the direction along the longitudinal axis of the discharge space, its gap width for local change in the operating voltage of the discharge and / or the effective dielectric capacity is varied in the direction of the longitudinal axis or that in order to influence the radiation characteristic of the radiator in the radial direction, the effective dielectric capacitance is varied in a direction transverse to the longitudinal axis.
- the invention makes it possible for the first time to create UV lamps whose intensity is distributed unevenly over the length and is slightly raised at the ends.
- An inner quartz tube 2 is in an outer quartz tube 1 with a wall thickness of approximately 0.5 to 1.5 mm and an outer diameter of approximately 20 to 30 mm arranged coaxially.
- a helical inner electrode 3 bears against the inner surface of the inner quartz tube 2.
- An outer electrode 4 in the form of a wire mesh extends over the entire outer circumference of the outer quartz tube 1.
- a wire 3 is inserted into the inner quartz tube 2.
- the quartz tubes 1 and 2 are closed or melted at both ends by a cover 5 and 6, respectively.
- the space between the two tubes 1 and 2, the discharge space 7, is filled with a gas / gas mixture which emits radiation under discharge conditions.
- This liquid also serves to cool the radiator.
- the coolant is supplied or removed via the connections 9 and 10.
- the cooling liquid serves for the electrical coupling of the inner electrode 3 to the inner quartz tube 2, so that it is not necessary for the helical electrode 3 to be in contact with the inner wall everywhere.
- the two electrodes 3, 4 are connected to the two poles of an alternating current source 11.
- the alternating current source supplies an adjustable alternating voltage in the order of magnitude from several 100 volts to 20,000 volts at frequencies in the range of technical alternating current up to a few 1000 kHz - depending on the electrode geometry, pressure in the discharge space and composition of the filling gas.
- the fill gas is e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, optionally using an additional further noble gas, preferably Ar, He, Ne, as a buffer gas.
- the electron energy distribution can be optimally adjusted by the thickness of the dielectrics and their properties, pressure and / or temperature in the discharge space.
- the power consumption can be changed by changing the operating voltage U B and / or by Dielectric capacitance C D affect. If you only change these sizes locally, you can specifically influence the power consumption and thus the UV intensity along a tube and / or in the circumferential direction of the tube.
- the power consumed can also be increased by increasing the dielectric capacity (see equation (1)). This can be achieved by reducing the wall thickness of the inner and / or outer quartz tube 2 or 1 in the edge zones, or by doping the quartz with substances such as TiO2 or BaTiO3.
- the radiator shown in FIG. 5 has a central electrode 3 ', over which a dielectric tube 12, which acts as an additional capacitance, is pushed. Its inside diameter is larger than the outside diameter of the central electrode 3 '.
- the length of this tube 12 is smaller than that of the outer and inner dielectric tubes 1 and 2. Because this additional capacitance (electrically) is connected in series with the capacities of the inner and outer dielectric tube, the effective dielectric capacitance C D in the central part of the radiator is reduced . This automatically leads to a lower power consumption in the center of the radiator.
- the wall thickness and length of the tube 12 thus allow the axial intensity profile to be controlled and the dose to be largely homogenized on the substrate.
- the intensity profile can be controlled even more precisely if a molded body made of dielectric material is installed which has a continuous transition, as shown in FIG.
- a common feature of the embodiments according to FIGS. 5 and 6 is that the coupling of the central inner electrode 3 'to the inner quartz tube 2 (and thus to the discharge space 7) not directly, but via the liquid filling the interior 8 of the inner quartz tube 2, preferably demineralized water.
- the effective increase in the dielectric capacitance C D is influenced essentially only by the molded body 12 ′ and hardly by the water.
- a tubular shaped body 12' can also be fastened to the inner wall of the inner quartz tube 2, which, as can be seen from FIG. 7, similar to FIG. 6 towards both ends thereof tapers.
- a helical electrode 3 is used here, which rests in the middle section on the inner wall of the molded body 12 ⁇ and in the edge zone on the quartz tube 2.
- the axial power and intensity control described above can also be used, without going beyond the scope of the invention, for the radial control of the power absorbed and thus of the UV intensity.
- a shaped body 12a with a crescent-shaped cross section made of dielectric material extends only over the upper half of the inner circumference of the inner quartz tube 2 (FIG. 9). In longitudinal section, it corresponds to the shaped body 12 ⁇ of FIG. 7, ie at both ends tapering to a point in front of the edge of the spotlight.
- An equivalent solution with a half tube 12b made of dielectric material without a leaking edge zone is shown in section in FIG. In both variants a helical inner electrode 3 is used.
- molded bodies made of dielectric material can also be introduced into the interior 8 of the inner quartz tube 2, which only partially surround this electrode.
- a half pipe 12c made of dielectric material is arranged, in FIG. 12 a shaped body 12d with a crescent-shaped cross section and in FIG. 13 a shaped body 12e with a kidney-like cross section. All these additional capacitances 12a to 12e reduce the power consumption in the upper section of the discharge space 7, cause an increased power consumption in the lower section of the discharge space 7 and thus force a downward radiation.
- radial and axial power and intensity control can be easily combined in one radiator.
- This also applies to radiator arrangements, as shown in FIGS. 3 and 4.
- the inner quartz tube 2 can also be configured there so that the gap width is the same everywhere in the lower half in the axial direction, while in the upper half it is larger or smaller in the middle section than in the peripheral zone .
- the measures according to the invention for power and intensity control can readily be applied retrospectively to existing radiators, so that in the case of radiators manufactured in series, loss-free control of the axial and / or radial ones is made by inserting an additional molded part in the inner cooling circuit Distribution of power consumption and UV intensity can force.
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Description
- Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten, im wesentlichen hohlzylinderförmigen Entladungsraum, dessen Wandungen durch ein äußeres und ein inneres Dielektrikum gebildet sind, wobei die Außenfläche des äußeren Dielektrikums mit einer ersten Elektrode versehen ist, mit einer zweiten Elektrode an der dem Entladungsraum abgewandten Oberfläche des inneren Dielektrikums, und mit einer an die erste und zweite Elektrode angeschlossenen Wechselstromquelle zur Speisung der Entladung, wobei die zweite Elektrode und die dem Entladungsraum abgewandte Oberfläche des inneren Dielektrikums mit einer austauschbaren Flüssigkeit, deren Dielektrizitätskonstante um mindestens den Faktor 10 höher ist als die Dielektrizitätskonstante des inneren Dielektrikums und die wesentlich zur Ankopplung der zweiten Elektrode an den Entladungsraum und zugleich zur Kühlung des Strahlers dient, in Kontakt sind.
- Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark von der Verfügbarkeit geeigneter UV-Quellen ab. Die klassischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere UV-lntensitäten bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z.B. die Quecksilber-Niederdrucklampen bei 185 nm und insbesondere bei 254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur aus Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über einen größeren Wellenlängenbereich verteilen. Die neuen Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für photochemische Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen Prozeß wohl nur in Ausnahmefällen geeignet.
- In EP-A 254 111 oder auch in dem Konferenzdruck "Neue UV- und VUV Excimerstrahler" von U. Kogelschatz und B. Elisasson, verteilt an der 10. Vortragstagung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photochemie, in Würzburg (BRD) 18.-20. November 1987, wird ein neuer Excimerstrahler beschrieben. Dieser neue Strahlertyp basiert auf der Grundlage, daß man Excimerstrahlung auch in stillen elektrischen Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp, der in der Ozonerzeugung großtechnisch eingesetzt wird. In den nur kurzzeitig (< 1 Mikrosekunde) vorhandenen Stromfilamenten dieser Entladung werden durch Elektronenstoß Edelgasatome angeregt, die zu angeregten Molekülkomplexen (Excimeren) weiterreagieren. Diese Excimere leben nur einige 100 Nanosekunden und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung ab.
- Bei dem aus der EP-A 254 111 bekannten Hochleistungsstrahler ist der Entladungsraum im wesentlichen in Form eines Ringspaltes ausgeführt. Der Ringspalt wird begrenzt von koaxial zueinander verlaufenden Quarzglasrohren. Die dem Entladungsraum abgewandten Oberflächen der Quarzglasrohre sind mit Elektroden versehen, die an eine Wechselstromquelle angeschlossen sind. Dabei kann die Ankopplung der einen Elektrode an die Wechselstromquelle mittels einer als Elektrolyt wirkenden Flüssigkeit erfolgen, die gleichzeitig auch als Kühlmittel dient.
- Die genannten Hochleistungsstrahler zeichnen sich durch hohe Effizienz, wirtschaftlichen Aufbau aus und ermöglichen die Schaffung großer Strahler, wie sie bei UV-Polymerisation und -Sterilisation eingesetzt werden. Dabei müssen oft breite Transportbänder oder-Zylinder von stabförmigen UV-Strahlern bestrahlt werden. Typischerweise werden mit Farben, Lacken oder Klebern beschichtete Folien, Papiere, Pappen, Stoffbahnen etc. von ca. 1 Meter langen UV-Lampen bestrahlt. Da die Intensität der Lampen normalerweise gleichmäßig über die Länge verteilt ist, erhalten die Randzonen des Substrats naturgemäß eine geringere Strahlungsdosis. Um eine für den Prozeß ausreichende Dosis auch am Rand zu erhalten, müßte man die Strahler wesentlich länger machen als die Substratbreite. Dies scheidet auf Anlagen mit Transportbändern meist aus konstruktiven Gründen aus. Die andere Möglichkeit ist, die Intensität der Lampen soweit zu steigern, daß am Rande die Dosis gerade ausreicht. Damit nimmt man eine erhebliche Überstrahlung der mittleren Zonen in Kauf mit einem entsprechenden Energieverbrauch.
- Ausgehend vom Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für UV- oder VUV-Strahlung, zu schaffen, der sich insbesondere durch hohe Effizienz auszeichnet, wirtschaftlich zu fertigen ist, und bei dem die Strahlung gezielt abgestrahlt werden kann. Insbesondere soll es der vorgeschlagene Strahler ermöglichen, flächige Substrate homogen zu beaufschlagen.
- Zur Lösung dieser Aufgabe ist bei einem Hochleistungsstrahler der eingangs genannten Gattung erfindungsgemäß vorgesehen, daß zur Beeinflussung der Abstrahlcharakteristik des Strahlers in Richtung entlang der Längsachse des Entladungsraumes dessen Spaltweite zur lokalen Veränderung der Brennspannung der Entladung und/oder die wirksame Dielektrikumskapazität in Richtung der Längsachse variiert ist oder daß zur Beeinflussung der Abstrahlcharakteristik des Strahlers in radialer Richtung die wirksame Dielektrikumskapazität in einer Richtung quer zur Längsachse variiert ist.
- Mit der Erfindung wird es erstmals möglich, UV-Strahler zu schaffen, deren Intensität über die Länge ungleichmäßig verteilt und an den Enden leicht angehoben ist.
- Ausführungsformen der Erfindung sowie die damit erzielbaren Vorteile werden nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert.
- In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt; darin zeigt
- Fig.1
- einen UV-Zylinderstrahlers mit konzentrischer Anordnung des inneren Dielektrikumsrohres im Längsschnitt;
- Fig.2
- einen Schnitt durch den UV-Strahler nach Fig.1 längs deren Linie AA;
- Fig.3
- eine Ausführungsform des erfindungsgemässen Strahlers mit einem Entladungsraum, dessen Spaltweite im mittleren Bereich kleiner als im Randbereich ist;
- Fig.4
- eine Ausführungsform einer Bestrahlungseinrichtung analog Fig. 3, jedoch mit einem Entladungsraum, dessen Spaltweite im mittleren Bereich grösser als im Randbereich ist;
- Fig.5
- eine Ausführungsform mit einer Zusatzkapazität in Gestalt eines Dielektrikumsrohres im Inneren des inneren Dielektrikumsrohrs;
- Fig.6
- eine Ausführungsform mit einer Zusatzkapazität in Gestalt eines die zentrale Innenelektrode umgebenden Formkörpers;
- Fig.7
- eine Ausführungsform mit einer Zusatzkapazität in Gestalt eines Formkörpers, der sich an die Innenwand des inneren Dielektrikumsrohrs anschmiegt;
- Fig.8
- eine Ausführungsform mit einer Zusatzkapazität in Gestalt eines Formkörpers mit sichelförmigem Querschnitt, der sich in Umfangsrichtung nur über den halben Innenumfangs des inneren Dielektrikumsrohres erstreckt;
- Fig.9
- einen Schnitt durch den Strahler nach Fig.8 längs deren Linie BB;
- Fig.10
- eine Abwandlung Ausführungsform nach Fig.8 und 9 mit einer Zusatzkapazität in Gestalt eines Dielektrikum-Halbrohrs, das sich nur über den halben inneren Umfang des inneren Dielektrikumrohres erstreckt;
- Fig.11
- eine Abwandlung der Ausführungsform nach Fig.5 mit zentraler Elektrode und einer Zusatzkapazität in Form eines Dielektrikum-Halbrohres im Raum zwischen Innenelektrode und innerem Dielektrikumsrohr;
- Fig.12
- eine weitere Abwandlung der Ausführungsform nach Fig.5 mit zentraler Elektrode und einer Zusatzkapazität in Form eines Dielektrikumsformkörpers mit sichelförmigem Querschnitt im Raum zwischen Innenelektrode und innerem Dielektrikumsrohr;
- Fig.13
- eine weitere Abwandlung der Ausführungsform nach Fig.5 mit zentraler Elektrode und einer Zusatzkapazität in Form eines Dielektrikumformkörpers mit nierenförmigem Querschnitt im Raum zwischen Innenelektrode und innerem Dielektrikumsrohr.
- Ausgangspunkt für die im nachstehenden zu beschreibende Erfindung ist ein Excimerstrahler gemäss Fig.1 und 2. In einem äusseren Quarzrohr 1 mit einer Wandstärke von etwa 0,5 bis 1,5 mm und einem Aussendurchmesser von etwa 20 bis 30 mm ist ein inneres Quarzrohr 2 koaxial angeordnet. An der Innenfläche des inneren Quarzrohrs 2 liegt eine wendelförmige Innenelektrode 3 an.
- Eine Aussenelektrode 4 in Form eines Drahtnetzes erstreckt sich über den gesamten Aussenumfangs des äusseres Quarzrohrs 1.
- In das innere Quarzrohr 2 ist ein Draht 3 eingeschoben. Dieser bildet die Innenelektrode des Strahlers, das Drahtnetz 4 die Aussenelektrode des Strahlers. Die Quarzrohre 1 und 2 sind an beiden Enden durch je einen Deckel 5 bzw. 6 verschlossen oder zugeschmolzen. Der Raum zwischen den beiden Rohren 1 und 2, der Entladungsraum 7, ist mit einem unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Gas/Gasgemisch gefüllt. Das Innere 8 des inneren Quarzrohres 2 ist mit einer Flüssigkeit mit hoher Dielektrizitätskonstante, vorzugsweise demineralisiertem Wasser (ε=81), gefüllt. Diese Flüssigkeit dient gleichzeitig zur Kühlung des Strahlers. Die Kühlflüssigkeit wird über die Anschlüsse 9 und 10 zu- bzw. abgeführt. Wie später bei den Ausführungen mit zentraler Innenelektrode noch näher erläutert wird, dient die Kühlflüssigkeit zur elektrischen Ankopplung der Innenelektrode 3 an das inneren Quarzrohr 2, so dass es nicht nötig ist, dass die wendelförmige Elektrode 3 überall an der Innenwandung anliegt.
- Die beiden Elektroden 3,4 sind mit den beiden Polen einer Wechselstromquelle 11 verbunden. Die Wechselstromquelle liefert eine einstellbare Wechselspannung in der Grössenordnung von mehreren 100 Volt bis 20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechselstroms bis hin zu einigen 1000 kHz - abhängig von der Elektrodengeometrie, Druck im Entladungsraum und Zusammensetzung des Füllgases.
- Das Füllgas ist, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise Ar, He, Ne, als Puffergas.
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- Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
- Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F₂, I₂, Br₂, Cl₂ oder eine Verbindung die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, I, Br oder Cl abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit O₂ oder einer Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere 0-Atome abspaltet;
- ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
- Bei Anliegen einer Wechselspannung zwischen den Elektroden 3 und 4 bildet sich eine Vielzahl von Entladungskanälen (Teilentladungen) im Entladungsraum 7 aus. Diese treten mit den Atomen/Molekülen des Füllgases in Wechselwirkung, was schlussendlich zur UV oder VUV-Strahlung führt.
- In der sich bildenden stillen elektrischen Entladung (silent discharge) kann die Elektronenenergieverteilung durch Dicke der Dielektrika und deren Eigenschaften Druck und/oder Temperatur im Entladungsraum optimal eingestellt werden.
- Bei einem Zylinderstrahler gemäss Fig.1 bzw. Fig.2 wird die Leistungsaufnahme einer stillen elektrischen Entladung durch folgende Formel beschrieben:
wobei f die Frequenz der Speisespannung, CD die Dielektrikumskapazität, UB die mittlere Brennspannung der Gasentladung und β das Kapazitätsverhältnis Entladungsspalt-Kapazität/Dielektrikumskapazität (CS/CD) ist. - Bei vorgegebener Spannungsversorgung (Frequenz f und Spitzenspannung Û fest) kann man also die Leistungsaufnahme durch Veränderung der Brennspannung UB und/oder durch die Dielektrikumskapazität CD beeinflussen. Wenn man diese Grössen nur lokal verändert, kann man die Leistungsaufnahme und damit die UV-Intensität längs einer Röhre und/oder in Umfangsrichtung der Röhre gezielt beeinflussen.
- In einer abgeschmolzenen Entladungsröhre, z.B. gemäss Fig.1, ist der Druck und die Gaszusammensetzung überall gleich. Da die Brennspannung im interessierenden Druckbereich eine monotone, annähernd lineare Funktion der Spaltweite ist, kann man über die Variation der Breite des Entladungsspalts die Leistung steuern. Dabei ist zwischen zwei Betriebszuständen der Entladung zu unterscheiden:
Die Leistung hängt (bei festem f und Û) quadratisch von UB ab (vgl. Gleichung (1)). Die maximale Leistung wird aufgenommen, wenn
ist (Maximum der Leistungsparabel). - Solange UB kleiner ist als dieser Wert, führt eine Vergrösserung der Spaltweite zu erhöhter Leistungsaufnahme (Fig.3). Ist UB grösser als der in (2) definierte Wert, führt eine Verkleinerung der Spaltweite zu erhöhter Leistungsaufnahme (Fig.4).
- Die Anwendung dieser Erkenntnis auf einen Strahler gemäss Fig.1 führt zu Ausführungsformen, wie sie in den Figurem 3 und 4 in vereinfachter Form dargestellt sind. Dabei sind - wie vorstehend dargelegt zwei Alternativen möglich, je nachdem wie die Brennspannung relativ zum Maximum der Leistungsparabel liegt. Um bei einem Strahler gemäss Fig.1 die Intensität in den Randzonen zu erhöhen, damit in diesem Bereich die Dosis ausreichend ist, ist die Spaltweite wm im mittleren Abschnitt kleiner als die Spaltweite wr in der Randzone (Fig.3), oder vice versa (Fig.4).
- Die aufgenommene Leistung kann auch erhöht werden durch eine Vergrösserung der Dielektrikumskapazität (vgl. Gleichung (1)). Dies kann man erreichen durch eine Verkleinerrung der Wandstärke des inneren und/oder äusseren Quarzrohres 2 bzw. 1 in den Randzonen, oder durch eine Dotierung des Quarzes mit Substanzen wie TiO₂ oder BaTiO₃.
- Die bisher angeführten Möglichkeiten zur Variation der Leistungsaufnahme in Strahlerlängsrichtung sind eher konstruktiv sehr aufwendig. Wesentlich einfacher und wirtschaftlicher ist es, zwischen die beiden Elektroden 3 und 4 eine Zusatzkapazität einzubringen, wei es in Fig.5 schematisch veranschaulicht ist.
- Abweichend von den Strahlern nach den Figuren 1 bis 4 weist der in Fig.5 dargestellte Strahler eine zentrale Elektrode 3′ auf, über die ein Dielektrikumsrohr 12, das als Zusatzkapazität wirkt, geschoben ist. Sein Innendurchmesser ist grösser als der Aussendurchmesser der zentralen Elektrode 3′. Die Länge dieses Rohres 12 ist kleiner als die der äusseren und inneren Dielektrikumsrohre 1 bzw. 2. Weil diese Zusatzkapazität (elektrisch) in Serie geschaltet ist zu den Kapazitäten von inneren und äusserem Dielektrikumsrohr, verkleinert sich die wirksame Dielektrikumskapazität CD im mittleren Teil des Strahlers. Dies führt automatisch zu einer niedrigeren Leistungsaufnahme in der Mitte des Strahlers. Durch die Wandstärke und Länge des Rohres 12 lässt sich somit das axiale Intensitätsprofil steuern und damit die Dosis auf dem Substrat weitgehend homogenisieren. Noch genauer lässt sich das Intensitätsprofil steuern, wenn man einen Formkörper aus dielektrischen Material einbaut, der einen kontinuierlichen Uebergang aufweist, wie es in Fig.6 dargestellt ist. Dieser Formkörper 12′ umgibt die zentrale Innenelektrode 3′ vollständig und läuft zum Rand hin spitz aus. Er besteht aus einem dielektrischen, leicht bearbeitbarem Material, z.B. aus PTFE (ε=2,2), Polyimid (ε=3,5) oder Nylon (ε=3,75).
- Gemeinsames Merkmal der Ausführungen nach den Figuren 5 und 6 ist, dass die Ankopplung der zentralen inneren Elektrode 3′ an das innere Quarzrohr 2 (und damit an den Entladungsraum 7) nicht direkt, sondern über die den Innenraum 8 des inneren Quarzrohres 2 ausfüllenden Flüssigkeit, vorzugsweise demineralisiertes Wasser, erfolgt. Infolge der hohen Dielektrizitätskonstanten von Wasser (ε=81) wird nämlich die wirksame Erhöhung der Dielektrikumskapazität CD im wesentlichen nur durch den Formkörper 12'und kaum durch das Wasser beeinflusst.
- Anstelle eines die zentrale Innenelektrode 3′ umgebenden und von dieser getragenen Formkörpers kann auch ein rohrförmiger Formkörper 12˝ auf der Innenwand des inneren Quarzrohres 2 befestigt sein, der, wie aus Fig.7 hervorgeht, ähnlich wie bei Fig.6 gegen seine beiden Enden hin sich verjüngt. Analog zu den Ausführungen nach den Figuren 1 bis 4 wird hier eine wendelförmige Elektrode 3 verwendet, die im mittleren Abschnitt an der Innewand des Formkörpers 12˝ und in der Randzone am Quarzrohr 2 anliegt.
- Die im vorstehenden beschriebene axiale Leistungs- und Intensitätssteuerung lässt sich, ohne den Rahmen der Erfindung zu sprengen, auch zur radialen Steuerung der aufgenommen Leistung und damit der UV-Intensität heranziehen.
- Gemäss Fig.8 und 9 erstreckt sich ein Formkörper 12a mit sichelförmigem Querschnitt aus dielektrischem Material nur über die obere Hälfte des Innenumfangs des inneren Quarzrohrs 2 (Fig.9) Im Längsschnitt entspricht er dem Formkörper 12˝ der Fig.7, d.h. an beiden Enden spitz auslaufend vor dem Randbereich des Strahlers. Eine äquivalente Lösung mit einem Halbrohr 12b aus dielektrischem Material ohne auslaufende Randzone ist in Fig.10 im Schnitt dargestellt. In beiden Varianten findet eine wendelförmige Innenelektrode 3 Verwendung.
- Analog zur den Ausführungen nach Fig.5 und 6 mit zentraler Innenelektrode 3′ können auch Formkörper aus dielektrischem Material in den Innenraum 8 des inneren Quarzrohres 2 eingebracht werden, welche diese Elektrode nur teilweise umgeben. So ist im oberen Abschnitt des Innenraums 8 von Fig.11 ein Halbrohr 12c aus dielektrischem Material, in Fig.12 ein Formkörper 12 d mit sichelförmigem Querschnitt und in Fig.13 ein Formkörper 12e mit nierenartigem Querschnitt angeordnet. All diese Zusatzkapazitäten 12a bis 12e reduzieren die Leistungsaufnahme im oberen Abschnitt des Entladungsraums 7, bewirken eine erhöhte Leistungsaufnahme im unteren Abschnitt des Entladungsraums 7 und erzwingen damit eine gerichtete Abstrahlung nach unten.
- Wie Fig.8 und 9 verdeutlichen, lassen sich radiale und axiale Leistungs- und Intensitätssteuerung ohne weiteres in einem Strahler kombinieren. Dies gilt im übrigen auch für Strahleranordnungen, wie sie in den Figuren 3 und 4 dargestellt sind. Auch dort kann - in Abhängigkeit von der Brennspannung UB das innere Quarzrohr 2 so ausgestaltet sein, dass in der unteren Hälfte in Axialrichtung die Spaltweite überall gleich ist, während sie in der oberen Hälfte im mittleren Abschnitt grösser bzw. kleiner ist als in der Randzone.
- Aus den Ausführungsbeispielen erhellt ferner, dass sich die erfindungsgemässen Massnahmen zur Leistungs- und Intensitätssteuerung ohne weiteres bei bestehenden Strahlern auch nachträglich anwenden lassen, so dass man bei serienmässig gefertigten Strahlern durch Einfügen eines zusätzlichen Formteils im inneren Kühlkreis eine verlustfreie Steuerung der axialen und/oder radialen Verteilung der Leistungsaufnahme und UV-Intensität erzwingen kann.
Claims (11)
- Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten, im wesentlichen hohlzylinderförmigen Entladungsraum (7), dessen Wandungen durch ein äußeres (1) und ein inneres Dielektrikum (2) gebildet sind, wobei die Außenfläche des äußeren Dielektrikums mit einer ersten Elektrode (4) versehen ist, mit einer zweiten Elektrode (3;3′) an der dem Entladungsraum (7) abgewandten Oberfläche des inneren Dielektrikums (2), und mit einer an die erste (4) und zweite Elektrode (3;3′) angeschlossenen Wechselstromquelle (11) zur Speisung der Entladung, wobei die zweite Elektrode (3;3′) und die dem Entladungsraum (7) abgewandte Oberfläche des inneren Dielektrikums (2) mit einer austauschbaren Flüssigkeit, deren Dielektrizitätskonstante um mindestens den Faktor 10 höher ist als die Dielektrizitätskonstante des inneren Dielektrikums (2) und die wesentlich zur Ankopplung der zweiten Elektrode (3;3′) an den Entladungsraum und zugleich zur Kühlung des Strahlers dient, in Kontakt sind, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beeinflussung der Abstrahlcharakteristik des Strahlers in Richtung entlang der Längsachse des Entladungsraumes (7) dessen Spaltweite (wm;wr) zur lokalen Veränderung der Brennspannung (UB) der Entladung und/oder die wirksame Dielektrikumskapazität (CD) in Richtung der Längsachse variiert ist oder daß zur Beeinflussung der Abstrahlcharakteristik des Strahlers in radialer Richtung die wirksame Dielektrikumskapazität (CD) in einer Richtung quer zur Längsachse variiert ist.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit Wasser mit einer Dielektrizitätskonstanten um ε=80 ist.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Spaltweite (wm) des Entladungsraums (7) im mittleren Abschnitt des Strahlers von der Spaltweite (wr) in der Randzone des Strahlers verschieden ist.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Spaltweite des Entladungsraums (7), in einem Schnitt quer zu dessen Längsachse gesehen, bei einander gegenüberliegenden Seiten verschieden ist.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen des zweiten Elektrode (3,3′) und dem zweiten Dielektrikum (2) eine Zusatzkapazität (12; 12a, ...) vorgesehen ist, welche Zusatzkapazität als Formkörper aus dielektrischem Material ausgebildet ist, welcher Formkörper sich im wesentlichen nur über den miteleren Abschnitt und/oder sich nur über einen Teil des Umfanges des Strahlers erstreckt.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5 mit einer zentralen Electrode (3′) als zweite Elektrode, dadurch gekennzeichnet, daß der Formkörper ein Quarzrohr (12) ist, das über die zentrale Elektrode (3′) geschoben ist (Fig. 5).
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5 mit einer zentralen Elektrode (3′) als zweite Elektrode, dadurch gekennzeichnet, daß der Formkörper (12) auf die zentrale Elektrode (3′) aufgeschoben ist und vorzugsweise zum seitlichen Rand des Strahlers spitz ausläuft.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusatskapazität als Formkörper (12˝; 12a; 12b) ausgebildet ist, der an der Innenwand des zweiten Dielektrikums (2) anliegt, und daß die zweite Elektrode (3) zumindest lokal am Formkörper anliegt.
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Formkörper gegen den seitlichen Rand des Strahlers spitz ausläuft (Fig. 7).
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Formkörper sichelförmigen Querschnitt aufweist und sich nur über einen Teil des Umfangs des zweiten Dielektrikums (2) erstreckt (Fig. 9).
- Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5 mit einer zentralen zweiten Elektrode (3′), dadurch gekennzeichnet, daß im Innenraum (8) des zweiten Dielektrikums (2) zwischen der zentralen Elektrode und dem zweiten Dielektrikum (2) und von diesem distanziert ein Formkörper (12c, 12d, 12e) mit halbrohrförmigem, sichelförmigem oder nierenförmigen Querschnitt aus dielektrischem Material vorgesehen ist.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6136278A (en) * | 1997-09-08 | 2000-10-24 | Abb Research Ltd. | Discharge reactor and uses thereof |
DE102005062638A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-07-05 | Heraeus Noblelight Gmbh | Zündhilfe |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4222130C2 (de) * | 1992-07-06 | 1995-12-14 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
TW348262B (en) * | 1993-09-08 | 1998-12-21 | Ushio Electric Inc | Dielectric barrier discharge lamp |
DE19613502C2 (de) * | 1996-04-04 | 1998-07-09 | Heraeus Noblelight Gmbh | Langlebiger Excimerstrahler und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE19636965B4 (de) * | 1996-09-11 | 2004-07-01 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle |
DE19711893A1 (de) * | 1997-03-21 | 1998-09-24 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Flachstrahler |
US6015759A (en) * | 1997-12-08 | 2000-01-18 | Quester Technology, Inc. | Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation |
US6049086A (en) * | 1998-02-12 | 2000-04-11 | Quester Technology, Inc. | Large area silent discharge excitation radiator |
DE19844720A1 (de) * | 1998-09-29 | 2000-04-06 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Dimmbare Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladungen |
DE19953533A1 (de) * | 1999-11-05 | 2001-05-10 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Entladungslampe mit Elektrodenhalterung |
DE19953531A1 (de) * | 1999-11-05 | 2001-05-10 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Entladungslampe mit Elektrodenhalterung |
DE10026781C1 (de) * | 2000-05-31 | 2002-01-24 | Heraeus Noblelight Gmbh | Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladung |
DE10112900C1 (de) * | 2001-03-15 | 2002-07-11 | Heraeus Noblelight Gmbh | Excimer-Strahler, insbesondere UV-Strahler |
DE10133949C1 (de) * | 2001-07-17 | 2003-03-20 | Inst Niedertemperatur Plasmaph | Vorrichtung zur Erzeugung von Gasentladungen, die nach dem Prinzip der dielektrisch behinderten Entladung aufgebaut ist, für Lichtquellen und Sichtanzeigeeinrichtungen |
US20050035711A1 (en) * | 2003-05-27 | 2005-02-17 | Abq Ultraviolet Pollution Solutions, Inc. | Method and apparatus for a high efficiency ultraviolet radiation source |
US20050199484A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-09-15 | Franek Olstowski | Ozone generator with dual dielectric barrier discharge and methods for using same |
JP4977019B2 (ja) * | 2004-07-09 | 2012-07-18 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 統合された多機能手段を備える誘電体バリア放電ランプ |
DE102004055328B3 (de) * | 2004-11-16 | 2006-04-13 | Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik e.V. | Vorrichtung nach dem Prinzip einer dielektrisch behinderten Entladung zur Strahlungserzeugung |
EP1859472A2 (de) * | 2005-01-07 | 2007-11-28 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Segmentierte dielektrisch behinderte entladungslampe |
EP1843981B1 (de) * | 2005-01-28 | 2012-09-05 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Behandlungssystem mit einer dielektrischen sperrschichtlampe |
DE102005007370B3 (de) * | 2005-02-17 | 2006-09-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kompakte UV-Lichtquelle |
WO2007071043A2 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Trojan Technologies Inc. | Excimer radiation lamp assembly, and source module and fluid treatment system containing same |
US20090267004A1 (en) * | 2005-12-21 | 2009-10-29 | Trojan Technologies Inc. | Excimer radiation lamp assembly, and source module and fluid treatment system containing same |
KR101183418B1 (ko) * | 2005-12-30 | 2012-09-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 외부 전극 형광램프 및 이를 이용한 액정표시장치의백라이트 유닛 |
CN101874285B (zh) * | 2007-11-26 | 2012-09-05 | 欧司朗股份有限公司 | 双管配置的介电阻挡放电灯 |
EP2316124A1 (de) * | 2008-08-21 | 2011-05-04 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Entladungslampe mit dielektrischer barriere |
WO2012066440A1 (en) | 2010-11-16 | 2012-05-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dielectric barrier discharge lamp device, and optical fluid treatment device provided with the dielectric barrier discharge lamp device |
US9722550B2 (en) | 2014-04-22 | 2017-08-01 | Hoon Ahn | Power amplifying radiator (PAR) |
DE102021108009B4 (de) | 2021-03-30 | 2023-02-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Multi-Wellenlängen UV-Strahlungsquelle sowie UV-Sonde, insbesondere für die Fluoreszenzanalyse |
WO2023222178A1 (de) | 2022-05-19 | 2023-11-23 | IOT - Innovative Oberflächentechnologien GmbH | Bestrahlungsgerät mit excimerstrahlern als uv-quelle |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE613178C (de) * | 1934-03-29 | 1935-05-16 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Leuchtroehre mit Metalldampffuellung, in deren Innerm sich zwischen den Elektroden eine beiderseits geschlossene und axial gelagerte Glasroehre befindet |
DE2438372B2 (de) * | 1974-08-09 | 1978-09-14 | Original Hanau Quarzlampen Gmbh, 6450 Hanau | Gas- oder Metalldampfentladungsstrahler |
NL7908924A (nl) * | 1979-12-12 | 1981-07-16 | Philips Nv | Lagedrukkwikdampontladingslamp. |
US4504768A (en) * | 1982-06-30 | 1985-03-12 | Fusion Systems Corporation | Electrodeless lamp using a single magnetron and improved lamp envelope therefor |
CH670171A5 (de) * | 1986-07-22 | 1989-05-12 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
CH677292A5 (de) * | 1989-02-27 | 1991-04-30 | Asea Brown Boveri | |
CH680099A5 (de) * | 1990-05-22 | 1992-06-15 | Asea Brown Boveri | |
DE59010169D1 (de) * | 1990-12-03 | 1996-04-04 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
-
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6136278A (en) * | 1997-09-08 | 2000-10-24 | Abb Research Ltd. | Discharge reactor and uses thereof |
DE102005062638A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-07-05 | Heraeus Noblelight Gmbh | Zündhilfe |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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