DE4012176A1 - Vorrichtung zum behandeln einer beschichteten substratbahn - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Behandeln einer beschichteten Substratbahn, insbesondere zum Trocknen einer über Leitwalzen geführten Substratbahn.

Vorrichtungen der eingangs bezeichneten Art, beispielsweise in Form von herkömmlichen Walzentrocknern, arbeiten mit einem Gas, um die auf die Substratbahn aufgetragene Beschichtung zu trocknen, d. h. durch Beaufschlagung mittels eines temperierten Gases einen Feuchtigkeitsentzug und damit eine Verfestigung der Beschichtung zu bewirken. Üblicherweise wird dabei das Gas direkt auf die Beschichtung der Substratbahn gerichtet, was dazu führen kann, daß die Oberfläche der Beschichtungs­ masse als erstes abtrocknet und den Austritt des darunter weiterverdampfenden Lösungsmittels behindert. Zur Behandlung der Substratbahn kann aber auch ein Gas verwendet werden, dessen Temperatur niedriger ist als die durch den Trocknungs­ vorgang der Beschichtung erwärmte Substratbahn, die anschlie­ ßend gekühlt werden muß, was für ihre anschließende Handhabung unerläßlich ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Gasbeaufschlagung der Substratbahn so zu optimieren, daß sich wesentliche Ver­ besserungen sowohl für die Qualität des Beschichtungsverfahrens als auch für die Förderung der Substratbahn während der Behand­ lung ergeben.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Substratbahn an ihrer unbeschichteten Seite in den dem Umfang der Leitwalzen seitlich benachbarten Bereichen ein Zuführsystem für ein unter Druck stehendes Gas zugeordnet ist.

Nach einem zusätzlichen Vorschlag ist das Gas temperiert, was im Sinne der Erfindung bei Verwendung eines erwärmten Gases die Erhitzung einer kühleren Substratbahn zwecks Abtrocknung der Beschichtung durch Austrieb des Lösungsmittels oder bei Verwendung eines kälteren Gases die Abkühlung einer erhitzten, zuvor beschichteten Substratbahn bedeutet.

Nach einer vorteilhaften Weiterbildung ist das Gaszuführsystem mit beidseitig der Leitwalze unterhalb der Substratbahn aus­ tretenden Venturi-Düsen versehen. Der auf diese Weise durch den Venturi-Effekt erzeugte Unterdruck zieht die Substratbahn unter Vergrößerung des Umschlingungswinkels auf die Umfangs­ fläche der Leitwalze, die damit unter Vermeidung einer Relativ­ bewegung zwischen der Leitwalze und der Substratbahn direkt von der Substratbahn angetrieben wird, so daß ein eigener Antrieb entfallen kann.

Gemäß einer Weiterbildung sind die Venturi-Düsen mit vonein­ ander abgewandten, in entgegengesetzte Richtungen weisenden Austrittsöffnungen versehen, so daß das ausströmende Gas in den benachbarten Bereichen die Substratbahn trägt. Dadurch, daß gemäß einer Ausgestaltung die Venturi-Düsen symmetrisch zur Leitwalze angeordnet sind, ergibt sich ein konstanter Unterdruck zwecks Ansaugung der Substratbahn an die Leitwalze.

Darüber hinaus ist die Substratbahn von einem Bahnabzugmittel vorbewegbar, dessen Bahnzug variierbar ist. Auf diese Weise läßt sich durch Verkleinerung des Bahnzugs der Umschlingungs­ winkel an der Leitwalze nochmals vergrößern.

Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht darin, daß eine einfache geradlinige und schonende Substratführung erzielt wird, bei der die Substratbahn unter teilweiser Umschlingung und Mitnahme der Leitwalzen sicher getragen und dabei auf eine den Austrieb des Lösungsmittels fördernde Weise beaufschlagt wird.

Die Erfindung wird nachstehend anhand des in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.

Hierbei zeigen:

Fig. 1 die Führung einer beschichteten Substratbahn inner­ halb eines Walzentrockners und

Fig. 2 einen vergrößerten Ausschnitt II des Walzentrockners gemäß Fig. 1.

Bei dem in den Fig. 1 und 2 gezeigten Walzentrockner zum Trocknen einer auf der Oberseite einer Substratbahn 1 aufge­ brachten Beschichtung 2 ist die Substratbahn über leer mitlau­ fende Leitwalzen 3 geführt.

Gegen die unbeschichtete Unterseite der Substratbahn 1 wird ein beheiztes, unter Druck stehendes Gas geleitet. Hierzu ist ein Gaszuführsystem vorgesehen, bestehend aus mit einer nicht gezeigten Druckquelle verbundenen Gaskammern 4, 6, welche unterhalb der Substratbahn in zwei symmetrisch zur Leitwalze 3 angeordnete Venturi-Düsen 7, 8 ausmünden, deren Austrittsöff­ nungen in voneinander abgewandte, entgegengesetzte Richtungen weisen. Das mit erhöhter Strömungsgeschwindigkeit aus den Düsen 7, 8 strömende Gas erzeugt nach dem Venturi-Effekt in seitlich der Leitwalze 3 angrenzenden Kammern 9, 17 einen konstanten Unterdruck, welcher die Ansaugung der Substratbahn auf die Leitwalze 3 bewirkt. Durch die symmetrische Anordnung der Venturi-Düsen 7, 8 legt sich die Substratbahn 1 dabei mit einem definierten Umschlingungswinkel α an die Leitwalze 3 an, so daß diese von der Substratbahn 1 angetrieben wird, wobei letztere wegen Fehlens jeglicher Relativbewegung zwischen Leitwalze und Substratbahn besonders schonend transportiert und darüber hinaus durch das ausströmende Gas im Bereich der Zone 12 getragen wird.

Über Abzugskammern 13 wird das unter die Substratbahn 1 gelei­ tete Druckgas abgeleitet.

Durch Verkleinerung des durch den Pfeil 14 symbolisierten Bahn­ zugs läßt sich der Umschlingungswinkel α an den Leitwalzen 3 noch vergrößern.

Bei Verwendung von erwärmtem Gas wird die Unterseite der beschichteten Substratbahn derart beheizt, daß ein ungehinder­ ter Austrieb des Lösungsmittels und damit eine zunehmende Abtrocknung der Beschichtung 2 von innen nach außen erfolgt.

Wenn, wie üblich, der Auftrag der Beschichtung 2 auf die Substratbahn 1 von unten erfolgt, kann der in erfindungsge­ mäßer Weise ausgebildete Walzentrockner auch über Kopf be­ trieben werden.

Claims (6)

1. Vorrichtung zum Behandeln einer beschichteten Substratbahn, insbesondere zum Trocknen einer über Leitwalzen geführten Substratbahn, dadurch gekennzeichnet, daß der Substratbahn (1) an ihrer unbeschichteten Seite in den dem Umfang der Leit­ walzen (3) seitlich benachbarten Bereichen ein Zuführsystem (4, 6, 7, 8) für ein unter Druck stehendes Gas zugeordnet ist.

2. Vorrichtung nach Anspuch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas temperiert ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gaszuführsystem mit beidseitig der Leitwalze (3) unter­ halb der Substratbahn (1) austretenden Venturi-Düsen (7, 8) versehen ist.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Venturi-Düsen (7, 8) mit voneinander abgewandten, in entgegengesetzte Richtungen weisenden Aus­ trittsöffnungen versehen sind.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Venturi-Düsen (7, 8) symmetrisch zur Leitwalze (3) angeordnet sind.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratbahn (1) von einem Bahnabzug­ mittel (14) vorbewegbar ist, dessen Bahnzug variierbar ist.