DE69525609T2 - Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung - Google Patents

Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung

Info

Publication number
DE69525609T2
DE69525609T2 DE69525609T DE69525609T DE69525609T2 DE 69525609 T2 DE69525609 T2 DE 69525609T2 DE 69525609 T DE69525609 T DE 69525609T DE 69525609 T DE69525609 T DE 69525609T DE 69525609 T2 DE69525609 T2 DE 69525609T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
compound
squarilium
acid
acrylate
photopolymerizable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69525609T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69525609D1 (de
Inventor
Hirotaka Kinoshita
Kenichi Koseki
Shoshiro Matsushita
Ikuo Shimizu
Hiroshi Toyoda
Tsuguo Yamaoka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd filed Critical Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of DE69525609D1 publication Critical patent/DE69525609D1/de
Publication of DE69525609T2 publication Critical patent/DE69525609T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/58[b]- or [c]-condensed
    • C07D209/60Naphtho [b] pyrroles; Hydrogenated naphtho [b] pyrroles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/007Squaraine dyes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

    Gegenstand der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, die eine Squariliumverbindung enthält. Da die fotopolymerisierbare Zusammensetzung eine hohe Empfindlichkeit gegenüber sichtbarem Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 600 nm bis hin zum nahen infraroten Licht aufweist, eignet sie sich als eine rotlichtempfindliche Verbindung in sichtbaren Laseraufzeichnungsmaterialien, wie PS Platten für die direkte Druckplattenherstellung mittels Laser, trockene Schutzfilme, digitale Korrekturfahnen und Hologramme, und panchromatische lichtempfindliche Materialien, wie lichtempfindliche Hologrammfarbstoffe, lichtempfindliche Stoffe zur vollständigen Farbkennzeichnung, welche eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung in einer Mikrokapsel enthalten, sowie lichtempfindliche Stoffe wie Beschichtungsmittel und Klebstoffe, für die Lichtquellen mit sichtbarem bis zu nahem Infrarotlicht verwendet werden.
  • Stand der Technik
  • Eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, die eine Squariliumverbindung als sensibilisierenden Farbstoff und eine S-Triazinverbindung als Radikalerzeuger verwendet, ist in JP-A 2-48665, JP-A 2-229802, JP-A 2-306247, JP-A 4-106548 und JP-A 5-5005 offenbart.
  • Bekannt sind eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, in der eine Squariliumverbindung als Farbstoff zur Sensibilisierung und ein Aziniumsalz als Radikalerzeuger verwendet wird (zum Beispiel JP-A 63-142346), eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, in der Hexaarylbisimidazol verwendet wird (zum Beispiel JP-A 5-27436), bzw. eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, in der ein Metall-Allen Komplex (zum Beispiel JP-A 5-17525) verwendet wird.
  • In JP-A- 63138345, JP-A 63-142346 und JP-A 2-48665 ist offenbart, dass eine Benzoindoleniumsalzverbindung, dargestellt durch die obige Formel (A), eine maximale Absorptionswellenlänge bei 673 nm besitzt. Obwohl sie verschiedene rote Laser, wie zum Beispiel He-Ne-Laser, Kr-Laser, kurzwelige Halbleiterlaser aufgrund der oben erwähnten Eigenschaft wirksam sensibilisieren kann, besteht bei der Benzoindoleniumsalzverbindung ein Problem darin, dass aufgrund ihrer geringen Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln und Monomeren in einer Fotosensibilisatorlösung keine höhere Konzentration erreicht werden kann, und deshalb die Verwendung von Lösungsmitteln mit geringer Toxizität, wie zum Beispiel Methylethylketon, beschränkt ist. Da die sie sich im Dunkeln sehr leicht zersetzt, selbst wenn das Licht in der Fotosensibilisatorlösung gefiltert wird, besteht bei der Benzoindoleniumsalzverbindung weiterhin ein Problem darin, dass die Fotosensibilisatorlösung im roten Bereich entfärbt wird und die Lichtempfindlichkeit der Lösung gegenüber rotem Licht innerhalb kurzer Zeit erheblich abgesenkt wird.
  • Beschreibung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung, welche eine Squariliumverbindung der Formel (I):
  • in welcher R einen Niederalkylrest mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen darstellt, einen Radikalbildner und eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung umfasst.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ebenfalls eine Squariliumverbindung der Formel (Ia) zur Verfügung gestellt:
  • in welcher Ra eine Propyl-, Isopropyl-, Isobutyl-, Pentyl-, Isopentyl-, oder Hexylgruppe darstellt.
  • Nachstehend werden Verbindungen der Formeln (I) und (Ia) entsprechend als "Verbindung (I)" und "Verbindung (Ia)" bezeichnet. Das gleiche gilt für die Verbindungen mit anderen Formelzahlen.
  • In der Definition der Formel (I) sind unverzweigte oder verzweigte Alkylreste, wie Ethyl-, Propyl-, Isopropyl-, Butyl-, Isobuty-, sec-Butyl-, tert-Butyl-, 2-Ethylbutyl-, Pentyl, Isopentyl-, Neopentyl-, 3-Ethylpentyl-, tert-Pentyl-, Hexyl-, Isohexyl-, Heptyl- und Octylgruppen Beispiele für die Niederalkylreste mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen.
  • Das Verfahren zur Darstellung der Verbindung (I) ist nachfolgend beschrieben:
  • (In den Formeln hat R die selbe Bedeutung wie oben definiert und X steht ihr Halogen oder p- Toluolsulfonyloxy)
  • Wie nachstehend beschrieben steht Halogen für Chlor, Brom oder Jod.
  • Eine rohe Verbindung (II) kann gemäß einem in Monatsh. Chem. 31, 123 (1910) beschriebenen Verfahren oder einem dazu ähnlichen Verfahren gewonnen werden.
  • 1. Schritt:
  • Die Verbindung (III) kann durch die Umsetzung von Verbindung (II) mit einer äquivalenten oder einer stark überschüssigen Menge der Verbindung RX in einem Lösungsmittel oder ohne Lösungsmittel unter Erhitzen über 1 bis 24 Stunden dargestellt werden. Beispiele für die zu verwendenden Lösungsmittel sind Methyl-isobutylketon, Diisobutylketon, Xylol, Toluol und Butanol.
  • 2. Schritt
  • Die Verbindung (T) kann durch die Umsetzung von Verbindung (III) mit 0,5 Äquivalenten der Verbindung (IV) bei 90 bis 110ºC über 1 bis 24 Stunden in einem Lösungsmittel in Gegenwart von 1 bis 2 Äquivalenten einer basischen Verbindung gewonnen werden. Beispiele für die basische Verbindung sind Triethylamin, Chinolin, und Pyridin. Beispiele für die Lösungsmittel sind Alkohole wie Ethanol, Butanol, Isobutylalkohol, Pentanol, Hexanol, Heptanol und Octanol sowie Gemische der oben genannten Alkohole und einem aromatischen Kohlenwasserstoff, wie Benzol, Toluol oder Xylol.
  • Im oben aufgeführten Verfahren können die Zwischenverbindungen und die gewünschten Produkte mit Hilfe von Reinigungsverfahren, welche gemeinhin in der organisch-präparativen Chemie verwendet werden, wie Filtrieren, Extrahieren, Waschen, Trocknen, Konzentrieren, Kristallisieren und verschiedene Arten der Chromatographie isoliert und gereinigt werden. Alternativ können Zwischenverbindungen im nächsten Reaktionsschritt ohne Reinigung eingesetzt werden.
  • Die Verbindung (I) kann in Form von Kristallen, die die Verbindung (I) sowie ein organisches Lösungsmittel, wie Benzol, Toluol oder Xylol umfassen, erhalten werden und diese Kristalle können als die vorliegende Squariliumverbindung verwendet werden.
  • Ausführungsformen der Verbindung (I) sind in der Tabelle 1 aufgeführt. Tabelle 1
  • Verbindung R
  • 1 -CH&sub2;CH&sub3;
  • 2 -(CH&sub2;)&sub2;CH&sub3;
  • 3 -CH(CH&sub3;)&sub2;
  • 4 -(CH&sub2;)&sub3;CH&sub3;
  • 5 -CH&sub2;CH(CH&sub3;)CH&sub3;
  • 6 -(CH&sub2;)&sub4;CH&sub3;
  • 7 Kristalle, die Verbindung 4 und o-Xylol (Molverhältnis 1 : 1) umfassen
  • 8 Kristalle, die eine Verbindung, in der R aus -(CH&sub2;)&sub2;CH(CH&sub3;)CH&sub3; besteht, und o-Xylol (Molverhältnis 1 : 1) umfassen
  • 9 -(CH&sub2;)&sub5;CH&sub3;
  • Die fotopolymerisierbare Zusammensetzung wird nachstehend erläutert werden.
  • Die fotopolymerisierbare Zusammensetzung kann durch Mischen von Verbindung (I), einem Radikalbildner und einer additionspolymerisierbaren Verbindung (nachstehend auch als "ethylenische Verbindung" bezeichnet) mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, wenn erforderlich, einem Bindemittel und von gebräuchlichen Zusatzstoffen (wie thermische Polymerisationsinhibitoren und Weichmacher) hergestellt werden.
  • Beispiele für den Radikalbildner sind s-Triazinverbindungen, die mit mindestens einer Trihalomethylgruppe (wie 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Methoxyphenyl)-4,6- bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(4-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin) substituiert sind; organische Peroxidverbindungen (wie 3,3',4,4'-Tetrakis(tertbutyldioxycarbonyl)benzophenon); N-Phenyiglicine (wie N-Phenylglycin, p-Chloro-N- phenylglycin und m-Methyl-Nphenylglycin); aromatische Sulfonylhalogenidverbindungen (wie Benzolsulfonylchlorid und p-Toluolsulfonylchlorid); Dimere des Imidazols (wie 2,2'- Bis-(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol), Metall-Allen-Komplexe (wie (η&sup6;- Benzol)(η&sup5;-Cyclopentadienyl)-eisen(II)-hexafluoraphosphat und Fluoraryl-titanocen); Diaryljodoniumsalz (wie 8-Anilinonaphthalen-1-Sulfonsäure-diphenyljodoniumsalz); Triarylsulfoniumsalz; verzweigte Polyethylenimine; Alkyl- oder Arylborat (wie Tetrabutylammonium-triphenylbutyl-borat); aromatische Ketone (wie Thioxanthon); Acetophenone (wie Benzoinether, Benzyldimethylketal und ähnliche); Diketone; Acyloximerster; Schwefelverbindungen (wie Thiol und Disulfid). Das vorliegende Fotopolymerisationsinitiatorsystem ist aus einer Squariliumverbindung und einem Radikalbildner zusammengesetzt. Die Menge an Radikalbildner zur Verwendung in dem Fotopolymerisationsinitiator beträgt 0,1 bis 100 Gewichtsteile (nachstehend wird (Gewichtsteil(e) mit "Teil(e") bezeichnet), vorzugsweise 1-50 Teile bezogen auf einen Teil der Squariliumverbindung.
  • Beispiele für die ethylenische Verbindung können alle Verbindungen sein, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung besitzen, welche mit Hilfe von Radikalen eine Additionspolymerisation eingehen, die erzeugt werden, wenn die fotopolymerisierbare Zusammensetzung dem Licht ausgesetzt wird und die eine Hiirtung und eine Unlöslichkeit der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung hervorrufen. Zum Beispiel werden Monomere und Oligomere mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung in der Haupt- oder Seitenkette alleine oder in Kombination miteinander verwendet.
  • Beispiele des Monomers mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung sind ungesättigte Carbonsäuren, Ester von ungesättigten Carbonsäuren und Monohydroxyverbindungen, Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen Polyhydroxyverbindungen, Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aromatischen Polyhydroxyverbindungen und Ester, welche durch eine Veresterung einer ungesättigten Carbonsäure, einer mehrwertigen Carbonsäure und Polyhydroxyverbindungen erhalten wurden.
  • Beispiele der ungesättigten Carbonsäure sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure und Maleinsäure.
  • Beispiele für den Ester der ungesättigten Carbonsäure und der Monohydroxyverbindung sind Acrylate wie Methylacrylat, Butylacrylat, 2-phenoxyethylacrylat, p-Chlorphenylacrylat, 2-(1-Naphthyloxy)ethylacrylat, o-Biphenylacrylat, Pentachlorphenylacrylat, 2,4,6- Tribromphenylacrylat, 2-Naphthylacrylat, 2-(2-Naphthyloxy)ethylacrylat, Trifluorethylacrylat, Tetrafluorpropylacrylat, Dibrompropylacrylat, Ethyl-2-chloracrylat und Tetrahydrofurfurylacrylat, sowie Verbindungen, worin in den obigen Acrylaten ein Acrylsäurerest durch einen Methacrylsäurerest ersetzt ist und Derivate davon.
  • Beispiele für den Esters aus einer ungesättigten Carbonsäure und einer aliphatischen Polyhydroxyverbindung sind Acrylate, wie Ethylenglycoldiacrylate, Triethylenglycoldiacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Propylenglycoldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, 1,4-Ccyclohexandioldiacrylat, Hexandioldiacrylate, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolethantriacrylat, Trimethylolpropan-tris(acryloyloxypropyl)ether, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritoltriacrylat, Dipentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritolpentaacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Glycerolacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitolpentaacrylat und Sorbitolhexaacrylat sowie Verbindungen, worin ein Acrylsäurerest durch einen Methacrylsäurerest ersetzt ist, sowie Itaconate, Crotonate und Maleinate der aliphatischen Polyhydroxyverbindung.
  • Beispiele für den Ester einer ungesättigten Carbonsäure und der aromatischen Polyhydroxyverbindung sind Hydrochinondiacrylat, Hydrochinondimethacrylat, Resorcindiacrylat, Resorcindimethacrylate und Pyrogalloltriacrylat, sowie Ester einer ungesättigten Carbonsäure und eines Derivats einer aromatischen Polyhydroxyverbindung, wie EO-modifiziertes Bisphenol-A-diacrylate und Tris(β-acryloyloxyethyl)-s-cyanurate.
  • Beispiele des Esters, der durch eine Veresterung der ungesättigten Carbonsäure, der mehrwertigen Carbonsäure und der Polyhydroxyverbindung gewonnen wird, sind ein Kondensationsprodukt aus Acrylsäure, Phthalsäure und Ethylenglycol, ein Kondensationsprodukt aus Acrylsäure, Maleinsäure und Diethylenglycol, ein Kondensationsprodukt aus Methacrylsäure, Terephthalsäure und Pentaerythritol, ein Kondensationsprodukt aus Acrylsäure Adipinsäure, Butandiol und Glycerin, ein Kondensationsprodukt aus Acrylsäure, Trimellitsäure und Diethylenglycol.
  • Weitere Beispiele des Monomers oder des Oligomers, das mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung besitzt und in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, sind Acrylamide wie Ethylenbisacrylamid, Allylester wie Diacrylphthalat und Prepolymer davon, Vinylgruppen-enthaltende Verbindungen wie Divinylphthalat, Urethanacrylat wie ein Kondensationsprodukt aus Glycerindimethacrylat und Hexamethylendiisocyanat, N- Vinylcarbazol, und N-Vinylpyrrolidon.
  • Beispiele für das Polymer, das eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung in einer Hauptkette besitzt, sind Polyester aus der Polykondensation einer ungesättigten, zweiwertigen Carbonsäure und einer Dihydroxyverbindung, Polyamide aus einer Polykondensation von einer ungesättigten zweiwertigen Carbonsäure und einem Diamin.
  • Beispiele für das Polymer, das eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung in einer Seitenkette besitzt, sind Polykondensationsprodukte einer mehrwertigen Carbonsäure mit einer ungesättigten Bindung in einer Seitenkette, wie Itaconsäure, Propylidenbernsteinsäure, Ethylidenemalonsäure und einer Dihydroxy- oder Diaminverbindung. Alternativ, können Polymere mit einer funktionellen Gruppe in der Seitenkette, wie einer Hydroxygruppe, einer halogenierten Methylgruppe oder einer Epoxidgruppe eingesetzt werden, wie ein Polymer, das aus einer polymeren Umsetzung von Polyvinylalkohol, Poly(2-hydroxyethylmethacrylat), Epoxidharz oder Phenoxyharzpolyepichlorohydrin mit einer ungesättigten Carbonsäure wie Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure erhalten wird.
  • Beispiele für das Bindemittel sind ein Polymethacrylat oder partielles Hydrolysat davon, ein Polyacrylat oder partielles Hydrolysat davon, Polyvinylacetat oder ein partielles Hydrolysat davon, ein Vinylacetatethylencopolymer oder ein partielles Hydrolysat davon, Polystyrol, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral, Polychloropren, Polyvinylchlorid, chloriertes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Phenol-Novolak- oder Kresol-Novlak-Harz, Polyvinylphenol, Vinylphenol-Methacrylat-Copolymer, Polyethylenoxid, Polymethylisopropenyl-keton, Methacrylat-phenyl-isopropenyl-keton-Copolymer, Polyurethan, Polyamid, Polycarbonat, Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat, Acetylcellulose, Acetylbutylcellulose, Nitrocellulose, Polyvinylcarbazol oder ein Derivat davon, ein Vinylcarbazol-Styrol-Copolymer, ein Vinylcarbazol-Methacrylat-Copolymer, ein Vinylcarbazol-Acrylat Copolymer, Polyvinylpyrrolidon oder ein Derivat davon, ein Vinylpyrrolidon-Styrol-Copolymer, ein Vinylpyrrolidon-Methacrylat-Copolymer, ein Vinylpyrrolidon-Acrylate-Copolymer, und ein Styrol-Maleinsäure(Monoester)- Copolymer, sowie ein Copolymer, das aus mindestens zwei Bauteilen gebildet wird, die aus copolymersierbaren Monomeren wie Acrylaten, Acrylsäure, Methacrylaten, Methacrylsäure, Maleinsäure(anhydrid), Acrylnitril, Acrylamid, Styrol, Vinylacetat, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Butadien, Isopren und Chloropren ausgesucht werden.
  • Beispiele für den thermischen Polymerisationsinhibitor sind p-tert-Butylcatechol, Hydrochinon und Chloranyl.
  • Beispiele für den Weichmacher sind Diethylhexylphthalat, Diisobutylphthalat, Tricresyl- Phosphat, Diethylhexylcebacate und Diethylhexyladipate.
  • Der Mengenanteil der Squariliumverbindung sowie des Radikalbildners, der in der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung eingesetzt wird, liegt bei 0,1 bis 30 Teilen, vorzugsweise bei 0,5 bis 5 Teilen bzw. bei 1 bis 50 Teilen, vorzugsweise bei 2 bis 30 Teilen bezogen jeweils auf 100 Teile der ethylensichen Verbindung.
  • Die Menge des eingesetzten Bindemittels beträgt 10 bis 1000 Teile, vorzugsweise 60 bis 200 Teile bezogen auf 100 Teile der ethylenischen Verbindung
  • Anschließend wird die Löslichkeit der in der vorliegenden Erfindung verwendeten Squariliumverbindung in einem organischen Lösungsmittel durch Testbeispiele gezeigt.
  • Testbeispiel 1
  • In ein 20 ml Glasgefäß wurden 5 ml Ethylcellosolve gegeben sowie eine Squariliumverbindung bis zu einer Menge, dass etwas von dieser Squariliumverbindung ungelöst blieb. Nachdem die Kristalle der Squariliumverbindung mit einem Ultraschallreinigungsgerät 10 Minuten zerkleinert worden waren, wurde die Mischung 20 Stunden mit einem Rührer gerührt. Nachdem die ungelösten Kristalle der Squariliumverbindung durch Filtration entfernt worden waren und das Filtrat x-fach mit Chloroform verdünnt worden war, wurde die Absorption der im Bereich von 600 bis 700 nm vorhandenen maximalen Absorptionswellenlänge mit einem Spektralfotometer gemessen. Die Löslichkeit der Squariliumverbindung in Ethylcellosolve wurde gemäß der folgenden Gleichung erhalten:
  • Löslichkeit (mg/ml) = x·A·Mw/ε
  • x; Verdünnungsgrad
  • A; Absorption bei der maximalen Absorptionswellenlänge (cm&supmin;¹)
  • Mw; Molekulargewicht der Squariliumverbindung (g/mol)
  • ε; Molarer Extinktionskoeffizient bei der maximalen Absorptionswellenlänge (l/mol·cm)
  • Die Löslichkeiten der Verbindungen 1 bis 9 sind als Relativwert bezogen auf den Standard der Löslichkeit der Verbindung (A) in Tabelle 2 dargestellt.
  • Tabelle 2 Verbindung Relativwert der Löslichkeit
  • 1 37
  • 2 12
  • 3 14
  • 4 95
  • 5 4,4
  • 6 30
  • 7 111
  • 8 38
  • 9 6,8
  • A 1,0
  • Testbeispiel 2
  • Die Löslichkeit der Squariliumverbindung in Chlorbenzol wurde entsprechend dem gleichen Verfahren wie im Testbeispiel 1 erhalten, außer dass Chlorbenzol anstelle von Ethylcellosolve verwendet wurde. Die Löslichkeiten der Verbindungen 1 bis 9 sind als Relativwert bezogen auf den Standard der Löslichkeit der Verbindung (A) in Tabelle 3 dargestellt.
  • Tabelle 3 Verbindung Relativwert der Löslichkeit
  • 1 1,1
  • 2 8,7
  • 3 1,8
  • 4 24
  • 5 4,1
  • 6 51
  • 7 27
  • 8 30
  • 9 31
  • A 1,0
  • Testbeispiel 3
  • Die Löslichkeit der Squariliumverbindung in Methylethylketon wurde entsprechend dem gleichen Verfahren wie in Testbeispiel 1 erhalten, außer dass Methylethylketon anstelle von Ethylcellosolve verwendet wurde. Die Löslichkeiten der Verbindungen 1 bis 9 sind als Relativwert bezogen auf den Standard der Löslichkeit der Verbindung (A) in Tabelle 4 dargestellt.
  • Tabelle 4 Verbindung Relativwert der Löslichkeit
  • 1 6,8
  • 2 3,5
  • 3 4,4
  • 4 103
  • 5 1,8
  • 6 11
  • 7 131
  • 8 42
  • 9 4,7
  • A 1,0
  • Die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden durch die nachfolgenden Beispiele dargestellt.
  • Die Verbindung 1 ist eine bekannte Verbindung, die in JP-A 3-126581 beschrieben ist, die Verbindung 4 ist eine bekannte Verbindung, die in JP-A 1-178493 beschrieben ist, und beide können entsprechend einem Verfahren, das in US 4,830,786 beschrieben ist, erhalten werden.
  • Beste Verfahrensweise zur Ausführung der Erfindung Beispiel 1
  • Ein Gemisch aus 0,80 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 5,99 g 2,3,3-Trimethyl-1- propyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat aus Referenzbeispiel 1, 1,64 g Chinolin, 30 ml Butanol und 30 ml Benzol wurden 11 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurden 30 ml Ethanol zum Rückstand hinzugegeben, gefolgt von einem 30 minütigem Erhitzen. Nach dem Abkühlen, wurden die Kristalle abfiltriert und im Vakuum getrocknet, um 2,07 g der Verbindung 2 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 667 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 2
  • Ein Gemisch aus 0,80 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 5,99 g 1-Isopropyl-2,3,3- trimethyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat, 1,64 g Chinolin, 30 ml Butanol und 30 ml Benzol wurden 11 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurde der Rückstand mittels Säulenchromatografie gereinigt, um 0,80 g der Verbindung 3 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 666 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 3
  • Ein Gemisch aus 0,57 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 4,42 g 1-Isobutyl-2,3,3- trimethyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat, 1,64 g Chinolin, 30 ml Butanol und 30 ml Benzol wurden 7 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurde der Rückstand mittels Säulenchromatografie gereinigt, um 0,96 g der Verbindung 5 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 669 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 4
  • Ein Gemisch aus 0,80 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 6,40 g 2,3,3-Trimethyl-1- pentyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat, 1,17 g Chinolin, 25 ml Butanol und 25 ml Benzol wurden 11 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurde der Rückstand mittels Säulenchromatografie gereinigt, um 2,70 g der Verbindung 6 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 667 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 5
  • Ein Gemisch aus 1,14 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 9,03 g 1-Isopentyl-2,3,3- trimethyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonal, 3,10 g Chinolin, 15 ml Butanol und 30 ml o- Xylol wurden 3 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurden der feste Niederschlag abfiltriert und im Vakuum getrocknet, um 4,69 g der Verbindung 8 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 667 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 6
  • Ein Gemisch aus 1,14 g 3,4-Dihydroxy-3-cyclobuten-1,2-dion, 9,31 g 1-Hexyl-2,3,3- trimethyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat, 3,10 g Chinolin, 15 ml Butanol und 30 ml o- Xylol wurden 3 Stunden unter Rückfluß gerührt. Nach dem Aufkonzentrieren der Reaktionslösung wurden 15 ml Ethanol zum Rückstand hinzugegeben, gefolgt von einem 30 minütigen Erhitzen. Die ausgefallenen Kristalle wurden abfiltriert und im Vakuum getrocknet, um 4,29 g der Verbindung 9 zu ergeben.
  • Optische Absorptionseigenschaften Lösungsmittel Chloroform
  • λmax 668 nm
  • log ε 5,5
  • Beispiel 7
  • 0,5 g Pentaerythritoltriacrylat, 0,5 g eines Butylmethacrylat-Acrylsäure-Copolymeren (gewichtsmittleres Molekulargewicht 3100, Copolymerisationsverhältnis 66 : 34), 60 mg 2,4,6- Tris-(trichlormethyl)-s-trianzin und 2 mg einer Squariliumverbindung wurden in Ethylcellosolve auf 25 ml gelöst um eine fotosensitive Harzlösung zu ergeben. Die Lösung wurde vorn Licht abgeschirmt und bei 40ºC für 3 Tage stehen gelassen. Die Absorption bei der maximalen Absorptionswellenlänge im Bereich von 600 bis 700 nm wurde mit einem Spektralfotometer vor (A1) und nach (A2) dem Stehenlassen gemessen. Die Abbaurate der Squariliumverbindung wurde gemäß der folgenden Gleichung erhalten:
  • Abbaurate (%) = (A1 - A2)/A1 · 100
  • Die Abbauraten der Squariliumverbindungen 1 bis 9 sind in Form ihrer Relativwerte bezogen auf die Abbaurate der Verbindung (A) in der Tabelle 5 dargestellt.
  • Tabelle 5 Verbindung Relativwert der Abbaurate
  • 1 0,34
  • 2 0,25
  • 3 0,24
  • 4 0,29
  • 5 0,15
  • 6 0,28
  • 7 0,31
  • 8 0,32
  • 9 0,26
  • A 1,00
  • Beispiel 8
  • 0,5 g Pentaerythritoltriacrylat, 60 mg Polymethylmethacrylat (hergestellt von Aldrich; gewichtsmittleres Molekulargewicht 12.000), 90 mg (η&sup6;-Benzol)(η&sup5;-Cyclopentadienyl)- eisen(II)-hexafluorophosphat und 2 mg einer Squariliumverbindung wurden in Ethylcellosolve auf 25 ml gelöst um eine fotosensitive Harzlösung zu ergeben. Anschließend wurden die gleichen Verfahrensschritte wie im Beispiel 7 wiederholt, außer dass der Zeitraum zum Stehenlassen von 3 Tagen durch 32 Tage ersetzt wurde, um die Abbaurate der Squariliumverbindung zu ergeben. Die Abbauraten der Squariliumverbindungen 1 bis 9 sind in Form ihrer Relativwerte bezogen auf die Abbaurate der Verbindung (A) in der Tabelle 6 dargestellt.
  • Tabelle 6 Verbindung Relativwert der Abbaurate
  • 1 0,51
  • 2 0,48
  • 3 0,44
  • 4 0,60
  • 5 0,42
  • 6 0,46
  • 7 0,56
  • 8 0,43
  • 9 0,52
  • A 1,00
  • Beispiel 9
  • 100 Teile Pentaerythritoltriacrylat, 100 Teile eines Polymethacrylatpolymers [synthetisiert gemäß den Verfahren, die in Jikkenkagakukoza, Maruzen K. K., 4. Auflage, Band 28, Seite 121, 1992; Kobunshigosei no Jikkenho (Experimentelle Methoden zur Polymersynthese), Kagakudojin K. K., mit Takayuki Otsu und Masaetsu Kinoshita als Coautoren, Seite 138, 1972; beschrieben sind; mittleres Molekulargewicht 150.000; Methylester/Isobutylester/Cyclohexylester/freie Carbonsäure = 27/36/25/12], 7,9 Teile 2,4,6-Tris-(trichlormethyl)-s-trianzin und 1 Teil einer Squariliumverbindung wurden in 1900 Teile Ethylcellosolve gelöst, um eine fotosensitive Harzlösung zu ergeben. Diese fotosensitive Harzlösung wurde mittels der Spincoating-Technik bei 1000 Upm auf eine Aluminiumplatte aufgetragen, die durch Schleifen und einer anodischen Oxidation behandelt war, so dass die Schichtdicke in trockenen Zustand 2 um betrug. Darauf wurde eine 10%ige wässrige Polyvinylalkohollösung (Kuraray Poval 706) mittels Spincoating-Verfahren bei 1500 Upm aufgetragen, so dass die Schichtdicke in trockenen Zustand 1 um betrug und einen Überzug bildete. Ein Stufengestell wurde dicht über die so erzeugte fotosensitive Beschichtung aufgesteckt und die Strahlen mit einer Wellenlänge um 630, 650 und 680 nim wurden aus einer 3 kW Ultrahochdruck-Quecksilberlampe durch einen Glasfilter erzeugt. Die Strahlen mit einer Wellenlänge um 630 nm (155 uJ/cm² s) wurden erzeugt, indem die Strahlen aus der oben erwähnten Quecksilberlampe durch einen farbigen R-61-Glasfilter, einen KL-63 Interferenzfilter (beide wurden von Toshiba Glass Co., Ltd. hergestellt) und einen Wärmestrahlen absorbierenden HA-30-Filter (hergestellt bei HOYA Corporation) durchgeleitet wurden, die Strahlen mit einer Wellenlänge um 650 nm (177 uJ/cm² s) wurden erhalten, indem die Strahlen der oben erwähnten Quecksilberlampe durch einen gefärbten R- 63-Glasfilter, einen KL-65 Interferenzfilter (beide wurden von Toshiba Glass Co., Ltd. hergestellt) und HA-30 durchgeleitet wurden und die Strahlen mit einer Wellenlänge um 680 nm (88 uJ/cm² s) wurden erhalten, indem die Strahlen der oben erwähnten Quecksilberlampe durch einen R-66-Glasfilter, einen KL-68 Interferenzfilter (beide wurden von Toshiba Glass Co., Ltd. hergestellt) und HA-30 durchgeleitet wurden. Anschließend wurde die Entwicklung mit einem PS Plattenentwickler DN3C (hergestellt von Fujiphoto Film Co., Ltd.), der 1,5-fach mit destilliertem Wasser verdünnt war, durchgeführt, darauf wurde eine Druckfarbe mit einer PS-Plattenentwicklerdruckfarbe PI-2 (hergestellt von Fujiphoto Film Co., Ltd.) aufgetragen und die Empfindlichkeit wurde bewertet, indem ein Energiebetrag gemessen wurde, der zur Härtung ausgehend von einer Härtungsstufenzahl mit einer aufgetragenen Druckfarbe erforderlich war. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 7 dargestellt. Tabelle 7
  • Beispiel 10
  • Die Empfindlichkeit für den Fall, dass Strahlen mit der Wellenlänge um 630 nm eingestrahlt wurden, wurde ermittelt, indem die gleichen Verfahren wie in Beispiel 9 wiederholt wurden, außer dass 8 Teile (η&sup6;-Benzol)(η&sup5;-Cyclopentadienyl)-eisen(II)- hexafluorophosphat anstelle von 7,9 Teilen 2,4,6-Tris-(trichlormethyl)-s-trianzin und dass CABOSET, XL-44 (hergestellt von BF Goodrich) anstelle des Polymethacrylatpolymers (Methylester/Isobutylester/Cyclohexylester/freie Carbonsäure = 27/36/25/12) eingesetzt wurde. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 8 dargestellt.
  • Tabelle 8 Verbindung Empfindlichkeit (mJ/cm²)
  • 5 11
  • 6 5,8
  • 7 5,8
  • 9 8,7
  • A 11
  • Beispiel 11
  • Die Empfindlichkeit für den Fall, dass Strahlen mit der Wellenlänge um 630 nm eingestrahlt wurden, wurde ermittelt, indem die gleichen Verfahren wie in Beispiel 9 wiederholt wurden, außer dass 8 Teile 3,3',4,4'-Tetrakis-/tertbutyldioxycarbonyl)benzophenon anstelle von 7,9 Teilen 2,4,6-Tris-(trichlormethyl)-s- trianzin eingesetzt wurde. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 9 dargestellt.
  • Tabelle 9 Verbindung Empfindlichkeit (mJ/cm²)
  • 3 0,083
  • 5 0,20
  • 6 0,099
  • 7 0,20
  • 9 0,17
  • A 0,43
  • Referenzbeispiel 1
  • Ein Gemisch aus 5,23 g 2,3,3-Trimethyl-3H-benzo[e]indol und 5,36 g Propyl-p- Toluolsulfonat wurde 2 Stunden auf 150ºC erhitzt. Nach dem Abkühlen wurde der Festkörper in dem Behälter mit Diethylether gewaschen und im Vakuum getrocknet, um 9,24 g eines Rohproduktes von 2,3,3-Trimethyl-1-propyl-3H-benzo[e]indolium-p-toluolsulfonat zu ergeben.
  • Industrielle Anwendbarkeit
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung zur Verfügung gestellt werden, die eine Squariliumverbindung enthält, die hervorragend bezüglich der Löslichkeit in einem organischen Lösungsmittel ist und die stabil in einer fotoempfindlichen Lösung vorliegt, welche die hohe Empfindlichkeit bei sichtbarem Licht mit einer Wellenlänge von nicht weniger als 600 nm bis zum nahen infraroten Licht aufweist und die lagerstabil ist.

Claims (2)

1. Fotopolymerisierbare Zusammensetzung, welche eine Squariliumverbindung der Formel (I):
in welcher R einen Niederalkylrest mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen darstellt, einen Radikalbildner und eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung umfasst.
2. Squariliumverbindung der Formel (Ia):
in welcher Ra eine Propyl-, Isopropyl-, Isobutyl-, Pentyl-, Isopentyl-, oder Hexylgruppe darstellt.
DE69525609T 1994-09-21 1995-09-20 Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung Expired - Fee Related DE69525609T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22656894 1994-09-21
PCT/JP1995/001894 WO1996009289A1 (en) 1994-09-21 1995-09-20 Photopolymerizable composition containing squarylium compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69525609D1 DE69525609D1 (de) 2002-04-04
DE69525609T2 true DE69525609T2 (de) 2002-09-19

Family

ID=16847207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69525609T Expired - Fee Related DE69525609T2 (de) 1994-09-21 1995-09-20 Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5681685A (de)
EP (1) EP0729945B1 (de)
JP (1) JP3404046B2 (de)
CA (1) CA2176931A1 (de)
DE (1) DE69525609T2 (de)
WO (1) WO1996009289A1 (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6232038B1 (en) * 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
US6596364B2 (en) * 1999-12-16 2003-07-22 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Squarylium compounds and optical recording medium containing the same
JP4512281B2 (ja) * 2001-02-22 2010-07-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
US7368224B2 (en) * 2002-04-08 2008-05-06 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. Photopolymerizable composition
US20050058911A1 (en) * 2003-09-17 2005-03-17 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Holographic recording medium, holographic recording method and holographic information medium
TW200720842A (en) * 2005-10-24 2007-06-01 Kyowa Hakko Chemical Co Ltd A squarilium compound and the short-wave length source photo polymerization composition using thereof
JP5270114B2 (ja) * 2007-06-15 2013-08-21 富士フイルム株式会社 固体撮像素子
KR101413075B1 (ko) * 2011-12-26 2014-06-30 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60224674A (ja) * 1984-04-23 1985-11-09 Mitsubishi Chem Ind Ltd 2,4−ビス(1’,3’,3’−トリアルキル−2’−メチレンインドリノ)シクロブテンジイリウム−1,3−ジオレ−ト類
US4743531A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Dye sensitized photographic imaging system
US4743530A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Negative working photoresists responsive to longer wavelengths and novel coated articles
JP2567238B2 (ja) * 1987-03-25 1996-12-25 日本化薬株式会社 集光用樹脂板
JPH01178493A (ja) * 1988-01-07 1989-07-14 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
CA2000855A1 (en) * 1988-11-17 1990-05-17 Mohammad Z. Ali Triazine photoinitiators in a ternary system for addition polymerization
EP0379200A3 (de) * 1989-01-19 1991-11-13 Mitsubishi Kasei Corporation Photopolymerisierbare Zusammensetzung
JPH03505005A (ja) * 1989-03-27 1991-10-31 ユナイテッド テクノロジーズ コーポレーション アクティブ集積光学装置および光学集積装置の製作方法
JP3015053B2 (ja) * 1989-10-12 2000-02-28 キヤノン株式会社 光学記録媒体
CA2033821A1 (en) * 1990-01-12 1991-07-13 Evan D. Laganis Photopolymerizable compositions sensitive to longer wavelength visible actinic radiation
US5147758A (en) * 1991-02-19 1992-09-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Red sensitive photopolymerizable compositions
JP2988756B2 (ja) * 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JP2871181B2 (ja) * 1991-07-09 1999-03-17 ブラザー工業株式会社 光硬化型組成物
JPH06263732A (ja) * 1993-03-12 1994-09-20 Mitsubishi Kasei Corp シクロブテン系化合物,その製法並びにスクアリリウム系化合物の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
WO1996009289A1 (en) 1996-03-28
US5681685A (en) 1997-10-28
CA2176931A1 (en) 1996-03-28
JP3404046B2 (ja) 2003-05-06
EP0729945A4 (de) 1998-10-14
EP0729945A1 (de) 1996-09-04
EP0729945B1 (de) 2002-02-27
DE69525609D1 (de) 2002-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3410387C2 (de)
KR101473148B1 (ko) 착색제, 착색 조성물, 컬러 필터 및 표시 소자
DE69400062T2 (de) Photopolymerisierbare Zusammensetzung
DE602005003960T2 (de) Oximester-Photoinitiatoren
DE68921019T2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzungen.
JP6555490B2 (ja) カラーフィルタ用感光性組成物、及びカラーフィルタ
JP5729194B2 (ja) 着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
DE3834960C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
CH649997A5 (de) Dialkylthioxanthon-verbindungen.
DE69501865T2 (de) Fotopolymerisierbare Zusammensetzung und fotoempfindliche lithographische Druckplatte
DE3851921T2 (de) Photopolymerisierbare Zusammensetzung.
DE69525609T2 (de) Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung
DE3040789C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
JP2019113823A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP2019133154A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
DE69232015T2 (de) Farbstoffe für Farbfilter, diese enthaltende lichtempfindliche Harzzusammensetzungen sowie Farbfilter
JP2016188993A (ja) カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP6194671B2 (ja) カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
JP2018101073A (ja) カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
DE112020002202T5 (de) Neuartige Diaroylcarbazolverbindung und Verwendung derselben als Sensibilisierungsmittel
EP0799877A1 (de) Polymerisierte flüssigkristalline Zusammensetzungen
DE68922556T2 (de) Eine Monomergruppe enthaltende Halogenmethyl-1,3,5-Triazine.
JP2019109512A (ja) 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
DE69333328T2 (de) Photopolymerisierbare Zusammensetzungen
JP2013122506A (ja) カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee