DE4110318C2 - Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile - Google Patents

Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile

Info

Publication number
DE4110318C2
DE4110318C2 DE4110318A DE4110318A DE4110318C2 DE 4110318 C2 DE4110318 C2 DE 4110318C2 DE 4110318 A DE4110318 A DE 4110318A DE 4110318 A DE4110318 A DE 4110318A DE 4110318 C2 DE4110318 C2 DE 4110318C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
solder
component
soldering
notch
notches
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE4110318A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4110318A1 (de
Inventor
Herbert Goebel
Franz Riedinger
Vesna Biallas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE4110318A priority Critical patent/DE4110318C2/de
Priority to FR9200211A priority patent/FR2674465B1/fr
Priority to US07/842,236 priority patent/US5234865A/en
Priority to JP4070916A priority patent/JPH05185211A/ja
Publication of DE4110318A1 publication Critical patent/DE4110318A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4110318C2 publication Critical patent/DE4110318C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/20Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29101Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/3201Structure
    • H01L2224/32012Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad
    • H01L2224/32014Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad the layer connector being smaller than the bonding area, e.g. bond pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/83801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0102Calcium [Ca]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0105Tin [Sn]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01058Cerium [Ce]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)

Description

Stand der Technik
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Zusammen­ löten eines ersten, insbesondere elektrischen Bauteils mit einem zweiten, insbesondere elektrischen Bauteil, wobei zwischen den Bauteilen ein Lotformteil angeord­ net und durch Anpressen an Rändern mindestens einer Vertiefung eines der Bauteile zur Vermeidung seitlichen Verrutschens fixiert wird und anschließend der Lötvor­ gang, bevorzugt in einem Lötofen, erfolgt.
Elektrische beziehungsweise elektronische Bauteile, zum Beispiel Halbleiterchips, werden zur elektrischen Kontaktierung, zur Wärmeableitung und zum Schutz gegen Beschädigungen in Gehäuse eingelötet. Bei einer bekannten Ausführung einer Leistungsdiode wird bei­ spielsweise der Siliziumchip zwischen zwei zylindri­ schen Kupferteilen durch Lötung befestigt. Dabei wird auf den einen Kupferzylinder eine erste Lotronde ge­ legt, darauf der Chip plaziert und anschließend eine zweite Lotronde aufgebracht, auf der dann der andere Kupferzylinder angeordnet wird. Die beiden zylindri­ schen Kupferteile weisen jeweils eine zentrische Vertie­ fung auf, an der nach einem Andrücken der relativ leicht verformbaren Lotronden diese zur Vermeidung seitli­ chen Verrutschens gehalten werden, was durch Eindrin­ gen der Ränder der Vertiefung in das weiche Lot er­ folgt. Während des Aufeinanderbringens der Teile (Kupferzylinder mit Lotronde/Chip/Kupferzylinder mit Lotronde) und der anschließenden Lötung in einem Durchlaufofen werden die genannten Teile in einem Magazin (Bohrung eines Haltekörpers) gehalten. Dies ist deshalb notwendig, weil die Teile während des be­ schriebenen Produktionsablaufs auf Fließbändern transportiert werden. Um hohe Produktionsraten zur erreichen, werden die Fließbänder mit hohen Beschleu­ nigungen zwischen den Verarbeitungsstationen verfah­ ren. Ohne Magazin entstünden Versatze zwischen den einzelnen Teilen.
Insbesondere bei den vorstehend genannten Lei­ stungshalbleiterbauelementen (zum Beispiel einer Lei­ stungsdiode) werden großflächige Chips (größer 10 mm2) eingesetzt, um die Verlustleistung während des Betriebs klein zu halten und eine gute Wärmeableitung zu gewährleisten. Für eine gute Wärmeableitung ist es erforderlich, dünne Lotschichten zu bilden (die Dicke der Lotschicht soll zwischen 20 µm und 60 µm liegen). Wenn nun beim Lotvorgang Lunker (Hohlräume) in der Lotschicht entstehen, so ist die Wärmeableitung beein­ trächtigt, so daß eine möglichst lunkerarme Lötung an­ gestrebt wird. Der Aufwand dafür ist erheblich. Die Chipoberflächen werden mit besonders oxidationsresi­ stenten Metallschichten abgedeckt (Gold, Silber). Die Anschlußteile (zum Beispiel die genannten, zylindrischen Kupferteile) werden speziell gereinigt. Die Montage er­ folgt in schmutzfreier Umgebung. Die Lötung wird in sogenannten Muffelöfen unter reduzierender Reinstga­ satmosphäre (H2 oder N2/H2) durchgeführt.
Trotz dieses Aufwands werden Lunker in den Lot­ schichten beobachtet. Diese werden durch Luftein­ schluß zwischen Lotformteil und zugehörigem An­ schlußstück verursacht. Eine Quelle für diesen Luftein­ schluß ist die Befestigung des Lotformteils auf dem An­ schlußstück (Bauteil). Diese Fixierung des Lotformteils ist jedoch vor dem Löten notwendig, um den bereits erwähnten Versatz zwischen dem Anschlußstück, dem Chip und/oder dem Lotformteil zu verhindern. Die vor­ stehend erläuterte Verwendung von Magazinen zur Ausrichtung der Bauteile relativ zueinander ist nicht ausreichend, da das Lotformteil aufgrund seiner Klein­ heit von dem Magazin nicht geführt (ausgerichtet) wird. Da einerseits dünne Lotschichten erzeugt werden sol­ len, andererseits aber durch die leichte Verformbarkeit der Weichlote bedingt, die Lotformteile mit geringer Dicke nicht mehr automatisch verarbeitet werden kön­ nen, ist es erforderlich, die Dicke eines unverlöteten Lotformteils größer auszubilden, als die Dicke der sich später bildenden Lotschicht. Daher ist die Größe/der Durchmesser dieses Lotformteils im unverlöteten Zu­ stand kleiner als die Größe/Durchmesser der miteinan­ der zu verlötenden Bauteile. Zur Ausrichtung der Bau­ teile relativ zueinander entspricht die Abmessung der Bohrung des Magazins dem Durchmesser der Bauteile. Das Lotformteil hat aus vorstehend genannten Gründen einen geringeren Durchmesser, so daß es von der Boh­ rungswand nicht ausgerichtet werden kann. Es ist daher durch das beschriebene Fügen vor dem Verlöten erfor­ derlich, das Lotformteil an einem Bauteil festzulegen, um ein seitliches Verrutschen zu verhindern. Tritt ein seitliches Verrutschen auf, so würde das zu keilförmi­ gen, qualitativ schlechten Lotschichten zwischen den Bauteilen führen. Durch den Fügevorgang werden die Lotformteile zentrisch auf den Lötflächen der An­ schlußstücke fixiert.
Aus der US-PS 38 60 949 ist es bekannt, parallel ne­ beneinanderliegende, geradlinige Kerben auf Lötflä­ chen von Bauelementen auszubilden. Dies dient der Verbesserung der Lötung; solche Kerben aber gleich­ zeitig zur Anheftung von Lotformteilen zu verwenden, geht aus der genannten Literaturstelle nicht hervor.
Das Abstract zur JP 60-15066 A1 (D2) beschreibt das Verbinden eines zylinderförmigen Bauteils mit einem Loch einer vorgegebenen Grundfläche (vgl. Figur).
Bisher wurde zum Anheften des Lotformteils an dem Bauteil eine zentrische Bohrung (Vertiefung) ausgebil­ det, so daß bei dem Fügevorgang die Bohrungsränder in das weiche Lotformteil eindringen können. Es hat sich dabei gezeigt, daß die Gefahr von sich bildenden, gro­ ßen Lunkern erheblich ist.
Vorteile der Erfindung
Das erfindungsgemäße Verfahren mit den im Haupt­ anspruch genannten Merkmalen hat demgegenüber den Vorteil, daß eine sichere Fixierung zwischen Bauteil und Lotformteil gewährleistet ist und nach dem Lötvorgang die Gefahr sich bildender Lunker außerordentlich nied­ rig ist. Die Lunkerbildung läßt sich nicht vollständig vermeiden; sie ist jedoch reduziert und führt überdies nur zu sehr kleinen Lunkern, die im wesentlichen unbe­ achtlich sind. Um dies zu erzielen, wird die Vertiefung als in einem geschlossenen Pfad verlaufende, insbeson­ dere kreisförmige Kerbe mit dreieckigem Querschnitt ausgebildet. Die Kerbe kann also auf einen Kreisring, einem Ovalring oder auf einem Ring mit unregelmäßigem, jedoch geschlossenem Ver­ lauf liegen. Bevorzugt ist die Ausbildung als kreisförmi­ ge Kerbe.
Nach einer besonderen Ausführungsform werden mehrere Kerben konzentrisch zueinander liegend aus­ gebildet. Dies ist besonders vorteilhaft, wenn auch die Bauteile (zum Beispiel Anschlußstück und Halbleiter­ chip) rotationssymmetrisch ausgebildet sind. Die auf konzentrischen Ringen liegenden Kerben sind beson­ ders gut zum Anheften eines scheibenförmigen Lot­ formteils geeignet. Insbesondere ist es möglich, in run­ der Form hergestellte Lotformteile einzusetzen. Beim Prägen runder oder kreisscheibenförmiger Lotformteile bleibt aufgrund der kreisförmigen Kerbe beziehungs­ weise der konzentrischen Kerben die Rotationssymme­ trie erhalten. Vorzugsweise weisen die Lötflächen auf den Anschlußstücken immer eine leichte, konvexe Wöl­ bung auf, die ihren höchsten Punkt im Zentrum der Flächen aufweisen. Hierdurch werden Zentrallunker vermieden. Die in sich geschlossenen Rillen unterstüt­ zen ferner das symmetrische, gleichmäßige "Auslaufen" des Lotformteils nach außen, so daß der gesamte Chip beim Lötprozeß erfaßt wird. Durch die beschriebene, radialsymmetrische Anordnung ist eine homogene Ver­ teilung des Lots unter dem Chip gewährleistet. Diese gleichmäßige Verteilung wird durch die konzentrischen Kerben (Kreisrillen) gefördert. Ferner wird durch das erfindungsgemäße Verfahren das Lotformteil zentrisch an der Lötfläche angeheftet. Dadurch werden Schrägla­ gen der Bauteile relativ zueinander vermieden. Ferner erfolgt durch die rotationssymmetrische Ausbildung der Kerben ein gleichmäßiger Dehnungsausgleich bei Tem­ peraturwechselbeanspruchungen, das heißt, auch dann bleibt die Rotationssymmetrie erhalten.
Die Tiefe der Kerbe liegt zwischen 10 und 60 µm, insbesondere bei ca. 30 µm.
Der Durchmesser der kreisförmigen Kerbe beträgt vorzugsweise 0,5 bis 1,5 mm, insbesondere 0,9 mm. Die­ ses Maß gilt für die am weitesten innen liegende, kreis­ förmige Kerbe (Kerbenmitte-Kerbenmitte). Sind weite­ re, konzentrisch dazu liegende Kerben vorgesehen, so weisen diese einen radialen Abstand (Kerbenmitte-Ker­ benmitte) von vorzugsweise 0,2 bis 0,6 mm, insbesonde­ re ca. 0,4 mm, voneinander auf.
Die Zeichnungen veranschaulichen die Erfindung an­ hand eines Ausführungsbeispiels, und zwar zeigt:
Fig. 1 zwei Anschlußstücke mit dazwischen liegenden Lotformteilen und einem Halbleiterchip,
Fig. 2 die Anordnung der Fig. 1 innerhalb eines Aus­ richtmagazins,
Fig. 3 einen Querschnitt durch einen Abschnitt eines Anschlußstücks und
Fig. 4 eine Draufsicht gemäß der Darstellung der Fig. 3.
Beschreibung des Ausführungsbeispiels
Die Fig. 1 zeigt Einzelteile einer Leistungsdiode. Es sei hier jedoch erwähnt, daß die Erfindung sich nicht auf das Zusammenlöten der Einzelteile einer Leistungsdio­ de beschränkt, sondern daß beliebige Bauteile miteinan­ der verlötet werden können.
Zwischen zwei vernickelten, zylindrischen Anschluß­ stücken 1 und 2 ist ein Halbleiterchip 3, insbesondere Siliziumchip, anzuordnen. Das Siliziumchip kann einen quadratischen Querschnitt mit einer Kantenlänge von zum Beispiel 4,5 mm aufweisen. Um nun die Anschluß­ stücke 1 und 2 mit dem Halbleiterchip 3 verlöten zu können, werden Lotformteile 4 und 5 jeweils zwischen den Anschlußteilen 1 beziehungsweise 2 und dem Halb­ leiterchip 3 angeordnet. Die Lotformteile 4 und 5 sind vorzugsweise als kreisscheibenförmige Lotronden 6 be­ ziehungsweise 7 ausgebildet. Die beiden Lotronden 6 und 7 weisen einen Durchmesser von 1,7 mm und eine Dicke von 0,6 mm auf.
Die jeweils den Lotronden 6 und 7 zugewandten Sei­ ten 8 und 9 der beiden Anschlußstücke sind mit mehre­ ren, konzentrisch zueinander liegenden Kerben 10 ver­ sehen. Dies geht aus den Fig. 3 und 4 hervor, die ledig­ lich einen Abschnitt des Anschlußstückes 2 zeigen. Das Anschlußstück 1 ist entsprechend aufgebaut, so daß dar­ auf hier nicht näher eingegangen zu werden braucht.
Jede Kerbe 10 verläuft in einem geschlossenen Pfad 11. Dieser Pfad 11 ist vorzugsweise kreisförmig ausge­ bildet (vergleiche Fig. 4). Die Kerben 10 sind vorzugs­ weise in die Oberfläche der Anschlußstücke 1 und 2 eingeprägt. Diese Einprägung kann während der For­ mung des Teils in demselben Werkzeug erfolgen oder nach der Formung mit einem separaten Prägestempel erzeugt werden.
Gemäß Fig. 3 beträgt die Tiefe d der Kerben 30 µm. Der Durchmesser der durchmesserkleinsten, kreisförmi­ gen Kerbe 10 beträgt a = 0,9 mm. Der radiale Abstand benachbarter, konzentrischer Kerben 10 weist die Grö­ ße b = 0,4 mm auf. Vorzugsweise ist jedes Anschluß­ stück 1 und 2 mit 6 konzentrischen Kerben 10 verse­ hen.
Für die Lotronden 6 und 7 wird ein Lot mit einer Zusammensetzung von 96 Gew.-% Blei und 4 Gew.-% Zinn mit einem Reinheitsgrad von 99,99% eingesetzt. Die Lotronden 6 und 7 werden zentrisch auf die Flächen 8 beziehungsweise 9 der Anschlußteile 1 beziehungs­ weise 2 positioniert und angepreßt. Dabei erweist sich ein Anpreßdruck von 50 kN/cm2 als optimal. Durch die­ sen Fügevorgang drücken sich die Kanten der Kerben 10 in das weiche Lot ein, so daß die Lotronden 6 und 7 zur Vermeidung eines seitlichen Verrutschens fixiert werden.
Gemäß Fig. 2 sind die Teile in die Bohrung 12 eines Magazins 13 eingesetzt. Und zwar liegt zu unterst das Anschlußstück 2, auf dem die Lotronde 7 fixiert ist. Dar­ auf ist dann der Halbleiterchip 3 angeordnet. Der obere Abschluß wird von dem Anschlußstück 1 gebildet, an dem die Lotronde 6 fixiert ist. Der Durchmesser der Bohrung 12 ist derart gewählt, daß er den Außendurch­ messern der Anschlußstücke 1 und 2 und den Eckpunk­ ten des geradlinigen Halbleiterchips entspricht.
Die Lotronden 6 und 7 haben kleinere Durchmesser, als die Anschlußstücke 1 und 2, so daß sie von der Wan­ dung der Bohrung 12 nicht ausgerichtet werden können. Da sie jedoch aufgrund des Anpressens an die Kerben 10 der Anschlußstücke 1 und 2 seitlich fixiert sind, blei­ ben sie auch bei Erschütterungen usw. des nachfolgen­ den Fertigungsprozesses in ihrer Position.
Zur Durchführung des Lötvorgangs wird das Maga­ zin 13 in einen Durchlaufmuffelofen verbracht. Dort herrscht vorzugsweise eine Temperatur von 380°C +/-5°C und eine Formiergasatmosphäre von 88 Vol.-% N2/12 Vol.-% H2.
Durch die Wärme des Durchlaufmuffelofens schmel­ zen die Lotformteile auf, wobei die kreisförmigen Ker­ ben 10 das rotationssymmetrisch gleichmäßige "Auslau­ fen" des Lots sicherstellen. Verlassen die Bauteile (An­ schlußteil 1, Halbleiterchip 3 und Anschlußstück 2) den Durchlaufmuffelofen, so sind sie miteinander verlötet, wobei - wenn überhaupt - nur sehr wenige und auch nur kleine Lunker in der Lotzone auftreten, wobei die Größe der Lunker durch den Abstand der Kerben 10 begrenzt wird.
Die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens führt zu einer deutlichen Verringerung der Temperatur­ belastung der Leistungsdioden bei Impulsdauerlaufbe­ lastungen. Ebenso verlangsamt sich der Anstieg des Wärmewiderstandes bei Temperaturwechselbelastun­ gen des Bauteils (verbesserte und dauerhaftere Wärme­ ankopplung des Halbleiterchips 3 an die Anschlußstüc­ ke 1 und 2 (Wärmesenken)).

Claims (9)

1. Verfahren zum Zusammenlöten eines Halbleiterbauteils mit einem insbesondere elektrischen Bauteil, wobei zwischen dem Halbleiterbauteil und dem Bauteil ein Lotformteil angeordnet wird und in einem weiteren Schritt ein Lötvorgang, bevorzugt in einem Lötofen, erfolgt, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Lötvorgang das Lotformteil durch Anpressen an Ränder mindestens einer Vertiefung des Bauteils zur Vermeidung seitlichen Verrutschens fixiert wird, wobei die Vertiefung als in einem geschlossenen Pfad (11) verlaufende, insbesondere kreisförmige Kerbe (10), die einen dreieckförmigen Querschnitt aufweist, ausgebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Kerben (10) konzentrisch zueinander liegend ausgebildet werden.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die kreisförmige Kerbe (10) konzentrisch zum rotationssymmetrischen Bauteil (Anschlußstück 1, 2) ausgebildet wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Bauteil ein Anschlußstück (1, 2) und als Halbleiterbauteil ein Halbleiterchip (3) verwendet wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Lotformteil (4, 5) als scheibenförmige Lotronde (6, 7) ausgebildet ist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser der Lotronde (6, 7) kleiner als der Durchmesser des ersten und/oder zweiten Bauteils (Anschlußstück 1, 2; Halbleiterchip 3) ist.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe (d) der Kerbe (10) 10 bis 60 µm, insbesondere 30 µm, beträgt.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser (a) der kreisförmigen Kerbe (10) 0,5 bis 1,5 mm, insbesondere ca. 0,9 mm, beträgt.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der radiale Abstand (b) mehrerer konzentrischer Kerben (10) jeweils 0,2 bis 0,6 mm, insbesondere ca. 0,4 mm, voneinander beträgt.
DE4110318A 1991-03-28 1991-03-28 Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile Expired - Lifetime DE4110318C2 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4110318A DE4110318C2 (de) 1991-03-28 1991-03-28 Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile
FR9200211A FR2674465B1 (fr) 1991-03-28 1992-01-10 Procede pour souder deux pieces, notamment un composant electrique, et/ou une plaquette semi-conducteur.
US07/842,236 US5234865A (en) 1991-03-28 1992-02-26 Method of soldering together two components
JP4070916A JPH05185211A (ja) 1991-03-28 1992-03-27 2つの構成部分をはんだ付けする方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4110318A DE4110318C2 (de) 1991-03-28 1991-03-28 Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4110318A1 DE4110318A1 (de) 1992-10-01
DE4110318C2 true DE4110318C2 (de) 2001-10-11

Family

ID=6428474

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4110318A Expired - Lifetime DE4110318C2 (de) 1991-03-28 1991-03-28 Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5234865A (de)
JP (1) JPH05185211A (de)
DE (1) DE4110318C2 (de)
FR (1) FR2674465B1 (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4428875C2 (de) * 1994-08-08 1996-10-24 Mannesmann Ag Verfahren zur Herstellung einer hohlen Achse
DE19735247C2 (de) * 1997-08-14 2001-12-20 Winkelmann & Pannhoff Gmbh Verfahren zum Verlöten von Bauteilen und Bauteil zur Durchführung des Verfahrens
US6090643A (en) * 1998-08-17 2000-07-18 Teccor Electronics, L.P. Semiconductor chip-substrate attachment structure
US6805786B2 (en) 2002-09-24 2004-10-19 Northrop Grumman Corporation Precious alloyed metal solder plating process
JP4483275B2 (ja) 2003-02-05 2010-06-16 株式会社デンソー 積層型圧電素子及びその製造方法
FR2936359B1 (fr) * 2008-09-25 2010-10-22 Commissariat Energie Atomique Connexion par emboitement de deux inserts soudes.
DE102009051018A1 (de) * 2009-10-28 2011-05-05 Zwiesel Kristallglas Ag Doppelwandiges Glasgefäß und Verfahren zur Herstellung desselben
JP5480200B2 (ja) 2011-05-18 2014-04-23 株式会社ユタカ技研 流体伝動装置用羽根車の製造方法
CN102856393A (zh) * 2012-10-08 2013-01-02 如皋市易达电子有限责任公司 一种贴片二极管结构
US8984745B2 (en) 2013-01-24 2015-03-24 Andrew Llc Soldered connector and cable interconnection method
CN109321969B (zh) * 2018-11-13 2024-03-12 浙江晶鸿精密机械制造有限公司 一种应用于单晶炉的底部法兰

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2646995A (en) * 1948-09-10 1953-07-28 Roland J Thompson Brazed joint with backing ring
US3860949A (en) * 1973-09-12 1975-01-14 Rca Corp Semiconductor mounting devices made by soldering flat surfaces to each other
EP0422612A2 (de) * 1989-10-11 1991-04-17 Showa Aluminum Corporation Verfahren zum Hartlöten von Metallteilen

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3593412A (en) * 1969-07-22 1971-07-20 Motorola Inc Bonding system for semiconductor device
DE2450172A1 (de) * 1974-10-22 1976-04-29 Siemens Ag Halbleiteranordnung
US4192063A (en) * 1975-12-10 1980-03-11 Yoshio Sato Method for manufacturing a base of a semi-conductor device
DE2556749A1 (de) * 1975-12-17 1977-06-23 Bbc Brown Boveri & Cie Leistungshalbleiterbauelement in scheibenzellenbauweise
US4074420A (en) * 1976-08-05 1978-02-21 Raychem Corporation Method and apparatus for the assembly of jacketed electronic devices
AT362459B (de) * 1979-07-12 1981-05-25 Plansee Metallwerk Verfahren zum verbinden einzelner teile einer roentgenanode, insbesondere drehanode
JPS5832426A (ja) * 1981-08-20 1983-02-25 Seiko Epson Corp インナ−リ−ドボンダ−の集積回路チツプ受台
JPS59113648A (ja) * 1982-12-20 1984-06-30 Hitachi Ltd 樹脂モ−ルド型半導体装置
DE3442537A1 (de) * 1984-11-22 1986-05-22 BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau Verfahren zum blasenfreien verbinden eines grossflaechigen halbleiter-bauelements mit einem als substrat dienenden bauteil mittels loeten
IN168174B (de) * 1986-04-22 1991-02-16 Siemens Ag
JPH0647188B2 (ja) * 1986-10-31 1994-06-22 日本原子力研究所 黒鉛と金属材料との接合材及び接合方法
JP2528718B2 (ja) * 1989-11-30 1996-08-28 いすゞ自動車株式会社 セラミックスと金属の接合方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2646995A (en) * 1948-09-10 1953-07-28 Roland J Thompson Brazed joint with backing ring
US3860949A (en) * 1973-09-12 1975-01-14 Rca Corp Semiconductor mounting devices made by soldering flat surfaces to each other
EP0422612A2 (de) * 1989-10-11 1991-04-17 Showa Aluminum Corporation Verfahren zum Hartlöten von Metallteilen

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Abstr. zu JP-OS 60-15066 *

Also Published As

Publication number Publication date
FR2674465A1 (fr) 1992-10-02
JPH05185211A (ja) 1993-07-27
US5234865A (en) 1993-08-10
FR2674465B1 (fr) 1996-04-19
DE4110318A1 (de) 1992-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1170558C2 (de) Halbleiteranordnung, insbesondere halbleitergleichrichter, und verfahren zu ihrer herstellung
DE4110318C2 (de) Verfahren zum Zusammenlöten zweier Bauteile
DE2733724C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
DE4321053C2 (de) Druckkontaktierte Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer druckkontaktierten Halbleitervorrichtung
DE112011102050B4 (de) Herstellungsverfahren und Herstellungsvorrichtung für mit Nabe versehenes scheibenförmiges Bauteil
DE10335622B4 (de) Harzversiegelte Halbleiterbaugruppe
EP0632681A2 (de) Metallbeschichtetes Substrat
DE4112286A1 (de) Verbesserter gleichrichter und verfahren zu seiner herstellung
DE2442159A1 (de) Verfahren zum verbinden von flachseiten miteinander und durch das verfahren hergestellte bauteile
EP0149232A2 (de) Halbleiterbauelement mit einem metallischen Sockel
EP1685594B1 (de) Einpressdiode
DE10205698A1 (de) Leuchtdiode und Verfahren zur Herstellung Derselben
DE3438435C2 (de) Gehäuse aus Metall und Kunststoff für eine Halbleiter-Vorrichtung, das zur Befestigung an einem nicht genau ebenen Wärmeableiter geeignet ist, sowie Verfahren zu dessen Herstellung
EP0198408B1 (de) Werkzeug zur Herstellung eines elektrischen Kontaktstiftes für gedruckte Schaltungsplatten
DE10029025A1 (de) IC-Sockel
DE60315469T2 (de) Wärmeableiteinsatz, Schaltung mit einem solchen Einsatz und Verfahren zur Herstellung
EP1309998B1 (de) Verfahren zur elektrischen verbindung eines halbleiterbauelements mit einer elektrischen baugruppe
DE4442295A1 (de) Halbleitervorrichtung in Druckverbindungsausführung und Verfahren zu deren Herstellung
DE2330161A1 (de) Verbesserte schaltkreise und verfahren zu deren herstellung
DE69400980T2 (de) Elektrische Anschlussvorrichtung und zugehöriges Herstellungsverfahren
DE2529789C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Sockels aus Metall für ein Halbleiterbauelementgehäuse
DE3801352C2 (de)
DE10026743C1 (de) Substrat zur Aufnahme einer Schaltungsanordnung
JPH04229587A (ja) セラミック部材に複数のピンを付ける方法
DE1589555B2 (de) Halbleiterbauelement

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right