DE3879015T2 - Verfahren und vorrichtung zur ueberfruefung von lochmaskenplatten. - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur ueberfruefung von lochmaskenplatten.

Info

Publication number
DE3879015T2
DE3879015T2 DE8888201518T DE3879015T DE3879015T2 DE 3879015 T2 DE3879015 T2 DE 3879015T2 DE 8888201518 T DE8888201518 T DE 8888201518T DE 3879015 T DE3879015 T DE 3879015T DE 3879015 T2 DE3879015 T2 DE 3879015T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mask plate
radiant energy
holes
hole
scanning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE8888201518T
Other languages
English (en)
Other versions
DE3879015D1 (de
Inventor
Amstel Willem Dirk Van
Donselaar Bastiaan Jan Van
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE3879015D1 publication Critical patent/DE3879015D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3879015T2 publication Critical patent/DE3879015T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95692Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/0006Industrial image inspection using a design-rule based approach
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/42Measurement or testing during manufacture
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/93Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
    • G01N2021/936Adjusting threshold, e.g. by way of moving average
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N2021/95676Masks, reticles, shadow masks
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10Image acquisition modality
    • G06T2207/10016Video; Image sequence
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30121CRT, LCD or plasma display

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Überprüfung einer Lochmaskenplatte, bei dem eine relative Bewegung zwischen der Lochmaskenplatte und einer Strahlungsenergie-Quelle entlang einer Bewegungsstrecke verschafft wird, und bei dem durch Abtasten der Maskenplatte in einer quer zu der Bewegungsstrecke liegenden Richtung ein der Transmission von Strahlungsenergie durch die Löcher entsprechendes Grauwertsignal erzeugt wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Überprüfung einer Lochmaskenplatte, mit Strahlungsenergie-Erzeugungsmitteln und Strahlungsenergie-Detektionsmitteln, die an gegenüberliegenden Seiten einer Strecke für die relative Bewegung der Maskenplatte liegen und so angeordnet sind, daß eine zeilenweise Abtastung quer zu der Bewegungsstrecke bewirkt wird, wobei die Detektionsmittel zur Bildung eines Grauwertsignals geeignet sind, das eine detektierte Menge von von den Löchern in der Maskenplatte durchgelassener Strahlungsenergie als Funktion der Position der genannten Abtastung darstellt.
  • Die Löcher in Schattenmasken werden durch Ätzen von Metallblechmaterial, wie Weichstahlblech, erzeugt. Das Ätzen erfolgt durch Kontaktbelichtungsdruck mit Hilfe einer Masterstruktur und chemischen Ätzens. Um für die korrekte Farbwiedergabe eines Objektes auf dem Tripel von Leuchtstoffelementen enthaltenden Kathodolumineszenzschirm zu sorgen, konvergieren die drei Elektronenstrahlenbündel auf dem Schirm auf ihren jeweiligen Leuchtstoffelementen, um ein mehrfarbiges Bild wiederzugeben. Fehler in den Schattenmaskenlöchern können zu Bildfehlern führen, beispielsweise fehlerhafter Farbe, weil der Mikrofleck auf dem Schirm infolge eines zu großen Schattenmaskenloches erheblich breiter als ein Tripelelement ist, oder ungleichmäßiger Helligkeit, weil ein Loch viel kleiner als festgelegt ist und demzufolge die Mikroflecke zu Mein sind. Wenn solche Fehler eine Folge eines Verarbeitungsfehlers sind, muß unmittelbar eine korrigierende Handlung erfolgen, um zu viel Ausfall zu vermeiden. Demzufolge ist es wünschenswert, daß die geätzte Schattenmaske on line überprüft wird. Es ist auch wünschenswert, daß ein solches Verfahren einfach an die Mischung aus verschiedenen Größen zu fertigender Schattenmasken anzupassen ist. Das Verfahren sollte auch für eine Verwendung bei Maskenplatten anzupassen sein, in denen die Löcher nicht nur für unterschiedlich große Schattenmasken verschieden sind, sondern sich auch für den Mittelpunkt und die Ränder ein und derselben Maske unterscheiden können.
  • Aus der US-Patentschrift 4.641.256 ist ein Verfahren zur Messung der Transmission von Energie durch das Lochmuster bekannt, um festzustellen, ob die Schattenmasken für den beabsichtigten Verwendung geeignet sind. Die Transmission von Prüfbereichen der Schattenmaske wird gemessen und mit Transmissionsgrenzen verglichen. Wenn die gesamte Transmission oder die Transmission eines der Prüfbereiche nicht innerhalb der Transmissionsgrenzen liegt, kann die Schattenmaske als fehlerhaft betrachtet werden. Mit diesem Verfahren der Messung der Transmission von Prüfbereichen kann jedoch nur die mittlere Größe der Schattenmaskenlöcher angezeigt werden. Andere Fehler, wie z.B. ungewöhnlich geformte Löcher mit nahezu "normaler" mittlerer Größe, bleiben jedoch unentdeckt. Da die Bildqualität zugenommen hat, steigt der Bedarf an verbesserten Verfahren zur Überprüfung von Lochmasken.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Überprüfen von Lochmaskenplatten mit verbesserten Diagnosemöglichkeiten zu verschaffen.
  • Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zum Überprüfen einer Lochmaskenplatte verschafft, das dadurch gekennzeichnet ist, daß dafür gesorgt wird, daß das Grauwertsignal der Transmission durch einzelne Löcher, die bei diesem Abtasten nacheinander überquert werden, entspricht, wobei das Verfahren auch das Extrahieren einer Anzahl in dem Grauwertsignal vorhandener Peakamplituden und das nacheinander Vergleichen der extrahierten Amplituden mit mindestens einem Bezugswert umfaßt, um festzustellen, ob die Transmission jedes einzelnen abgetasteten Loches ausreichend ist.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf der Erkenntnis der Tatsache, daß ein relativ niedrig aufgelöster Strahlungsfleck verwendet werden kann, um schnell eine relativ genaue Messung der Maskentransmission zu erhalten. Um eine Lochmaskenplatte während einer Zeitdauer von etwa 4 Sekunden on line zu überprüfen, mußte die Datenverarbeitung rationalisiert werden. Falten der zu verarbeitenden Daten in einem frühen Stadium ermöglicht es, dieses Ziel zu erreichen.
  • In einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Schattenmaskenplatte mit einem Strahlungsenergiefleck, beispielsweise Laserlicht, zeilenweise abgetastet, welcher Fleck die Größe eine Bildelements (Pixels) hat, wobei die Fläche des Flecks ein vorherbestimmter Anteil der Nennfläche eines Loches in der Maskenplatte ist. In dieser Ausführungsform werden die Grauwerte aufeinanderfolgender pixelgroßer Flächen detektiert, digitalisiert und gespeichert. Anschließend werden die gefalteten Daten durch elektronische Kombination der bereits gespeicherten Grauwerte aufeinanderfolgender Pixelfelder erzeugt, wobei jedes Feld um 1 Pixel gegenüber dem vorherigen Feld verschoben wird, so daß das vorhergehende Feld von dem folgenden teilweise überlappt wird usw. Um beliebig unterschiedliche Größen von Maskenplatten überprüfen zu können, ist das Verfahren anpaßbar, so daß die Pixelzahl in einem Feld elektronisch variiert werden kann. Auch beim gleichzeitigen Überprüfen der Grauwerte zweier oder mehrerer verschieden geformter Pixelfelder kann eine Maskenplatte hinsichtlich verschiedener Fehler überprüft werden. Der Bezugswert, mit dem die gefalteten Daten verglichen werden, kann durch Mittelung der Peakwerte einer vorherbestimmten Anzahl gefalteter Daten gebildet werden. Indem ein Bezugswert auf diese Weise erhalten wird, kann das Überprüfüngsverfahren an Maskenplatten anpaßbar gemacht werden, in denen sich die Lochbreiten von der Mitte zu den Rändern verändern.
  • In einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung erfolgt die Faltung mit einem Strahlungsenergie-Bündel, das einen Fleck erzeugt, der größer als die Größe eines Loches in der Maskenplatte ist, wobei der detektierte Grauwert die gefalteten Daten enthält. Eine solche Ausführungsform ermöglicht es, die Hardware des Signalverarbeitungssystems zu vereinfachen, aber dies geht zu Lasten der Flexibilität beim Anpassen der Fleckgröße an verschiedene Maskengrößen. Die Größe des Flecks sollte so gewählt sein, daß er eine der Lange eines Maskenloches plus der Höhe eines Steges zwischen zwei aufeinanderfolgenden Löchern entsprechende Länge und eine Breite hat, die größer ist als die maximale Nennbreite eines Loches. Die Detektion des Grauwerts des Flecks wird durch Digitalisierung des analogen Grauwertsignals bei einer Folge von Zeitintervallen festgelegt, die jeweils einem Teilfachen der Laufzeit des Flecks über ein einzelnes Loch in der Maskenplatte entsprechen.
  • In einer dritten Ausführungsform der Erfindung hat der Strahlungsenergiefleck längliche Form, beispielsweise eine der Nennlänge eines Loches plus der Länge eines Steges zwischen zwei aufeinanderfolgenden Löchern entsprechende Länge und eine Breite, die einem Teilfachen der Breite eines Loches entspricht, so daß eine Teilfaltung des Grauwertsignals optisch erfolgt und eine weitere Teilfaltung elektronisch ausgeführt werden kann.
  • Ein größerer Abtastfleck hat gegenüber einem kleineren den Vorteil, daß er keine so strengen Anforderungen an die mechanischen Teile der Vorrichtung stellt. Zusätzlich ist das Verfahren infolge des Aufteilens der Folge von Peaksignalen in gerade und ungerade numerierte Teilfolgen und des Vergleichens der Peaksignale mit ihren entsprechenden Bezugswerten genau, obwohl die Fleckgröße eine festgelegte Minimumgröße überschreiten darf.
  • Eine erfindungsgemäße Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß die Kombination aus Erzeugungsmitteln und Detektionsmitteln so angeordnet ist, daß die genannte Menge für einzelne Löcher, die bei diesem Abtasten nacheinander überquert worden sind, detektiert wird, wobei die Vorrichtung Mittel zur Extraktion einer Folge von in dem Grauwertsignal vorhandenen Peakamplituden sowie Vergleichsmittel zum Vergleichen jeder Amplitude mit mindestens einem Bezugswert umfaßt.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
  • Figur 1 eine Vorderansicht einer Maskenplatte,
  • Figur 2 eine Vorderansicht eines Teils einer geätzten Maskenplatte, die einige fehlerhafte Löcher aufweist,
  • Figur 3 schematisch das Abtasten einer Maskenplatte mit einem bildelementgroßen Fleck,
  • Figur 4 einen Teil einer geätzten Maskenplatte und ein elektronisch erzeugtes, 3 x 5 Pixel großes Faltungsfenster,
  • Figur 5 ein Blockschaltbild einer Ausführungsform eines Signalverarbeitungssystems zum Implementieren des erfindungsgemäßen Verfahrens,
  • Figur 6 eine schematische Ansicht des Laserabtasters und der Laserabtastungserfassungseinheit,
  • Figur 7 ein Blockschaltbild einer Faltungskarte,
  • Figur 8 ein Blockschaltbild einer Fehlerdetektionskarte,
  • Figur 9 das Fehlerdetektionsprinzip der in Figur 8 gezeigten Fehlerdetektionskarte,
  • die Figuren 10, 11 und 12A bis 12C ein vereinfachtes numerisches Beispiel für das erfindungsgemäße Verfahren,
  • Figur 13 eine andere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, in der das Abtasten der Maskenplatte und die Faltung der Daten mit Hilfe eines großen Strahlungsenergieflecks erfolgt,
  • Figur 14 eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, in der das Abtasten der Maskenplatte unter Verwendung eines länglichen Strahlungsenergieflecks erfolgt,
  • Figur 15 ein Blockschaltbild einer Faltungskarte zur Verwendung mit der Ausführungsform aus Figur 14,
  • Figur 16 und Figur 17 zwei schematische Ausführungsformen, in denen das Abtasten der Maskenplatte von dem Strahlungsenergiedetektor ausgeführt wird, und
  • Figuren 18 und 19 ein weiteres vereinfachtes numerisches Beispiel, in dem abwechselnd Peakwerte mit einem jeweiligen Bezugswert verglichen werden, um eine genaue Bewertung einer Lochform und seiner Transmission zu erhalten.
  • In der Zeichnung sind zur Bezeichnung entsprechender Teile gleiche Bezugszeichen verwendet worden.
  • Schattenmasken werden durch Ätzen eines vorherbestimmten Lochmusters in beispielsweise einem Weichstahlblech hergestellt. Das Lochmuster wird auf das Stahlblech durch Kontaktbelichtungsdruck in einem aufgebrachten Photolack mittels eines Mastermusters erzeugt. Der Ätzprozeß ist Stand der Technik und wird deshalb in der vorliegenden Anmeldung nicht beschrieben. Zur Erleichterung des Verständnisses der vorliegenden Erfindung muß man sich jedoch klarmachen, daß die Schattenmasken aus Rollen von streifenförmigem Metall 10 (Figur 1) hergestellt werden. Mischungen von Schattenmasken unterschiedlicher Größen von beispielsweise 14 Zoll, 16 Zoll, 20 Zoll, 22 Zoll, 26 Zoll und 27 Zoll werden auf weitgehend kontinuierlicher Basis hergestellt. Die Lochgrößen in einer Maske hängen von der Größe der Schattenmaske und auch der gewünschten Maskentransmission ab, die erfordern kann, daß die Löcher im mittleren Bereich breiter oder großflächiger sind als an den Rändern, insbesondere den Ost-West-Rändern. Auch die Löcher, die länglich sind, sind normalerweise so angeordnet, daß sie in sich im allgemeinen von Nord nach Süd erstreckenden Spalten 12 liegen, die im Mittelpunkt geradlinig, aber an den Rändern bezüglich des Mittelpunkts konkav sind.
  • Beim eigentlichen Ätzen der Maskenplatte wird das streifenförmige Metall langsam und kontinuierlich vorwärts bewegt. Die Vorschubgeschwindigkeit des streifenförmigen Metalls hängt mit der Verarbeitung der größten beabsichtigen Größe einer Schattenmaske zusammen, die bis zum Passieren eines festen Punktes der Fertigungsstraße bis zu 4 Sekunden erfordern kann. Folglich muß ein On-line-Prüfsystem fähig sein, die Überprüfung eines schattenmaskengroßen Teiles 14 (Figur 1) des geätzten streifenförmigen Metalls innerhalb etwa vier Sekunden abzuschließen, muß an verschiedene Schattenmaskengrößen angepaßt werden können und muß in jeder einzelnen Maskenplatte mit Löchern zurechtkommen, die nicht gleich groß und nicht parallel zueinander sind.
  • Figur 2 zeigt einen Teil einer geätzten Schattenmaskenplatte und erläutert eine Anzahl von Fehlern, die beim Ätzen der Maskenplatte auftreten können, wobei die Maskenplatte unerwünschte lokale Schwankungen der Farbe und Helligkeit eines wiedergegebenen Bildes verursachen könnte, wenn sie als Schattenmaske in einer Farbbildröhre verwendet würde. Wenn man annimmt, daß Loch 16 eine zulässige Lochform hat, dann werden durch Vergleich der Form dieses Loches 16 mit den Formen der Löcher 18, 20, 22, 24 und 26 die Unterschiede zwischen ihnen leicht deutlich. Es gibt viele Gründe für die Fehler in diesen Löchern 18 bis 26, wobei einer der am leichtesten festzustellende der ist, daß das Schattenmasken-Mastermuster fehlerhaft geworden ist. Entsprechend ist es wünschenswert, jedes Loch einer Schattenmaske on line überprüfen zu können, so daß Fehler schnell entdeckt und behoben werden können, beispielsweise durch Ersetzen des Schattenmasken-Mastermusters.
  • Um das erfindungsgemäße Verfahren zu implementieren, wird die Schattenmaske 10 während ihres Transports durch eine Prüfstation während einer Zeitdauer von etwa vier Sekunden überprüft.
  • In einer ersten Ausführungsform, Figur 3, wird die Maskenplatte 10 mittels eines Strahlungsenergieflecks 32 zeilenweise und schnell in einer Richtung 28 abgetastet, die nahezu senkrecht zur Plattenvorschubrichtung 30 liegt. Der Fleck 32 kann von einem Laserstrahlenbündel erzeugt werden, aber auch andere Lichtbündelformen können verwendet werden. Der Fleck 32 hat die Größe eines Bildelements (oder Pixels), die in dieser Ausführungsform ein Teilfaches der Größe eines Maskenloches ist, etwa 130 Quadratmikrometer. Die von den Löchern in der Maskenplatte durchgelassene Strahlungsenergie wird von einem optischen System (nicht abgebildet) auf einen an der gegenüberliegenden Seite der Bewegungsstrecke der Metallplatte 10 angeordneten Detektor 34 gerichtet. Zur Vereinfachung der Beschreibung wird die durchgelassene Lichtmenge als ihr Grauwert bezeichnet. Wenn der Lichtfleck 32 einen lichtundurchlässigen Teil der Maskenplatte passiert, erzeugt der Detektor einen niedrigen Grauwert, und wenn der Lichtfleck ein Loch durchquert, hat er einen hohen Grauwert. Unter der Annahme, daß die Maskenplatte korrekt geätzt worden ist, wird das detektierte Signal beim Überstreichen der Maskenplatte 10 durch den Lichtfleck 32 zyklisch zwischen einem niedrigen Grauwert und einem vorherbestimmten hohen Grauwert variieren. Wenn jedoch ein Loch eine zu große Fläche hat, so wie die Löcher 18 und 24 in Figur 2, wird von der zyklischen Variation abgewichen.
  • Zur Vereinfachung der Verarbeitung der Grauwerte werden die Daten gefaltet und die Faltungsdaten verarbeitet.
  • Figur 4 zeigt den Lichtfleck 32, der die Maskenplatte 10 abtastet. Diese Figur zeigt auch ein Faltungsfenster 35, dessen Fläche von 3 Bildelementen (oder Pixeln) in der Breite mal 5 Bildelementen in der Länge gebildet wird. In der ersten Ausführungsform des Verfahrens detektiert der Detektor 34 die Grauwerte der Pixel in aufeinanderfolgenden Zeitintervallen, wobei jedes Zeitintervall einem Teilfachen der Laufzeit des Flecks 32 über ein einzelnes Loch der Maskenplatte entspricht. Die nächste folgende Zeilenabtastung entspricht einer relativen Verschiebung der Maskenplatte um genau ein Pixel in der Vorschubrichtung 30. Die Grauwerte der Pixel werden gespeichert, und das Faltungsfenster 35 enthält jedesmal die Summe der Grauwerte der das Faltungsfenster 35 bildenden Pixel. Das Faltungsfenster bewegt sich effektiv mit der Abtastgeschwindigkeit des Flecks 32. Das kann elektronisch erfolgen, wie jetzt beschrieben werden soll.
  • Figur 5 ist ein Blockschaltbild eines Bilderfassungs- und Verarbeitungsprogramms, das zusammen mit einem Universalrechner 36 verwendet wird. Das System ist flexibel und enthält mehrere Mehrzweckkarten 44 bis 52, die zwischen einen Bildbus 38, der von drei parallelen, je 8 Bits breiten Kanälen C1, C2 und C3 zur Verbindung von digitalisierten Bildsignalen miteinander und einem vierten Kanal C4 für Steuerungssignale wie Takt, Bildfreigabe, Zeilenfreigabe usw. gebildet wird, und einen Universal- Gerätebus 40 geschaltet sind.
  • Insbesondere enthält das System einen Laserabtaster 42, der einen mit einer Zeilenfeld- und Laser-Abtastungserfassungseinheit (LAU) 44 verbundenen Ausgang hat. Das analoge Bildsignal aus dem Laserabtaster 42 wird in der LAU 44 digitalisiert und auf den Kanal C1 übertragen. Eine Faltungskarte (CVC) 46, die die Grauwertesignale verarbeitet, hat einen mit dem Kanal C1 verbundenen Signaleingang und erzeugt ein Faltungsergebnis, das dem Kanal C2 zugeführt wird. Eine Fehlerdektektionskarte (EDC) 48, die das Faltungssignal auf Fehler überprüft, hat einen mit dem Kanal C2 verbundenen Signaleingang und einen mit dem die Fehlermeldungen führenden Kanal C3 verbundenen Signalausgang. Ein Bildübertragungspuffer (PTB) 50 hat einen mit dem Kanal C3 verbundenen Signaleingang. Der PTB 50 speichert die Fehlermeldungen mit ihren Koordinaten in einem Puffer. Der Rechner 36 hat Zugriff zu diesen Fehlermeldungen und kann sie über den Buswandler 54 softwaremäßig verarbeiten. Wahlweise kann ein Bildspeicher (IFS) 52 vorgesehen werden, mit einem Signaleingang und einem Signalausgang, der mit einem aus den Kanälen C1 bis C3 selektierten Kanal verbunden werden kann. Die in dem IFS 52 gespeicherten Daten können über einen Wiedergabeteil 56 der LAU 44 wiedergegeben werden. Den IFS 52 vorzusehen, ist in erster Linie beim Testen des Systems sinnvoll, da jeder Schritt bei der Datenverarbeitung sichtbar gemacht werden kann, aber er kann auch beim Speichern von mit der Gesamttransmission der Maskenplatte zusammenhängenden Daten nützlich sein.
  • Die Arbeitsweise von Figur 5 soll jetzt kurz beschrieben werden. Der Laserabtaster 42 tastet die Schattenmaskenplatte zeilenweise mit dem Fleck 32 ab (Figur 3). Der Analogwert des erzeugten variierenden Grauwertsignals wird detektiert und zur LAU 44 übertragen, die den Analogwert digitalisiert und als Reaktion auf Steuerungssignale die digitalisierten Daten auf Kanal C1 des Bildbusses 38 überträgt. Die CVC 46 akzeptiert die Daten, die dann gefaltet werden, indem ein elektronisches Faltungsfenster gebildet wird. Das Ausgangssignal aus der CVC 46 umfaßt eine Reihe von Peaks. Diese Peaksignale werden über den Kanal C2 zu der EDC 48 übertragen. In der EDC 48 werden mehrere (4, 8, 16 oder 32) der vorangegangenen Peaksignale gemittelt, und der Mittelwert wird als Bezug verwendet, mit dem das neu empfangene Peaksignal verglichen wird. Eine Abweichung des Signalwertes von mehr als ± 15% im Verhältnis zu dem Mittelwert wird detektiert und als Fehler in der geätzten Maskenplatte gemeldet. Das Mitteln mehrerer vorangegangener Peaks ermöglicht es der EDC 48, sich an Fälle anzupassen, in denen die Fläche der Löcher in der Breite absichtlich unterschiedlich ist, um eine gewünschte Maskentransmission zu erhalten. Die Fehlermeldungen aus der EDC 48 werden auf dem Kanal C3 zum PTB 50 übertragen. Die gespeicherten Fehlermeldungen können mittels des Buswandlers 54 zur Analyse zum Rechner 36 übertragen werden.
  • Figur 6 zeigt den Laserabtaster 42 und die LAU 44. Der Laserabtaster 42 ist so entworfen, daß die Maskenplatte 10 vertikal zwischen einer abtastenden Laserlichtquelle und dem Detektor 34 transportiert werden kann. Die abtastende Laserlichtquelle enthält einen Laser 58, und das von diesem ausgehende Licht ist auf reflektierende Facetten 59 eines drehbaren Prismas 60 gerichtet. Die Neigung der Facetten 59 ist derart, daß die Bewegungsstrecke des von den Linsenfacetten reflektierten Lichts nahezu die gleiche ist, aber da die Maskenplatte sich kontinuierlich langsam bewegt, ergibt sich eine aneinander anschließende Zeilenabtastung der Maskenplatte.
  • Das von dem Detektor 34 detektierte analoge Grauwertsignal der LAU 44 wird unter Verwendung eines rechnergesteuerten Verstärkers 61 verstärkt, so daß ein Analog-Digital-(A/D-)Umsetzer 62 es optimal ausnutzen kann. In dem A/D-Umsetzer 62 wird das analoge Grauwertsignal in eine Folge von 8-Bit-Signalen digitalisiert und die digitalen Signale werden zusammen mit Steuerungssignalen dem Kanal C1 zugeführt.
  • Figur 7 ist ein Blockschaltbild der Faltungskaate 46. Zur Vereinfachung der Beschreibung wird angenommen, daß die digitalisierten Grauwertsignale aus der LAU 44 in ein Faltungsfenster von 3 Pixeln breit und 5 Pixeln lang gefaltet werden. Es sollte jedoch deutlich sein, daß mehrere Faltungskarten vorgesehen werden können, die jeweils ein Faltungsfenster von abweichender Größe erzeugen können, zur Anpassung an unterschiedliche Schattenmaskenlochgrößen und, falls erforderlich, um gleichzeitig zwei oder mehr Faltungsfenster unterschiedlicher Größe zu erzeugen, die für die Detektion verschiedener Fehler in den geätzten Schattenmaskenplatten verwendet werden können. Die Faltungskarte 46 enthält einen Dateneingangsanschluß 64 , der mit einem ersten Dateneingang 66 eines Spaltenaddierers 68 verbunden ist. Vier Zeilenspeicher 70, 72, 74 und 76 sind zwischen den Dateneingang 64 und einen Eingang 77 des Spaltenaddierers 68 in Reihe geschaltet. Die Zeilenspeicher 70 bis 76 enthalten Schieberegister, die mit der Pixelrate getaktet werden. Die Ausgänge der Zeilenspeicher 70 bis 76 sind mit Eingängen 71, 73 bzw. 75 des Spaltenaddierers 68 verbunden. Ein Ausgang des Spaltenaddierers 68 ist mit einem Spaltenverschiebeelement 78 und einem ersten Eingang 79 eines Flächenaddierers 80 verbunden. Ausgänge des Spaltenverschiebeelements 78 und des Flächenaddierers 80 sind mit den jeweiligen Eingängen eines Endspaltensubtrahierers 82 verbunden. Ein Ausgang des Subtrahierers ist mit einem zweiten Eingang 81 des Flächenaddierers 80 und auch einem Eingang eines Ergebnis- und Normalisierungsblocks 84 verbunden, der mit einem Ausgangsanschluß 85 verbunden ist.
  • Im Betrieb werden, unter der Annahme, daß das Faltungsfenster 3 Pixel breit und 5 Pixel lang ist, die erforderlichen Daten durch Eingeben der während der wiederholten Abtastung der Maskenplatte durch den Laserabtaster 42 erzeugten digitalisierten Grauwertsignale gespeichert. Die Speicherrate hängt mit der Zeit zusammen, die der Fleck 32 (Figur 3) zum Durchlaufen der von einem einzigen Pixel gebildeten Strecke benötigt. Im Falle der ersten zeilenweisen Abtastung durch den Fleck 32 werden die Grauwerte nacheinander dem Eingang 66 des Spaltenaddierers 68 und auch dem Zeilenspeicher 70 zugeführt. Zu Beginn der zweiten zeilenweisen Abtastung durch den Fleck 32 werden die mit der zweiten Abtastung zusammenhängenden Daten dem Eingang 66 und dem Zeilenspeicher 70 zugeführt, während zugleich die zur ersten Zeile gehörenden Daten aus dem Zeilenspeicher 70 ausgelesen und dem Eingang 71 des Spaltenaddierers 68 und dem Zeilenspeicher 72 zugeführt werden. Dieser Zyklus wird zweimal wiederholt, so daß am Ende der vierten zeilenweisen Abtastung die Zeilenspeicher 70, 72, 74 und 76 voll sind, wobei die älteste Information in dem Speicher 76 gehalten wird und die zuletzt detektierten Signale in dem Speicher 70 gehalten werden. Bei Ankunft des ersten Grauwerts für die fünfte Zeile befinden sich die ersten zu den ersten vier Zeilen gehörenden Pixelwerte an den Eingängen 77, 75, 73 und 71 des Spaltenaddierers 68. Diese Situation wird in den Piktogrammen 86 bis 90 dargestellt. Der Spaltenaddierer 68 addiert die fünf Grauwertsignale miteinander, Piktogramm 91, und die Summe wird gleichzeitig dem Spaltenverschiebeelement 78 und über den Eingang 79 dem Flächenaddierer 80 zugeführt. Beim Auftreten des folgenden Taktsignals wird die Summe der zweiten Pixelwerte an den Eingängen 66, 71, 73, 75 und 77 addiert und das Summensignal wird wieder gleichzeitig dem Spaltenverschiebeelement 78 und dem Flächenaddierer 80 zugeführt. In dem Spaltenverschiebeelement wird das erste Summensignal um eine Spaltenposition verschoben, um Platz für die Speicherung des zweiten Summensignals zu schaffen, siehe Piktogramm 92. Der Zyklus wiederholt sich für die dritten Pixelwerte, so daß der Flächenaddierer die akkumulierten Grauwerte des 3 x 5- Faltungsfenster-Piktogramms 94 speichert. Während der nächsten Taktdauer werden die gefalteten Daten in dem Block 84 auf acht Bits normalisiert und dem Ausgangsanschluß 85 zugeführt, das Spaltenverschiebeelement 78 verschiebt das am längsten gehaltene Spaltensummensignal in den Endspaltensubtrahierer 82, Piktogramm 93, und der Flächenaddierer speichert die Summe der ersten vier Spaltensignale, welches Signal ebenfalls dem Subtrahierer 82 zugeführt wird, in dem das Flächensummensignal durch die Subtraktion der am längsten gehaltenen Spaltensummensignal eingestellt wird, und die Differenz, die die Flächensumme der Spalten 2 bis 4 darstellt, wird dem Eingang 81 des Flächenaddierers und auch dem Ergebnis- und Normalisierungsblock 84 zugeführt. Dieses Signal wird dann dem Ausgangsanschluß 85 zugeführt.
  • Figur 8 ist ein Blockschaltbild der Fehlerdetektionskarte 48. Wie bereits erwähnt, variieren die gefalteten Daten systematisch zwischen einem Minimum- und einem Maximum(oder Peak)wert, wenn eine Maskenplatte korrekt geätzt ist. Wenn ein Loch in der Maskenplatte fehlerhaft ist, kann dieses sich dadurch manifestieren, daß der Peakwert im Vergleich zu einem Bezugspeakwert zu niedrig oder zu hoch ist, und/oder der Peakwert in bezug auf die anderen Peakwerte zum falschen Zeitpunkt auftritt. Entsprechend ist die Karte 48 zum Überprüfen angebracht, um festzustellen, ob die Peakwerte zwischen einem oberen und einem unteren Schwellenwert 94, 95 liegen (Figur 9), wobei die Schwellenwerte aufgrund der Tatsache, daß der Bezugswert ein Mittel der vorangegangenen 4, 8, 16 oder 32 Peakwerte ist, anpaßbar gemacht werden können. Indem das System in dieser Weise anpaßbar gemacht wird, kann es bei Maskenplatten verwendet werden, in denen die Lochgrößen absichtlich verändert werden, um eine vorherbestimmte Maskentransmission zu erhalten.
  • Die Fehlerdetektionskarte 48 enthält einen mit dem Kanal C2 verbundenen Peakdetektor 96. Der Peakdetektor 96 selektiert die Amplituden aufeinanderfolgend auftretender Peaks 97 (Figur 9) und die Zeitpunkte ihres Auftretens, was Ausgangssignale 98 bzw. 99 aus dem Peakdetektor 96 liefert. Diese Ausgangssignale werden einem Detektor 100 für die mittlere Flächenfunktion zugeführt, der die oberen und unteren Schwellenwerte 94, 95 berechnet (Figur 9) und diese Werte einem Fehlerschwellendetektor 102 zuführt, der die Peaks 97 mit den Schwellenwerten vergleicht. Falls ein Peak, wie beispielsweise Peak 103 oder 104, eine Amplitude hat, die zu groß oder zu klein ist, dann wird dies als Anzeige eines Fehlers in der Schattenmaske 10 betrachtet, und von einer Fehlerdetektionsschaltung 104 wird ein Fehlersignal zusammen mit Information bezüglich der Lage des Fehlers erzeugt und einem mit dem Kanal C3 verbundenen Ausgang zugeführt.
  • Zurückgreifend auf Figur 5 umfassen die Funktionen des Bildübertragungspuffers PTB 50 sowie die von letzterem gelieferten Informationen das Puffern direkter Bilddaten als Pixel oder der Verarbeitungsergebnisse in der EDC 48. Diese Daten werden dem Rechner 36 zugeführt, der sie softwaremäßig verarbeiten kann.
  • Der Rechner, der eine Microvax, eine M68000 (Philips) oder eine P890 (Philips) enthalten kann, verarbeitet die Dateninformation aus dem PTB 50 zu einer Gruppierung einzelner zu demselben Fehler gehörenden Fehleranzeigen und der Wiedergabe einer Liste von detektierten Fehlern mit ihren Koordinaten und Gewichten für jeden Fehler.
  • Um ein vereinfachtes numerisches Beispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens zu verschaffen, stellt Figur 10 eine Schattenmaskenplatte 10 mit zwei fehlerhaften Löchern 106 und 108 dar, wobei die übrigen Löcher normal, d.h. 1 Pixel breit und 4 Pixel lang sind. Das elektronische Faltungsfenster 110 ist in der oberen linken Ecke dargestellt, und die horizontalen und vertikalen Pixelpositionen sind numeriert, wobei die obere linke Ecke als Ursprung 0 gewählt wird. Unter der Annahme, daß die Grauwerte der Pixel gleich "1" für ein Loch und gleich "0" für eine massive Fläche sind, können die Gesamtgrauwerte der vollständigen Faltungsfenster, so wie in Figur 11 gezeigt, tabellarisch dargestellt werden. Mit der Annahme, daß "4" der mittlere Peakwert ist, wird unmittelbar deutlich, wo die fehlerhaften Löcher liegen und ob sie zu klein (Loch 106) oder zu groß (Loch 108) sind. Dies kann durch eine graphische Darstellung der zu jeder Zeile der tabellarischen Übersicht gehörenden gefalteten Grauwerte bestätigt werden. Die Figuren 12A, 12B und 12C stellen beispielsweise die Zeilen 1, 3 bzw. 9 der in Figur 11 gezeigten tabellarischen Übersicht dar.
  • Bei einer geeigneten Anpassung der Faltungskarte 46, beispielsweise durch Verwenden von mehr selektierbaren Zeilenspeichern und eines vorwählbaren Endspaltensubtrahierers 82, und der Fehlerdetektionskarte 48 kann die Größe des Faltungsfensters elektronisch an jede aus einer Menge vorherbestimmter Größen stammende Größe anpaßbar gemacht werden. Dies ist notwendig wegen der verschiedenen Größen der Schattenmasken, die geätzt werden, und der Forderung, die Masken mit derselben festen Apparatur zu überprüfen. Eventuell kann eine Codierung, wie Streifencodierung, zur Identifizierung jeder Schattenmaskengröße verwendet werden, und durch Lesen der Streifencodes kann die feste Vorrichtung sich selbst, so wie gefordert, anpassen.
  • Speichern der Grauwerte einzelner Pixel ermöglicht auch eine Diagnose für spezielle Fehlerarten. Beispielsweise kann ein Fehler, wie zu große Breite, Löcher 18 und 24 in Figur 2 oder Loch 108 in Figur 10, mit einer zweiten Faltungskarte bestimmt werden, die ein Faltungsfenster von beispielsweise 1 Pixel Länge mal 3 Pixel Breite erzeugt. Wird die horizontale Zeile aus Figur 10 überprüft, wobei ein 1 x 3 großes Faltungsfenster verwendet wird, dann nehmen die Summen der Grauwerte beim Bewegen dieses Fensters von links nach rechts die folgenden Werte an: 0, 0, 1, 1, 1, 0, 0, 1, 2, 2, 1, 0, 1, 1, 1, 0, 0, 1, 1, 1, 0, 0. Kennt man die Zeilen- und Spaltenkoordinaten, dann kann die Lage des fehlerhaften Loches bestimmt werden sowie, auf welcher Seite der Nennlochposition der Fehler liegt.
  • Das erste Ausführungsbeispiel arbeitet zufriedenstellend, aber mit geeigneten Veränderungen der elektronischen Hardware und der Signalverarbeitung in der veränderten elektronischen Hardware kann eine bessere Messung der Lochform und der Transmission eines Loches durchgeführt werden. In dem ersten Ausführungsbeispiel werden die Schwellenwerte, mit denen der Peakwert eines momentan gemessenen Loches verglichen wird, durch Mittelung der Peakwerte der n vorangegangenen Löcher bestimmt, wobei n gleich 4, 8, 16 oder 32 ist. Ein genauerer Vergleich ist jedoch möglich, wenn die Schwellenwerte auf dem Mittelwert der Peakwerte von Löchern in unmittelbarer Nachbarschaft des momentan gemessenen Loches beruhen. Mit unmittelbarer Nachbarschaft sind entweder die Peakwerte der dem momentan gemessenen Loch in Abtastrichtung unmittelbar vorangehenden und unmittelbar folgenden Löcher oder die Peakwerte jener um das momentan gemessene Loch herum liegenden Löcher gemeint. In beiden Fällen ist zusätzliche Speicherung erforderlich, um eine kurzzeitige Historie der Peakwerte aufzubauen, die in der gewünschten Folge ausgelesen und gemittelt werden können, um die geforderten Schwellenwerte zu liefern, mit denen der gespeicherte Peakwert des momentan gemessenen Loches verglichen werden kann.
  • Ein weiterer kritischer Aspekt des ersten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung liegt darin, daß zum Erhalt eines guten Ergebnisses der mechanische Aufbau der Vorrichtung sehr genau sein muß, um ein exakt aneinander anschließendes Abtasten mittels des Laserstrahlenbündels zu erreichen. Insbesondere ist eine gute Koordination zwischen der Vorschubgeschwindigkeit des Maskenplattenmaterials durch den Prüfbereich und der Rotationsgeschwindigkeit des Abtastprismas 60 erforderlich.
  • Diese mechanische Spezifikation kann durch Verwendung eines größeren Strahlungsenergieflecks gelockert werden, wobei er selbst eine niedrigere Auflösung haben kann, aber gleichzeitig kann die Transmission eines Maskenloches noch genau bestimmt werden. Alternativ können andere Abtastverfahren übernommen werden. Die Wahl des Abtastverfahrens kann von einer Anzahl Faktoren abhängen, von denen einer die Zahl zusätzlicher Messungen ist, die man neben der bereits beschriebenen Basismessung ausführen möchte.
  • Figur 13 erläutert das Prinzip eines zweiten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens. In dieser Ausführungsform ist die Größe des Laserflecks 321 dem Faltungsfenster äquivalent, z.B. 3 x 5 Pixel, so daß der detektierte Grauwert als optisches Faltungsniveau für pixelgroße Flächen betrachtet werden kann. Der Fleck 321 wird zeilenweise über die Maskenplatte 10 geschwenkt, und der Gesamtgrauwert des von der Maskenplatte durchgelassenen Laserlichtes wird in Abständen von 1 Pixel detektiert. Da der Fleck 321 die Grauwertdaten bereits in die beispielsweise in der tabellarischen Übersicht von Figur 11 gezeigten Daten gefaltet hat, können diese Werte unmittelbar, ohne zusätzliche elektronische Faltung der EDC 48 zugeführt werden.
  • Diese zweite Ausführungsform hat den Vorteil, daß die Notwendigkeit der CVC 46 vermieden wird, aber dies geht zu Lasten der Flexibilität, das Verfahren schnell an andere Maskengrößen und an die gleichzeitige Messung einer Skala spezieller Fehlerarten in einer Maske anpassen zu können.
  • Figur 14 erläutert das Prinzip eines dritten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens, das als zwischen der ersten und der zweiten Ausführungsform liegend betrachtet werden kann, da, wie beschrieben werden soll, Faltung der Grauwerte teilweise mit einem größeren Fleck als in der ersten Ausführungsform und teilweise mittels elektronischer Verarbeitung erfolgt. In der dritten Ausführungsform ist der Fleck 322 länglich, mit einer Länge gleich der Nennlänge eines Loches plus der Höhe eines Steges zwischen zwei aufeinanderfolgenden Löchern, beispielsweise einer Flecklänge von 5 Pixel, und einer Breite gleich 1 Pixel. Also müssen in dem Fall eines 3 Pixel x 5 Pixel großen Faltungsfensters dann drei aufeinanderfolgende digitalisierte Grauwerte miteinander addiert werden. Das Abtasten der Maskenplatte 10 durch den länglichen Fleck 322 in der Richtung 28 erfolgt zeilenweise, wobei jede nachfolgende Abtastung um eine Pixellänge von der vorherigen zeilenweisen Abtastung infolge der Bewegung der Maskenplatte in die Richtung 30 versetzt ist.
  • Die Signalverarbeitung ähnelt im allgemeinen der anhand der Figuren 6 bis 9 bereits beschriebenen, wobei der Hauptunterschied in der CVC 46 auftritt. Vergleicht man die in Figur 15 gezeigte CVC 46 mit der aus Figur 7, dann liegt der Hauptunterschied darin, daß es keine Zeilenspeicher gibt.
  • In Figur 15 wird das aus der detektierten Maskentransmission des 1 Pixel mal 5 Pixel großen Abtastlaserflecks abgeleitete und in der LAU 44 (Figuren 5 und 6) verarbeitete, digitalisierte Grauwertsignal dem Kanal C1 zugeführt. Diese Signalinformation wird als Folge dem Eingang 66 des Spaltenaddierers 68 zugeführt, siehe Piktogramm 91'. Zum nächsten Zeitpunkt oder Taktimpuls wird dieses digitalisierte Grauwertsignal dem Spaltenverschiebeelement 78, siehe Piktogramm 92', und auch dem Eingang 79 des Flächenaddierers 80 zugeführt. Das nächste folgende Grauwertsignal auf dem Kanal C1 wird dahn dem Spaltenaddierer 68 zugeführt. Wenn drei aufeinanderfolgende digitalisierte Grauwertsignale addiert worden sind, ist das Ausgangssignal des Flächenaddierers 80 gleich dem Grauwert des 3 Pixel x 5 Pixel großen Faltungsfenster-Piktogramms 94'. Beim Auftreten der Übertragung des vierten digitalisierten Grauwertsignals aus dem Spaltenaddierer 68 zum Flächenaddierer 80 wird es zum momentan gehaltenen Summenwert addiert. In der Zwischenzeit hat das Spaltenverschiebeelement 78 das am längsten gehaltene Signal zum Endspaltensubtrahierer 82 übertragen, Piktogramm 93'. Der Subtrahierer 82 subtrahiert den digitalen Wert des am längsten gehaltenen Signals von dem neuen Summensignal am Ausgang des Flächenaddierers 80 und liefert ein Ausgangssignal, das dem Grauwert eines von dem zweiten, dritten und vierten Grauwertsignal gebildeten Faltungsfensters entspricht. Dieses Ausgangssignal wird in dem Flächenaddierer 80 über dessen Eingang 81 gespeichert und wird auch in dem Normalisierungsblock 84 auf acht Bits normalisiert und anschließend dem Kanal C2 zugeführt. Die Signalverarbeitung verläuft anschließend wie schon anhand der Figuren 8 und 9 beschrieben und wird der Kürze halber nicht wiederholt.
  • In den drei bisher beschriebenen Ausführungsformen erfolgt das zeilenweise Abtasten durch Bewegen eines Strahlungsenergieflecks, beispielsweise Laserlicht, über die geätzte Metallplatte 10 und Richten des durchgelassenen Lichtes auf den Detektor 34 (Figuren 3, 6 und 13). Andere Abtastverfahren umfassen gleichmäßige Belichtung der Maskenplatte 10 durch eine längliche Lichtquelle 112 (Figur 16) und Detektieren des durchgelassenen Lichtes von einem abtastenden Detektor, wie z.B. einer zur zeilenweisen Abtastung der anderen Seite der Maskenplatte 10 angebrachten Fernsehkamera 114 (Figur 16). Ein anderes Beispiel für einen abtastenden Detektor wird schematisch in Figur 17 gezeigt und umfaßt ein Zeilenfeld 116 aus z.B. bis zu zweitausend photoempfindlichen Dioden, die beispielsweise von dem elektronischen Äquivalent des Drehschalters 118 sequentiell abgetastet werden. Bei Verwendung der Fernsehkamera 114 wird die Größe eines Pixels von der Taktung des A/D-Umsetzers 62 bestimmt, der das analoge Grauwertsignal digitalisiert. Bei Verwendung des Zeilenfeldes 116 aus photoempfindlichen Dioden wird die Pixelgröße durch den Abstand der photoempfindlichen Dioden voneinander bestimmt.
  • Eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens, die es ermöglicht, das Verfahren an Situationen anzupassen, bei denen der Maskenabstand variiert und/oder die Größe des Strahlungsenergieflecks gleich oder größer als eine willkürliche Minimumgröße ist, umfaßt Verarbeitung der digitalisierten Grauwerte, wie zuvor beschrieben, um auf dem Kanal C2 normalisierte gefaltete Werte zu erhalten. Die Folge von erhaltenen Peakwerten wird in zwei Teilfolgen unterteilt, wobei eine erste der Teilfolgen die geradzahligen Peaks und eine zweite Teilfolge die ungeradzahligen Peaks enthält. Die erste und die zweite Teilfolge werden dann einer jeweiligen Fehlerdetektionskarte zugeführt. Jede Fehlerdetektionskarte leitet aufgrund von Mittelung z.B. der vorangegangenen n Peakwerte ihre eigenen Schwellenwerte ab, mit n = 4, 8, 16 oder 32. Es hat sich gezeigt, daß die Bildung der Teilfolgen und ihre getrennte Verarbeitung selbst dann zu einem genauen Ergebnis führen, wenn die Größe des Strahlungsenergieflecks nicht zwecks Anpassung an die verschiedenen geätzten Maskengrößen optimiert worden ist.
  • Diese Technik soll in einfacher Weise erläutert werden. Wenn die Maskenplatte aus Figur 18 mit einem übergroßen, 3 Pixel mal 6 Pixel großen Strahlungsenergiefleck 19 abgetastet wird, werden die in Figur 19 dargestellten tabellierten Grauwerte erhalten. Eine Betrachtung der tabellarischen Übersicht aus Figur 19 weist aus, daß bei den korrekt geformten Löchern dann in jeder beliebigen Zeile, beispielsweise Zeile 5, 6 oder 7, die geradzahligen Peaks gleichen Wert haben und die ungeradzahligen Peaks gleichen Wert haben, obwohl, wie in Zeile 5 gezeigt wird, der gerade gleiche Wert sich von dem ungeraden Wert unterscheidet. Die tabellarische Übersicht zeigt auch, daß fehlerhafte Löcher auch mit dieser Technik noch entdeckt werden können. Im Falle des Loches 120 (Figur 18) geben Spaltenpositionen 23, 24 und 25 der Zeilen 1 bis 3 einen Fehler an, wenn mit den Spältenpositionen 2, 3 und 4 und 13 in den gleichen Zeilen verglichen wird. Entsprechend geben für den Fall des Loches 122 (Figur 18) die Spaltenpositionen 8 bis 10 in den Zeilen 9, 10 und 11 der tabellarischen Übersicht von Figur 19 einen Fehler an, wenn mit den Spaltenpositionen 18 bis 20 in den gleichen Zeilen verglichen wird.
  • Eine andere Qualitätsprüfung, die bei der Herstellung von Schattenmasken häufig ausgeführt wird, verwendet die Transmission der Maskenplatten. Bekannt ist, daß dies manuell durch Zufallsauswahl der Maskenplatten und Messung der Transmission an statistisch vorherbestimmten Orten der Maskenplatten geschieht. Aus diesen Messungen wird die Maskentransmission berechnet. Diese Art der Abschätzung der Maskentransmission kann durch einfaches Speichern aller digitalisierter Peakwerte in einem Bildspeicher und entweder durch Zusammenaddieren oder selektives Abfragen der gespeicherten Peakwerte ersetzt werden, um Transmissionsdaten für verschiedene Flächen der geätzten Maskenplatte zu erhalten.

Claims (19)

1. Verfahren zur Überprüfung einer Lochmaskenplatte (10), bei dem eine relative Bewegung zwischen der Lochmaskenplatte (10) und einer Strahlungsenergie-Quelle (32, 321) entlang einer Bewegungsstrecke (30) verschafft wird, und bei dem durch Abtasten der Maskenplatte in einer quer zu der Bewegungsstrecke (30) liegenden Richtung (28) ein der Transmission von Strahlungsenergie durch die Löcher (16, 18, 20, 22, 24, 26) entsprechendes Grauwertsignal erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, daß dafür gesorgt wird, daß das Grauwertsignal der Transmission durch einzelne Löcher (16, 18, 20, 22, 24, 26), die bei diesem Abtasten nacheinander überquert werden, entspricht, wobei das Verfahren auch das Extrahieren einer Anzahl in dem Grauwertsignal vorhandener Peakamplituden (97, 103, 104) und das nacheinander Vergleichen der extrahierten Amplituden mit mindestens einem Bezugswert (94, 95) umfaßt, um festzustellen, ob die Transmission jedes abgetasteten einzelnen Loches ausreichend ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Abtasten der Maskenplatte ein zeilenweises Abtasten der einen Seite der Maskenplatte mit einem Bündel (32) von Strahlungsenergie sowie ein Detektieren des Grauwerts der von den Löchern (16, 18, 20, 22, 24, 26) in der Maskenplatte (10) durchgelassenen Strahlungsenergie an der anderen Seite der Maskenplatte umfaßt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, in dem das Bündel (32) von Strahlungsenergie einen Fleck von ungefähr der Größe eines Bildelements (Pixels) erzeugt, wobei die Fläche des Flecks ein zuvor bestimmter Anteil der Fläche eines Loches (16, 18, 20, 22, 24, 26) in der Maskenplatte (10) ist.
4. Verfahren nach Anspruch 2, in dem das Bündel von Strahlungsenergie einen länglichen Fleck mit einer der Nennlänge eines Loches (16, 18, 20, 22, 24, 26) in der Maskenplatte plus der Nennlänge eines Steges zwischen zwei aufeinanderfolgenden Löchern nahezu entsprechenden Länge und einer Breite erzeugt, die kleiner ist als die Nennbreite eines Loches in der Maskenplatte.
5. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Abtasten der Maskenplatte eine nahezu gleichmäßige Beleuchtung der einen Seite der Maskenplatte (10) und an der anderen Seite der Maskenplatte (10) ein nahezu zeilenweises Abtasten der von den Löchern durchgelassenen detektierten Strahlungsenergie umfaßt.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, in dem das Strahlungsenergie-Bündel (321) einen Fleck erzeugt, der größer als die Nenngröße eines Loches (16, 18, 20, 22, 24, 26) in der Maskenplatte ist, und bei dem jedes der detektierten Grauwertsignale eine Faltung der in einer Vielzahl von bildelement-(oder pixel-)großen Flächen auftretenden Grauwerte darstellt, wobei diese Flächen eine einem Teilfachen der Fläche eines Loches (16,18, 20, 22, 24, 26) entsprechende Größe haben.
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Detektion des Grauwerts des Flecks in Zeitintervallen festgelegt wird, die einem Teilfachen der Laufzeit des Flecks über ein einzelnes Loch (16, 18, 20, 22, 24, 26) in der Maskenplatte entsprechen.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, in dem der Fleck eine der Nennlänge eines Maskenloches (16, 18, 20, 22, 24, 26) plus der Höhe eines Steges zwischen zwei aufeinanderfolgenden Löchern entsprechende Länge und eine Breite hat, die größer ist als die maximale Nennbreite eines Loches.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, bei dem der Bezugswert (94, 95) durch Mittelung der Amplituden einer vorherbestimmten Anzahl Peaks in den gefalteten Daten gebildet wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem abwechselnde Amplituden der sequentiell abgeleiteten Amplituden jeweils Teilfolgen bilden und bei dem die Amplituden in jeder Teilfolge mit einem jeweiligen Bezugswert verglichen werden.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, das außerdem das Speichern aller Peakwerte und das Bestimmen der gesamten Maskentransmission aus den gespeicherten Werten umfaßt.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4 und 6 bis 9, bei dem das Strahlungsenergie-Bündel ein Laserstrahlenbündel umfaßt.
13. Verfahren zur Herstellung einer Schattenmaske, das das Ätzen von Löchern in einen Metallstreifen während dessen Transports durch eine Ätzstation und das Überprüfen der Lochmaskenplatte mit Hilfe des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 12 umfaßt.
14. Vorrichtung zur Überprüfung einer Lochmaskenplatte (10), mit Strahlungsenergie-Erzeugungsmitteln (58, 60, 112) und Strahlungsenergie-Detektionsmitteln (34, 114), die an gegenüberliegenden Seiten einer Strecke für die relative Bewegung der Maskenplatte (10) liegen und so angeordnet sind, daß eine zeilenweise Abtastung quer zu der Bewegungsstrecke bewirkt wird, wobei die Detektionsmittel (34, 114) zur Bildung eines Grauwertsignals geeignet sind, das eine detektierte Menge von von den Löchern in der Maskenplatte durchgelassener Strahlungsenergie als Funktion der Position der genannten Abtastung darstellt, dadurch gekennzeichnet. daß die Kombination aus Erzeugungsmitteln (58, 60, 112) und Detektionsmitteln (34, 114) so angeordnet ist, daß die genannte Menge für einzelne Löcher (16, 18, 20, 22, 24, 26), die bei diesem Abtasten nacheinander überquert worden sind, detektiert wird, wobei die Vorrichtung Mittel (96) zur Extraktion einer Folge von in dem Grauwertsignal vorhandenen Peakamplituden (97, 103, 104) sowie Vergleichsmittel zum Vergleichen jeder Amplitude mit mindestens einem Bezugswert (94, 95) umfaßt.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, wobei das Strahlungsenergie-Erzeugungsmittel eine abtastfähige Lichtquelle (58, 60) umfaßt und Mittel vorhanden sind, um die von den einzelnen Maskenplattenlöchern durchgelassene Strahlungsenergie auf das Detektionsmittel (34) zu richten.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, wobei die abtastfähige Lichtquelle einen Laserabtaster (58, 60) umfaßt.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, die außerdem Mittel zur Erzeugung mindestens eines Bezugswertes durch Bildung eines Amplitudenmittelwertes aus einer zuvor bestimmten Anzahl Peaks des Grauwertsignals umfaßt.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 17, wobei das genannte Vergleichsmittel Mittel zum Bilden zweier Teilfolgen aus abwechselnden Signalen aus der Folge von Peaksignalen und Mittel zum Vergleichen der Peakwerte in jeder Teilfolge mit einem jeweiligen Bezugswert umfaßt.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 18, die außerdem Mittel zum Speichern der Peaksignale und zum Liefern einer die Transmission der Maskenplatte repräsentierenden Ausgabe umfaßt.
DE8888201518T 1987-07-22 1988-07-14 Verfahren und vorrichtung zur ueberfruefung von lochmaskenplatten. Expired - Fee Related DE3879015T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB08717306A GB2207237A (en) 1987-07-22 1987-07-22 A method of inspecting apertured mask sheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3879015D1 DE3879015D1 (de) 1993-04-15
DE3879015T2 true DE3879015T2 (de) 1993-08-26

Family

ID=10621091

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8888201518T Expired - Fee Related DE3879015T2 (de) 1987-07-22 1988-07-14 Verfahren und vorrichtung zur ueberfruefung von lochmaskenplatten.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4930889A (de)
EP (1) EP0300572B1 (de)
JP (1) JP2732858B2 (de)
KR (1) KR0129169B1 (de)
CN (1) CN1015764B (de)
DE (1) DE3879015T2 (de)
GB (1) GB2207237A (de)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8908507D0 (en) * 1989-04-14 1989-06-01 Fokker Aircraft Bv Method of and apparatus for non-destructive composite laminatecharacterisation
JP3298250B2 (ja) * 1993-07-30 2002-07-02 ソニー株式会社 自動検査方法及び自動検査装置
EP1383084A3 (de) * 1993-10-27 2004-07-14 Toshiba Engineering Corporation Verfahren und Gerät zur Inspektion der Oberflächenunregelmässigkeit eines Gegenstandes
FR2720831B3 (fr) * 1994-06-02 1996-07-12 Saint Gobain Vitrage Procédé de mesure de la qualité optique d'un vitrage.
US5636029A (en) * 1995-07-21 1997-06-03 Bmc Industries, Inc. Elliptical laser probe for shadow mask
US6031931A (en) * 1996-03-15 2000-02-29 Sony Corporation Automated visual inspection apparatus
US5917934A (en) * 1996-03-15 1999-06-29 Sony Corporation Automated visual inspection apparatus for detecting defects and for measuring defect size
US5870203A (en) * 1996-03-15 1999-02-09 Sony Corporation Adaptive lighting control apparatus for illuminating a variable-speed web for inspection
US7148960B2 (en) 1999-06-10 2006-12-12 Aradigm Corporation Method and device for non-destructive analysis of perforations in a material
US6624885B1 (en) * 1999-06-10 2003-09-23 Aradigm Corporation Method and device for non-destructive analysis of perforation in a material
US7301621B2 (en) * 1999-06-10 2007-11-27 Aradigm Corporation Method and device for non-destructive analysis of perforations in a material
US6720989B2 (en) 2000-04-19 2004-04-13 K-G Devices Corp. System and method for automatically inspecting an array of periodic elements
KR100895089B1 (ko) * 2002-12-02 2009-04-28 주식회사 포스코 용융도금을 위한 유도 가열 설비 기준주파수 자동변환장치
GB0306259D0 (en) * 2003-03-19 2003-04-23 Pilkington Plc Method to determine the optical quality of a glazing
GB0307345D0 (en) * 2003-03-29 2003-05-07 Pilkington Plc Glazing inspection
JP2009042055A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Toshiba Corp マスク欠陥検査データ生成方法とマスク欠陥検査方法
KR101084167B1 (ko) * 2009-03-04 2011-11-17 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법
KR102592921B1 (ko) * 2015-12-31 2023-10-23 삼성전자주식회사 패턴 결함 검사 방법
CN116604769B (zh) * 2023-06-02 2023-11-07 中山市东润智能装备有限公司 注塑件下料和检测设备

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE789977A (fr) * 1971-10-21 1973-02-01 Buckbee Mears Co Appareil d'essai pour masque perfore de tube image de television
US3918815A (en) * 1974-08-05 1975-11-11 Rca Corp Densitometer for measuring average aperture diameter
US4498779A (en) * 1979-01-10 1985-02-12 Rca Corporation Automatic stripe width reader
US4282511A (en) * 1980-01-07 1981-08-04 Rca Corporation Apparatus for discerning the noticeable presence of spatial fluctuations of intensity within a two-dimensional visual field
JPS56126749A (en) * 1980-03-11 1981-10-05 Asahi Glass Co Ltd Detecting method for defect of sheet-form substance
US4268172A (en) * 1980-04-15 1981-05-19 Western Electric Company, Inc. Method of and system for automatically adjusting a threshold level of a pulse generating circuit to inspect a web
US4533251A (en) * 1980-06-09 1985-08-06 Gte Products Corporation Apparatus and process for automatically measuring aperture size of apertured material
US4454545A (en) * 1982-06-14 1984-06-12 Rca Corporation Charge coupled device based inspection system and method
US4525735A (en) * 1983-02-15 1985-06-25 Rca Corporation System for measuring and identifying line spacing on a curved surface
JPS59168313A (ja) * 1983-03-16 1984-09-22 Hitachi Ltd 検査装置
JPH061368B2 (ja) * 1983-09-20 1994-01-05 株式会社東芝 パタ−ン検査方法
US4641256A (en) * 1984-12-04 1987-02-03 Rca Corporation System and method for measuring energy transmission through a moving aperture pattern
US4665429A (en) * 1986-02-28 1987-05-12 Rca Corporation Photodetector array interface circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JP2732858B2 (ja) 1998-03-30
EP0300572B1 (de) 1993-03-10
GB2207237A (en) 1989-01-25
CN1015764B (zh) 1992-03-04
CN1030846A (zh) 1989-02-01
GB8717306D0 (en) 1987-08-26
DE3879015D1 (de) 1993-04-15
EP0300572A1 (de) 1989-01-25
KR890002950A (ko) 1989-04-12
JPS6449947A (en) 1989-02-27
KR0129169B1 (ko) 1998-04-06
US4930889A (en) 1990-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3879015T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur ueberfruefung von lochmaskenplatten.
DE3012559C2 (de)
DE3612233C2 (de)
DE3347645C1 (de) Verfahren und Einrichtung zum opto-elektronischen Pruefen eines Flaechenmusters an einem Objekt
DE2935261C2 (de) Anordnung zur Mustererkennung
DE19825829C2 (de) Verfahren zur Bestimmung des Abstandes P einer Kante eines Strukturelementes auf einem Substrat
DE4201514A1 (de) Verfahren zur ermittlung von fehlerhaften stellen
DE2830846C2 (de) Vorrichtung zum Ermitteln von Fehlern in flächenhaften Mustern, insbesondere in Photomasken
EP0095517A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur automatischen optischen Inspektion
DE102006000946B4 (de) Verfahren und System zur Inspektion einer periodischen Struktur
EP0115573B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Erkennung von Fehlern in Geweben und ähnlichen textilen Flächengebilden
DE69219267T2 (de) Verfahren zur Anzeige eines Defektes und Vorrichtung hierfür
DE102016203392B3 (de) Bildinspektionsverfahren mit mehreren Kameras
DE2653590C3 (de) Vorrichtung zum Ermitteln von Fehlern in flächenhaften Mustern, insbesondere in Photomasken
DE3239938C2 (de)
EP0222079B1 (de) Verfahren zur optischen Prüfung von Leiterplatten
DE3226999A1 (de) Verfahren und geraet fuer die erfassung von anomalien in der wiedergabe eines musters
DE102018124401A1 (de) Verfahren zum Aufnehmen eines Bildes mit einem Teilchenmikroskop
DE69110012T2 (de) Linienerkennungsverfahren.
DE3714011A1 (de) Verfahren und anordnung zum bildvergleich
DE68912900T2 (de) Verfahren und Gerät zur Inspektion von Schichten.
DE19911944A1 (de) Vorrichtung zur Bestrahlung mit geladenen Teilchenstrahlen und Bestrahlungsverfahren hierfür
DE3010559C2 (de) Einrichtungen zur Feststellung von Fehlern in regelmäßigen Mustern
DE4006181A1 (de) Anordnung zum abtasten einer roentgenaufnahme
DE4339715C1 (de) Verfahren zur Messung der Lage eines Objekts

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, N

8339 Ceased/non-payment of the annual fee