DE4133199C2 - Halbleiterbauelement mit isolationsbeschichtetem Metallsubstrat - Google Patents
Halbleiterbauelement mit isolationsbeschichtetem MetallsubstratInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement mit einem isolationsbeschichte
tem Metallsubstrat, gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, wie er aus der US 4,920,405
bekannt ist.
In letzter Zeit sind erhebliche Fortschritte für elektronische Ausrüstungen erzielt worden und
Integrationsgrade mit höherer Dichte und Miniaturisierung mit geringem Gewicht sind
schnell vorangetrieben worden. Als ein führendes Halbleiterbauelement in der Entwicklung
sind Leistungsmodule bekannt, die verbreitet in Wechselrichtern und anderen Bauteilen der
Motorsteuerung und von Klimaanlagen verwendet werden.
In Fig. 6 ist ein bekannter 3-Phase-Wechselrichterschaltkreis für eine Motorsteuerung dar
gestellt. IGBT's (Insulated Gate Bipolar Transistors, Bipolartransistoren mit isoliertem Gate)
sind die Hauptschaltkreisschaltelemente. In diesem Ausführungsbeispiel sind sechs IGBT
zwischen einer Gleichspannungshauptstromversorgung V durch eine 3-Phasen-Brücken
schaltung verschaltet. Ein Motor 9 wird durch einen 3-Phasen-Wechselstrom des Wechsel
richters angetrieben. Eine Hochgeschwindigkeitsdiode 8 zur
Stromübertragung ist umgekehrt parallel mit jedem IGBT 7
verschaltet. Ein Treiberschaltkreis 6 zur Ansteuerung
der IGBT 7 ist für jeden IGBT vorgesehen. Ein
elektrisches Treibernetzteil 10 ist die elektrische
Gleichspannungsquelle für den Treiberschaltkreis 6. Ein
solcher Schaltkreis ist gemäß Fig. 7 zusammengesetzt.
Fig. 7 zeigt eine konventionelle Bausteinstruktur für
ein solches Halbleiterbauelement. Eine Metallgrundplatte
13 zur Wärmeabstrahlung, ein Kunststoffgehäuse 15,
welches mit einem Kleber an der Grundplatte 13 befestigt
ist und diese umgibt, und eine Gehäuseabdeckung 16 zur
Abdeckung einer oberen Öffnung des Gehäuses 15 bilden
zusammen einen Behälter für das Bauteil. In diesem ist
eine Gerätegruppe von Modulschaltkreisen, die aus
Halbleiterelementen 12 gebildet sind, auf dem
isolierbeschichteteten Metallsubstrat 11 angeordnet.
Außerdem ist ein Versiegelungsharz 4 zur Versiegelung
des Inneren des Behälters eingefüllt. Von der
Schaltkreisanordnung sind externe Anschlüsse 14
herausgeführt.
Das Leistungsmodul ist durch eine Vielzahl der
Halbleiterelemente gebildet, die von dem Substrat
getragen und mit einer auf dem Substrat ausgebildeten
Verdrahtung verbunden sind. Seit kurzem wird das
isolierte Substrat aus einem keramischen Material wie
zum Beispiel Al2O3 hergestellt und eine relativ dicke
Kupferbasis wird zur thermischen Abstrahlung mit dem
Substrat verlötet, wobei die Halbleiterbauteile auf dem
Kupferträgermaterial befestigt werden. Um allerdings
eine Integration mit höherer Dichte und eine
Miniaturisierung mit geringem Gewicht zu erzielen, ist
häufig ein isolationsbeschichtetes Metallsubstrat
verwendet worden, mit einer Aluminiumplatte als
Substrat, die eine ausgezeichnete
Wärmeübertragungseffektivität aufweist, eine auf der
Aluminiumplatte gebildeten Isolationsschicht aus einem
organischen Isolationsmaterial, einer auf der
Isolationsschicht abgelagerten Kupferkaschierung von
mehreren zehn µm Dicke und einer entsprechend eines
vorgegebenen Musters gebildeten Verdrahtung.
Bei einem isolationsbeschichteten Metallsubstrat eines
solchen Leistungsmoduls nützt sich das die
Isolationsschicht bildende organische Material durch
Sprühentladungen ab, falls eine hohe, den montierten
Elementen und Schaltkreisstrukturen nicht entsprechende
Spannung angelegt wird. Wird die Spannung stetig
angelegt, führt dies letztendlich zu einem
dielektrischen Durchbruch. Aus Messungen ist bekannt,
daß die Anfangsspannung einer solchen Sprühentladung für
das Substrat allein 400 bis 600 V beträgt. Aus weiteren
Untersuchungen ist bekannt, daß der Abschnitt in dem die
Sprühentladung erzeugt wird, ein Kantenabschnitt des
Verdrahtungsmusters ist, welches die Kupferkaschierung
enthält (siehe die geschlossene gepunktete Linie E in
Fig. 2 oder 3). Dies scheint dadurch verursacht zu
werden, daß das elektrische Feld an den Kanten des
Kupfermusters konzentriert und damit vergrößert ist.
Wird zum Beispiel eine Spannung von 200 V an das
Metallsubstrat bei einer Isolationsschicht mit 100 µm
Dicke angelegt, ist das am Substrat angelegte
elektrische Feld 2 kV/mm groß und das elektrische Feld
konzentriert sich in den Kanten des Kupfermusters. Als
Ausweg ist zum Beispiel nach Fig. 2 möglich, den
Kantenabschnitt A des Musters der auf dem
Aluminiumsubstrat 1 über der aus einem organischen
Material gebildeten Isolationsschicht 2 gebildeten
Kupferkaschierung 3 mit einem Versiegelungsmaterial 4 zu
Unterdrückung der Abnützung der Isolation bei diesem Versiege
lungsmaterial unzureichend.
Aus der US 4 849 803 ist ein Halbleiterbaustein bekannt, wel
cher Diodenchips aufweist, die an einer metallischen Anschluß
platte angebracht sind, wobei eine Elektrode der Dioden mit der
Anschlußplatte in Verbindung steht. Die Dioden sind zusammen
mit einem Teil der Anschlußplatte in ein flexibles Harz mit ho
hem Ausdehnungskoeffizienten und geringem Wärmeleitkoeffizien
ten eingebettet, wobei weitere Anschlußplatten, die mit der je
weils anderen Elektrode der Dioden verbunden sind, aus der
Harzeinbettung vorstehen. Unmittelbar über den Dioden ist zwi
schen der genannten Harzeinbettung und der Anschlußplatte bzw.
den Dioden eine Harzschicht mit geringer thermischer Ausdehnung
und hoher Wärmeleitfähigkeit vorgesehen.
Aus der US 4 443 655 geht ein Halbleiterbaustein für hohe elek
trische Leistungen hervor, der ähnlich wie der aus der vorange
henden Druckschrift genannte Halbleiterbaustein ein auf einer
Metallplatte angeordnetes und damit im elektrischen Kontakt
stehendes Halbleiterbauelement aufweist, das im Innern eines
mit Epoxidharz oder einem anderen geeigneten Material ausge
füllten extrudierten Metallgehäuse angeordnet ist. Das Halblei
terbauelement ist gegen das Epoxidharz zusätzlich durch ein Ma
terial, wie z. B. Silikon, eingekapselt, durch welches das Bau
element vor schädlichen Einflüssen durch die Epoxidharzeinbet
tung geschützt wird.
Aus der US 4 677 252 ist eine Leiterkarte mit einem metalli
schen Substrat, einer auf dem metallischen Substrat vorgesehe
nen Harzschicht und einer auf der Harzschicht vorgesehenen Me
tallbeschichtung für die Bildung von Leiterbahnen bekannt, wo
bei die Harzschicht zweischichtig mit unterschiedlich flexiblen
Schichten ausgebildet ist, so daß die Leiterkarte durch diese
Laminierung hinsichtlich ihrer Bruchfestigkeit bei Biegung verbessert ist.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein Halbleiterbauelement mit einem isolationsbeschichte
ten Metallsubstrat bereitzustellen, welches die z. T. oben genannten Nachteile ausschließt
und eine Abnutzung aufgrund der Sprühentladung auch bei hohen angelegten Spannungen
verhindert.
Zur Lösung der Aufgabe wird erfindungsgemäß ein Halbleiterbauelement bereitgestellt, bei
dem Halbleiterbauteile von einem isolationsbeschichteten Metallsubstrat getragen werden,
welches durch Auftragen einer Isolationsschicht auf einem Metallsubstrat gebildet ist und
bei dem eine Verdrahtung durch eine Metallkaschierung der Isolationsschicht gebildet wird,
wobei die Halbleiterbauteile mit der Verdrahtung aus der Metallkaschierung verbunden
sind, die Halbleiterbauelemente und die Verdrahtung durch ein isolierendes Versiege
lungsmaterial bedeckt sind, und eine feste Isolierung mit einer größeren Dieleketrizi
tätskonstante als der des Versiegelungsmaterials zwischen dem Kantenabschnitt des Ver
drahtungsmusters der aus der Metallkaschierung gebildeten Verdrahtung und dem Versie
gelungsmaterial angeordnet ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Halbleiterbauteil ist das Versiegelungsmaterial aus einem
Epoxidharz und die feste Isolierung aus einem Epoxidmelaminharz oder das
Versiegelungsmaterial ist aus einem Epoxidharz und die
feste Isolierung ist aus Ferriten gebildet.
Im folgenden sind vorteilhafte Ausführungsbeispiele der
Erfindung anhand der in der Zeichnung dargestellten
Figuren näher erläutert und beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht eines Kantenab
schnitts der Verdrahtung eines Halblei
terbauelements gemäß einer Ausführungs
form der Erfindung;
Fig. 2 eine Querschnittsansicht des Kantenab
schnitts der Verdrahtung bei einem
konventionellen Halbleiterbauelement;
Fig. 3 ein Äquivalent-Schaltkreisdiagramm
des Halbleiterbauelements aus Fig. 2;
Fig. 4 ein Äquivalent-Schaltkreisdiagramm
des Halbleiterbauelements aus Fig. 1;
Fig. 5 eine Querschnittsansicht eines Kantenab
schnitts der Verdrahtung eines Halblei
terbauelements gemäß einer weiteren
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 6 ein Schaltkreisdiagramm eines bekannten
3-Phasen-Wechselrichters zur Motor
steuerung, und
Fig. 7 eine Ansicht einer bekannten Baustein
struktur eines Halbleiterbauelements.
Das Prinzip der vorliegenden Erfindung wird im folgenden
anhand der Fig. 1 bis 4 beschrieben. In Fig. 2 ist
ein Punkt an der Schnittstelle des
Versiegelungsmaterials 4 und der Isolationsschicht 2 mit
B bezeichnet. Ein Punkt genau unterhalb eines Punktes A
und ein Punkt genau unterhalb des Punktes B auf der
Schnittstelle der Isolationsschicht 2 und dem
Metallsubstrat 1 ist mit C beziehungsweise D bezeichnet.
Der Kondensator C1 ist zwischen den Punkten A und C
gebildet. Der Kondensator C2 zwischen den Punkten A und
B, der Kondensator C1a zwischen den Punkten B und D, wie
es in dem äquivalent Schaltkreis gemäß Fig. 3
dargestellt ist. Wird ein Abschnitt des Kantenteils des
Verdrahtungsmusters 3 in Richtung der freigelegten
Oberfläche der Isolationsschicht 2 andererseits
erfindungsgemäß durch die feste Isolierung 5 gemäß Fig.
1 bedeckt, ergibt sich ein Äquivalent-Schaltkreis nach
Fig. 4. Unter der Annahme, daß eine Spannung V2 an dem
Kondensator C2, eine Spannung V1a am Kondensator C1a in
Fig. 3, eine Spannung V3 am Kondensator C3 und eine
Spannung V1b am Kondensator C1b in Fig. 4 anliegt,
ergibt sich die an der Verdrahtung 3 anliegende Spannung
VEmax folgendermaßen:
VEmax = V2 + V1a
= V3 + V1b
Das an den Kondensatoren C2 und C3 gebildete Potential,
wenn die Spannung VEmax wie oben gezeigt angelegt wird,
beträgt:
Für Kondensator C2; E2 = VEmax - V2 (1)
Für Kondensator C3; E3 = VEmax - V3 (2)
Für Kondensator C2; E2 = VEmax - V2 (1)
Für Kondensator C3; E3 = VEmax - V3 (2)
Die Entladung wird bei einem bestimmten Pegel des
erzeugten Potentials eingeleitet. Folglich sollte in dem
Fall, wenn die feste Isolierung 5 ausgebildet ist, die
Beziehung E3 < E2 erfüllt werden, um eine Entladung bei
einem größeren Potential als im Falle nur der
Versiegelungsschicht 4 zu gestatten. Um diese Beziehung
zu erfüllen, muß die spezifische
Dielektrizitätskonstante ε3 der festen Isolierung
größer sein als die spezifische Dielektrizitätskonstante
ε2 des Versiegelungsmaterials 4, da nach den Gleichungen
(1) und (2) die Beziehung V2 < V3 erfüllt werden muß,
weiterhin C2 < C3, da V umgekehrt proportional zu C ist,
und C proportional zur spezifischen
Dielektrizitätskonstanten ist.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung im Detail anhand der Fig. 1 und 5
beschrieben.
Nach Fig. 1 ist eine Kupferkaschierung 3 mit einer
Dicke von 30 bis 100 µm auf einem isolierbeschichteten
Metallsubstrat aufgetragen. Dieses ist aus einem
Alumniumsubstrat 1 von 1 bis 3 mm Dicke mit einer
Isolierschicht 2 von 80 bis 150 µm Dicke aus einem
organischen Isolationsmaterial gebildet. Ein
Verdrahtungsmuster ist durch Ätzen gebildet.
Halbleiterbauteile sind auf der Verdrahtung 3 oder der
Isolationsschicht 2 befestigt und deren Elektroden über
Leiter mit der Verdrahtung 3 verbunden. Eine feste
Isolierung 5, wie zum Beispiel Epoxidmelaminharz mit
einer spezifischen Dielektrizitätskonstante ε = 4.8 mit
einer Dicke von 10 bis 50 µm ist über der gesamten
freigelegten Oberfläche der Isolationsschicht 2 durch
Drücken oder ähnliches gebildet, um den Kantenteil A der
gesamten Verdrahtung 3 aus der Kupferkaschierung zu
bedecken. Zusätzlich ist ein Versiegelungsmaterial 4 auf
der festen Isolierung und der Verdrahtung durch
Spritzgußauftragung eines Epoxidharzes mit ε < 4.2 in
einer Dicke von mehreren hundert µm aufgetragen. Die
anderen Strukturen sind die gleichen wie bei einem
konventionellen Bauelement und daher wird deren
Beschreibung ausgelassen.
Außerdem kann das Halbleiterbauelement mit einer aus
Ferriten mit ε = 9.5 gebildeten festen Isolierung 5
hergestellt werden. Als Ergebnis in beiden Fällen ist
die Startspannung für die Sprühentladung bis auf 1,2 kV
oder darüber verbessert worden, während diese 0,4 bis
1,0 kV für das aufgegossene Versiegelungsmaterial ist.
In Fig. 5 ist eine weitere Ausführungsform der
Erfindung dargestellt. In diesem Fall wird nur der
Kantenteil A der gesamten Verdrahtung 3 durch eine feste
Isolierung 5 bedeckt. Die Erhöhung der Startspannung der
Sprühentladung ist ähnlich wie bei der ersten
Ausführungsform der Erfindung.
Gemäß der Erfindung wird die Startspannung der
Sprühentladung einer Isolationsschicht von einem .
isolationsbeschichteten Metallsubstrat durch Bedecken
der Kantenteile des Verdrahtungsmusters mit einer festen
Isolierung mit höherer spezifischer
Dielektrizitätskonstante als der des
Versiegelungsmaterials oberhalb des Kantenteils erhöht.
Epoxidmelaminharze oder Ferrite könnten effektiv für
solche Festisolierungen verwendet werden, welche eine
hohe spezifische Dielektrizitätskonstante aufweisen,
wenn das Versiegelungsmaterial aus Epoxidharz gebildet
ist.
Claims (3)
1. Ein Halbleiterbauelement mit einem isolationsbeschichteten Metallsubstrat umfaßt:
ein aus einem Metallsubstrat (1) und einer auf diesem aufgetragenen Isolationsschicht (2) gebildetes isolationsbeschichtetes Metallsubstrat,
eine aus einer metallischen Kaschierung auf der Isolationsschicht (2) gebildeten Verdrahtung (3);
Halbleiterbauteile, die von dem isolationsbeschichteten Metallsubstrat getragen und mit der aus der metallischen Kaschierung gebildeten Verdrahtung verbunden sind, und
ein isolierendes Versiegelungsmaterial (4), welches die Halbleiterbauteile und die Verdrahtung bedeckt, dadurch gekennzeichnet, dass eine feste Isolierung (5) mit einer größeren spezifischen Dielektrizitätskonstante als der des Versiegelungsmaterials (4) zwischen einem Kantenteil des Verdrahtungsmusters der Verdrahtung (3) aus der Metallkaschierung und dem Versiegelungsmaterial (4) angeordnet ist.
ein aus einem Metallsubstrat (1) und einer auf diesem aufgetragenen Isolationsschicht (2) gebildetes isolationsbeschichtetes Metallsubstrat,
eine aus einer metallischen Kaschierung auf der Isolationsschicht (2) gebildeten Verdrahtung (3);
Halbleiterbauteile, die von dem isolationsbeschichteten Metallsubstrat getragen und mit der aus der metallischen Kaschierung gebildeten Verdrahtung verbunden sind, und
ein isolierendes Versiegelungsmaterial (4), welches die Halbleiterbauteile und die Verdrahtung bedeckt, dadurch gekennzeichnet, dass eine feste Isolierung (5) mit einer größeren spezifischen Dielektrizitätskonstante als der des Versiegelungsmaterials (4) zwischen einem Kantenteil des Verdrahtungsmusters der Verdrahtung (3) aus der Metallkaschierung und dem Versiegelungsmaterial (4) angeordnet ist.
2. Das Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Versiegelungsmaterial (4) ein Epoxidharz und die feste Isolierung (5) ein
Epoxidmelaminharz ist.
3. Das Halbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Versiegelungsmaterial (4) ein Epoxidharz und die feste Isolierung (5) ein Ferrit ist.
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