DE4324654B4

DE4324654B4 - Vorsensibilisierte Platte

Info

Publication number: DE4324654B4
Application number: DE4324654A
Authority: DE
Inventors: Syunichi Kondo; Akira Nagashima; Yasumasa Kawabe
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1992-07-22
Filing date: 1993-07-22
Publication date: 2005-09-01
Anticipated expiration: 2013-07-23
Also published as: JPH0643636A; US5340683A; DE4324654A1

Abstract

Vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit einer auf ihrer Oberfläche aufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte, die versehen ist mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einer Zusammensetzung, die enthält mindestens eine lichtempfindliche Substanz und ein alkalilösliches Harz, wobei es sich bei der lichtempfindlichen Substanz handelt um einen 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäureester und/oder 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäureester und/oder 1,2-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäureester und/oder 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäureester einer Polyhydroxyverbindung der nachstehenden angegebenen allgemeinen Formel (I)

worin bedeuten:
R₁ bis R₄ die gleich oder verschieden sind jeweils ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine Alkoxygruppe oder eine Alkenylgruppe;
R₅ und R₆ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Gruppe der Formel

worin R₁ bis R₄ die oben angegebenen Bedeutungen haben
a und c jeweils die Zahl 0 oder 1 und
b die Zahl 0 oder eine ganze Zahl in dem Bereich von 1 bis 4.

Description

Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte (nachstehend als „PS-Platte" bezeichnet), sie betrifft insbesondere eine PS-Platte, die eine spezifische o-Naphthochinondiazid-Verbindung enthält.

Aluminiumplatten werden bereits in großem Umfange als Substrate für lithographische Druckplatten verwendet. Diese Aluminiumplatten werden oberflächenbehandelt, um die hydrophilen Eigenschaften und die Wasserretentionseigenschaften der Platten zu verbessern, um ihre Haftung an Bildbereichen zu verbessern und um die Festigkeit der bildfreien Bereiche der resultierenden PS-Platten zu verbessern Diese Aluminiumplatten wurden bisher oberflächenbehandelt beispielsweise durch mechanische Oberflächenaufrauhungsbehandlungen, z. B. durch Kugelaufrauhen, Drahtaufrauhen und Bürstenaufrauhen; durch elektrolytische Oberflächenaufrauhungsbehandlungen, indem man einen Gleichstrom oder einen Wechselstrom durch die Aluminiumplatten in einem Chlorwasserstoffsäure- oder Salpetersäurebad hindurchleitet; oder durch irgendeine beliebige Kombination davon. Nach der Oberflächenbehandlung werden diese Aluminiumplatten in einem Schwefelsäure- oder Phosphorsäurebad anodisiert.

Die Aluminiumplatte kann gegebenenfalls einer Versiegelungsbehandlung mit einem Silicat oder mit heißem Wasser und/oder einer Eintauchbehandlung, beispielsweise in eine Polyvinylsulfonsäurelösung, unterzogen werden. Es ist bereits bekannt, eine PS-Platte herzustellen durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die ein o-Naphthochinondiazid als lichtempfindliche Verbindung und ein Bindemittel, z. B. ein Novolakharz, ein Vinylharz oder Urethanharz, enthält, auf das so vorbehandelte Aluminiumsubstrat.

Es ist außerdem bereits bekannt, dass es durch Verwendung eines Reaktionsprodukts einer Polyhydroxyverbindung mit einer o-Naphthochinondiazid-Verbindung, beispielsweise einer lichtempfindlichen o-Naphthochinondiazid-Verbindung möglich ist, beispielsweise eine Kristallabscheidung in der resultierenden lichtempfindlichen Schicht zu verhindern und die Lagerbeständigkeit, die Haftung an einem Aluminiumsubstrat und die chemische Beständigkeit und Entwickelbarkeit der lichtempfindlichen Schicht zu verbessern.

Zu Beispielen für lichtempfindliche Zusammensetzungen, die diese Reaktionsprodukte enthalten, gehören solche, die o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester von polykondensierten Harzen von Pyrogallol und Aceton enthalten, wie in der JP 43-28403 B (entsprechend US 3 635 704 ) beschrieben; solche, die o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester von polykondensierten Harzen eines Pyrogallol/Resorcin-Gemisches mit Aceton enthalten, zur Kontrolle (Steuerung) der Entwickelbarkeit der resultierenden lichtempfindlichen Schicht, wie in der JP 55-76346 A beschrieben; und solche, die polykondensierte Harze von Polyhydroxyphenolen mit Benzaldehyd oder Acetaldehyd enthalten, zur Verbesserung der Entwickelbarkeit und chemischen Beständigkeit der resultierenden lichtempfindlichen Schicht, wie in JP 50-1044 A und JP 50-1045 A beschrieben.

Nach der Durchführung verschiedener Untersuchungen unter Verwendung dieser o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester dieser polykondensierten Harze von Polyhydroxyphenolen mit Ketonen oder Aldehyden sind jedoch die folgenden Probleme aufgetaucht.

Eine positiv arbeitende lithographische Druckplatte wird im allgemeinen hergestellt durch Aufkleben einer Vielzahl von Originalfilmen, die verschiedene Bilder, Muster und/oder Buchstaben auf einem transparenten Träger (Basis) tragen, zur Bildung eines positiven Films, Auflegen des Films auf die lichtempfindliche Schicht einer PS-Platte, Belichten der Anordnung mit ultravioletten Strahlen und anschließendes Entwickeln der belichteten Strahlen und anschließendes Entwickeln der belichteten PS-Platte mit einem Entwickler. Wenn die resultierende lithographische Druckplatte eine stark verbesserte Druckhaltbarkeit erfordert, wird die Platte dann einer Einbrennbehandlung unterzogen, um die lichtempfindliche Schicht auf dem Bildbereich derselben thermisch zu härten. Wenn der obengenannte positive Film auf eine lichtempfindliche Schicht gelegt wird, die einen konventionellen o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester eines polykondensierten Harzes eines Polyhydroxyphenols mit einem Keton oder einem Aldehyd enthält, und wenn dann die Anordnung belichtet wird, bleibt jedoch die lichtempfindliche Schicht hinter dem Randabschnitt der verschiedenen ursprünglichen Filme, die auf den Basisfilm des verwendeten positiven Films aufgeleimt worden sind, in einem halb-belichteten Zustand auf der Platte zurück. Die halb-belichtete lichtempfindliche Schicht haftet fest an der Plattenoberfläche, sie kann nicht leicht mit einem Entwickler entfernt werden und bleibt somit auch nach Beendigung der Entwicklung auf der Plattenoberfläche zurück. Die Verwendung der resultierenden Druckplatte für Druckoperationen führt zu einer Hintergrundver unreinigung der Kopien. Die so auf der belichteten PS-Platte entstandenen Klebemarkierungen können mit einer sogenannten nicht-toxischen Auslöschungslösung (die frei von Fluorwasserstoffsäure, einem starken Gift, ist), wie sie allgemein für die Behandlung von positiv arbeitenden PS-Platten verwendet wird, nicht vollständig entfernt werden. Die Klebemarkierungen sind noch ausgeprägter, wenn die Platte einer Einbrennbehandlung unterworfen wird, wie sie üblicherweise zur Verbesserung der Druckhaltbarkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte angewendet wird, und daher kann die resultierende Druckplatte nicht zum Drucken (Vervielfältigen) verwendet werden.

Dennoch tritt bei der lichtempfindlichen Schicht, die einen konventionellen o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester eines polykondensierten Harzes eines Polyhydroxyphenols mit einem Keton oder einem Aldehyd enthält, niemals der Nachteil auf, dass die Schicht auf dem Bildabschnitt mit einem Entwickler mit einer hohen Konzentration herausgelöst wird, im Gegensatz zu solchen, die andere bekannte o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester (beispielsweise o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester von 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenon oder Phenolen, wie m-Kresol) enthalten. Insbesondere weist die lichtempfindliche Schicht den Vorteil auf, dass sie einen breiten Entwicklungsspielraum besitzt.

Die EP 0 443 533 A2 offenbart positiv arbeitende Photoresistzusammensetzungen, umfassend 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonate oder 1,2-Naphthochinondiazid-4-sulfonate von aromatischen Hydroxyverbindungen.

Die EP 0 530 148 A1 offenbart Positiv-Photoresists, enthaltend Tetra(hydroxyphenyl)alkane.

Die DE 37 29 034 A1 offenbart ein lichtempfindliches Gemisch auf der Basis von 1,2-Naphthochinondiaziden.

Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine PS-Platte oder eine lithographische Druckplatte zu schaffen, deren Klebemarkierungen mit einer Auslöschungslösung entfernt werden können, die frei von schädlicher Fluorwasserstoffsäure ist und bei der keinerlei Druckfarbe an den Teilen haftet, an denen während der bildmäßigen Belichtung Klebemarkierungen entstehen, auch dann nicht, nachdem die Platte einer Einbrennbehandlung unterzogen worden ist.

Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine PS-Platte mit einem breiten Entwicklungsspielraum zur Verfügung zu stellen.

Es wurden nun verschiedene Untersuchungen durchgeführt, um die obengenannten Ziele zu erreichen, wobei gefunden wurde, dass die obengenannten, mit den konventionellen PS-Platten verbundenen Nachteile vollständig eliminiert werden können durch Verwendung einer spezifischen lichtempfindlichen Substanz, und darauf beruht die vorliegende Erfindung.

Das obengenannte Ziel der Erfindung kann wirksam erreicht werden mit einer PS-Platte nach Anspruch 1. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen definiert. Die erfindungsgemäße Platte umfasst eine auf ihrer Oberfläche aufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte, die versehen ist mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einer Zusammensetzung, die mindestens eine lichtempfindliche Substanz und ein alkalilösliches Harz enthält, wobei es sich bei der lichtempfindlichen Substanz um eine Verbindung der allgemeinen Formel (I) handelt:

worin bedeuten:
R₁ bis R₄, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine Alkoxygruppe oder eine Alkenylgruppe;
R₅ und R₆ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Gruppe der Formel

worin R₁ bis R₄ die gleichen Bedeutungen wie oben haben
a und c jeweils die Zahl 0 oder 1 und
b die Zahl 0 oder eine ganze Zahl in dem Bereich von 1 bis 4.

Die Erfindung wird nachstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen näher beschrieben.

Die erfindungsgemäße PS-Platte umfasst mindestens eine lichtempfindliche Verbindung der Formel (I). In Bezug auf die Substituenten R₁ bis R₄ der Formel (I) sind bevorzugte Halogenatome Chlor-, Brom- und Jodatome; bevorzugte Alkylgruppen sind solche mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Methyl-, Ethyl-, Propyl-, n-Butyl-, Isobutyl-, sec-Butyl- und t-Butylgruppen; bevorzugte Alkoxygruppen sind solche mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Methoxy-, Ethoxy-, Hydroxyethoxy-, Propoxy-, Hydroxypropoxy-, Isopropoxy-, n-Butoxy-, Isobuthoxy-, sec-Butoxy- und t-Butoxygruppen; und bevorzugte Alkenylgruppen sind solche mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Vinyl-, Propenyl-, Allyl- und Butenylgruppen.

Bezüglich der Substituenten R₅ und R₆ der Formel (I) sind bevorzugte Alkylgruppen die gleichen wie sie oben in Verbindung mit den Substituenten R₁ bis R₄ definiert worden sind.

Die Verbindung der Formel (I) können hergestellt werden durch Umsetzung von Carbonyl-Vorläufern mit Phenolderivaten, d. h. p-Hydroxyphenylketonverbindungen (hergestellt beispielsweise nach dem in „Chemische Berichte" 1941, 74, S. 1772 beschriebenen Verfahren) unter sauren oder alkalischen Bedingungen nach dem in US 4 426 513 beschriebenen Verfahren.

Darüber hinaus können sie hergestellt werden durch Umsetzungen von Halogenketonverbindungen mit Phenolderivaten unter sauren Bedingungen beispielsweise nach dem in US 2 965 611 beschriebenen Verfahren.

Wenn die Reaktion unter sauren Bedingungen durchgeführt wird, wird vorzugsweise eine Mercaptogruppen enthaltende Verbindung als Katalysator verwendet und zu spezifischen Beispielen dafür gehören Ethanthiol, 1-Butanthiol, Thiophenol und Mercaptoessigsäure.

Vorzugsweise wird die Kondensationsreaktion in Gegenwart eines stöchiometrischen Überschusses der Phenolkomponente durchgeführt. Die Reaktionstemperatur liegt vorzugsweise in dem Bereich von Raumtemperatur bis 100 °C oder höher.

Das Fortschreiten der Kondensationsreaktion kann durch eine chromatographische oder spektrophotometrische Einrichtung überwacht werden. Sie kann beispielsweise leicht überwacht werden durch Nachweis der Abnahme der Absorptionsbande, die den Carbonylgruppen zugeschrieben wird, unter Anwendung der IR-spektrometrischen Analyse.

Dieser Verbindungen können durch Anwendung verschiedener Reinigungsverfahren, wie sie üblicherweise angewendet werden, beispielsweise durch Umkristallisation und durch Elutionschromatographie, gereinigt werden.

Lösungsmittel, die zweckmäßig bei ihrer Umkristallisation verwendet werden, sind beispielsweise Methylenchlorid, Benzol, Cyclohexan, Methanol, Ethanol und ein Alkohol/Wasser-Gemisch.

Die Elutionschromatographie wird in optimaler Weise durchgeführt unter Verwendung von Aluminiumoxid oder Siliciumdioxid als feste Phase und einer Vielzahl von Lösungsmitteln als Eluierungsmittel.

Spezifische Beispiele für die auf die vorstehend beschriebene Weise hergestellten Verbindungen der Formel (I) sind die nachstehend aufgezählten Verbindungen [I-a] bis [I-p], die Erfindung ist jedoch keineswegs auf diese spezifischen Verbindungen beschränkt.

Synthesebeispiel 1: Synthese der Verbindung [1-c]:

Phenol (188 g, 2,0 mol) wurde zu Dichloraceton (25,4 g, 0,20 mol) zugegeben und die Mischung wurde auf 45 °C erhitzt, wobei Chlorwasserstoffgas eingeleitet wurde. Als die Reaktionsmischung gelb wurde, wurde das Erhitzen gestoppt und es wurde weitere 2 h lang Wasserstoffgas eingeleitet. Dann wurde die rotbraune Reaktionsmischung unter vermindertem Druck destilliert, um das überschüssige Phenol zu entfernen. Der so hergestellte rotbraune feste Rückstand wurde mit n-Hexan gewaschen und durch Säulenchromatographie gereinigt (Silicagel; Eluierungsmittel: n-Hexan/Ethylacetat = 2/1), wobei man 72 g eines weißen Pulvers erhielt. Die NMR-Analyse bestätigte, dass es sich bei dem Pulver um 1,2,2,3-Tetrakis-(4'-hydroxyphenyl)propan [1-b] handelte.

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Substanz kann hergestellt werden durch partielle oder vollständige Veresterung der Hydroxylgruppen an der oben genannten Polyhydroxyverbindung in Gegenwart von 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid und eines basischen Katalysators auf die übliche Weise.

Insbesondere werden in einen Kolben die gewünschten Mengen an einer Polyhydroxyverbindung und 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid zusammen mit einem Lösungsmittel, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht beispielsweise aus Dioxan, Aceton, Methylethylketon und N-Methylpyrrolidon, eingeführt und dann wird ein basischer Katalysator, z. B. Natriumhydroxid, Natriumbicarbonat oder Triethylamin, zu der Mischung zugetropft zur Durchführung der Kondensation der Verbindungen. Das resultierende Produkt wird mit Wasser gewaschen, gereinigt und schließlich getrocknet.

Die oben genannte Veresterungsreaktion führt zur Bildung einer Mischung, die verschiedene veresterte Produkte enthält, deren Veresterungsgrad und veresterte Positionen voneinander verschieden sind. Aus diesem Grund wird der hier verwendete Ausdruck „Veresterungsgrad" so definiert, dass es sich dabei um den Durchschnitt der verschiedenen veresterten Produkte handelt.

Der oben definierte Grad der Veresterung kann durch Einstellung des Mischungsverhältnisses der Ausgangsmaterialien Polyhydroxyverbindung/1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid gesteuert (kontrolliert) werden. Das heißt mit anderen Worten, das gesamte zugegebene 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid unterliegt im wesentlichen der Veresterungsreaktion und daher kann eine Mischung mit dem gewünschten Veresterungsgrad hergestellt werden durch geeignete Kontrolle (Einstellung) des Molverhältnisses der Ausgangmaterialien.

Die oben genannten Polyhydroxyverbindungen können mit anderen Sulfonylchloriden, wie 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid und 1,2-Naphthochinondiazid-4-sulfonylchlorid, auf die gleiche Weise wie oben umgesetzt werden, wobei man andere lichtempfindliche Substanzen erhält, die erfindungemäß verwendbar sind.

Die Reaktionstemperatur bei dem oben genannten Verfahren liegt im allgemeinen in dem Bereich von –20° bis 60 °C, vorzugsweise von 0° bis 40 °C.

Synthesebeispiel 2: Synthese einer lichtempfindlichen Verbindung

Das im Synthesebeispiel 1 hergestellte 1,2,2,3-Tetrakis-(4'-hydroxyphenyl)propan (41,2 g), 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid (80,6 g) und Aceton (600 ml) wurden in einen Drei-Hals-Kolben eingeführt und homogen gelöst. Triethylamin/Aceton (31,9 g/100 ml) wurde allmählich zugetropft und 3 h lang bei 25 °C damit umgesetzt. Die Reaktionsmischung wurde in 3000 ml einer 1 %igen wässrigen Chlorwasserstoffsäurelösung gegossen. Der Niederschlag wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und bei 40 °C getrocknet, wobei man den 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäureester von 1,2,2,3-Tetrakis-(4'-hydroxyphenyl)propan (78,0 g) erhielt (lichtempfindliche Substanz).

Eine oder mehr der nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren hergestellten erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Verbindungen kann beispielsweise einem alkalilöslichen Harz einverleibt werden zur Herstellung einer lichtempfindlichen Harzzusammensetzung. In dieser Hinsicht liegt die Menge der lichtempfindlichen Verbindung, die eingearbeitet werden soll, in dem Bereich von 5 bis 100 Gew.-Teilen, vorzugsweise von 10 bis 50 Gew.-Teilen, bezogen auf die Gesamtmenge des alkalilöslichen Harzes. Dies ist deshalb so, weil dann, wenn ihre Menge weniger als 5 Gew.-Teile beträgt, der Wert des zurückbleibenden Films wesentlich gemindert wird, während dann, wenn sie 100 Gew.-Teile übersteigt, die resultierende Harzzusammensetzung eine geringe Empfindlichkeit und eine geringe Löslichkeit in einem Lösungsmittel aufweist.

Die Harzzusammensetzung kann gegebenenfalls auch andere bekannte lichtempfindliche Substanzen zusätzlich zu den oben genannten enthalten. Zu Beispielen für die bekannten lichtempfindlichen Substanzen gehören Ester von 1,2-Diazonaphthochinonsulfonsäurechlorid mit Pyrogallol-Aceton-Harzen, wie in US 3 635 709 beschrieben; Ester von 1,2-Diazonaphthochinon-5-sulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehyd-Harzen, wie in US 3 046 120 und US 3 188 210 beschrieben; Ester von 1,2-Diazochinon-4-sulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehyd-Harzen, wie in JP 2-96 163 A, JP 2-96165 A und JP 2-96 761 A beschrieben; und solche, wie sie beispielsweise in JP 47-5303 A, JP 48-63 802 A, JP 48-63 803 A, JP 48-96 575 A, JP 49-38 701 A und JP 48-13 354 A, in JP 37-18 015 B, JP 41-11 222 B, JP 45-9 610 B und JP 49-17 481 B, in US 2 797 213 , US 3 454 400 , US 3 544 323 , US 3 573 917 , US 3 674 495 und US 3 785 825 , in GB 1 227 602 A , GB 1 251 345 A , GB 1 267 00 A GB 1 329 888 A und GB 1 330 932 A und in DE 854 890 C beschrieben sind.

In diesem Fall können diese bekannten lichtempfindlichen Substanzen in einer Menge von 1 bis 100 Gew.-Teilen, vorzugsweise von 5 bis 30 Gew.-Teilen, auf 100 Gew.-Teile der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Substanz verwendet werden.

Die erfindungsgemäß verwendeten alkalilöslichen Harze können sein eine Vielzahl von Harzen mit den gewünschten Eigenschaften, bevorzugt sind jedoch die nachstehend aufgezählten Novolakharze:
Zu Beispielen für diese erfindungsgemäß verwendbaren Novolakharze gehören Phenol/Formaldehyd-Harze; und Kresol/-Formaldehyd-Harze, wie m-Kresol/Formaldehyd-Harze, p-Kresol/Formaldehyd-Harze, o-Kresol-Formaldehyd-Harze, m-/p-gemischte Kresol/Formaldehyd-Harze und Phenol/gemischte Kresol (m-/p-/o-, m-/p- oder m/o-gemischte Kresol)/-Formaldehyd-Harze. Außerdem können auch Phenolharze vom Kresol-Typ zweckmäßig verwendet werden. Bevorzugt sind Phenol/Kresol (m/p-/o-, m-/p- oder m-/o-gemischte Kresol)/Formaldehyd-Harze, wobei die in JP 61-217 034 A beschriebenen Phenolharze besonders bevorzugt sind.

Außerdem können verschiedene andere alkalilösliche polymere Verbindungen erfindungsgemäß ebenfalls verwendet werden und zu Beispielen dafür gehören Phenolmodifizierte Xylolharze, Polyhydroxystyrol, polyhalogeniertes Hydroxystyrol, eine phenolische Hydroxylgruppe enthaltende Acrylharze, wie sie in JP 51-34 711 A beschrieben sind, eine Sulfonamidogruppe enthaltende Acrylharze, wie sie in US 5 141 838 A beschrieben sind, und Urethanharze. Diese alkalilöslichen polymeren Verbindungen haben vorzugsweise gewichtsdurchschnittliche Molekulargewichte innerhalb des Bereiches von 500 bis 20.000 und zahlendurchschnittliche Molekulargewichte innerhalb des Bereiches von 200 bis 6.000.

Diese alkalilöslichen polymeren Verbindungen können einzeln oder in Form einer Kombination in einer Menge von nicht mehr als 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung verwendet werden. Darüber hinaus ist es bevorzugt, zur Verbesserung des Farbaufnahmevermögens der Bilder gleichzeitig Kondensate von Formaldehyd mit Phenolen zu verwenden, die als Substituenten Alkylgruppen mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen enthalten, wie z. B. t-Butylphenol/Formaldehyd-Harze und Octylphenol/Formaldehyd-Harze, wie in US 4 123 279 beschrieben.

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung enthält vorzugsweise zur Verbesserung der Empfindlichkeit cyclische Säureanhydride, Phenole und/oder organische Säuren. Beispiele für diese cyclischen Säureanhydride sind Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ⁴-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorophthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chloromaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellithsäureanhydrid. Zu diesen Phenolen gehören beispielsweise Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzaphenon, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan. Solche organischen Säuren sind beispielsweise Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphinsäuren, Phosphorsäureester und Carbonsäuren, wie sie in JP 60-88 942 A und JP 2-96 755 A beschrieben sind, und spezifische Beispiele dafür sind p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluylsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 1,4-Cyclohexen-2,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure.

Der Gehalt an den oben genannten cyclischen Säureanhydriden, Phenolen und/oder organischen Säuren in der lichtempfindlichen Zusammensetzung liegt vorzugsweise in dem Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, insbesondere von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung kann ferner enthalten zur Erweiterung des Entwicklungsspielraums nicht-ionische oberflächenaktive Agentien, wie sie in JP 62-251 740 A und JP 4-68 355 A beschrieben sind; und amphotere oberflächenaktive Agentien, wie sie in JP 59-121 044 A und JP 4-13 149 A beschrieben sind. Spezifische Beispiele für nicht-ionische oberflächenaktive Agentien sind Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearylmonoglycerid, Polyoxyethylensorbitanmonooleat und Polyoxyethylennonylphenylether, und Beispiele für amphotere oberflächenaktive Agentien sind Alkyl-di(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, Amorgen K^® (oberflächenaktives Agens vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ), 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl-imidazolinium-betain und Rebon 15^® (Betain vom Alkyl-Imidazolin-Typ).

Der Gehalt an den oben genannten nicht-ionischen und/oder amphoteren oberflächenaktiven Agentien in der Zusammensetzung liegt vorzugsweise in dem Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, insbesondere von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung kann enthalten ein Auskopiermittel zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der bildmäßigen Belichtung, einen Farbstoff zum Anfärben von Bildern und andere Füllstoffe. Ein repräsentatives Beispiel für das Auskopiermittel ist eine Kombination aus einer lichtempfindlichen Verbindung, die unter der Einwirkung von Licht eine Säure freisetzen kann, und einem ein Salz bildenden organischen Farbstoff.

Als lichtempfindliche Verbindungen, die durch Belichtung Säuren freisetzen können, werden verschiedene Arten von Verbindungen vorgeschlagen, und spezifische Beispiele dafür sind o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenide, wie in US 3 969 118 beschrieben; Trihalogenmethyl-2-pyron und Trihalogenmethyltriazin, wie in US 4 160 671 beschrieben; verschiedene o-Naphthochinondiazid-Verbindungen, wie in JP 55-62 444 A beschrieben; und 2-Trihalogenmethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazol-Verbindungen, wie in US 4 279 982 beschrieben. Andererseits handelt es sich bei den organischen Säuren, die durch Wechselwirkung mit diesen photolytisch zersetzbaren Substanzen ihre Farbtö nungen ändern, beispielsweise um Farbstoffe vom Diphenylmethan-Typ, Triarylmethan-Typ, Thiazin-Typ, Oxazin-Typ, Phenazin-Typ, Xanthen-Typ; Anthrachinon-Typ, Iminonaphthochinon-Typ und Azomethin-Typ und zu spezifischen Beispielen dafür gehören Brilliantgrün, Eosin, Ethylviolett, Erythrocin B, Methylgrün, Kristallviolett, basisches Fuchsin, Phenolphthalein, 1,3-Diphenyltriazin, Alizarinrot S, Thymolphthalein, Methylviolett 2B, Chinaldinrot, Bengalrosa, Methanilgelb, Thymolsulfophthalein, Xylenolblau, Methylorange, Orange IV, Diphenylthiocarbazon, 2,7-Dichlorofluorescein, Paramethylrot, Kongorot, Benzopurpurin 4B, α-Naphthylrot, Nil Blau, Phenacetalin, Methylviolett, Malachitgrün, Parafuchsin; Oil Blue #603^®, Oil Pink #312^®, Oil Red 5B^®, Oil Scarlet #308^®, Oil Red OG^®, Oil Red RR^® und Oil Green #502^®; Spiron Red BEH Special^® und Victoria Pure Blue BOH^®; Patentreinblau; Sudanblau II; m-Kresolviolett, Kresolrot, Rhodamin B, Rhodamin 6G, Fast Acid Violett R, Sulforhodamin B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon, 2-Carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphthochinon, 2-Carbostearylamino-4-p-dihydroxyethylaminophenyliminonaphthochinon, p-Methoxybenzoyl-p'-diethylamino-o'-methylphenyliminoacetanilid, Cyano-p-diethylamino-phenyliminoacetanilid, 1-Phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolin und 1-β-Naphthyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolon.

Besonders vorteilhafte Farbstoffe sind basische Farbstoffe, wie Victoria Pure Blue und Ethylviolett, wie in JP 62-293 247 A beschrieben, deren Gegenanionen durch solche ersetzt sind, die von organischen Sulfonsäuren abgeleitet sind.

Die erfindungsgemäße PS-Platte kann hergestellt werden durch Auflösen der oben genannten Komponenten in einem geeigneten Lösungsmittel, Aufbringen der resultierenden Lösung in Form einer Schicht auf die Oberfläche eines Substrats und anschließendes Trocknen der aufgebrachten Schicht.

Erfindungsgemäß verwendbare Lösungsmittel sind beispielsweise Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid, Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Wasser, N-Methylpyrrolidon, Tetrahydrofurfurylalkohol, Aceton, Diacetonalkohol, Methanol, Ethanol, Isopropanol und Diethylenglycoldimethylether, die allein oder in Form einer Kombination verwendet werden können. Die Konzentration (der Feststoffgehalt) der oben genannten Komponenten beträgt 2 bis 50 Gew.-%. Außerdem variiert die Men ge der Lösung, die in Form einer Schicht aufgebracht werden soll, in Abhängigkeit von dem vorgesehenen Verwendungszweck. So wird z. B. zur Herstellung einer PS-Platte vorzugsweise eine Lösung mit einem Feststoffgehalt von 0,5 bis 3,0 g/m² verwendet. Je geringer die Menge ist, in der sie aufgebracht wird, um so höher ist die Lichtempfindlichkeit des resultierenden lichtempfindlichen Films, um so schlechter sind jedoch dessen physikalische Eigenschaften.

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung kann außerdem enthalten zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften ein Fluoratom enthaltendes oberflächenaktives Agens, wie in US 4 822 713 beschrieben. Die Menge desselben liegt vorzugsweise in dem Bereich vom 0,01 bis 1 Gew.-%, insbesondere von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die Oberfläche der auf diese Weise aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht wird vorzugsweise mattiert, um die für die Evakuierung während der Kontaktbelichtung in einem Vakuumdruckrahmen erforderliche Zeit zu verkürzen und um die Bildung eines unscharfen Bildes während des Druckens (Vervielfältigens) zu verhindern. Die mattierte (matte) Schicht kann nach Verfahren erzeugt werden, wie sie beispielsweise in JP 50-125 805 A und JP 57-6 582 B und JP 61-28 986 B beschrieben sind. Alternativ kann sie auch erzeugt werden durch Wärmeschmelzen eines Feststoffpulvers auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht, wie in JP 62-62 337 B beschrieben.

Entwickler für die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung sind vorzugsweise alkalische wässrige Lösungen, die im wesentlichen frei von irgendwelchen organischen Lösungsmitteln sind. Zu spezifischen Beispielen für die erfindungsgemäß verwendeten alkalischen Agentien gehören Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Lithiumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert-phosphat, Natrium-sec-phosphat, Ammonium-tert-phosphat, Ammonium-sec-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat und Ammoniak. Die Konzentration des alkalischen Agens in dem Entwickler liegt in dem Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.-%.

Unter diesen Entwicklern sind solche bevorzugt, die Alkalisilicate, wie Kaliumsilicat, Lithiumsilicat und Natriumsilicat, enthalten, da sie die Eliminierung der Hintergrundverunreinigung während des Druckens (Vervielfältigens) erlauben. Ein bevorzugt verwendeter Entwickler enthält ein Alkalisilicat mit einem Molverhältnis (SiO₂)/(M) in dem Bereich von 0,5 bis 2,5 (worin SiO₂ und (M) die molaren Konzentrationen von SiO₂ bzw. derjenigen des Gesamtalkalimetalls darstellen) und er weist einen SiO₂-Gehalt von 0,8 bis 8 Gew.-% auf. Darüber hinaus kann der Entwickler beispielsweise ein wasserlösliches Sulfat, wie Natriumsulfat, Kaliumsulfit oder Magnesiumsulfit; und/oder Resorcin, Methylresorcin, Hydrochinon oder Thiosalicylsäure enthalten. Der bevorzugte Gehalt an diesen Verbindungen in dem Entwickler liegt in dem Bereich von 0,002 bis 4 Gew.-%, insbesondere von 0,01 bis 1 Gew.-%.

Der Entwickler enthält vorzugsweise außerdem mindestens einen Vertreter, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus anionischen und amphoteren oberflächenaktiven Agentien, wie in JP 50-51 324 A und J 59-84 241 A beschrieben, und nicht-ionische oberflächenaktive Agentien, wie in JP 59-75 255 A, JP 60-111 246 A und JP 60-213 943 A beschrieben, oder einen Elektrolyten mit einem hohen Molekulargewicht, wie in JP 55-95 946 A und JP 56-142 528 A beschrieben, zur Verbesserung der Benetzbarkeit der lichtempfindlichen Schicht und zur Gewährleistung einer hohen Stabilität der Entwicklung (des Entwicklungsspielraums). Das oberflächenaktive Agens kann dem Entwickler vorzugsweise in einer Menge von 0,001 bis 2 Gew.-%, insbesondere von 0,003 bis 0,5 Gew.-%, zugesetzt werden. Der Entwickler enthält vorzugsweise mindestens 20 Mol-% Kalium, bezogen auf die gesamte molare Menge der in dem Entwickler vorhandenen Alkalimetalle, da die Verwendung desselben begleitet ist von der Bildung nur einer geringen Menge an unlöslichem Material. Der Kaliumgehalt beträgt insbesondere nicht weniger als 90 Mol-% und am meisten bevorzugt 100 Mol-%.

Der erfindungsgemäß verwendete Entwickler kann außerdem enthalten eine geringe Menge eines organischen Lösungsmittels, wie z. B. eines Alkohols, eines Chelatbildners, wie in JP 58-190 952 A beschrieben, eines Metallsalzes, wie in JP 1-30 139 B beschrieben, und/oder eines Antischaumbildners.

Zu den Lichtquellen, wie sie für die bildmäßige Belichtung der PS-Platte verwendet werden, gehören beispielsweise eine Kohle-Lichtbogenlampe, eine Quecksilberlampe, eine Xenonlampe, eine Wolframlampe und eine Metallhalogenidlampe.

Die erfindungsgemäße PS-Platte kann natürlich nach Verfahren behandelt werden, wie sie in JP 54-8 002 A, JP 55-115 045-A und JP 59-58 431 A beschrieben sind zur Her stellung einer lithographischen Druckplatte. Insbesondere kann eine PS-Platte, die entwickelt worden ist, mit Wasser gewaschen und dann desensibilisiert werden oder sie kann ohne Waschen mit Wasser desensibilisiert werden oder sie kann mit einer eine Säure anhaltenden wässrigen Lösung behandelt und dann desensibilisiert werden. Darüber hinaus wird die Alkalikonzentration des Entwicklers herabgesetzt als Folge des Verbrauchs an Alkali entsprechend der Menge der PS-Platten, die in dem Verfahren zur Entwicklung einer PS-Platte dieser Art behandelt (entwickelt) werden, oder entsprechend der Absorption von Kohlendioxid aus der Luft, die beobachtet wird, wenn eine automatische Entwicklungsvorrichtung über einen langen Zeitraum hinweg betrieben wird. Dies führt zur Herabsetzung der Fähigkeit des Entwicklers, PS-Platten zu entwickeln. In diesem Falle kann eine Ergänzungslösung zugeführt werden, um sein Entwicklungsvermögen wieder herzustellen, wie in JP 54-62 004 A beschrieben. Die Ergänzung wird vorzugsweise auf die Weise durchgeführt, wie sie in US 4 882 246 beschrieben ist. Außerdem wird das oben genannte Plattenherstellungsverfahren vorzugsweise in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung durchgeführt, wie in JP 2-7054 A ( US 4 952 958 ) und JP 2-32 357 A beschrieben.

Wenn unerwünschte Bildabschnitte eliminiert werden nach dem bildmäßigen Belichten, Entwickeln und Waschen mit Wasser oder Spülen, wird vorzugsweise eine Auslöschungslösung verwendet, wie in JP 2-13 293 B ( US 4 396 703 ) beschrieben. Desensibilisierende Harze (Gummis), die gegebenenfalls auf die behandelte (entwickelte) PS-Platte in der Endstufe des Plattenherstellungsverfahrens aufgebracht werden, sind vorzugsweise solche, wie sie beschrieben sind in JP 62-16834 B ( US 4 348 954 ), JP 62-25118 B ( US 4 268 613 ) und JP 63-52600 B und JP 62-7595 A ( US 4 731 119 ), JP 62-11693 A ( US 4 719 172 ) und JP 62-83194 A ( US 4 762 772 ). Darüber hinaus wird dann, wenn eine PS-Platte nach dem bildmäßigen Belichten, Entwickeln, Waschen mit Wasser oder Spülen, gegebenenfalls Auslöschen und Waschen mit Wasser gebrannt wird, die Oberfläche der Platte vorzugsweise mit einer Oberflächenkonditionierungslösung behandelt, wie in JP 61-2 518 B ( US 4 294 910 ) und JP 55-28 062 B ( US 4 063 507 ) und in JP 62-31 859 A ( US 4 762 771 ) und JP 61-159 655 A beschrieben.

Die erfindungsgemäße PS-Platte erlaubt eine vollständige Entfernung irgendwelcher Klebemarkierungen, die auf der resultierenden lithographischen Druckplatte entstanden sind, selbst mit einer Auslöschungslösung die im wesentlichen frei von Fluorwasserstoff säure ist. Darüber hinaus haftet keine Druckerfarbe an den Abschnitten, an denen die Verklebungsmarkierungen erzeugt worden sind, selbst wenn die Platte nach dem Plattenherstellungsverfahren gebrannt wird. Ferner weist die Platte einen hohen Entwicklungsspielraum auf und deshalb treten irgendwelche Störungen, wie z. B. eine Auflösung der Bilder in einem Entwickler, auch dann nicht auf, wenn der Entwickler bei einer erhöhten Temperatur verwendet wird.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die folgenden nichtbeschränkenden Ausführungsbeispiele näher erläutert und die durch die Erfindung erzielten praktischen Effekte werden ebenfalls im Detail diskutiert. In den nachfolgenden Beispielen und Vergleichsbeispielen steht der Ausdruck „%", wenn nichts anderes gegeben ist, für „Gew.-%".
Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele a bis c
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde unter Verwendung einer Nylon-Bürste und einer wässrigen Suspension von Bimsstein mit einer Teilchengröße von 0,04 mm (400 mesh) oberflächlich aufgerauht und dann mit Wasser ausreichend gewaschen. Die Platte wurde geätzt durch 60 s langes Eintauchen in eine 10 %ige Natriumhydroxidlösung bei 70 °C, Waschen unter fließendem Wasser, anschließendes Neutralisieren und Waschen mit einer 20 %igen Salpetersäurelösung und Waschen mit Wasser. Dann wurde die Platte in einer 1 %igen wässrigen Salpetersäurelösung bei einer Anodenspannung V_A von 12,7 V, wobei die Elektrizitätsmenge an der Anode 160 C/dm² betrug, unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhung unterzogen. In dieser Stufe wurde die Oberflächenrauheit der Platte bestimmt und es wurde gefunden, dass sei 0,6 μm (ausgedrückt als Ra-Einheit) betrug. Dann wurde sie durch 1 Minute langes Eintauchen in eine 30 %ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 55 °C von Schlamm (Schmutz) befreit und in einer 20 %igen wässrigen Schwefelsäurelösung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² anodisiert, so dass die Dicke der resultierenden anodisierten Schicht 2,7 g/m² betrug, unter Belichtung eines Substrats.
Eine Lösung (A) für die Haftschicht mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche des so erhaltenen Substrats aufgebracht und 30 s lang bei 80 °C getrocknet. Die Beschichtungsmenge der Lösung betrug 30 mg/m² (gewogen nach dem Trocknen). Lösung (A) zur Herstellung der Haftschicht

Komponente Menge (g)

Aminoethylphosphonsäure 0,1

Phenylphosphonsäure 0,15

β-Alanin 0,1

Methanol 40

reines Wasser 60

Dann wurde die nachstehend angegebene lichtempfindliche Lösung auf die Haftschicht aufgebracht und 1 min lang bei 100 °C getrocknet zur Herstellung einer PS-Platte. Die Beschichtungsmenge der Lösung betrug 1,7 g/m² (gewogen nach dem Trocknen). Lichtempfindliche Lösung

Komponente	Menge (g)
lichtempfindliche Substanz, wie sie in der Tabelle I aufgezählt ist	0,43
Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (m-/p- = 6:4; durchschnittliches Molekulargewicht 1100; Gehalt an nicht-umgesetztem Kresol 0,5 %)	1,1
m-Kresol-Formaldehyd-Harz (gewichtsdurchschnitliches Molekulargewicht 1700; zahlendurchschnittliches Molekulargewicht 600; Gehalt an nicht umgesetztem Kresol 1 %)	0,3
N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid/n-Butylacrylat/Diethylenglycolmonomethyläthermethacrylat (40:40:20)-Copolymer	0,2
p-n-Octylphenol-Formaldehyd-Harz	0,02
1,2-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurechlorid	0,01
Benzoesäure	0,02
Tetrahydrophthalsäureanhydrid	0,05
4-(p-N,N-Di(ethoxycarbonyl)aminophenyl)-2,6-bis(trichloromethyl)-s-triazin	0,02
4-(p-N-(p-Hydroxybenzoyl)aminophenyl)-2,6-bis(trichloromethyl)-s-triazin	0,02
2-Trichloromethyl-5-(4-hydroxystyrol)-1,3,4-oxadiazol	0,01
Victoria Pure Blue BOH^®, dessen Gegenion durch ds 1-Naphthalinsulfonat-Ion ersetzt ist	0,01
Ethylviolett, dessen Gegenion durch das 6-Hydroxynaphthalinsulfonat-Ion ersetzt ist	0,01
Megafac F-176^® (ein ein Fluoratom enthaltendes oberflächenaktives Agens)	0,06

Methlethylketon

25

In einem Vakuum-Druckrahmen (-Kopierrahmen) wurden die so hergestellten PS-Platten 60 s lang bildmäßig belichtet mit Licht aus einer Halogenlampe durch ein Original, das hergestellt worden war durch Aufkleben von drei positiven Filmen auf eine transparente Basis (Träger) mit einem Cellophan-Klebestreifen, und dann wurden sie behandelt (entwickelt) in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung, die mit einem Entwickler DP-4 (auf das 8-fache verdünnt) und einer Spüllösung FR-3 (auf das 7-fache verdünnt) beschickt war (beide erhältlich von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd.). Dann wurden die Film-Randmarierungen und die Klebestreifen-Markierungen, die auf der resultierenden lithographischen Druckplatte festgestellt wurden, mit einer Schreibbürste ausgelöscht, die mit einer Auslöschungslösung PR-1 (erhältlich von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd.) befeuchtet war, dann wurde die Platte mit Wasser gewaschen, die Plattenoberfläche wurde mit einem Stoff, der mit einer Oberflächenkonditionierungslösung für das Brennen BC-3 (erhältlich von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd.) befeuchtet war, abgewischt und die Platte wurde 7 min lang in einer Brennvorrichtung BP-1300 bei 260 °C behandelt. Dann wurde die Plattenoberfläche behandelt mit einem Harz (Gummi) GU-7 (erhältlich von der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd., das mit Wasser auf das 2fache verdünnt war), die Platte wurde einen Tag lang stehen gelassen und dann auf eine Druckerpresse Heidel KOR-D montiert zur Herstellung von Abzügen (Kopien). Die resultierenden Abzüge (Kopien) wurden visuell überprüft auf die Anwesenheit von Hintergrundverunreinigung als Folge der Film-Randmarkierungen und der Klebestreifen-Markierungen, die vorher ausgelöscht worden waren.
Die Entwicklung bei der oben genannten Behandlung wurde bei 25 °C durchgeführt. Getrennt davon wurde sie auch bei 40 °C durchgeführt und die lichtempfindliche Schicht auf den Bildbereichen wurde visuell untersucht zur Bestimmung ihrer Auflösung in dem Entwickler.
Die so erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I zusammengefasst. Diese Ergebnisse zeigen eindeutig, dass die erfindungsgemäßen positiv arbeitenden PS-Platten ausgezeichnete Auslöschungseigenschaften und einen hohen Entwicklungsspielraum aufweisen, verglichen mit den Vergleichsbeispielen. Tabelle I

Claims

Vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit einer auf ihrer Oberfläche aufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte, die versehen ist mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einer Zusammensetzung, die enthält mindestens eine lichtempfindliche Substanz und ein alkalilösliches Harz, wobei es sich bei der lichtempfindlichen Substanz handelt um einen 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäureester und/oder 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäureester und/oder 1,2-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäureester und/oder 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäureester einer Polyhydroxyverbindung der nachstehenden angegebenen allgemeinen Formel (I)
worin bedeuten: R₁ bis R₄ die gleich oder verschieden sind jeweils ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine Alkoxygruppe oder eine Alkenylgruppe; R₅ und R₆ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Gruppe der Formel
worin R₁ bis R₄ die oben angegebenen Bedeutungen haben a und c jeweils die Zahl 0 oder 1 und b die Zahl 0 oder eine ganze Zahl in dem Bereich von 1 bis 4.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Substitutenten R₁ bis R₄ der Formel (I) jeweils stehen für ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, ein Chlor-, Brom- oder Jodatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Alkenylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen; und R₅ und R₆ jeweils stehen für ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Gruppe der Formel
worin R₁ bis R₄ wie in Anspruch 1 definiert sind.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge der lichtempfindlichen Verbindung in dem Bereich von 5 bis 100 Gew.-Teilen, bezogen auf die Menge des alkalilöslichen Harzes, liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge der lichtempfindlichen Verbindung in dem Bereich von 10 bis 50 Gew.-Teilen, bezogen auf die Menge des alkalilöslichen Harzes liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das alkalilösliche Harz ein gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht in dem Bereich von 500 bis 20.000 und ein zahlendurchschnittliches Molekulargewicht in dem Bereich von 200 bis 6.000 hat.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Menge des alkalilöslichen Harzes nicht mehr als 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, beträgt.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung außerdem ein cyclisches Säureanhydrid, ein Phenol und/oder eine organische Säure in einer Menge in dem Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthält.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung außerdem ein nicht-ionisches oder amphoteres oberflächenaktives Agens in einer Menge von dem Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthält.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung außerdem ein Auskopiermittel zur Erzielung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der Belichtung, einen Farbstoff als Agens zum Anfärben der Bilder und/oder einen Füllstoff enthält.
Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung außerdem ein ein Fluoratom enthaltendes oberflächenaktives Agens in einer Menge in dem Bereich von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthält.