DE9210462U1 - Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten - Google Patents
Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete DruckplattenInfo
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
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Description
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ALBERT
92/K045G - 1 - 3. August 1992
WL-DI.Z.-ge
Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten
Die Neuerung betrifft ein Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten, mit einer
Belichtungsstation, die einer Wärmestation vorgeschaltet ist, in der in einem an drei Seiten mit
einer Isolation ausgekleideten Gehäuse eine IR-Strahlungsquelle angeordnet ist, die nach unten hin
durch das unten offene Gehäuse auf einen Reflektortisch abstrahlt, über den hinweg die
Druckplatte durch das Nachbehandlungsgerät hindurchläuft.
Ein derartiges Gerät ist aus der EP-A - 0 450 486 (DE-A 4 0 11 023) bekannt. Die in diesem Gerät
verwendete Leuchtstofflampe mit vorgelegtem Farbfilter in der Belichtungsstation zeigt bei Alterung
eine spektrale Veränderung, die sich auf die optimale Belichtung der Druckplatten nachteilig auswirkt, da
diese nur in einem engen Spektralbereich auftritt.
Aus der DE-B 12 14 085 (US-PS 3,144,331) ist es bekannt, zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit
fotopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien, die als lichtempfindliche Schicht auf einem Druckplattenträger
aufgetragen sind und deren Empfindlichkeit durch Absorption von molekularem Sauerstoff
0 nachgelassen hat, mit 70 bis 98 % der Strahlungsmenge
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ALBERT
einer aktinischen Strahlung zu belichten, die bei gleichmäßigem Auftreffen zur Einleitung einer
Fotopolymerisation notwendig wäre. Die Belichtung erfolgt durch den beispielsweise transparenten
Druckplattenträger hindurch, wobei eine aktinische Strahlung mit einer solchen Wellenlänge verwendet
wird, daß nur 10 bis 70 % der Strahlung von der fotopolymerisierbaren Schicht absorbiert werden. Bei
diesem Verfahren wird im Prinzip einmal diffus und einmal bildmäßig belichtet. Die Diffus- bzw.
Vorbelichtung erfolgt mit geringerer Intensität, nämlich mit 70 bis 98 % der Strahlungsintensität, die
zum Erreichen der vollen Belichtungswirkung erforderlich ist. An diese Vorbelichtung schließt dann die
bildmäßige Belichtung mit voller Strahlungsintensität an.
In der US-PS 4,298,803 ist ein Verfahren beschrieben, bei dem eine Fotoresistschicht mit einer Intensität
vorbelichtet wird, die niedriger als die kritische Beiichtungsintensität ist, bei der der Fotoresist an
den belichteten Stellen weitgehend weggelöst werden kann. Nach dieser Vorbelichtung erfolgt die
bildmäßige Belichtung der Fotoresistschicht. Die Reihenfolge der beiden Belichtungen kann vertauscht
werden. In beiden Fällen wird die Lichtempfindlichkeit der Fotoresistschicht verbessert, wodurch
die Bearbeitungszeit stark verkürzt wird. Bei der für dieses Verfahren eingesetzten Vorrichtung können
sowohl die bildmäßige Belichtung als auch die Vor-
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-AL3ERT
bzw. Nachbelichtung des Fotoresists mittels eines Elektronenstrahls, einer UV- oder Röntgenstrahlenquelle
erfolgen.
Aus der US-PS 4,716,097 ist gleichfalls ein Verfahren bekannt, bei dem eine fotopolymere Schicht, die einen
Farbstoff enthält, zuerst mit Licht einer Wellenlänge oberhalb von 400 nm und einer Intensität von mindestens
1500 Lumen/m2 diffus und danach bildmäßig belichtet wird.
In der deutschen Offenlegungsschrift DE-A 24 12 571 ist ein Verfahren zum Aushärten einer durch Licht
härtbaren Polymerschicht einer Druckplatte beschrieben, bei dem zuerst diffus für kurze Zeit belichtet
und danach bildmäßig so lange belichtet wird, bis die Polymerschicht praktisch vollständig in den
belichteten Bereichen ausgehärtet ist. Die diffuse Belichtungsdauer beträgt maximal 90 % der Zeit,
0 innerhalb welcher die vollständige Aushärtung der Polymerschicht bei gleicher Intensität der Strahlung
sowohl für die Vorbelichtung als auch für die bildmäßige Belichtung erfolgt.
Aufgabe der Neuerung ist es, ein Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten so
weiterzuentwickeln, daß eine spektrale Veränderung der Lichtquelle der Belichtungsstation durch Alterung
nicht auftritt und eine gleichmäßige, regelbare
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-AL3ERT
Leuchtstärke über die volle Länge des jeweiligen Belichtungsabschnitts der Druckplatten erhalten wird.
Diese Aufgabe wird neuerungsgemäß in der Weise durch ein Nachbehandlungsgerät der eingangs beschriebenen
Art gelöst, daß die Belichtungsstation eine durch eine Lichtstreuscheibe abgedeckte LED-Zeilenanordnung
zur ganzflächigen Belichtung der Druckplatte enthält
und daß die LED-Zeilenanordnung in einem Leuchtstärke- bzw. Leuchtleistungsbereich von 0 bis 100 %
regelbar ist.
In Ausgestaltung der Neuerung strahlt die LED-Zeilenanordnung in einem Wellenlängenbereich von 565
± 20 nm ab.
Die weitere Ausgestaltung der Neuerung ergibt sich aus den Merkmalen der Schutzansprüche 3 bis 18.
0 Mit dem Nachbehandlungsgerät nach der Neuerung werden Fotopolymerdruckplatten, insbesondere Projektionsplatten
und hochlichtempfindliche Laserplatten, verarbeitet, wobei durch die Nachbehandlung mit Licht
sehr geringer und sehr gleichmäßiger Intensität und 5 die Nacherwärmung die Standzeiten bzw. die
Druckauflagenhöhe der so behandelten Druckplatten erheblich gesteigert werden können. Hierzu werden die
bildmäßig belichteten Druckplatten, die beispielsweise in einem Laserbelichtungsgerät mit einer
0 Wellenlänge von 488 nm belichtet wurden oder einer
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-AL3ERT
Projektionsbelichtung durch einen Quecksilber- oder Xenon-Strahler, Blitzlicht, Kohlenstofflampe oder
dergleichen ausgesetzt waren, in dem Nachbehandlungsgerät mit Licht einer Wellenlänge ^ = 565 ± 20
nm mit sehr geringer Intensität ein zweites Mal belichtet, d.h. nachbelichtet und anschließend auf
eine Temperatur von 80 ° bis 12 0 ° C in dem gleichen Gerät nacherwärmt. Von Vorteil ist bei diesem
Nachbehandlungsgerät, daß die Leuchtstärke der Belichtungsstation in sehr weiten Grenzen einstellbar
ist.
Die Neuerung wird im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
15
15
Fig. 1 eine schematische Schnittansicht des Nachbehandlungsgeräts gemäß der Neuerung,
Fig. 2-4 eine Seitenansicht und Draufsicht sowie die 0 Schaltung einer LED-Zeilenanordnung einer
Belichtungsstation des Nachbehandlungsgeräts ,
Fig. 5 im Schnitt eine Teilansicht des Reflektortisches des Nachbehandlungsgeräts, und
Fig. 6 eine Draufsicht auf den Reflektortisch nach Figur 5.
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ArLBERT
Ein Nachbehandlungsgerät 1 enthält als wesentliche Einheiten eine Belichtungsstation 2, eine Wärmestation
3, einen Reflektortisch 7 und Transportwalzenpaare 5 und 6, wobei diese Einheiten von einem Gehäuse
4 des Nachbehandlungsgeräts umschlossen sind. Druckplatten 30, von denen in Figur 1 eine schematisch
dargestellt ist, durchlaufen entlang einer Transportbahn 12 das Nachbehandlungsgerät 1. Für den
Transport der Druckplatte 3 0 durch das Nachbehandlungsgerät sind das Eingangstransportwalzenpaar 5 am
Beginn der Transportbahn 12 innerhalb des Geräts und das Ausgangstransportwal&zgr;enpaar 6 am Ende der Transportbahn
innerhalb des Geräts vorhanden. Auf den Wellen der Transportwalzen dieser beiden Transportwalzenpaare
sitzen Stirnzahnräder 25, 26, 27 und 28 auf, über die eine endlos umlaufende Zahnradkette 29
geführt ist. Eine der Transportwalzen des Eingangswalzenpaares 5 wird durch einen nicht gezeigten
Elektromotor angetrieben. Das Stirnzahnrad der 0 angetriebenen Transportwalze versetzt die Zahnradkette
29 in Umlauf, wodurch der Synchronlauf zwischen dem Eingangs- und dem Ausgangswalzenpaar sichergestellt
ist.
Die Belichtungsstation 2 ist der Wärmestation 3, betrachtet in Transportrichtung der Druckplatten, vorgeschaltet.
In der Belichtungsstation 2 befindet sich als Strahlungsquelle eine LED-Zeilenanordnung 8 zur
ganzflächigen, diffusen Belichtung der Druckplatte 0 30. Diese LED-Zeilenanordnung 8 besteht zumindest aus
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-AüBERT
zwei zueinander versetzten Reihen von LED-Modulen D1,
D2, ... Dn und D1 1, D2 1 ... Dn 1, wie die Figuren 2
und 3 zeigen, und befinden sich in einem geschlossenen Gehäuse der Belichtungsstation 2. Nach unten
hin, in Richtung der Transportbahn 12 für die Druckplatten, weist das Gehäuse der Belichtungsstation 2 eine Belichtungsöffnung 13 auf, die von
einer Lichtstreuscheibe 9 abgedeckt ist.
Das einzelne Modul D1, ... Dn, D1 1 ... Dn 1 besteht im
allgemeinen aus vier Leuchtdioden LED, die, wie in Figur 4 gezeigt, in Reihe geschaltet sind. Zwei
Module D1, D1 1; D2, D2 1 ... Dn, Dn' sind jeweils in
Reihe geschaltet und werden von einer nicht dargestellten Stromquelle mit einer Referenzspannung
Uref gespeist. Je zwei in Reihe geschaltete Module
werden von einem Stromkreis aus Transistor T^ und stroinbegrenzendem Widerstand R^, mit i = 1, 2, ... n,
gesteuert. Der Widerstand R^ kann ein Festwiderstand
oder ein regelbarer Widerstand in Gestalt eines Potentiometers sein. Die Stromquelle beaufschlagt die
Basen sämtlicher Transistoren T^, die parallel
geschaltet sind, mit der Referenzspannung Uf. Die
gleichfalls parallel geschalteten Widerstände R^ begrenzen die Emitterströme der Transistoren Tj_. Die
Referenzspannung Uref ist eine Gleichspannung im
Bereich von 0 bis 3 V, es fließt dann ein Basis-Emitterstrom IBE von 0 bis 30 mA, oder eine
Rechteckspannung im Bereich von 0 bis 6 V, mit einem Basis-Emitterstrom IßE von 0 bis 60 mA, mit einem
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ALB2RT
Tastverhältnis von 1:2. Die Stromquelle der Referenzspannung ^r-Bf liefer"t einen Strom in der
Größenordnung von 100 mA und kann z.B. ein D/AWandler mit einer Pufferstufe oder eine separate
Steuerschaltung sein.
Die effektive Leuchtstärke der LED-Zeilenanordnung 8 wird durch den Sensor 23 gemessen. Damit eine
gleichmäßige Ausleuchtung über die gesamte Breite der LED-Zeilenanordnung 8 erhalten wird, werden LED-Module
aus einer Fertigung verwendet. Treten dennoch Helligkeitsunterschiede zwischen den einzelnen
Modulen auf, so werden sie durch Verändern des zugehörigen Widerstandes R^ ausgeglichen.
Die LED-Module D1, D1 1, ... Dn, Dn 1 sind auf Segmenten
33 angeordnet, die gleiche oder unterschiedliche Längen haben und werden mittels Steckkontakten 34 zu
einer Platine 31, wie aus Fig. 3 ersichtlich, 0 zusammengesteckt. Auf dem einzelnen Segment 33 kann
ein einzelnes oder zwei bis vier Module angebracht sein. Die Steckkontakte 34 sind in Fig. 3 gestrichelt
angedeutet. Je ein Segment 3 3 mit einem und mit zwei Modulen der oberen Reihe der LED-Zeilenanordnung 8
ist durch eine geschwungene Klammer markiert. Die zusammengesteckte Platine 31 ist auf einer
Grundplatine 32 befestigt, auf der auch die Transistoren T^ und Widerstände R^ angeordnet sind.
Da die einzelnen Segmente 33 unterschiedliche Längen 0 haben können, ist die Reihenlänge an die Breite der
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ArLBERT
zu belichtenden Druckplatte anpaßbar. Durch die segmentierte Bauweise der LED-Zeilenanordnung 8 ist
bei einem Ausfall von einem oder mehreren LED-Modulen ein schneller Austausch möglich, da die
funktionierenden Bauteile nicht ausgebaut werden müssen. Bei der Alterung der LED tritt keine
spektrale Veränderung, d.h. keine Verschiebung des ausgesandten Wellenlängenbereiches auf. Durch die
Stromregelung der LED-Module ist eine gleichmäßige Leucht leistung über die volle Länge der LED-Zeilenanordnung
8 einstellbar, die mit Niederspannung betrieben wird.
Die Beleuchtungsstärke der LED-Zahlenanordnung 8 der Belichtungsstation 2 ist zur genauen Dosierung der
auf die Druckplatte 3 0 applizierten Lichtmenge elektronisch stufenlos zwischen 0 % und 100 % der
maximalen Beleuchtungsstärke regelbar. Die Anzeige der Beleuchtungsstärke dieser LED-Zeilenanordnung 8
erfolgt digital, wobei zur Messung der Beleuchtungsstärke ein Sensor 23 im Inneren des Gehäuses
der Belichtungsstation 2 angebracht ist. Die Geschlossenheit des Gehäuses verhindert das Auftreten
von äußeren Störstrahlungen, die die Messung der Beleuchtungsstärke mittels des Sensors 23 in unerwünschter
Weise beeinträchtigen könnten.
Die Einstellung der Beleuchtungsstärke der LED-Zeilenanordnung 8 erfolgt durch eine elektronische
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - "WERK KÄELE-ALBEf&T
Regelung 24, die oberhalb der Belichtungsstation 2 schematisch dargestellt ist.
Die spektrale Verteilung der LED-Zeilenanordnung 8 liegt im Wellenlängenbereich von 565 ± 20 nut.
Der Sensor 23 zur Messung der Beleuchtungsstärke ist üblicherweise eine Fotodiode, die sich im Gehäuse der
Belichtungsstation 2 befindet und dadurch von jeglicher Störstrahlung, wie beispielsweise in das
Nachbehandlungsgerät 1 einfallendes Tageslicht, abgeschirmt ist. Zweckmäßigerweise ist die Fotodiode
oberhalb der Platine 31 angebracht (vgl. Fig. 2).
Die Wärmestation 3 ist mit einer IR-Strahlungsquelle
18 ausgerüstet, die in einem Gehäuse untergebracht ist, das an drei Seiten mit einer Isolation 20, 21,
22 wärmeisoliert ist. Nach unten hin ist das Gehäuse auf den Reflektortisch 7 hin offen, über den die
0 Druckplatte 3 0 durch das Nachbehandlungsgerät 1 hindurchgeführt wird. Bei der Strahlungsquelle 18 der
Wärmestation 3 handelt es sich beispielsweise um einen Infrarot-Dunkelstrahler aus Keramik, der
Strahlung in einem Wellenlängenbereich weitab sowohl vom sichtbaren Wellenlängenbereich als auch vom
Strahlungsempfindlichkeitsbereich der Druckplatten emittiert. Oberhalb der IR-Strahlungsquelle 18 ist
ein Reflektor 19 angebracht. Die von der IR-Strahlungsquelle 18 emittierte Strahlung liegt in
0 einem Wellenlängenbereich von 1000 nm bis über 10000
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ALBERT
nm. Durch diesen Spektralbereich der Wärmestrahlung sind voneinander völlig unabhängige Dosierungen der
auf die Druckplatten 30 einwirkenden elektromagnetischen Strahlungen möglich, nämlich einerseits die
voranstehend erwähnte Infrarotstrahlung zur Erzeugung von Wärme und andererseits die diffuse Belichtung mit
sichtbarem Licht zur sogenannten "Nachbelichtung" der schon bildmäßig belichteten Druckplatte.
Die IR-Strahlungsquelle 18 ist in ihrer Strahlungsleistung
so regelbar, daß die Druckplatte 3 0 auf eine Temperatur von 80 ' bis 120 "C erwärmt werden kann.
Der Reflektortisch 7 ist als ein trogähnlicher Hohlkörper
geformt, der auf der Höhe der Transportbahn 12 der Druckplatten 30 eine Bespannung 15 aufweist, wie
aus den Figuren 5 und 6 ersichtlich ist. Die Bespannung 15 besteht entweder aus einem dünnen Metalldraht
oder einem dünnen Kunststoffaden und ist auf der 0 Oberseite des Reflektortisches V-förmig aufgespannt
(vgl. Fig. 3), damit die vorderen Ecken der Druckplatte beim Transport durch das Nachbehandlungsgerät
1 nicht unterhalb der Bespannung gelangen können, was einen Druckplattenstau zur Folge hätte.
25
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Durch die sehr geringe Wärmekapazität der Bespannung 15 im Vergleich zu der Druckplatte 30 ist gewährleistet,
daß an keiner Stelle der Druckplatte während der Erwärmung im Bereich unterhalb der Wärmestation 3
0 ein Wärmeabfluß entstehen kann, der zu einer un-
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT -WEHK KALLE-ALBEkT'
gleichmäßigen Erwärmung der Druckplatte führen könnte. Die Innenseite des Reflektortisches 7 ist mit
einem wärmereflektierenden Metallblech ausgekleidet. An der Unterseite des Reflektortisches befinden sich
Verstelleinrichtungen 16, 17, üblicherweise Stellschrauben, die ein Anheben und Absenken innerhalb
eines kleinen Bereiches der Grundfläche des trogähnlichen Reflektortisches 7 ermöglichen, um so den
Abstand der Unterseite der Druckplatte zu der Grundfläche des Reflektortisches in einem bestimmten Maße
einstellen zu können.
Ein Wärmeabfluß von der Druckplatte, beispielsweise durch Berührung zwischen der Druckplatte und dem Metallblech
des Reflektortisches, könnte zu einer partiellen Temperaturabsenkung im Bereich der Berührungsfläche
führen und damit zu einer ungleichmäßigen Erwärmung und somit auch ungleichmäßigen Nachhärtung
der Fotopolymerschicht der Druckplatte.
Mit dem Nachbehandlungsgerät werden die Vorteile erzielt, daß die LED-Zeilenanordnung 8 der Belichtungsstation
2 über die Arbeitsbreite der Druckplatte 3 0 eine sehr gleichmäßige Belichtungsstärke erzeugt,
und die Belichtungsintensität der LED-Module bzw. der LED-Zeilenanordnung 8 stufenlos geregelt werden
kann. Die Ergebnisse der Belichtung für unterschiedliche BeiichtungsIntensitäten sind stets
reproduzierbar. Eine Alterung der LED-Module verur-0 sacht keine spektrale Verschiebung, so daß die
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KALLE-ALBERT'
ausgesandte Wellenlänge weitgehend konstant bleibt. Weitere Vorteile des Nachbehandlungsgerätes bestehen
darin, daß keine Störstrahlungen im Bereich der Belichtungs- und der Wärmestation auftreten können, daß
die LED-Zeilenanordnung 8 in ihrer Länge beliebig konfigurierbar ist und in ihrer vollen Länge zum
Belichten genutzt werden kann und daß sie mit Niederspannung betrieben und im Bereich von 0 bis 100
% ihrer Leuchtleistung einstellbar ist.
10
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Claims (18)
1. Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten, mit einer Belichtungsstation, die einer
Wärmestation vorgeschaltet ist, in der in einem an drei Seiten mit einer Isolation ausgekleideten
Gehäuse eine IR-Strahlungsquelle angeordnet ist, die
nach unten hin durch das unten offene Gehäuse auf einen Reflektortisch abstrahlt, über den hinweg die
Druckplatte durch das Nachbehandlungsgerät hindurchläuft, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungsstation
(2) eine durch eine Lichtstreuscheibe (9) abgedeckte LED-Zeilenanordnung (8) zur
ganzflächigen Belichtung der Druckplatte (30) enthält und daß die LED-Zeilenanordnung (8) in einem
Leuchtstärke- bzw. Leuchtleistungsbereich von 0 bis 100 % regelbar ist.
0 2. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die LED-Zeilenanordnung (8) in einem Wellenlängenbereich von 565 ± 20 nm abstrahlt.
3. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch l, dadurch
gekennzeichnet, daß die LED-Zeilenanordnung (8) zumindest aus zwei zueinander versetzten Reihen von
LED-Modulen (D^; Dj") besteht und daß das einzelne
Modul (D^; ^i') aus mehreren Leuchtdioden
zusammengesetzt ist.
30
30
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WERK KÄLLE-ALBERT
4. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das einzelne Modul vier Leuchtdioden LED enthält, die in Reihe geschaltet
sind.
5. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß jeweils zwei Module (D1, D1 1; D2,
D2 1; ··· Dn, Dn 1) in Reihe geschaltet sind und von
einem Stromkreis aus je einem Transistor (T1. T2; ...
^n), regelbaren oder festen Widerstand (R1; R2; ...
Rn) und einer gemeinsamen Stromquelle für alle Module, die eine Referenzspannung Uref an die Basis
der Transistoren liefert, gesteuert sind.
6. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Basen aller Transistoren (T1,
T2, ... Tn) parallel und alle Widerstände (R1, R2,
... Rn) zwischen den Emittern der Transistoren und einer Masse-Leitung parallel geschaltet sind.
7. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Referenzspannung Uref eine
Gleich- oder eine Rechteckspannung mit einem Tastverhältnis 1:2 ist.
8. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Sensor (23) zur Messung der Leuchtstärke der LED-Zeilenanordnung (8) in der
Belichtungsstation (2) vorhanden ist.
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT -"WERK KALLE-ALBERT"
9. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die LED-Zeilenanordnung (8) aus einzelnen Segmenten (33) besteht, die mittels
Steckkontakten (34) zu einer Platine (31) zusammengesteckt sind.
10. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Segmente (33)
unterschiedliche oder gleiche Längen aufweisen.
11. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die LED-Zeilenanordnung
(8) in einem Gehäuse eingebaut ist, dessen untere Öffnung durch die Lichtstreuscheibe (9) abgedeckt ist
und daß im Inneren des Gehäuses als Sensor (23) eine Fotodiode oberhalb der Platine (31) angeordnet ist.
12. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die IR-Strahlungsquelle
0 (18) der Wärmestation (3) ein Infrarot-Dunkelstrahler aus Keramik ist, der Strahlung in einem
Wellenlängenbereich weitab sowohl vom sichtbaren Wellenlängenbereich als auch vom Strahlungsempfindlichkeitsbereich
der Druckplatten emittiert.
13. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die IR-Strahlungsquelle (18) Strahlung in einem Wellenlängenbereich von 1000
bis 10000 nm emittiert.
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - "WEiRK KAELE-ALBE'RT
14. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die IR-Strahlungsquelle
(18) in ihrer Strahlungsleistung so regelbar ist, daß die Druckplatte (30) auf eine Temperatur von 80 0C
bis 120 0C erwärmbar ist.
15. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektortisch (7) als
trogähnlicher Hohlkörper geformt ist, der auf der Höhe der Transportbahn (12) der Druckplatten (30)
eine Bespannung (15) aufweist.
16. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Bespannung (15) aus
einem dünnen Metalldraht oder einem dünnen Kunststoffaden besteht und V-förmig auf der Oberseite
des Reflektortisches (7) aufgespannt ist.
17. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 14, da-0
durch gekennzeichnet, daß die Innenseite des Reflektortisches (7) mit einem wärmereflektierenden
Metallblech ausgekleidet ist.
18. Nachbehandlungsgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für den Transport der
Druckplatten (30) entlang einer Transportbahn (12) durch das Nachbehandlungsgerät ein Eingangs- und ein
Ausgangstransportwalzenpaar (5, 6) vorhanden sind, die sich im Gehäuseinneren befinden und synchron von
einer endlos umlaufenden Zahnradkette (29) ange-
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT - WE^K KALLE-ALBERT
- 18 -
trieben sind, die über Stirnzahnräder (25, 26, 27, 28) geführt ist, wobei die Stirnzahnräder auf den
Wellen der Transportwalzen der beiden Transportwalzenpaare aufsitzen und eine der Transportwalzen
des Eingangswalzenpaares (5) motorisch angetrieben ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9210462U DE9210462U1 (de) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9210462U DE9210462U1 (de) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE9210462U1 true DE9210462U1 (de) | 1992-09-24 |
Family
ID=6882351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE9210462U Expired - Lifetime DE9210462U1 (de) | 1992-08-05 | 1992-08-05 | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE9210462U1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0582253A2 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-09 | Hoechst Aktiengesellschaft | Nachbehandlungsgerät für bildmässig belichtete Druckplatten |
| DE10035430B4 (de) * | 2000-07-20 | 2005-06-16 | Advanced Photonics Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer |
-
1992
- 1992-08-05 DE DE9210462U patent/DE9210462U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0582253A2 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-09 | Hoechst Aktiengesellschaft | Nachbehandlungsgerät für bildmässig belichtete Druckplatten |
| EP0582253A3 (en) * | 1992-08-05 | 1994-06-22 | Hoechst Ag | Apparatus for the posttreatment of image-wise exposed printing plates |
| DE10035430B4 (de) * | 2000-07-20 | 2005-06-16 | Advanced Photonics Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer |
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