DE382254T1 - Flachanode. - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0642—Anodes
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Claims (15)
- Nr. 90 102 605.4Ansprüche. In einer wenigstens im wesentlichen breitflächigen und unflexiblen Anodenstruktur mit einer festen Anodenan- .> Ordnung, welche wenigstens eine Fläche zur Verwendung | bei der galvanischen Abscheidung eines Überzuges auf einer sich bewegenden Kathode in Blatt- oder Streifenform besitzt und eine segmentierte Plattenanode mit Plattenanodensegmenten umfaßt, welche zur Realisierung einer der sich bewegenden Blatt- oder Streifenkathode zugekehrten Breitenanodenfläche miteinander kombiniert sind, umfaßt die Verbesserung wenigstens ein Anodensegment, das wenigstens eine über das Anodensegment verlaufende Schrägschnittkante besitzt, welche einen ' Schrägschnitt relativ zur Bewegungsrichtung der Kathode darstellt.
- 2. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher sich die Schrägschnittkante in einer kontinuierlichen geraden Linie über die volle Breite des Segmentes verläuft.
- 3. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher alle Anodensegmente für die Plattenanode wenigstens eine Schrägschnittkante aufweisen.
- 4. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher die Schrägschnittkante des Anodensegmentes auf der anderen Seite einer Schrägschnittkante eines zweiten Anodensegmentes angeordnet ist.
- 5. Anodenstruktur nach Anspruch 4, bei welcher die sichgegenüberliegenden Schrägschnittkanten der Anodensegmente durch einen nicht-isolierenden Spalt von etwa f 0,0254 mm bis etwa 0,762 mm voneinander getrennt sind. j
- 6. Anodenstruktur nach Anspruch 5, bei welcher der Spalt bei der galvanischen Abscheidung wenigstens im wesentlichen mit Elektrolyt gefüllt ist._
- 7. Anodenstruktur nach Anspruch 6, bei welcher benachbarte* Anodensegmente über den Spalt im elektrischleitendemKontakt stehen.
- 8. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher die Schrägschnittkante in Bezug auf den Bewegungsweg der sich bewegenden Kathode unter einem Winkel von etwa 30° bis etwa 70° durch das Anodensegment verläuft.
- 9. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher die festeAnodenanordnung wenigstens eine Elektrolyteintritts-15öffnung aufweist, welche die breite Anodenfläche durchdringt und von der Schrägschnittkante beabstandet ist.
- 10. Anodenstruktur nach Anspruch 9, bei welcher eineElektrolytzuführeinrichtung mit der Elektrolytöffnungzur Zuführung von Elektrolyt zu der breiten Anodenfläche verbunden ist.
- 11. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher die breiteebene Anodenfläche eine einen elektrolytischen Überzugaufweisende aktive Anodenfläche ist.
- 12. Anodenstruktur nach Anspruch 11, bei welcher der elektrolytische Überzug ein Platingruppenmetall oderwenigstens ein Oxid enthält, das aus der Gruppe ausge-wählt ist, welche aus Platingruppenmetalloxiden,Magnetit, Ferrit und Kobaltoxid spinell besteht.
- 13. Anodenstruktur nach Anspruch 11, bei welcher derelektrolytische Überzug ein Mischoxidmaterial auswenigstens einem Oxid eines Ventilmetalls und wenigstens einem Oxid eines Platingruppenmetalls enthält.-3-
- 14. Anodenstruktur nach Anspruch 1, bei welcher die Plattenanodensegmente gekrümmt sind und die gekrümmtenSegmente konzentrisch zu einer gekrümmten Kathode fvoneinander beabstandet sind.
- 15. Verfahren zur galvanischen Beschichtung einer sich bewegenden Metallkathode in Blatt- oder Streifenform, gekennzeichnet durch die Verwendung einer Anodenstruktur nach Anspruch
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