DE69023504T2 - Thermoplastische Klebschicht zur Halbleiterbefestigung. - Google Patents
Thermoplastische Klebschicht zur Halbleiterbefestigung.Info
- Publication number
- DE69023504T2 DE69023504T2 DE69023504T DE69023504T DE69023504T2 DE 69023504 T2 DE69023504 T2 DE 69023504T2 DE 69023504 T DE69023504 T DE 69023504T DE 69023504 T DE69023504 T DE 69023504T DE 69023504 T2 DE69023504 T2 DE 69023504T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- carbon atoms
- bis
- parts
- dianhydride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 title claims description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 title claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 title 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- -1 m-disubstituted benzenediamine Chemical class 0.000 claims description 13
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 5
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- DUNGAZQPARCLIT-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)butyl-[[[[[[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-methylsilyl]butoxy]aniline Chemical group C=1C=CC(N)=CC=1OCCCC[Si](C)(O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C)CCCCOC1=CC=CC(N)=C1 DUNGAZQPARCLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 3
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 claims description 3
- FJWUJUIPIZSDTR-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[2-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=CC=1C(C)(C)C(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC(N)=C1 FJWUJUIPIZSDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 19
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1SC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001034843 Mus musculus Interferon-induced transmembrane protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940047586 chemet Drugs 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- ACTRVOBWPAIOHC-XIXRPRMCSA-N succimer Chemical compound OC(=O)[C@@H](S)[C@@H](S)C(O)=O ACTRVOBWPAIOHC-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/482—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
- H01L23/4827—Materials
- H01L23/4828—Conductive organic material or pastes, e.g. conductive adhesives, inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/08—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/10—Adhesives in the form of films or foils without carriers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
- Diese Erfindung betrifft thermoplastische Klebstoffilme zum Befestigen von Rohchips und insbesondere solche, die eine kurze Aufbringzeit zum Kleben von Chips an Leiterrahmensubstrate haben.
- In der Mikroelektronikindustrie besteht Bedarf an schnell verarbeitbaren Klebstoffen, die zusätzlich die erforderlichen elektrischen Eigenschaften haben. Derzeit verwendete Rohchip- Aufbringklebstoffe schließen Materialien auf organischer Grundlage ein, die Epoxyharze, Polysäureamide (polyamic acids) und Polyimide verwenden. Diese pastenartigen Materialien können Lösungsmittel enthalten oder nicht. Alle diese Materialien haben entscheidende Nachteile. Sie benötigen alle einen selbständigen (Off-Line)-Härtungszyklus, um entweder den Klebstoff zu härten oder das Lösungsmittel zu entfernen. Die Produkte auf der Basis von Epoxyharzen und Polysäureamiden vernetzen auch während der Härtung, was eine signifikante Spannung auf den Rohchip ausübt, die letztlich ein Reißen des Rohchips bewirken kann. Diese Materialien müssen auch kühlgehalten werden.
- Rohchipaufbringklebstoffe auf der Basis von Glyme oder anderen Etherlösungen thermoplastischer Harze, wie z.B. siloxanmodifizierte Polyimide, wurden entwickelt, die herkömmlicheren Rohchipaufbringklebstoffe, die wärmehärtende Harze als Bindemittel verwenden, zu ersetzen. Bei der Herstellung von Halbleitervorrichtungen wird der Klebstoff auf das Blatt des Leiterrahmens aufgebracht, der Rohchip wird dann oben auf den Klebstoff gelegt, und das Lösungsmittel wird mittels Wärme entfernt. Obgleich lösungsmittelhaltige Systeme auf Poly(siloxanimid)-basis eine Verarbeitung bei hoher Geschwindigkeit anbieten, treten bestimmte Probleme auf. Erstens muß die Geschwindigkeit des Lösungsmittelverdampfens sorgfältig geregelt werden. Vor dem Aufbringen auf die Rohchipklebeunterlage muß das Lösungsmittel durch das Pastensystem zurückgehalten werden. Ein übermäßiger Lösungsmittelverlust vor dem Ablegen des Rohchips kann zu einer ungenügenden Haftung führen. Nach dem Aufbringen der Paste und der Plazierung des Rohchips ist es wünschenswert, das Lösungsmittel möglichst schnell aus dem Klebstoff zu entfernen. Dies ist schwierig, weil der größe Teil der Pastenmasse durch den Rohchip bedeckt ist, was das Entweichen von Lösungsmittel behindert. Die Lösungsmittelretention durch den Klebstoff kann dazu führen, daß sich unter dem Rohchip bei Anwendung hoher Temperaturen Hohlräume entwickeln, was wiederum zu einem Versagen während der periodischen Wärmebehandlung aufgrund lokalisierter Gebiete hoher Spannung führen kann.
- Seit große Chips (1 inch x 1 inch oder mehr) verstärkt verwendet werden, wird ein Rohchipbefestigungsklebstoff benötigt, der keine übermäßige Spannung auf den Rohchip aufgrund einer Vernetzung oder thermischen Spannung, wie sie z.B. aus übermäßig hohen Aushärtunsgtemperaturen herrührt, ausübt. Die erstere steht mit der Aushärtung von Epoxyharzen im Zusammenhang, während beide Gebiete eines Spannungsaufbaus mit Systemen auf Polysäureamidbasis im Zusammenhang stehen. Ein lösungsmittelhaltiger Klebstoff ergibt auch mit großen Chips Schwierigkeiten, weil, wie oben ausgeführt, die Entfernung des gesamten Lösungsmittels schwierig ist. Metallische Klebstoffe, wie Gold und eutektische Gold/Silicium-Vorformen, zeigen diese Probleme nicht, erzeugen jedoch noch immer eine erhebliche Spannung auf dem Rohchip aufgrund der Sprödigkeit der metallischen Bindung.
- Aufgabe dieser Erfindung ist daher die Bereitstellung eines Rohchiphaftklebstoffs, der schnell ohne Notwendigkeit einer Aushärtung oder Off-Line-Härtung klebt und keine Spannung auf dem Rohchip erzeugt.
- Eine weitere Aufgabe ist die Bereitstellung eines Klebstoffes, der nicht kühlgehalten werden muß.
- Eine weitere Aufgabe ist ein Klebstoff, der eine gleichmäßige Klebeliniendicke zwischen dem Rohchip und dem Blatt erzeugt.
- Eine weitere Aufgabe ist die Bereitstellung eines Klebstoffs, der bei Temperaturen verwendet werden kann, die Kupferleiterrahmen weder oxidieren noch eine übermäßige thermische Spannung erzeugen.
- Es ist ferner erwünscht, daß der Klebstoff erneut verarbeitet werden und während der Verfahren zur Drahtverklebung und Formgebung eine angemessene Haftung ausüben kann.
- Weitere Aufgaben gehen für den Fachmann nach weiterem Studium der Anmeldung hervor.
- Die oben aufgeführten Aufgaben sind durch einen elektrisch leitenden Klebstoff in Filmform erreicht worden, der hergestellt ist aus einer Mischung von:
- (A) einem normalerweise festen thermoplastischen Polyimidpolymerbindemittel mit einem Gewichtsmittel des Molekulargewichts von mindestens etwa 100 000 und hergestellt aus
- (1) einem Dianhydrid der Struktur
- worin A ein vierwertiger Rest von Benzol, Benzophenon ist, oder einem aromatischen Dietherdianhydrid der Formel
- worin K eine substituierte oder unsubstituierte Gruppe der Formel
- ist, worin W -O-, -S-, -SO&sub2;- lineares oder verzweigtes Alkylen oder Alkenylen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder -(R)C(L)ist, worin R und L die gleichen oder unterschiedliche Niederalkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder Arylgruppen mit 6 bis 24 Kohlenstoffatomen sein können und m 0 oder 1 ist;
- (2) einem m-disubstituierten Benzoldiamin der Struktur
- worin Y ein zweiwertiger unsubstituierter m-Phenylenrest oder ein mit mindestens einer Niederalkylgruppe mit 1 bis etwa 8 Kohlenstoffatomen substituierter m-Phenylenrest ist und T ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus -O-, -S-, -SO, -S0&sub2;-, -CO- und Niederalkylen mit 1 bis etwa 6 Kohlenstoffatomen; und
- (3) einem Polysiloxandiamin der Struktur
- worin Q Arylen ist;
- Z eine zweiwertige Sauerstoff-, Sulfid-, Sulfon-, Sulfoxidoder Carbonsäureester- oder Amidgruppe ist;
- D eine Kohlenwasserstoffgruppe ist;
- R¹, R², R³, R&sup4;, R&sup5; und R&sup6; gleiche oder unterschiedliche Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen sind, und
- x, y und z ganze Zahlen mit Werten von 0 bis 100 sind; und
- (4) p-Aminophenol als Endabschlußmittel vorliegt, und fakultativ
- (B) ausreichend Silberflocken zur Erzeugung eines leitenden Mediums, mit der Maßgabe, daß etwa 20 bis etwa 50 Mol.-%, bezogen auf den gesamten Diamingehalt, in Form eines Diamins mit der Struktur von (2) vorliegen.
- In einer bevorzugten Ausführungsform ist das Dianhydrid Bis[p- (3,4-dicarboxyphenoxy)pheny]-sulfid-dianhydrid mit der Struktur:
- Das Diamin (2) ist Bis[1,3(m-Aminophenoxy)]benzol und das Polysiloxandiamin ist Bis(m-Aminophenoxybutyl)hexadecamethyloctasiloxan mit der Struktur:
- Die bevorzugte Polyimidzusammensetzung ist aus etwa 25 bis etwa 50 Teilen m-substituiertem Benzoldiamin und etwa 75 bis etwa 50 Teilen Polysiloxandiamin pro 100 Gew.-Teile Dianhydrid abgeleitet. Ein stärker bevorzugter Bereich liegt bei etwa 30 bis 40 Teilen des ersteren und etwa 70 bis 60 Teilen des letzteren pro 100 Gew.-Teile Dianhydrid.
- Es ist auch möglich, eine Mischung von verschiedenen organischen Diaminen (die keine Siloxanreste enthalten) zusammen mit verschiedenen Polysiloxandiaminen zu verwenden. Eine bevorzugte leitende Menge von Silberflocken reicht von etwa 75 bis etwa 85 Teilen pro 100 Gew.-Teile der gesamten Filmzusammensetzung, obgleich auch kleinere und größere Mengen verwendet werden können. Die Teilchengröße der Silberflocken ist nicht sehr kritisch. Als eine Ausweitung dieser Erfindung kann zur Erzeugung eines elektrisch nicht leitenden, thermisch leitenden Klebstoffilmes anstelle der Silberflocken auch ein thermisch leitendes Material, wie Beryllerde (Berylliumoxid), Bornitrid, Aluminiumoxid (Einkristall) u.dgl. verwendet werden.
- Repräsentative Dianhydride schließen sein:
- 4,4'-Bis (3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfid-dianhydrid,
- 4,4'-Bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfon-dianhydrid,
- 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäure-dianhydrid u.dgl.
- Repräsentative m-substituierte Eenzoldiamine schließen ein: 2,2-Bis[3-(m-aminophenoxy)phenyl]-propan mit der Struktur
- und
- 2,2-Bis[3-(m-aminophenoxy)phenyl]sulfon mit der Struktur
- Die Herstellung der in dieser Erfindung verwendeten Polysiloxandiamine ist im Stand der Technik wohlbekannt. Vgl. z.B. die US-Patentschrift 4 395 527, die hier als Bezug aufgenommen wird Auch das britische Patent 1 062 418 beschreibt zweckmäßige Verfahren zur Herstellung linearer Polysiloxandiamine.
- Es war unerwartet, daß diese Zusammensetzungen ausgezeichnete Rohchipscherfestigkeiten sowohl bei Raumtemperatur als auch bei erhöhten Temperaturen von 175ºC ergeben. Dieses überraschende Ergebnis wurde erreicht, indem man Polyimide mit einem gewichtsgemittelten Molekulargewichtsbereich von etwa 100 000 bis etwa 150 000 herstellt und m-disubstituierte Benzoldiamine in Kombination mit Polysiloxandiaminen bei ihrer Synthese verwendet.
- Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen und Ansprüchen näher beschrieben. Falls nicht anders ausgeführt, sind alle Teile und Prozentangaben auf das Gewicht bezogen.
- In einen mit Rührer, Thermometer, Stickstoffeinlaßleitung, Rückflußkühler mit angeschlossenem Destillationskopf, modifizierter Dean-Stark-Feuchtigkeitsfalle und Heizmantel versehenen 12 l-Rundkolben wurden die folgenden Materialien gegeben:
- 5 969 g Monochlorbenzol
- 49,34 g (0,1656 Mol) 1,3-Bis(m-aminophenoxy)benzol) Reinheit 98 %), erhältlich von National Starch und Chemical Corp., eingeschleust mit 50 g Monochlorbenzol
- 383,5 g (0,3075 Mol) Bis(m-aminophenoxybutyl)hexadecamethyloctasiloxan, eingeschleust mit 500 g Monochlorbenzol.
- Die Reaktionsteilnehmer wurden bis zum Auftreten einer Lösung gerührt. Dann wurden 0,271 g (0,00247 Mol) p-Aminophenol (Reinheit 99,45 %, von Rhóne-Poulenc), eingeschleust mit 150 g Monochlorbenzol, zugefügt. Daran schlossen sich 254 g (0,494 Mol) 4,4'-Bis(3,4-dicarboxylphenoxy)diphenylsulfid-dianhydrid (Reinheit 99,2 %), eingeschleust mit 600 g Monochlorbenzol, an. Dann wurden 1,5 g p-Toluolsulfonsäuremonohydrat zugesetzt und mit 110 g Monochlorbenzol eingeschleust. Das p-Aminophenol lag als Kettenabbruchmittel und in geringer Menge vor, so daß seine Wirkung auf die Morphologie des endgültigen Poly(siloxanimids) vernachlässigbar ist.
- Die Reaktionsmischung wurde 1 bis 2 h unter Rückfluß erhitzt, und 1292 g Monochlorbenzol wurden durch Destillation entfernt. Die Reaktionsmischung wurde 10 h unter Rückfluß erhitzt. Nach Abkühlen wurde die Lösung filtriert, und 1850 g N-Methylpyrrolidon wurden zugefügt und eingemischt. Die Lösung wurde unter Verwendung von 3,5 l Methanol pro 500 ml Lösung mit Methanol gemischt, was eine Ausfällung von Poly(siloxan)imid bewirkt. Nach dem Ausfällen wurde das Ethanol vom Niederschlag dekantiert, der zweimal mit 8 l Methanol gewaschen wurde. Das Poly(siloxanimid) wurde filtriert und zweimal mit 2 l Methanol gewaschen. Es wurde über Nacht luftgetrocknet und dann bei 50 bis 60ºC in einem Luftzirkulationsofen getrocknet, bis der Polymerfeststoffgehalt > 98,5 % betrug. Die Ausbeute betrug etwa 500 g. Das Gewichtsmittel des Molekulargewichts ist etwa 100 000.
- Das in Beispiel 1 hergestellte Poly(siloxanimid) wurde in Diglyme (90ºC während 10 h) bei einer Feststoffkonzentration von % gelöst und filtriert. Zu 116,5 g der erhaltenen Lösung wurden 115,5 g Silberflocken GB 0006 (Chemet Corporation) und 17,25 g 50-5 Silberflocken (Metz Metallurgical Corporation) und 0,65 g Antischaummittel Dow Corning 1400 zugefügt. Diese Materialien wurden 1 h in einem Planetenmischer vermischt.
- Durch Rakel-Tie£ziehen auf mit MS-112 Fluorkohlenstoff-Formtrennmittel behandeltem Glas wurde ein Film (9 mil nasse Dicke) hergestellt. Der Film wurde über Nacht luftgetrocknet und durch Eintauchen der beschichteten Glasplatte in Leitungswasser von dem Glas entfernt. Dann wurde der Film bei 50ºC 6 h in einem Druckluftofen trocknet. Anschließend wurde er in Streifen geschnitten, um als Rohchipbefestigungsklebstofffilm verwendet zu werden.
- Der in Beispiel 2 hergestellte Film wurde in 0,3 inch × 0,3 inch Stücke geschnitten. Ein einzelnes Stück wurde auf das Blatt eines Kupferleiterrahmens gelegt. Der Film und der Leiterrahmen wurden bei 195ºC auf den Heizblock einer von Hand betriebenen Rohchip-Klebevorrichtung von Kulicke und Soffa gegeben. Sofort wurde ein 250 mil² Rohchip 0,5 s unter Verwendung einer auf 45ºC erhitzten Rohchiphülse unter 175 g Druck auf dem Film gelegt. Nach Plazieren des Rohchips wurde das Erhitzen 5 s fortgesetzt. Es erfolgte kein Reiben.
- Die bei Raumtemperatur gemessene Scherfestigkeit des Rohchips betrug 21 kg und 0,5 kg bei 175ºC. Während der Arbeitsgänge des Rohchipverklebens und -testens wurde praktisch keine Oxidation des Kupferleiterrahmens festgestellt.
- Es sollte festgestellt werden, daß mandhe kommerziell erhältlichen thermoplastischen leitenden Rohchipbefestigungs-Klebstofffilme Aufbringtemperaturen von 300ºC oder mehr erfordern.
- In einen mit Rührer, Thermometer, Stickstoffeinlaßleitung, Rückflußkühler, zwei Destillationssäulen, modifizierter Dean- Stark-Feuchtigkeitsfalle und Heizmantel versehenen 3 l-Rundkolben wurden eingeführt: 1 269 g Monochlorbenzol und 71 g Bis(m- aminophenoxybutyl)hexadecamethyloctasiloxan, das mit 120 g Monochlorbenzol eingeschleust wurde. Dann wurden 12,45 g 1,3- Bis(m-aminophenoxy)benzol, mit 100 g Monochlorbenzol eingeschleust, zugefügt. Die Reaktionsteilnehmer wurden bis zum Auftreten einer Lösung gerührt. Dann wurden 12,8 g p-Aminophenol zugefügt und mit 100 g Monochlorbenzol eingeschleust. Daran schlossen sich 63,96 g 4,4'-Bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfid-dianhydrid, eingeschleust mit 100 g Monochlorbenzol, an. Schließlich wurden 0,365 g p-Toluolsulfonsäure-monohydrat zugefügt und mit 100 g Monochlorbenzol eingeschleust.
- Die Reaktionsmischung wurde 1 bis 2 h unter Rückfluß erhitzt. Dann waren 315 g Monochlorbenzol abdestilliert. Die Reaktionsmischung wurde 10 h unter Rückfluß erhitzt. Nach Abkühlen wurde die Lösung filtriert, und 1 889 g N-Methylpyrrolidon wurden zugefügt und eingemischt. Die Lösung wurde anschließend unter Verwendung von 3,5 l Methanol pro 500 ml Lösung in Methanol ausgefällt. Nach dem Ausfällen wurde das Methanol vom Niederschlag dekantiert, der zweimal mit 8 l Methanol gewaschen wurde. Das Polymer wurde filtriert und zweimal mit 2 l Methanol gewaschen. Es wurde über Nacht luftgetrocknet und in einem Luftzirkulationsofen bei 50 bis 60ºC getrocknet, bis der Polymerfeststoffgehalt > 98,5 % betrug. Das Gewichtsmittel des Molekulargewichts betrug etwa 40 000 bis 50 000. In diesem Beispiel wurde zur Herstellung eines Poly(siloxanimids) mit niedrigerem Molekulargewicht ein größerer Prozentsatz an p- Aminophenol verwendet als in Beispiel 1.
- Der Rohchip-Befestigungsfilmklebstoff wurde wie in Beispiel 2 aus dem in Beispiel 4 hergestellten Poly(siloxanimid) (Film A) und aus einem Material (Film B) hergestellt, das ähnlich wie das von Beispiel 1 hergestellt war, wobei jedoch 1,3-Bis-(m- aminophenoxy)benzol durch eine gleiche Molanzahl 2,2-Bis[4-(p- aminophenoxy)phenylipropan ersetzt worden war. Die Bewertung jedes Filmes erfolgte wie in Beispiel 3 beschrieben. Die erhaltenen vergleichsweisen Rohchipscherfestigkeiten sind unten gezeigt. Testtemperatur Rohchipscherfestigkeit Rohchip fiel herunter, 0 kg
- In den oben aufgeführten Beispielen erfolgten die Rohchipklebevorgänge unter Verwendung einer von Hand betriebenen Rohchipklebevorrichtung, Modell 648-2, hergestellt von Kulicke und Soffa Co., Harsham, Pennsylvania.
- Die Rohchipscherdaten wurden mit einem Rohchipschertester, Modell M 17503 AJ, erhältlich von Hybrid Machine Products Corp., Canon City, Colorado 81212, erhalten.
- Obgleich die Erfindung mit einem gewissen Grad an Spezifität beschrieben worden ist, dient die vorliegende Offenbarung selbstverständlich nur als Beispiel, und es können zahlreiche Abänderungen vorgenommen werden, ohne vom Geist und Schutzumfang der Erfindung abzuweichen.
Claims (7)
1. Elektrisch nicht leitender thermoplastischer
Schmelzklebstoffilm, umfassend ein normalerweise festes thermoplastisches
Polyimidpolymerbindemittel mit einem Gewichtmittel des
Molekulargewichtes von mindestens 100 000 und hergestellt aus
(1) einem Dianhydrid der Struktur
worin A ein vierwertiger Rest von Benzol, Benzophenon ist, oder
einem aromatischen Dietherdianhydrid der Formel
worin K eine substituierte oder unsubstituierte Gruppe der
Formel
ist, worin W -O-, -S-, -SO&sub2;- lineares oderverzweigtes Alkylen
oder Alkenylen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder
-(R)C(L)ist, worin R und L die gleichen oder unterschiedliche
Niederalkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder Arylgruppen mit 6
bis 24 Kohlenstoffatomen sein können und m 0 oder 1 ist;
(2) einem m-disubstituierten Benzoldiamin der Struktur
worin Y ein zweiwertiger unsubstituierter m-Phenylenrest oder
ein mit mindestens einer Niederalkylgruppe mit 1 bis etwa 8
Kohlenstoffatomen substituierter m-Phenylenrest ist und T
ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus -O-, -S-, -SO, -S0&sub2;-,
-CO- und Niederalkylen mit 1 bis etwa 6 Kohlenstoffatomen,
oder einem Diamin der Formel
2,2-Bis-[3-(m-aminophenoxy)phenyl]-propan) oder
(2,2-Bis-[3-(m-aminophenoxy)phenyl]-sulfon)
(3) einem Polysiloxandiamin der Struktur
worin Q Arylen ist;
Z eine zweiwertige Sauerstoff-, Sulfid-, Sulfon-,
Sulfoxidoder Carbonsäureester oder Amidgruppe ist;
D eine Kohlenwasserstoffgruppe ist;
R¹, R², R³, R&sup4;, R&sup5; und R&sup6; gleiche oder unterschiedliche
Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen sind, und
x, y und z ganze Zahlen mit Werten von 0 bis 100 sind; und
(4) p-Aminophenol als Endabschlußmittel.
2. Film nach Anspruch 1, der ein thermisch leitendes Material
enthält.
3. Elektrisch leitender Klebstoffilm, umfassend (A) die
Mischung nach Anspruch 1 und (B) ausreichend Silberflocken zur
Bereitstellung eines leitenden Mediums.
4 Film nach Anspruch 3, in dem W -S- ist.
5. Film nach Anspruch 3, in dem das m-disubtituierte
Benzoldiamin Bis[1,3-(m-aminophenoxy)]benzol ist und das
Polysiloxandiamin Bis(m-aminophenoxybutyl)hexadecamethyl-octasiloxan ist.
6. Film nach Anspruch 3, in dem das Polyimidbindemittel 25 bis
50 Teile m-substituiertes Benzoldiamin (2) und 75 bis 50 Teile
Polysiloxandiamin auf 100 Gew.-Teile Dianhydrid enthält.
7. Film nach Anspruch 3, in dem die vorliegende Menge an
Silberflocken 75 bis 85 Teile, bezogen auf die gesamte
Filmzusammensetzung, beträgt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/321,472 US4994207A (en) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | Thermoplastic film die attach adhesives |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69023504D1 DE69023504D1 (de) | 1995-12-14 |
DE69023504T2 true DE69023504T2 (de) | 1996-04-04 |
Family
ID=23250731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69023504T Expired - Fee Related DE69023504T2 (de) | 1989-03-09 | 1990-11-22 | Thermoplastische Klebschicht zur Halbleiterbefestigung. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4994207A (de) |
EP (1) | EP0486724B1 (de) |
DE (1) | DE69023504T2 (de) |
DK (1) | DK0486724T3 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4994207A (en) * | 1989-03-09 | 1991-02-19 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Thermoplastic film die attach adhesives |
US5204399A (en) * | 1989-03-09 | 1993-04-20 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Thermoplastic film die attach adhesives |
US5043102A (en) * | 1989-11-29 | 1991-08-27 | Advanced Products, Inc. | Conductive adhesive useful for bonding a semiconductor die to a conductive support base |
DE4028556C1 (de) * | 1990-09-08 | 1992-04-02 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De | |
JPH0565456A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 気密封止用樹脂ペースト |
US5300627A (en) * | 1991-10-17 | 1994-04-05 | Chisso Corporation | Adhesive polyimide film |
US5406124A (en) * | 1992-12-04 | 1995-04-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Insulating adhesive tape, and lead frame and semiconductor device employing the tape |
US6624225B1 (en) * | 1996-06-03 | 2003-09-23 | Liburdi Engineering Limited | Wide-gap filler material |
CN1117133C (zh) * | 1999-09-21 | 2003-08-06 | 中国科学院化学研究所 | 一种可溶性聚酰亚胺涂层胶及其制备方法和用途 |
EP1805251A1 (de) * | 2004-10-04 | 2007-07-11 | Solvay Advanced Polymers, L.L.C. | Mit kunststoff überformte gegenstände, verwendung davon und herstellungsverfahren dafür |
WO2016033522A1 (en) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | Materion Corporation | Conductive bond foils |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4395527A (en) * | 1978-05-17 | 1983-07-26 | M & T Chemicals Inc. | Siloxane-containing polymers |
US4518735A (en) * | 1981-10-29 | 1985-05-21 | National Semiconductor Corporation | High temperature stable adhesive for semiconductor device packages, low-cost semiconductor device package and process |
US4519941A (en) * | 1983-08-09 | 1985-05-28 | National Starch And Chemical Corporation | Metal-filled polyimide/polyepoxide blends of improved electrical conductivity |
US4557860A (en) * | 1984-07-06 | 1985-12-10 | Stauffer Chemical Company | Solventless, polyimide-modified epoxy composition |
US4604230A (en) * | 1984-10-15 | 1986-08-05 | Stauffer Chemical Company | Thermally stable adhesive |
CA1257038A (en) * | 1984-10-24 | 1989-07-04 | Robert Edelman | Siloxane-containing polymers |
US4652398A (en) * | 1985-09-12 | 1987-03-24 | Stauffer Chemical Company | Rapid curing, thermally stable adhesive composition comprising epoxy resin, polyimide, reactive solvent, and crosslinker |
EP0309190A3 (de) * | 1987-09-22 | 1990-10-17 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Polyimid-Überzugszusammensetzungen |
US4994207A (en) * | 1989-03-09 | 1991-02-19 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Thermoplastic film die attach adhesives |
-
1989
- 1989-03-09 US US07/321,472 patent/US4994207A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-11-22 DK DK90122346.1T patent/DK0486724T3/da active
- 1990-11-22 EP EP90122346A patent/EP0486724B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-22 DE DE69023504T patent/DE69023504T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0486724B1 (de) | 1995-11-08 |
US4994207A (en) | 1991-02-19 |
EP0486724A1 (de) | 1992-05-27 |
DE69023504D1 (de) | 1995-12-14 |
DK0486724T3 (da) | 1996-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60124469T2 (de) | Polyimid-silikon-harz, verfahren zur dessen herstellung und polyimid-silikon-harzzusammensetzung | |
DE3855656T2 (de) | Schmelzformbares kristallines Polyimid | |
DE69318329T2 (de) | Wärmehärtbare Harzzusammensetzungen | |
DE3486131T2 (de) | Harzmaterial mit geringer thermischer Ausdehnung für Verdrahtungsisolationsfolie. | |
DE68924283T2 (de) | Lösliche Polyimidsiloxane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung. | |
DE60205161T2 (de) | Lösungsmittelfreie Polyimidesiloxanharzzusammensetzungen | |
DE69710048T2 (de) | Polymialcopolymer, Formteile aus Polymialcopolymer sowie ein Verfahren zu deren Herstellung | |
DE69125694T2 (de) | Tetrapolyimid-Film enthaltend Benzophenon Tetracarboxyl Dianhydrid | |
DE69007013T2 (de) | Copolyimid-ODPA/BPDA/4,4'-ODA/p-PDA. | |
DE69023504T2 (de) | Thermoplastische Klebschicht zur Halbleiterbefestigung. | |
DE3788937T2 (de) | Polyimide. | |
DE3874372T2 (de) | Polysiloxan-polyimide und verfahren zu deren herstellung. | |
US4837300A (en) | Copolyimide with a combination of flexibilizing groups | |
US5204399A (en) | Thermoplastic film die attach adhesives | |
DE1545197A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von hitzehaertbaren linearpolymeren amidmodifizierten Polyimiden | |
DE69229456T2 (de) | Wärmehärtende Harzzusammensetzungen und ihre Herstellung | |
DE69026297T2 (de) | Polyamid-Polyimid- und Polybenzoxazol-Polyimid-Polymere | |
DE4226696A1 (de) | Hitzehaertbare harzmassen | |
DE10008121A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyamidsäure und Polyimid | |
DE69318675T2 (de) | Klebefilm und seine herstellung | |
DE60305114T2 (de) | Imidsiliconharz und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69304086T2 (de) | Polyimide, ritzehärtbare Harzzusammensetzungen mit den Polyimide, Formkörper auf die Harzzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von deren Polyimiden | |
DE2601577A1 (de) | Von phenylindan-diaminen sich ableitende, loesliche polyamid-imide | |
DE19804617A1 (de) | Siloxan-Polyimid und wärmebeständiges Haftmittel, das dasselbe enthält | |
DE69105319T2 (de) | Polyimidcopolymere die 4-4'-Bis(aminophenoxy)biphenyl- und Diaminosiloxaneinheiten enthalten. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |