DE37960C - Verfahren zur elektrochemischen Metallätzung - Google Patents
Verfahren zur elektrochemischen MetallätzungInfo
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
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Description
KAISERLICHES
Die bisherigen Methoden der Metallätzung leiden an verschiedenen Mängeln, welche daraus
entstehen, dafs die Aetzung ausschliefslich eine Wirkung der angewendeten Säure ist.
Diese Mängel bestehen hauptsächlich darin, dafs infolge der nach allen Richtungen hin
ungleichmäfsigen (fressenden) Wirkung der Säure weder scharfe Contouren noch eine gleichmäfsige
Tiefe der Aetzung zu erreichen sind; dafs ferner zur Verminderung des beschriebenen
Nachtheiles, soweit dieselbe überhaupt möglich ist, ein sehr umständliches, viel Zeit und
Arbeitskraft in Anspruch nehmendes Isolirungsverfahren nöthig ist, und dafs das Verfahren
nur auf Zink anwendbar ist.
Diese Mängel soll das neue, nachstehend.beschriebene
Verfahren beseitigen.
Die zu ätzende Platte, welche aus jedem beliebigen Metall oder jeder beliebigen Legirung
bestehen kann, wird, nachdem die einzuätzende Zeichnung daraufgebracht und nachdem die
Stellen der Platte, welche erhaben bleiben sollen, mit einer guten, sowohl gegen die
Elektricität als auch gegen die Wirkung der anzuwendenden Säure schützenden Isolirschicht
versehen ist, mit dem einen Poldraht einer galvanischen Batterie leitend verbunden. Den
anderen Poldraht der Batterie aber verbindet man leitend mit einer anderen Metall- oder
gut leitenden Kohlenplatte (Gegenplatte), deren Fläche der ersten Platte gleich ist. Nun bringt
man beide Platten als Elektroden flächenparallel zu einander in ein Bad einer verdünnten
Säure, welche das Metall oder die Legirung, aus welchem die zu ätzende Platte besteht, chemisch anzugreifen im Stande ist.
Man kann auch das Gefäfs, in welchem sich das Säurebad befindet, als Gegenplatte benutzen.
Der galvanische Strom geht nun von jeder nicht isolirten Stelle der einen Elektrode (Platte)
nach der auf dem kürzesten Wege (senkrecht) gegenüberliegenden Stelle der anderen Elektrode,,
wodurch sowohl die chemische Wirkung der Säure auf das Metall wesentlich verstärkt und
daher die Aetzung beschleunigt, als auch bewirkt, dafs diese chemische Wirkung in die
Richtung des galvanischen Stromes gebracht wird, die Aetzung daher senkrecht nach der
Tiefe der Aetzplatte gleichmäfsig fortschreitet, ohne dafs die Isolirschicht unterfressen oder
das Metall von der Seite angegriffen wird. Die Aetzung kann bis zu beliebiger Tiefe fortgesetzt
werden.
Claims (1)
- Patent-Anspruch:Das Verfahren zur Aetzung von Metall, indem das zu ätzende Metallstück einerseits und ein flächenparallel dazu gestellter Gegenstand aus Metall oder leitender Kohle (Gegenplatte) andererseits als Elektroden eines galvanischen Stromes in einem Säurebad verwendet werden.
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE37960C true DE37960C (de) |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT37960D Expired - Lifetime DE37960C (de) | Verfahren zur elektrochemischen Metallätzung |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE37960C (de) |
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