JPS59168313A - 検査装置 - Google Patents
検査装置Info
- Publication number
- JPS59168313A JPS59168313A JP58042208A JP4220883A JPS59168313A JP S59168313 A JPS59168313 A JP S59168313A JP 58042208 A JP58042208 A JP 58042208A JP 4220883 A JP4220883 A JP 4220883A JP S59168313 A JPS59168313 A JP S59168313A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- video
- stage
- pattern
- inspected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はホトマスクの作成に使用するマスク原版の欠陥
を検査する場合に好適な検査装置行に関するものである
。
を検査する場合に好適な検査装置行に関するものである
。
ホトリソグラフィ技術に使用するホトマスクは、レチク
ルと称するマスク原版を利用して、例えばステップアン
ドリピートカメラによって作成している。このため、マ
スク原版の一部にでも欠陥が生じていると、原版パター
ンを桝目状に縮小配列形成したホトマスクの全てのパタ
ーンの同一箇所Ｋ ｉ偵欠陥が転写されることになり、
結局このホトマスクを用いて形成する半導体素子に所謂
共通欠βｉ７１が発生されろことになる。
ルと称するマスク原版を利用して、例えばステップアン
ドリピートカメラによって作成している。このため、マ
スク原版の一部にでも欠陥が生じていると、原版パター
ンを桝目状に縮小配列形成したホトマスクの全てのパタ
ーンの同一箇所Ｋ ｉ偵欠陥が転写されることになり、
結局このホトマスクを用いて形成する半導体素子に所謂
共通欠βｉ７１が発生されろことになる。
このため、ホトマスクの作成に際してはその都度マスク
収版の検査が要求されるが、本発明がこれまで行なって
きた検査方法はマスク原版の全面を作・慾者が口微鏡を
利用して目視して検査する方法であるため、作朶者に依
存した結果となり、熟練を要すると共に見落しも多（ま
た検査時間が長くなるという問題がある。また他の方法
としてマスク原版に光を照射しＪｊ４ｖＩＪの反射光を
検出して欠陥検査を行なう方法も考えられているが、原
版のパターンエツジ等の反射光が障害になって正確な検
査結果が得られないという問題がある。
収版の検査が要求されるが、本発明がこれまで行なって
きた検査方法はマスク原版の全面を作・慾者が口微鏡を
利用して目視して検査する方法であるため、作朶者に依
存した結果となり、熟練を要すると共に見落しも多（ま
た検査時間が長くなるという問題がある。また他の方法
としてマスク原版に光を照射しＪｊ４ｖＩＪの反射光を
検出して欠陥検査を行なう方法も考えられているが、原
版のパターンエツジ等の反射光が障害になって正確な検
査結果が得られないという問題がある。
このように、これまで本発明者が行なってきた検査方法
では夫々に問題があり、信頼度の高い検査結果を得るこ
とは困難であろう 〔発明の目的〕 本発明の目的はマスク原版の欠陥検査を高信頼度で自動
的に行なうことができろ検査装置を提供することにある
、 また本発明の他の目的はマスク原版の検査時に欠陥箇所
を指示して異物の除去を容易に行なうことができる検査
装置を提供することにある。
では夫々に問題があり、信頼度の高い検査結果を得るこ
とは困難であろう 〔発明の目的〕 本発明の目的はマスク原版の欠陥検査を高信頼度で自動
的に行なうことができろ検査装置を提供することにある
、 また本発明の他の目的はマスク原版の検査時に欠陥箇所
を指示して異物の除去を容易に行なうことができる検査
装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細＝ｔの記述および添付図面か祇あきらかになるで
あろう。
本明細＝ｔの記述および添付図面か祇あきらかになるで
あろう。
本願においてドｄ示される発明のうち代表的なものの概
要を毎コ卓に説明すれば、下記のとおりである。
要を毎コ卓に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、予め欠陥のないマスク原版のノくターンを収
録したビデオデツキと、被検査体としてのマスク原版の
パターンを撮影するビデオカメラとを備え、これらのビ
デオ画像を図柄上で比較して両′、許の同一性を判定す
ることにより、被検マスク原版の欠陥を高信頼間でかつ
短時間に、しかも自動的に検査を行なうことができるも
のである。
録したビデオデツキと、被検査体としてのマスク原版の
パターンを撮影するビデオカメラとを備え、これらのビ
デオ画像を図柄上で比較して両′、許の同一性を判定す
ることにより、被検マスク原版の欠陥を高信頼間でかつ
短時間に、しかも自動的に検査を行なうことができるも
のである。
実施例
８３１図は本発明の実施例の全体、構成図であり、被検
マスク原版１ばＸＹステージ２上にセットされている。
マスク原版１ばＸＹステージ２上にセットされている。
即ち、このＸＹステージ２は、Ｙ軸ドライブパルスモー
タ３によりＹ方向に往復移動されるＹステージ４と、こ
の上側にあってＸｌ１ｌｌｌＩドライブパルスモータ５
によりＸ方向に往復移動されるＸステージ６とからなり
、Ｘステージ６に設けたホルダ７に前記被検マスク原版
１を固定支持している。この場合、被検マスク１はガラ
ス板８０表面にクロム等によって形成したパターン面９
を上方に向けて支持し、前記Ｙステージ４．Ｘステージ
６に夫々形成した開Ｉコ４’ ａ ＋ ６ ａを通して
ノ々ターン面９を下方に透視させる。また、前記各モー
タ３，５はステージドライブ回路１０により制御駆動さ
れろ、 一方、励記Ｘステージ６ジ上方には水銀灯からなる光源
１１．レンズ群１２及び光ファイバ１３を備える照明系
１４を配設し、光ファイバ１３の先端から射出される光
源１１の光によって前記被検マスク原版１を部分的に照
明する。そして、この光ファイバ１３の先端に対向する
ＸＹステージ２の下方には光ファイバ１３と元軸を一致
させたマイクロスコープ１５を配置し、更にその下側に
ビデオカメラ１６を配設している。このビデオカメラ１
６はビデオデツキ１７に接続して撮影画像を内蔵のビデ
オテープに録画（収録）できる一方、判定回路１８にも
撮影画像信号を送出できるようにしている。また、前記
ビデオデツキ１７は前記ステージドライブ回路１０に接
続しており、ステージドライブ回路１０から出力される
ＸＹステージ２の座標信号を前記撮影画像と同期して記
録できる。更にビデオデツキ１７は判定回路１８にも接
続し、録画している１Ｉｉｌｉｉ像信号を判定回路１８
に送出できる。
タ３によりＹ方向に往復移動されるＹステージ４と、こ
の上側にあってＸｌ１ｌｌｌＩドライブパルスモータ５
によりＸ方向に往復移動されるＸステージ６とからなり
、Ｘステージ６に設けたホルダ７に前記被検マスク原版
１を固定支持している。この場合、被検マスク１はガラ
ス板８０表面にクロム等によって形成したパターン面９
を上方に向けて支持し、前記Ｙステージ４．Ｘステージ
６に夫々形成した開Ｉコ４’ ａ ＋ ６ ａを通して
ノ々ターン面９を下方に透視させる。また、前記各モー
タ３，５はステージドライブ回路１０により制御駆動さ
れろ、 一方、励記Ｘステージ６ジ上方には水銀灯からなる光源
１１．レンズ群１２及び光ファイバ１３を備える照明系
１４を配設し、光ファイバ１３の先端から射出される光
源１１の光によって前記被検マスク原版１を部分的に照
明する。そして、この光ファイバ１３の先端に対向する
ＸＹステージ２の下方には光ファイバ１３と元軸を一致
させたマイクロスコープ１５を配置し、更にその下側に
ビデオカメラ１６を配設している。このビデオカメラ１
６はビデオデツキ１７に接続して撮影画像を内蔵のビデ
オテープに録画（収録）できる一方、判定回路１８にも
撮影画像信号を送出できるようにしている。また、前記
ビデオデツキ１７は前記ステージドライブ回路１０に接
続しており、ステージドライブ回路１０から出力される
ＸＹステージ２の座標信号を前記撮影画像と同期して記
録できる。更にビデオデツキ１７は判定回路１８にも接
続し、録画している１Ｉｉｌｉｉ像信号を判定回路１８
に送出できる。
前記判定回路１８は表示部１９を備えて被検マスク原版
の欠陥の付熱を表示するが、欠陥を検出したと六に発す
るストップ信号系２０を前記ステージドライブ回路１０
に接続している。
の欠陥の付熱を表示するが、欠陥を検出したと六に発す
るストップ信号系２０を前記ステージドライブ回路１０
に接続している。
次に以上の構成になる検査装置を用いた被検マスク原版
の検査方法を説明する。
の検査方法を説明する。
先ず、異物が全く付着していｔ「い完全マスク原版を第
１図の被検マスク原版１の代りにＸＹステージ２にセッ
トする。この完全マスク原版は、第２トン１（ｒ（示す
ように、完全マスク原版ＩＡに例えばレーザ光源２１の
レーザ光を投射し７てこれをマスク全面に走査させる一
方その反射光を受光累子２２で検出し二の検出信号を処
理回路２３で２値化処理しり上でこれをコンピュータ２
４にてマスクの設計データ（Ｍ Ｔ ） ２５と比較し
て異′吻を検査し、その都度異物を除去しながら欠陥が
全くないものと確認されたものである。この確認にはｉ
めて多くの労力と時間を必要とする。
１図の被検マスク原版１の代りにＸＹステージ２にセッ
トする。この完全マスク原版は、第２トン１（ｒ（示す
ように、完全マスク原版ＩＡに例えばレーザ光源２１の
レーザ光を投射し７てこれをマスク全面に走査させる一
方その反射光を受光累子２２で検出し二の検出信号を処
理回路２３で２値化処理しり上でこれをコンピュータ２
４にてマスクの設計データ（Ｍ Ｔ ） ２５と比較し
て異′吻を検査し、その都度異物を除去しながら欠陥が
全くないものと確認されたものである。この確認にはｉ
めて多くの労力と時間を必要とする。
この完全マスク原版ＩＡをＸＹステージ２によりＸ、Ｙ
方向に移動させながら照明系１４で照明を行ない、完全
マスク原版ＩＡの透過光でマスクパターンをビデオカメ
ラ１６により撮影する。この撮影画像はステージドライ
ブ回路１０からの同期した座標信号と共にビデオデツキ
１７内に記録される。
方向に移動させながら照明系１４で照明を行ない、完全
マスク原版ＩＡの透過光でマスクパターンをビデオカメ
ラ１６により撮影する。この撮影画像はステージドライ
ブ回路１０からの同期した座標信号と共にビデオデツキ
１７内に記録される。
次に完全マスク原版に代えて第１図のように被検マスク
原版１をＸステージ６のホルダ７に固定支持し、前述と
同様にＸＹステージ２を作動させながら被検マスク原版
１を照明系１４により上方から照明し、その透過光を利
用してマスクパターンをビデオカメラ１６で撮影する。
原版１をＸステージ６のホルダ７に固定支持し、前述と
同様にＸＹステージ２を作動させながら被検マスク原版
１を照明系１４により上方から照明し、その透過光を利
用してマスクパターンをビデオカメラ１６で撮影する。
そして、このとき、ビデオカメラ１６の撮影画像信号は
判定回路１８に送出する一方、ビデオデツキ１７内に記
録している完全マスク原版の画像信号を判定回路１８に
送出する。この場合、前記ＸＹステージ２はビデオデツ
キ１７内に記録された完全マスク原版の座標データをス
テージドライブ回路１０内に取り込んでこれに基づいて
ＸＹ作動・されるため、両者の画像信号は座標が対応さ
れたものとなる。
判定回路１８に送出する一方、ビデオデツキ１７内に記
録している完全マスク原版の画像信号を判定回路１８に
送出する。この場合、前記ＸＹステージ２はビデオデツ
キ１７内に記録された完全マスク原版の座標データをス
テージドライブ回路１０内に取り込んでこれに基づいて
ＸＹ作動・されるため、両者の画像信号は座標が対応さ
れたものとなる。
したがって、判定回路１８において、ビデオカメラ１６
とビデオデツキ１７どの画像信号を比較して両者の相違
を検出すれば直ちに欠陥箇所を検出できる。この場合、
両信号の比較は図柄の比較となるため、例えばビデオカ
メラ信号を赤色とし、ビデオデツキ信号を緑色にして両
者を重ねれば、両者が一致する箇所は黒色の図柄となり
不一致の箇所は赤又は緑色となるために極めて簡単に比
較を行なうことができる。また、図柄の比較のため、電
気信号による比較に対して比較対象面積（１ビツトの比
較）が大きくでき、全マスク面の走査比較時間を格段に
短縮できる。
とビデオデツキ１７どの画像信号を比較して両者の相違
を検出すれば直ちに欠陥箇所を検出できる。この場合、
両信号の比較は図柄の比較となるため、例えばビデオカ
メラ信号を赤色とし、ビデオデツキ信号を緑色にして両
者を重ねれば、両者が一致する箇所は黒色の図柄となり
不一致の箇所は赤又は緑色となるために極めて簡単に比
較を行なうことができる。また、図柄の比較のため、電
気信号による比較に対して比較対象面積（１ビツトの比
較）が大きくでき、全マスク面の走査比較時間を格段に
短縮できる。
判定回路１８の比較結果は表示部１９に表示されるが、
不一致部、即ち欠陥が生じているときにはストップ信号
系２０に信号を送出してステージドライブ回路１０を制
御し、ＸＹステージ２を直ちに停止する。これにより、
現在照明系１４によって光が照射されているマスク原版
上の部位に異物の付着等の欠陥が生じていることが判る
。このため、異物の除去を極めて容易に行なうことがで
きる。
不一致部、即ち欠陥が生じているときにはストップ信号
系２０に信号を送出してステージドライブ回路１０を制
御し、ＸＹステージ２を直ちに停止する。これにより、
現在照明系１４によって光が照射されているマスク原版
上の部位に異物の付着等の欠陥が生じていることが判る
。このため、異物の除去を極めて容易に行なうことがで
きる。
一枚のマスク原版１の検査が完了すれば、その後直ちに
あるいは時間をおいた後に、全く同様にして他のマスク
原版の検査を行なうことができる。
あるいは時間をおいた後に、全く同様にして他のマスク
原版の検査を行なうことができる。
但し、同一規格のマスク原版である以上は、ビデオデツ
キ１７内の記録信号はそのまま利用することができ、そ
の都度完全マスク原版を用意する必要はない。これによ
り工数のかかる完全マスク原版の確認を不要とする。
キ１７内の記録信号はそのまま利用することができ、そ
の都度完全マスク原版を用意する必要はない。これによ
り工数のかかる完全マスク原版の確認を不要とする。
（１）予め完全マスク原版の画像信号をビデオデツキ内
に記姦しておき、この信号と被検マスク原版のビデオカ
メラの画像信号とを比較して欠陥検査する構成なので、
各被検マスク原版の画像を電気信号化して設計データ（
Ｍ Ｔ ）と比較する方式よりも検査時間を格段に短縮
できる。
に記姦しておき、この信号と被検マスク原版のビデオカ
メラの画像信号とを比較して欠陥検査する構成なので、
各被検マスク原版の画像を電気信号化して設計データ（
Ｍ Ｔ ）と比較する方式よりも検査時間を格段に短縮
できる。
（２） ビデオデツキ内の完全マスク原版の画像信号
と、ビデオカメラの被検マスク原版の画像信号とを図柄
比較して両者の一致、不一致を判定する構成なので、比
較判定を極めて容易に行なうことができ、かつ判定を迅
速に行なうことができる。
と、ビデオカメラの被検マスク原版の画像信号とを図柄
比較して両者の一致、不一致を判定する構成なので、比
較判定を極めて容易に行なうことができ、かつ判定を迅
速に行なうことができる。
（３） ビデオデツキ内の記録信号によってＸＹステ
ージを作動させながら両者の比較判定を行なうので、パ
ターンＴＯデータ間の形状ずれが生じることはない。
ージを作動させながら両者の比較判定を行なうので、パ
ターンＴＯデータ間の形状ずれが生じることはない。
（４）マスク原版の透過光を利用して画像信号を得てい
るので、ホトマスクの作成時と同一条件下の検査となり
、特に条件判定が可能となって検査の信頼性を向上でき
る。
るので、ホトマスクの作成時と同一条件下の検査となり
、特に条件判定が可能となって検査の信頼性を向上でき
る。
＋５）欠陥の存在する箇所でＸＹステージを停止できる
ため、暴物欠陥における異物の除去を容易に行なうこと
ができ、完全マスク原版を得ることが容易になる。
ため、暴物欠陥における異物の除去を容易に行なうこと
ができ、完全マスク原版を得ることが容易になる。
（６）完全マスク原版と被検マスク原版とを同一条件で
ビデオカメラにて撮影しかつ比較するので、パターンエ
ツジの反射光や問題にならないパターン形状誤差等をキ
ャンセルでき、検査精度を向上できる。
ビデオカメラにて撮影しかつ比較するので、パターンエ
ツジの反射光や問題にならないパターン形状誤差等をキ
ャンセルでき、検査精度を向上できる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、完全ホトマ
スクと作成されたホトマスクを比較することによって作
成されたホトマスクの検査を□行なうようにしてもよい
。
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、完全ホトマ
スクと作成されたホトマスクを比較することによって作
成されたホトマスクの検査を□行なうようにしてもよい
。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるホトマスク作成用の
マスク原版に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく写真製版用のネガや原版等の分
野にも適用できるっ
をその背景となった利用分野であるホトマスク作成用の
マスク原版に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく写真製版用のネガや原版等の分
野にも適用できるっ
第１図は本発明の実施例の全体構成図、第２図は完全マ
スク原版を確認する方式を説明するための模式的な装置
構成図である。 １・・・被検マスク原版、ＩＡ・・・完全マスク原版、
２ 、、、 ｘ ｙステージ、１ｏ゛・・・ステージド
ライブ回路、１４・・・照明系、１６・・・ビデオカメ
ラ、１７・・・ビデオデツキ、１８・・・判定回路、２
０・・・ストップ信号系、２１・・・レーザ光源、２２
・・・受光素子、２４・・・コンピュータ、２４・・・
設計データ（ＭＴ）。 第 １ 図 ／ダ ／ 第 ２ 図
スク原版を確認する方式を説明するための模式的な装置
構成図である。 １・・・被検マスク原版、ＩＡ・・・完全マスク原版、
２ 、、、 ｘ ｙステージ、１ｏ゛・・・ステージド
ライブ回路、１４・・・照明系、１６・・・ビデオカメ
ラ、１７・・・ビデオデツキ、１８・・・判定回路、２
０・・・ストップ信号系、２１・・・レーザ光源、２２
・・・受光素子、２４・・・コンピュータ、２４・・・
設計データ（ＭＴ）。 第 １ 図 ／ダ ／ 第 ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、予め欠陥のない完全マスク原版のパターン画像信号
を記録したビデオデツキと、マスク原版等の被検査体の
パターンを撮影するビデオカメラと、これらビデオデツ
キとビデオカメラの各パターン画像信号の図柄を比較し
て両者の一致、不一致を検出判定する判定回路とを備え
たことを特徴とする検査装置。 ２、 ビデオデツキは完全マスク原版の座標信号を記録
し、この座標信号に基ついて被検査体を支持したＸＹス
テージを作Ｂ力制霞し得る特許請求の範囲第１項記載の
検を装置。 ３、判定回路は不一致の時にストップ信号を出力し、前
記ＸＹステージの作すｊを停止し得る特許請求の範囲第
１項又は第２項記載の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58042208A JPS59168313A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58042208A JPS59168313A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59168313A true JPS59168313A (ja) | 1984-09-22 |
Family
ID=12629596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58042208A Pending JPS59168313A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59168313A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449947A (en) * | 1987-07-22 | 1989-02-27 | Philips Nv | Inspection method and apparatus for holed mask sheet |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP58042208A patent/JPS59168313A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6449947A (en) * | 1987-07-22 | 1989-02-27 | Philips Nv | Inspection method and apparatus for holed mask sheet |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8903158B2 (en) | Inspection system and inspection method | |
| JPH061370B2 (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
| JP2776416B2 (ja) | レチクル外観検査装置 | |
| JP3067142B2 (ja) | ホトマスクの検査装置及びホトマスクの検査方法 | |
| JPS6043657B2 (ja) | 物体状態検査方法 | |
| JPS59168313A (ja) | 検査装置 | |
| JP2007170914A (ja) | フォトマスクの検査方法及び検査装置 | |
| JPH04223262A (ja) | 蛍光磁粉探傷における画像処理方法 | |
| JPH0797083B2 (ja) | レチクルの検査方法 | |
| JPS6048683B2 (ja) | 物体表面状態検査方法とその検査装置 | |
| JPH06160065A (ja) | 欠け検査装置 | |
| KR20050064458A (ko) | 패턴 검사 장치 | |
| JP2000074631A (ja) | 面取り幅測定装置 | |
| JPH0351747A (ja) | パターン検査装置 | |
| JPS5858548A (ja) | フオトマスクの検査および修正装置 | |
| JPH01239922A (ja) | パターン欠陥検査装置 | |
| JPS62132153A (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
| JPH0953923A (ja) | 立体物の形状検査装置 | |
| JPS6217745B2 (ja) | ||
| JPS59103336A (ja) | マスク検査修正装置 | |
| JPH0222542A (ja) | フォトマスク欠陥検査装置 | |
| JPS6153724A (ja) | 露光装置 | |
| JPS582450B2 (ja) | パターンの欠陥検査装置 | |
| JPH04361548A (ja) | 欠陥検査方法及び検査装置 | |
| KR20050065155A (ko) | 패턴 검사 장치 |