DE755609C - Process for the production of the active layers on the impact electrodes of multiplier tubes by cathode atomization - Google Patents

Process for the production of the active layers on the impact electrodes of multiplier tubes by cathode atomization

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DE755609C
DE755609C DES142792D DES0142792D DE755609C DE 755609 C DE755609 C DE 755609C DE S142792 D DES142792 D DE S142792D DE S0142792 D DES0142792 D DE S0142792D DE 755609 C DE755609 C DE 755609C
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Germany
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gas
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DES142792D
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Gottwalt Dr Phil Wetterer
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Siemens and Halske AG
Siemens AG
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Siemens and Halske AG
Siemens AG
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/12Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
    • H01J9/125Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes of secondary emission electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/32Secondary emission electrodes

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Verfahren zur Herstellung der aktiven Schichten auf den Prallelektroden von Vervielfacherröhren durch Kathodenzerstäubung Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung der Elektrodensysteme von Vervielfacherröhren, durch welches der Herstellungsgang dieser Systeme wesentlich vereinfacht wird. Die Aufgabe, welche der Erfindung zugrunde liegt, besteht darin, bei einem fertig montierten Elektrodensystem die Herstellung der Sekundäremissionsschichten vorzunehmen.Process for the production of the active layers on the impact electrodes of multiplier tubes by sputtering The invention relates to a method for the production of the electrode systems of multiplier tubes through which the Manufacturing process of these systems is significantly simplified. The task which the invention is based on a fully assembled electrode system make the production of the secondary emission layers.

Erfindungsgemäß besteht das Verfahren zur Herstellung der aktiven Schichten auf den Prallelektroden von Vervielfacherröhren durch hathodenzerstäubung darin, daß das Elektrodensystem in einen mit einem aktiven oder inerten gasgefüllten Raum zwischen zwei Elektroden gebracht und zwischen diesen beiden Elektroden bzw. dem System und den Elektroden eine Entladung erzeugt wird, derart, daß die aus dem zu zerstäubenden Material bestehende Elektrode kathodisch zerstäubt wird. Das zerstäubte Metall bzw. die aus dem Metall und dem aktiven Gas durch Reaktion gebildeten Stoffe treten von der Seite her in das Vervielfachersystem ein und bilden einen Niederschlag auf den Prallelektroden. Natürlich muß die Anordnung der zu zerstäubenden Elektrode zum System in entsprechender Weise getroffen werden. Welche Möglichkeiten hierzu bestehen, zeigt am besten eine Betrachtung der Figuren. In Fig. i bedeutet i das Vervielfachersystem, das von einem Ouetschfuß a aus gehaltert ist. -fit Hilfe eines Schliffes 3 ist das Elektrodensystem in ein Glasgefäß d. eingesetzt, in welches zwei Elektroden 5 und 6 hineinragen. Wenigstens eine dieser beiden Elektroden muß aus dem zu zerstäubenden Metall bestehen. Man kann nun in folgender `'eise vorgehen: Entweder man läßt in dem Gefäß .[, das zu diesem Zweck eine geeignete Gasfüllung erhält, eine Entladung übergehen, indem man zwischen den beiden Elektroden 5 und 6 eine Gleichspannung anlegt und die aus dein zu verdampfenden Material bestehende Elektrode als Kathode schaltet (die Elektrode wird dann zerstäubt, und das zerstäubte Material lagert sich an den Prallflächen des Vervielfachersystems ab), ebenso ist es aber auch möglich, beide Elektroden 5 und 6 aus dein Schichtmaterial bzw. einem Bestandteil des Schichtmaterials herzustellen und zwischen die beiden Elektroden eine Wechselspannung anzulegen. Dann werden die beiden Elektroden 5 und 6 wechselweise zerstäubt, und die zerstäubten Teilchen gelangen von beiden Seiten her in das Elektrodensystem hinein und lagern sich auf den Prallflächen ab. Um die zerstäubten Metallteilchen, die ja negativ geladen sind, auf die Vervielfacherelektroden hinzulenken, empfiehlt es sich, das Vervielfachersystem i über Widerstände mit den Elektroden zu verbinden. Die negativ geladenen Metallpartikel werden dann elektrostatisch auf das System gezogen. Es besteht ferner die Möglichkeit, das Elektrodensy stem i als Anode zu schalten und die beiden Elektroden 5 und 6 in Parallelschaltung als Zerstäubungskathoden zu verwenden.According to the invention, the process for the preparation of the active Layers on the impact electrodes of multiplier tubes by hathodic atomization in that the electrode system is filled with an active or inert gas Space between two electrodes and placed between these two electrodes or the system and the electrodes a discharge is generated such that the from the to be sputtered material existing electrode is sputtered cathodically. That atomized Metal or the substances formed by reaction from the metal and the active gas enter the multiplier system from the side and form a precipitate on the impact electrodes. Of course, the arrangement of the to atomizing Electrode to the system can be taken in a corresponding manner. Which possibilities this is best shown by looking at the figures. In Fig. I means i the multiplier system, which is supported by an Ouetschfuß a. -fit help a section 3 is the electrode system in a glass vessel d. used in which two electrodes 5 and 6 protrude. At least one of these two electrodes must consist of the metal to be atomized. You can now proceed in the following way: Either you leave a suitable gas filling in the vessel [for this purpose receives, pass a discharge by placing between the two electrodes 5 and 6 applies a direct voltage and that of your material to be evaporated Electrode switches as cathode (the electrode is then sputtered, and the sputtered Material is deposited on the impact surfaces of the multiplier system), as is but it is also possible, both electrodes 5 and 6 from your layer material or one Make part of the layer material and between the two electrodes to apply an alternating voltage. Then the two electrodes 5 and 6 are alternated atomized, and the atomized particles enter the electrode system from both sides into it and deposit on the impact surfaces. To the atomized metal particles, who are negatively charged, to point towards the multiplier electrodes, recommends it is necessary to connect the multiplier system i to the electrodes via resistors. The negatively charged metal particles are then electrostatically applied to the system drawn. There is also the possibility of using the electrode system i as an anode switch and the two electrodes 5 and 6 in parallel as sputtering cathodes to use.

Als Füllgas für die Aufrechterhaltung der Entladung dient ein reaktionsfähiges Gas, z. B. Sauerstoff, oder ein inertes Gas, z. B. Stickstoff, oder Edelgase bzw. eine geeignete Mischung solcher Gase. Weitere Gaszusätze in kleineren Mengen können die Zerstäubung und damit die Aufdampfgeschwindigkeit steigern. Bei Verwendung von Sauerstoff als Füllgas entsteht ein Oxyd des zerstäubten Metalls, das die Sekundäremissionsschicht bildet. Bei der Verwendung von Edelgas wird reines Metall auf die Vervielfacherelektroden aufgestäubt. ,Mischt man die beiden Gasarten miteinander, so kann man bei richtigem Mischungsverhältnis erreichen, daß eine ganz bestimmte Menge von feinem Metall in der fertigen Schicht enthalten ist. Es gelingt also nach diesem Verfahren, in einfacher Weise gleichmäßige Sekundäremissionsschichten herzustellen, bei denen in einer Ozydschicht freie Metallatome eingebaut sind. Derartige Schichten haben sich neuerdings gut bewährt.A reactive gas is used as the filling gas to maintain the discharge Gas, e.g. B. oxygen, or an inert gas, e.g. B. nitrogen, or noble gases or a suitable mixture of such gases. Other gas additives in smaller quantities can be used increase the atomization and thus the vapor deposition rate. When using Oxygen as a filling gas creates an oxide of the atomized metal, which forms the secondary emission layer forms. When using noble gas, pure metal is applied to the multiplier electrodes dusted up. 'If you mix the two types of gas with each other, you can with the right one Mixing ratio achieve that a very specific amount of fine metal in the finished layer is included. So it succeeds with this method, in a simple way Way to produce uniform secondary emission layers, with those in an ozyd layer free metal atoms are incorporated. Such layers have done well lately proven.

Es empfiehlt sich, die Vervielfachersysteme bei der Herstellung zunächst fertig zu montieren, in den Glaskolben einzubauen und zum Zweck der Bestäubung der Prallflächen den Fuß des Glaskolbens gemäß Fig. a etwa an der Stelle 7 von dem Glaskolben 8 abzusprengen. Das Vervielfachersystem wird dann mit Hilfe des in Fig. i dargestellten Schliffes 3 in das Gefäß 4. eingebracht. Sodann wird durch den Pumpstutzen 9 (Fig. i) das Gefäß evakuiert und das Füllgas eingelassen. Nach der Bestäubung der Prallfächen wird das System wieder aus dem Gefäß herausgenommen und der Fuß, der das Vervielfachersystem trägt, wiederum an der Stelle 7 mit dein Kolben 8 zusammengesetzt und verschmolzen. Sodann wird die Vervielfaclic:rröhre fertiggestellt.It is best to start manufacturing the multiplier systems first ready to assemble, built into the glass flask and for the purpose of pollinating the Impact surfaces the foot of the glass bulb according to FIG. A approximately at the point 7 of the glass bulb 8 blast off. The multiplier system is then implemented using the one shown in FIG Section 3 introduced into the vessel 4. Then through the pump nozzle 9 (Fig. i) evacuated the vessel and let in the filling gas. After the impact surfaces have been pollinated the system is taken out of the vessel and the foot that holds the multiplier system carries, again at the point 7 with your piston 8 assembled and fused. Then the multiplication tube is completed.

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung der aktiven Schichten auf den Prallelektroden von Vervielfacherröhren durch Kathodenzerstäubung, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektrodensystem in einen mit einem aktiven oder inerten Gas gefüllten Raum zwischen zwei Elektroden gebracht und zwischen diesen beiden Elektroden (5, 6) bzw. dem S v stem und den Elektroden eine Entladung erzeugt wird, derart, daß die aus dem zu zerstäubenden Material bestehende Elektrode kathodisch -zerstäubt wird. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Füllung für den Entladungsraum, in welchem die Kathodenzerstäubung erfolgt, aus einer Mischung aus einem reaktionsfähigen Gas, z. B. Sauerstoff, und einem inerten Gas, z. B. Stickstoff oder Edelgas, besteht. 3. Anordnung nach Anspruch a, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden (5, 6) über Widerstände mit dem Vervielfachersystem (i) verbunden sind. ZurAbgrenzung des Erfindungsgegenstands vom Stand der Technik ist im Erteilungsverfahren folgende Druckschrift in Betracht gezogen worden: Schweizerische Patentschrift Nr. 2079z8. PATENT CLAIMS: i. Process for producing the active layers on the impact electrodes of multiplier tubes by cathode sputtering, characterized in that the electrode system is placed in a space filled with an active or inert gas between two electrodes and between these two electrodes (5, 6) or the system and a discharge is generated on the electrodes in such a way that the electrode consisting of the material to be sputtered is cathodically sputtered. Arrangement for carrying out the method according to claim i, characterized in that the filling for the discharge space in which the cathode sputtering takes place consists of a mixture of a reactive gas, e.g. B. oxygen, and an inert gas, e.g. B. nitrogen or noble gas. 3. Arrangement according to claim a, characterized in that the electrodes (5, 6) are connected to the multiplier system (i) via resistors. To distinguish the subject matter of the invention from the state of the art, the following publication was considered in the granting procedure: Swiss Patent No. 2079z8.
DES142792D 1940-11-02 1940-11-02 Process for the production of the active layers on the impact electrodes of multiplier tubes by cathode atomization Expired DE755609C (en)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH207928A (en) * 1937-03-30 1939-12-15 Philips Nv Method of manufacturing an electric discharge tube with a secondary emission electrode.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH207928A (en) * 1937-03-30 1939-12-15 Philips Nv Method of manufacturing an electric discharge tube with a secondary emission electrode.

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