DE3711796A1 - Lichtempfindliches element - Google Patents
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- C07D317/50—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to atoms of the carbocyclic ring
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Description
In der Elektrofotografie sind die folgenden Verfahren
allgemein bekannt: Das Direktverfahren bei dem die
Oberfläche einer fotoleitfähigen Schicht eines lichtempfindlichen
Elementes elektrisch geladen und belichtet
wird, um ein elektrostatisch latentes Bild zu erzeugen,
das mit einem Entwickler entwickelt wird, um das Bild
sichtbar zu machen, worauf das sichtbar gemachte Bild
direkt auf dem lichtempfindlichen Element fixiert wird,
um ein Kopierbild zu erzeugen; das Tonerbild-Übertragungverfahren,
bei dem ein sichtbares Bild von einem lichtempfindlichen
Element auf einen Übertragungsträger, beispielsweise
Papier, übertragen wird, wo das übertragene
Bild fixiert wird, um ein Kopierbild zu schaffen; und das
Verfahren zum Übertragen eines elektrostatisch latenten
Bildes, bei dem ein elektrostatisch latentes Bild von einem
lichtempfindlichen Element auf ein Übertragungspapier
übertragen wird, das dann auf dem Papier entwickelt
und fixiert wird.
Es ist bekannt, daß anorganische, fotoleitfähige
Materialien, wie beispielsweise Selen, Cadmium, Sulfat,
Zinkoxid u. dgl. als fotoleitfähige Materialien verwendet
werden, um die lichtempfindliche Schicht eines lichtempfindlichen
Elementes zu bilden, welches bei den vorstehend
beschriebenen elektrofotografischen Verfahren
verwendet wird. Diese fotoleitfähigen Materialien haben
verschiedene Vorteile; sie können auf ein genaues Potential
elektrisch geladen werden; ihr Ladungsabfluß bei Dunkelheit
ist kleiner und die Ladung kann durch Bestrahlung mit
Licht schnell neutralisiert werden. Solche Materialien
haben jedoch auch zahlreiche Nachteile. Beispielsweise
führen lichtempfindliche Materialien aus Selen zu höheren
Herstellkosten und erfordern eine vorsichtige Handhabung,
da sie gegenüber Wärme und mechanischen Stößen empfindlich
sind. Lichtempfindliche Elemente aus Cadmiumsulfat und
Zinkoxid können unter hoher Luftfeuchtigkeit weder eine
stabile Sensibilität noch über eine längere Zeitdauer
stabile Eigenschaften entwickeln, da ein in den Elementen
enthaltenes Farbmaterial infolge Coronaladung eine
Verschlechterung der Ladungsorientierung und infolge
der Belichtung ein Schwinden der Farbe verursacht.
Andererseits sind zahlreiche organische fotoleitfähige
Polymere mit Polyvinylcarbazol bereits vorgeschlagen
worden. Verglichen mit den vorstehend genannten anorganischen
fotoleitfähigen Materialien haben diese
Polymere bezüglich ihrer Beschichtungseigenschaften und
Leichtigkeit überragende Eigenschaften, bezüglich
Sensibilität, Lebensdauer und Stabilität gegenüber
Umweltbeeinflussung jedoch minderwertigere Eigenschaften.
Niedermolekulare, organische fotoleitfähige Materialien
sind vorzuziehen, da ihre Beschichtungseigenschaften
oder elektrofotografischen Eigenschaften durch beliebige
Bestimmung des Typs, der Zusammensetzung u. dgl. eines
bei den Bestandteilen verwendeten Binders reguliert
werden können. Die kombinierte Verwendung mit einem
Binder macht es jedoch erforderlich, daß jeder der Bestandteile
mit dem Binder verträglich sein muß.
Das lichtempfindliche Element, welches hochmolekulare
oder niedermolekulare organische fotoleitfähige Bestandteile
aufweist, die in dem Binderharz dispergiert
sind, haben Nachteile, wie ein größeres Restpotential
infolge der größeren Anziehung der Trägerteilchen, was
zu einer geringen Sensibilität führt. Demgemäß wurde
vorgeschlagen, ein Ladungstransportmaterial in eine
organische, fotoleitfähige Zusammensetzung einzumischen,
um die vorstehenden Nachteile zu beseitigen.
Es wurden verschiedene organische Zusammensetzungen als
Ladungstransportmaterialien vorgeschlagen, diese Zusammensetzungen
haben jedoch zahlreiche Nachteile. Die
aus der US-PS 31 89 447 bekannten, 2,5-bi(P-diethylaminophenyl)-
1,3,4-Oxadiazole haben beispielsweise eine
geringe Verträglichkeit mit einem Binder, und neigen zu
Kristallisation. Die in der US-PS 38 20 989 beschriebenen
Diarylalkan-Derivate haben eine zufriedenstellende Verträglichkeit
mit einem Binder, haben jedoch bei wiederholter
Verwendung eine Verschlechterung der Sensibilität.
Die in der JP-PA 59 143/1979 beschriebenen Hydrozon-Zusammensetzungen
haben vergleichsweise gute Restpotentialeigenschaften,
sind jedoch bezüglich Sensibilität und
Ladungskapazität unterlegen.
Tatsache ist, daß es wenige Ladungstransportmaterialien
gibt, die Eigenschaften aufweisen, welche in der Praxis
beim Herstellen eines lichtempfindlichen Elementes von
Vorteil sind.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein für die
Herstellung von fotoempfindlichen Elementen geeignetes
Ladungstransportmaterial zu schaffen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
fotoempfindliches Element, gekennzeichnet durch eine
Enaminverbindung als Ladungstransportmaterial. Das
fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung
hat ausgezeichnete Ladungstransporteigenschaften,
ein stabiles Anfangsoberflächenpotential
und weist eine zufriedenstellende Ladungskapazität
auf. Mit seinen ausgezeichneten Ladungstransporteigenschaften
und seiner geringen Anzahl Fangstellen im Träger
hat das fotoempfindliche Element eine sehr viel
höhere Sensibilität als sie mit einem herkömmlichen
Ladungstransportmaterial erzeugt werden kann.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der
folgenden Figuren im einzelnen beschrieben. Es zeigt:
Fig. 1, 4 und 5 jeweils den Aufbau eines fotoempfindlichen
Elementes gemäß der vorliegenden
Erfindung vom Dispersionstyp mit einem
elektrisch leitfähigen Substrat, auf dem
eine fotoempfindliche Schicht ausgebildet
ist, und
Fig. 2 und 3 jeweils den Aufbau eines fotoempfindlichen
Elementes vom Funktionstrenntyp
mit einem elektrisch leitfähigen
Substrat, auf dem eine ladungserzeugende
und eine Ladungstransportschicht ausgebildet
ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein fotoempfindliches
Element mit einer fotoempfindlichen Schicht,
bestehend aus einer Enaminverbindung als ein
Ladungstransportmaterial, die durch die folgende allgemeine
Formel (I) ausgedrückt ist:
wobei T und W unabhängig von einander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkoxyarylgruppe,
Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe
oder eine Gruppe der allgemeinen Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder
2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische
Gruppe, die jeweils einen oder mehrere
unterschiedliche Substituenten aufweist, wobei wenigstens
eine Gruppe von T und W eine Alkylgruppe, di-
substituierte Aminoarylgruppe, Akylarylgruppe,
halogenisierte Arylgruppe, eine Gruppe mit der allgemeinen
Formel
(mit Ar ist eine Arylgruppe
und m = 1 oder 2), heterozyklische Gruppe oder
kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils
einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen
können und X und Y unabhängig von einander Wasserstoff,
eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe
oder Aralkylgruppe, sind, die jeweils einen
oder mehrere Substituenten mit Ausnahme der Alkyl-
und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen,
mit Ausnahme, daß X und Y beide Wasserstoff sind.
Die Charakteristik des fotoempfindlichen Elementes
gemäß der vorliegenden Erfindung ist, daß die Enaminverbindung
mit einem spezifischen Substituenten auf
einem Kohlenstoffatom der Enamingrundstruktur, als
Ladungstransportschicht des fotoempfindlichen Elementes
verwendet wird. Das erzielte fotoempfindliche Element
hat überragende Ladungstransporteigenschaften,
ein stabiles Anfangsoberflächenpotential und erzeugt
eine zufriedenstellende Ladungskapazität.
In der vorstehenden Formel (1) sind T und W unabhängig
von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe,
oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe, halogenierte Arylgruppe,
eine Gruppe der Formel
(Ar ist eine
Arylgruppe und m ist 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe,
die jeweils wenigstens einen oder mehrere Substituenten
aufweisen, die so ausgewählt sind, daß wenigstens
eine Gruppe von T und W eine Alkylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte
Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar ist eine Arylgruppe und m ist 1 oder 2) heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe
ist, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten
aufweisen. X und Y sind unabhängig von einander
Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe,
Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils
einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von
einer Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe,
aufweisen können,mit Ausnahme, daß X und Y beide
Wasserstoff sind.
Die Alkylgruppe kann linear, verzweigt, gesättigt
oder ungesättigt sein und vorzugsweise haben gesättigte
Kohlenwasserstoffe ein bis vier Kohlenstoffatome
(im nachfolgenden als C1-C4-Alkylgruppe bezeichnet).
Als Halogen wird vorzugsweise Chlor oder Fluor verwendet.
Als Alkoxyarylgruppe wird eine Arylgruppe verwendet,
die vorzugsweise eine oder mehrere C1-C3-Alkoxygruppen
aufweist und die Arylgruppe enthält Phenyl, Naphthyl
und Anthryl. Insbesondere wird eine C1-C3-Alkoxyphenylgruppe
verwendet. Diese Arylgruppe kann einen
anderen Substituenten wie beispielsweise eine Alkylgruppe,
Wasserstoff und dgl. aufweisen.
Als Aralkylgruppe wird eine Benzylgruppe verwendet,
die einen oder mehrere Substituenten, wie beispielsweise
Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine di-substituierte
Aminogruppe, eine Dioxaalkylengruppe, Alkoxygruppe
und dgl. aufweist.
Als di-substituierte Aminoarylgruppe wird eine
Arylgruppe verwendet, wie beispielsweise Phenyl,
Naphthyl, Anthryl und dgl. mit einer (di-C1-C4-Alkyl)
Aminogruppe, Morpholinylgruppe, Piperidylgruppe, Piperazinylgruppe,
2,3-Dihydropyridylgruppe oder Tetrahydroquinolylgruppe.
Die halogenierte Arylgruppe ist vorzugsweise eine Chlor-
oder Fluorgruppe.
Die heterozyklische Gruppe ist vorzugsweise eine Pyridyl-,
Pyrrolyl-, Purinyl- Carbazolyl- Indolyl-, Thienyl-,
Furyl-, Quinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydroquinolyl-,
Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-, Dihydrobenzopyryl-,
Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-, Benzoimidazolyl-,
Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe.
Die kondensierte polyzyklische Gruppe ist vorzugsweise
eine Naphthyl-, Alkoxy-, di-substituierte Aminonaphthyl-
oder Anthrylgruppe.
In der Gruppe gemäß der allgemeinen Formel
kann Ar ein Phenyl, Naphthyl, Anthryl oder dgl. sein,
welches einen Substituenten, wie beispielsweise eine
Alkylgruppe, Wasserstoff usw. aufweist, und m ist
vorzugsweise eine ganze Zahl 1 oder 2.
Wenn T und/oder W eine halogenierte Phenylgruppe ist,
ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder
Alkoxyphenylgruppe.
Wenn T und/oder W eine di-substituierte Aminoarylgruppe
ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe,
Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe.
Wenn T und/oder W eine heterozyklische Gruppe ist, ist
X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe,
Wenn T und W eine Gruppe repräsentiert durch die Formel
(mit m = 1 oder 2), dann ist X und/
oder W vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe
oder Benzylgruppe.
Wenn T und/oder W eine kondensierte polyzyklische
Gruppe ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Wenn T und W irgend einen der vorstehenden Substituenten
aufweisen, kann das fotoempfindliche Element
überragende elektrofotografische Eigenschaften einschließlich
der Fotoempfindlichkeit, dem Restpotential,
der Bildmüdigkeit und anderer Eigenschaften,
aufweisen, die jeweils für eine lange Zeitdauer stabil
sind.
Die Enaminverbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung,
wie sie durch die allgemeine Formel (I) repräsentiert
sind, sind vorzugsweise solche, wie sie durch
die folgenden Formeln (I-1)-(I-9) ausgedrückt sind.
Hierbei ist jedoch anzumerken, daß der Schutzumfang
der Erfindung nicht auf diese Verbindungen begrenzt
ist.
Die Beispiele für die vorstehend genannten Enaminverbindungen,
die bei der vorliegenden Erfindung verwendet
werden, bestehen aus solchen, wie sie durch die folgende
allgemeine Formel repräsentiert sind.
wobei R1 und R2 unabhängig von einander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe,
Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Akylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe,
eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine
Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe sind,
die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten
aufweisen können, und so ausgebildet sind, daß wenigstens
ein Bestandteil R1 und R2 eine Aminoarylgruppe
mit Alkylgruppen, einer Morpholinylgruppe, Piperidylgruppe,
Piperazinylgruppe, 2,3-Dihydropyridylgruppe
oder Tetrahydroquinolylgruppe ist und eine Arylgruppe
eine Phenyl-, Naphthyl-, oder Anthrylgruppe ist; R3
und R4 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe,
oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder
Aralkylgruppe sind, die jeweils einen oder mehrere
Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di-
substituierten Aminogruppe und mit Ausnahme, daß R3
und R4 beide Wasserstoff sind. R3 und/oder R4 sind
vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe
oder Benzylgruppe.
Typische Beispiele für die Enaminverbindungen haben
eine der folgenden Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen, die für die Erfindung
verwendbar sind, sind solche, wie sie durch die folgende
allgemeine Formel ausgedrückt sind:
wobei R5 und R6 unabhängig von einander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe,
Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Aminoarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine
Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe
und m = 1 oder 2), heterozyklische Gruppe oder
kondensierte polyzyklische Gruppe sind, die jeweils
einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen
können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eines
von R5 und R6 eine heterozyklische Gruppe ist, ausgewählt
aus der Gruppe bestehend aus einer Pyridyl-, Pyrrolyl-,
Purinyl-, Carbazolyl-, Indolyl-, Thienyl-, Furyl-,
Quinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydroquinolyl-,
Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-, Dihydrobenzopyryl-,
Benzothiazolyl-, Benzooxazlyl-, Benzoimidazolyl-,
Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe ist; und mit
R7 und R8 unabhängig von einander Wasserstoff, eine
Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder
Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten
mit Ausnahme von Alkyl und/oder eine di-
substituierten Aminogruppe, mit Ausnahme, daß R7
und R8 beide Wasserstoff sind. R5 und/oder R6 sind
vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen Beispiele einer Enaminverbindung gemäß
der Erfindung, ausgedrückt durch die allgemeine
Formel (I-2) haben die folgenden Strukturen.
Anzumerken ist, daß der Schutzumfang der Erfindung
jedoch nicht auf diese Beispiele begrenzt ist.
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden
Erfindung verwendet werden sind durch die folgende
allgemeine Gleichung ausgedrückt:
mit R9 und R10 unabhängig von einander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe,
Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine
Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe
und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe
oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils
einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen
können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eins
von beiden R9 und R10 eine Gruppe der Formel
(mit m = 1 oder 2 und Ar eine Arylgruppe) ist, und mit
R11 und R12 unabhängig von einander Wasserstoff, eine
Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder
Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten
mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di-substituierten
Aminogruppe haben, mit Ausnahme, daß beide
R11 und R12 Wasserstoff sind. R11 und/oder R12 sind
vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder
Benzylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen die durch
die allgemeine Formel (I-3) ausgedrückt sind, haben die
folgenden Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen sind durch die folgende
allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R13 und R14 unabhängig von einander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe,
Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe,
eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine
Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die
jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen
können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens
eins von beiden R13 und R14 eine halogenierte Arylgruppe
ist; und mit R15 und R16 unabhängig von einander
Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe,
eine Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils
einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer
Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen,
mit Ausnahme, daß beide R15 und R16 Wasserstoff
sind. R15 und/oder R16 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe
oder Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen gemäß
der allgemeinen Formel (I-4) haben die folgenden
Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden
Erfindung verwendet werden, sind durch die folgende
allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R17 und R18 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralylgruppe,
Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe,
Akylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine
Gruppe der Formel
(mit Ar ist eine
Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die
jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen
können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens
eines von R17 und R18 eine kondensierte polyzyklische
Gruppe ist; und mit R19 und R20 unabhängig von einander
Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe,
Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen
oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl-
und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen,
mit Ausnahme, daß R19 und R20 beide Wasserstoff
sind. R19 und R20 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe
der Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen gemäß der
allgemeinen Formel (I-5) haben die folgenden Strukturen:
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden
Erfindung verwendet werden, sind durch die folgende
allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R21 und R22 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkokyarylgruppe,
Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe,
halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der
Formel
(mit Ar eine
Arylgruppe und m ist 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die
jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen,
die so ausgewählt sind, daß wenigstens R21 und
R22 eine C1-C4-Alkylgruppe ist; und mit R23 und
R24 unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe,
oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder
Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten
mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder der substituierten
Aminogruppe aufweisen, mit Ausnahme daß R23
und R24 beide Wasserstoff sind. R23 und/oder R24 sind
vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Typische Beispiele für eine Enaminverbindung gemäß
der allgemeinen Formel (I-6) haben die folgenden
Srukturen:
Die Enaminverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I)
gemäß der vorliegenden Erfindung können auf einfache
Art und Weise durch ein bekanntes Verfahren hergestellt
werden.
Beispielsweise werden gewöhnliche Enaminverbindungen
durch ein Verfahren synthetisiert, wie es in der Zeitschrift
"New Experimental Chemistry Course" 14-III,
S. 1417-1427 unter dem Titel "Shin Jikken Kagaku Koza"
von Maruzen Co., Ltd., veröffentlicht ist.
Die Enaminverbindungen können hergestellt werden, indem
beispielsweise eine Aminverbindung, ausgedrückt durch
die allgemeine Formel (II)
mit X und Y gleichgroß X und Y der Formel (I) und eine
Aldehydverbindung, ausgedrückt durch die allgemeine Formel (III)
mit T und W gleich T und W der Formel (I) einer Kondensation
über eine Dehydration unterzogen werden.
Die Kondensationsreaktion wird üblicherweise durch Entfernen
des erzeugten Wassers durch eine azeotropische
Destillation durchgeführt unter Verwendung eines Lösungsmittels,
wie beispielsweise Benzol, Toluen, Xylen oder
dgl., oder indem ein Katalisator, wie beispielsweise
Pottasche, p-Toluenschwefelsäure, Essigsäure, Dowex 50
oder Montmorillonitkatalisator K10 verwendet wird.
Die verwendeten Trockenmittel enthalten ein Molekularsieb,
Calciumoxid, Calciumchlorid, Calciumcarbonat und dgl.
Beispiele für den Aufbau eines fotoempfindlichen Elementes,
bei dem die Enaminverbindung gemäß der vorliegenden
Erfindung verwendet ist, sind schematisch in den Fig. 1
bis 5 dargestellt.
Fig. 1 zeigt ein fotoempfindliches Element bestehend aus
einem Substrat 1, auf dem eine fotoempfindliche Schicht
4 aufgebracht ist, mit einem Bindemittel bestehend aus
einer Mischung aus fotoleitfähigem Material 3 und Ladungstransportmaterial
2. Als das Ladungstransportmaterial
wird eine Enaminverbindung gemäß der Erfindung verwendet.
Fig. 2 zeigt ein fotoempfindliches Element vom Funktionstrenntyp,
bei dem in einer fotoempfindlichen Schicht eine
ladungserzeugende Schicht 6 und ein Ladungstransportelement
5 enthalten ist. Die Ladungstransportschicht 5 ist
auf der Oberfläche der ladungserzeugenden Schicht 6 aufgebracht.
In die Ladungstransportschicht 5 ist eine Enaminverbindung
gemäß der vorliegenden Erfindung eingemischt.
Fig. 3 zeigt ein fotoempfindliches Element vom
Funktionstrenntyp gemäß Fig. 2, das sowohl die ladungserzeugende
Schicht 6 als auch die Ladungstransportschicht
5 aufweist. Im Gegensatz zur Fig. 2 ist jedoch die
ladungserzeugende Schicht auf der Oberfläche der Ladungstransportschicht
5 aufgebracht.
In der Fig. 4 ist zusätzlich auf der Oberfläche des
fotoempfindlichen Elementes gemäß Fig. 1 eine Oberflächenschutzschicht
7 aufgebracht und es kann eine fotoempfindliche
Schicht 4 vom Funktionstrenntyp vorgesehen
sein, bei der eine ladungserzeugende Schicht 6 und eine
Ladungstransportschicht 5 getrennt vorgesehen sind.
In der Fig. 5 ist zwischen einem Substrat 1 und einer
fotoempfindlichen Schicht 4 eine Zwischenschicht 8 vorgesehen.
Eine solche Zwischenschicht 8 kann vorgesehen
sein, um die Haftung und Beschichtungseigenschaften zu
verbessern, das Substrat zu schützen, und um die Eigenschaften
zum Eindringen von Ladung aus dem Substrat in
die fotoleitfähige Schicht zu verbessern. Für eine Zwischenschicht
wird vorteilhafterweise ein Polyimidharz,
Polyesterharz, Polyvinilbutyralharz, Casein und dgl. verwendet.
Ein fotoempfindliches Element gemäß dieser Art
kann eine fotoempfindliche Schicht vom Funktionstyp
aufweisen.
Das fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden
Erfindung kann durch Lösen oder Dispergieren einer
Enaminverbindung gemäß der allgemeinen Formel (I) zusammen
mit einem Bindemittel in einem zweckmäßig ausgewählten
Lösungsmittel hergestellt werden, indem ein
fotoleitfähiges Material, eine elektronenanziehende
Verbindung oder ein Sensibilisierungsfarbstoff und andere
Pigmente gemäß den weiteren Anforderungen zugefügt
sind; und die so hergestellte Beschichtungslösung wird
auf ein elektrisch leitfähiges Substrat aufgebracht und
getrocknet, um so eine fotoempfindliche Schicht mit
einer Dicke von üblicherweise 5 bis 30 µm, vorzugsweise
6 bis 20 µm herzustellen.
Ein fotoempfindliches Element vom Funktionstrenntyp mit
einem Aufbau gleich dem in Fig. 2 gezeigten, hat eine
Schicht und eine Ladungstransportschicht, und ist hergestellt,
indem eine ladungserzeugende Schicht durch
Vakuumabscheiden eines fotoleitfähigen Materials auf
einem elektrisch leitfähigen Substrat oder indem auf
ein elektrisch leitfähiges Substrat eine Beschichtungslösung,
die durch Dispergieren eines fotoleitfähigen
Materials in einem geeignetem Lösungsmittel oder Lösungsmittel
mit einem darin gelösten Bindeharz, aufgetragen
und getrocknet ist, und durch Aufbringen einer Lösung,
die durch Lösen einer Enaminverbindung und eines Bindemittels
in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt
worden ist, auf die ladungserzeugende Schicht, um eine
Ladungstransportschicht zu erzeugen. Die Dicke einer
solchen ladungserzeugenden Schicht ist weniger als 4 µm,
oder vorzugsweise weniger als 2 µm. Die Dicke einer derartigen
Ladungstransportschicht beträgt 3 bis 30 µm oder
5 bis 20 µm. Der vorteilhafte Gehalt an Enaminverbindung
in einer Ladungstransportschicht beträgt 0,02 bis 2
Gewichtsteile oder vorzugsweise 0,03 bis 1,3 Gewichtsteile
bezogen auf die Gewichtsanteile Bindemittel. Zusätzlich
kann ein anderes Ladungstransportmaterial verwendet
werden. Durch die Verwendung eines hochpolymeren
Ladungstransportmaterials, welches selbst als ein Bindemittel
verwendet werden kann, kann die Verwendung eines
anderen Bindemittels vermieden werden. Ein fotoempfindliches
Element, welches ähnlich wie das Element gemäß
Fig. 3 aufgebaut ist, hat einen solchen Aufbau, bei dem
auf einem elektrisch leitfähigen Substrat eine Ladungstransportschicht
und auf dieser eine ladungserzeugende
Schicht weiterhin angeordnet ist.
Ein fotoempfindliches Element vom Dispersionstyp, bestehend
aus einem elektrisch leitfähigen Substrat, auf
dem eine fotoempfindliche Schicht aufgebracht ist, und
das einen Aufbau identisch dem gemäß Fig. 1 aufweist,
wird hergestellt, indem Teilchen eines fotoleitfähigen
Materials in einer Lösung dispergiert werden, in der
eine Enaminverbindung und ein Harz gelöst worden sind,
und indem die Lösung auf ein elektrisch leitfähiges
Substrat aufgestrichen und getrocknet wird. Die Dicke
der fotoleitfähigen Schicht beträgt 3 bis 30 µm oder
vorzugsweise 5 bis 20 µm. Eine zu kleine Menge an photoleitfähigem
Material führt zu einer schwachen Sensibilität.
Eine zu große Menge an fotoleitfähigem Material
führt zu schlechten Ladungseigenschaften und geringerer
mechanischer Festigkeit der fotoempfindlichen Schicht.
Demgemäß beträgt der Anteil an fotoleitfähigem Material
in der fotoempfindlichen Schicht 0,01 bis 2 Gewichtsteils
oder vorzugsweise 0,05 bis 1 Gewichtsteil bezogen
auf die Gewichtsanteile des Harzes. Der Gehalt an Enaminverbindung
beträgt 0,01 bis 2 Gewichtsteils, vorzugsweise
0,02 bis 1,2 Gewichtsteile bezogen auf die Gewichtsanteile
des Harzes. Zusätzlich kann eine Enaminverbindung
kombiniert mit einem hochmolekularen fotoleitfähigen
Material, wie beispielsweise einem Polyvinilcarbazol oder
dgl. verwendet werden, welche selbst als ein Bindemittel
zu verwenden ist. Eine Enaminverbindung kann auch zusammen
mit einem anderen Ladungstransportmaterial, wie
beispielsweise einer Hydrazonverbindung, verwendet werden.
Solche, bei einem fotoempfindlichen Element gemäß der
vorliegenden Erfindung verwendeten fotoleitfähigen
Materialien sind wie folgt: Organische Materialien, wie
beispielsweise ein Bisazopigment, Triarylmethanfarbstoff,
Thiazinfarbstoff, Oxazinfarbstoff, Xanthenfarbstoff,
Cyaninfärbemittel, Styrylfarbstoff, pyryliumfarbstoff,
Azopigment, Quinachrydonfarbstoff, Indigopigment,
Perylenpigment, polyzyklisches Quinonpigment, Bisbenzimidazolpigment,
Indanthronpigment, Squalyliumpigmente und
dgl.; und anorganische Materialien wie beispielsweise
Selen, Selen-Tellur, Selen-Arsen, Cadmiumsulfid, amorphes
Silizium und dgl. Für diesen Zweck kann auch irgendein
anderes Material als die vorstehend angegebenen Materialien
verwendet werden, sofern es Licht absorbieren kann und
einen sehr wirksamen Ladungsträger erzeugt.
Als Bindemittel können bei der vorliegenden Erfindung
die folgenden Materialien verwendet werden: Elektrisch
isolierende und bekannte thermoplastische Harze; wärmehärtbare
Harze und fotohärtbare Harze und fotoleitfähige
Harze.
Beispiele, die jedoch nicht den Schutzumfang der Erfindung
begrenzen sollen, für geeignete Bindeharze sind wie
folgt: Thermoplastische Bindemittel, wie beispielsweise
gesättigtes Polyesterharz, Polyamidharz, Acrylharz,
Äthylenvinylacetatcopolymer, ionenüberbrücktes Olefincopolymer
(Ionomer), Styren-Butadienblockcopolymer,
Polyallylat, Polycarbonat, Vinylchlorid-Vinylacetatcopolymer,
Zelluloseester, Polyimid, Styrenharz und dgl.; wärmehärtbare
Bindemittel, wie beispielsweise Epoxyharz,
Urethanharz, Siliconharz, Phenolharz, Melaminharz,
Xylenharz, Alkydharz, wärmehärtbares Acrylharz und
dgl.; fotohärtbare Harze; fotoleitfähige Harze, wie
beispielsweise Poly-N-Vinylcarbazol, Polyvinylpyren,
Polyvinylanthracen und dgl.; und andere Harze. Diese
Harze können unabhängig von einander oder mit anderen
Harzen kombiniert verwendet werden.
Jedes dieser elektrisch isolierenden Harze hat unabhängig
von einander gemessen, einen Volumenwiderstand
größer als 1 × 1012 Ω cm. Die bevorzugten Harze sind
Polyesterharze, Polycarbonatharz und Acrylharz.
Zusätzlich zu einem Bindemittel kann jedes der im folgenden
aufgeführten Materialien in einem fotoempfindlichen
Element enthalten sein: Weichmacher, wie beispielsweise
halogeniertes Paraffin, polychloriertes
Biphenyl, Dimethylnaphthalen, Dibutylphthalat, O-
Terphenyl und dgl.; Elektronen anziehende Sensibilisierungsmittel,
wie beispielsweise Chloranyl, Tetracyanoethylen,
2,4,7-Trinitro9-Fluorenon, 5,6-Dicyanobenzoquinon,
Tetracyanoquinodimethan, Tetrachlorophthalanhydrid,
3,5-Dinitrobenzolsäure und dgl.; Sensibilisierungsmittel,
wie beispielsweise Methylviolett,
Rhodamin B, Zyaninfarbstoff, Pyryliumsalz, Thiapyryliumsalz
und dgl..
Ein so zusammengesetztes fotoempfindliches Element,
kann wie in der Fig. 4 und 5 dargestellt und in Übereinstimmung
mit speziellen Anforderungen eine Haftschicht,
eine Zwischenschicht 8 und eine Oberflächenschutzschicht
7 aufweisen.
Ein Gewichtsteil Disazopigment, repräsentiert durch
die unten stehende allgemeine Formel (A), ein Gewichtsteil
Polyesterharz (Vylon 200 der Firma Toyobo Co., Ltd.)
und 50 Gewichtsteile Tetrahydrofuran wurden in einer
Kugelmühle 24 Stunden vermahlen und dadurch miteinander
vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung
zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat
aufgestrichen und dann getrocknet, um eine
ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 0,5 µm
herzustellen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem
zehn Gewichtsteile der vorstehend genannten Enaminverbindung
(1-2) und zehn Gewichtsteile Polycarbonatharz
(Panlite K-1300 der Firma Teÿin Chemicals
Ltd.) in 80 Gewichtsteilen Tetrahydrofuran gelöst
wurden, und auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen
und getrocknet wurden, um eine Ladungstransportschicht
mit einer Dicke von 15 µm herzustellen. Auf
diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element
hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen
Kopiergerätes (EP360Z der Firma Minolta Camera
Co., Ltd.) wurde das hergestellte fotoempfindliche
Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV und dann
dem Ausgangspotential V0 (V) beaufschlagt, Der Belichtung
von E 1/2 (lux · sec) unterworfen, die zur
Verringerung des Anfangspotentials auf die Hälfte
erforderlich ist und dann wurde die Reduktionsgeschwindigkeit
DDR 5 (%) des Anfangspotentials gemessen,
nachdem das fotoempfindliche Element für fünf
Sekunden in Dunkelheit belassen worden war.
Zwei Gewichtsteile Trisazopigment, repräsentiert durch
die folgende allgemeine Formel (B), ein Gewichtsteil
Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon
wurden in einer Kugelmühle 24 Stunden vermahlen und
damit vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung
zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein
Aluminiumsubstrat aufgebracht und getrocknet, um
eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm
zu erzeugen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem
zehn Gewichtsteile der vorstehend genannten Enaminverbindung
(1-9) und zehn Gewichtsteile Polyallylatharz
(U-100, der Firma Unitika Ltd.) in 100 Gewichtsteilen
Chlorbenzol gelöst wurden, und die Lösung wurde
auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet,
um eine Ladungstransportschicht mit einer
Dicke von 15 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise
wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurden die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 durch ein Verfahren
gemäß dem Beispiel 1, gemessen.
Zwei Gewichtsteile Squalensäurepigment, repräsentiert
durch die unten stehende allgemeine Formel (C), fünf
Gewichtsteile Polyesterharz und 100 Gewichtsteile
Methylethyketon wurden für 24 Stunden in einer Kugelmühle
vermahlen, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung
herzustellen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat
aufgetragen und getrocknet, um eine ladungserzeugende
Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu erzeugen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem
zehn Gewichtsteile der Enaminverbindung (1-5) und zehn
Gewichtsteile Polycarbonatharz in 80 Gewichtsteilen
Tetrahydrofuran gelöst wurden und diese Lösung wurde
auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet,
um eine Ladungstransportschicht mit einer
Dicke von 15 µm herzustellen. Auf diese Art und Weise
wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurden mit einem Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1
die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
50 Gewichtsteile Kupferphthalocyanin und 0,2 Gewichtsteile
Tetranitrokupferphthalocynain wurden durch Rühren
in 500 Gewichtsteilen 98%iger Schwefelsäure gelöst,
diese Lösung wurde in 5000 Gewichtsteile Wasser gegossen,
damit eine Mischung aus fotoempfindlichem Material,
bestehend aus Kupferphthalocyanin und Tetranitrokupferphthalocyanin
sich niederschlägt. Dann wurde der Niederschlag
abgefiltert, mit Wasser gewaschen und bei 120°C
und verringertem Druck getrocknet.
Zehn Gewichtsteile der erhaltenen fotoleitfähigen Zusammensetzung
wurden in eine Kugelmühle zusammen mit
22,5 Gewichtsteilen wärmehärtbarem Acrylharz (Acrydic
A 405 der Firma Dainippon Ink & Chemical, Inc.) 7,5
Gewichtsteilen Menaminharz (Super Beckamine J820 der
Firma Dainippon Ink & Chemical Inc.) zehn Gewichtsteilen
der vorstehend genannten Enaminverbindung (1-8)
und 100 Gewichtsteilen gemischtem Lösungsmittel aus
gleichen Anteilen Methylethylketon und Xylen gegeben. Diese
Bestandteile wurden in der Kugelmühle 48 Stunden gemahlen,
um eine fotoleitfähige Beschichtungslösung zu
erzeugen, die auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen
und dann getrocknet wurde, um eine fotoempfindliche
Schicht mit einer Dicke von ungefähr 50 µm zu erzeugen.
Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches
Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden
mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 1, mit Ausnahme
daß das Element mit einer Coronaladung von +6 kV
beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Es wurden die fotoempfindlichen Elemente J, K und L,
die unabhängig von einander einen Aufbau identisch
dem des Beispiels 4 aufwiesen, durch das Verfahren gemäß
dem Beispiel 4 hergestellt, mit Ausnahme, daß statt
der Enaminverbindung (1-8) des Beispieles 4, die Enaminverbindungen
(1-12), (1-13) und (1-14) jeweils verwendet
wurden.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen
wurden mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 4 die
Werte für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse für V 0, E 1/2 und DDR 5 der Beispiele 1
bis 7 sind in der Tabelle 1 aufgeführt.
Wie aus der Tabelle 1 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche
Element gemäß der vorliegenden Erfindung,
welches eine Enaminverbindung als Ladungstransportmaterial
enthält, ein Oberflächenpotential über 600 V,
eine ausgezeichnete Sensibilität, eine kleinere Dunkelreduktionsgeschwindigkeit
und ausgezeichnete elektrofotografische
Eigenschaften.
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1,
mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die
Enaminverbindung (2-1) verwendet wurde, ein elektrofotografisches
Element hergestellt.
Es wurden zwei Gewichtsteile Trisazopigment (B) und
ein Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile
Methylethylketon in einer Kugelmühle für 24 Stunden
vermahlen und damit vermischt, um eine fotoempfindliche
Beschichtungslösung zu erzeugen. Die Lösung wurde
auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen und getrocknet,
um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von
1 µm zu bilden. Dann wurden zehn Gewichtsteile der Enaminverbindung
(2-10) in einem Lösungsmittel gelöst,
bestehend aus zehn Gewichtsteilen Polyallylatharz und
100 Gewichtsteilen Chlorobenzol, um eine Beschichtungslösung
zu erzeugen, die auf die ladungserzeugende Schicht
aufgetragen und getrocknet wurde, um auf dieser eine Ladungstransportschicht
mit einer Dicke von 15 µm zu erzeugen.
Auf diese Art und Weise wurde ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 12,
mit Ausnahme, daß jeweils die Enaminverbindungen (2-11)
und (2-14) verwendet wurden, fotoempfindliche Elemente
hergestellt.
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 3,
mit Ausnahme, daß anstatt der Enaminverbindung (1-5)
die Enaminverbindung (2-9) verwendet wurde, ein elektrofotografisches
lichtempfindliches Element hergestellt.
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4,
mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-8)
die Enaminverbindung (2-17) verwendet wurde, ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4,
mit Ausnahme, daß jeweils die Enaminverbindungen (2-21),
(2-22) und (2-23) verwendet wurden, fotoempfindliche
Elemente hergestellt. Um die elektrofotografischen Eigenschaften
zu überprüfen, wurden die so hergestellten
elektrofotografischen fotoempfindlichen Elemente gemäß
der Beispiele 8 bis 15 unter Verwendung eines kommerziellen
elektrofotografischen Kopiergerätes mit einer
Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt. Bei den Elementen
gemäß der Beispiele 16 bis 19 wurde ein ähnliches Kopiergerät
mit einer eingebauten Modifikation verwendet,
um die Elemente mit einer Coronaladung von +6,0 kV zu
beaufschlagen, um die entsprechenden Eigenschaften zu
überprüfen.
Bei jedem Element wurde das Anfangsoberflächenpotential
V 0 (V), die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die erforderlich
ist, um das Anfangspotential auf die Hälfte
zu verringern, und die Dunkelreduktionsgeschwindigkeit
DDR 5 (%) des Anfangspotentials, nachdem das Element
5 Sekunden im Dunkeln belassen wurde, gemessen. Die
Meßergebnisse sind in der Tabelle 2 aufgeführt.
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1, mit
Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die Enaminverbindung
(3-1) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen
Kopiergerätes wurde das erhaltene fotoempfindliche
Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt,
dann wurde das Anfangspotential V0 (V), die
Belichtung E 1/2 (lux · sec), die zur Reduktion des Anfangspotentials
auf die Hälfte erforderlich ist und
die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials,
nachdem das lichtempfindliche Element für
5 Sekunden im Dunkeln belassen worden war, gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens identisch dem des
Beispieles 1 wurden fotoempfindliche Elemente, die
unabhängig von einander den gleichen Aufbau wie beim
Beispiel 1 aufwiesen, hergestellt, indem anstatt der
beim Beispiel 1 verwendeten Enaminverbindung (1-2)
jeweils die Enaminverbindungen (3-5) und (3-13) verwendet
wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente
wurde durch ein Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1
die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens identisch dem vom
Beispiel 2 wurden fotoempfindliche Elemente, die unabhängig
davon den gleichen Aufbau wie beim Beispiel 2
aufwiesen, hergestellt, indem anstatt der beim Beispiel 2
verwendeten Enaminverbindung (1-9) jeweils die
Enaminverbindungen (3-14) und (3-15) verwendet wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente
wurde nach einem Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1
die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Nach einem Verfahren gemäß Beispiel 3, mit Ausnahme,
daß statt der Enaminverbindung (1-5) die Enaminverbindung
(3-16) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element,
wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1, die
Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß dem Beispiel 4,
wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt,
das unabhängig davon den selben Aufbau wie beim Beispiel 4
aufweist, wobei anstatt der Enaminverbindung
(3-19) vom Beispiel 4 die Enaminverbindung (3-17) verwendet
wurde.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurde nach einem Verfahren gemäß dem Beispiel 1, mit
Ausnahme, daß das Element mit einer Coronaladung von
+6 kV beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5
gemessen.
Die Meßergebnisse für V 0, E 1/2 und DDR 5 der fotoempfindlichen
Elemente gemäß der Beispiele 20 bis 26 sind in
der Tabelle 3 aufgeführt.
Wie aus der Tabelle 3 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche
Element gemäß der vorliegenden Erfindung
ein stabiles Oberflächenpotential von mehr als 600 V
und ausgezeichnete Ladungseigenschaften, da ihre Dunkelreduktionsgeschwindigkeit
für die praktische Verwendung
als fotoempfindliches Element klein genug ist.
Die Tabelle zeigt weiterhin, daß jedes fotoempfindliche
Element gemäß der vorliegenden Erfindung eine hohe
Sensibilisierung aufweist.
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1, mit
Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die
Enaminverbindung (4-3) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen
Kopiergerätes wurde das erhaltene fotoempfindliche
Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt,
dann wurde das Anfangspotential V 0 (V), die
Belichtung E 1/2 (lux · sec), die für die Reduktion des
Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und
die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials,
nachdem das fotoempfindliche Element 5 Sekunden
im Dunkeln belassen war, gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß dem Beispiel 1
wurden fotoempfindliche Elemente hergestellt, die unabhängig
davon den selben Aufbau wie beim Beispiel 1
aufwiesen, wobei anstatt der beim Beispiel 1 verwendeten
Enaminverbindung (1-2) jeweils die Enaminverbindungen
(4-4), (4-6) und (4-7) verwendet wurden. Bei
jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente
wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1 die
Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 2, mit
Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-9) die
Enaminverbindung (4-8) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente,
wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1 die Werte
V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß Beispiel 2 wurden
fotoempfindliche Elemente, die unabhängig davon den
selben Aufbau wie beim Beispiel 2 aufwiesen, hergestellt,
wobei anstatt der beim Beispiel 2 verwendeten
Enaminverbindung (1-9) jeweils die Enaminverbindungen
(4-11) und (4-12) verwendet wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente,
wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1 die
Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 3,
mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-5)
die Enaminverbindung (4-13) verwendet wurde, ein elektrofotografisches
fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen
wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1 die
Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4, mit
Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-8) die
Enaminverbindung (4-16) verwendet wurde, wurde ein
elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1, mit Ausnahme,
daß das Element mit einer Coronaladung von +6 kV
beaufschlagt wurde, die Wert V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse der Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 der fotoemfpindlichen
Elemente gemäß der Beispiele 27 bis 35
sind in der Tabelle 4 aufgeführt.
Wie aus der Tabelle 4 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche
Element gemäß der vorliegenden Erfindung,
welches eine Enaminverbindung enthält, ungeachtet dessen,
ob es ein Funktionstrenntyp oder ein Dispersionstyp
ist, ein Anfangsoberflächenpotential von mehr als
600 V und ausgezeichnete Ladungseigenschaften, da die
Dunkelreduktionsgeschwindigkeit für die praktische
Verwendung des fotoempfindlichen Elementes klein
genug ist. Die Tabelle zeigt weiterhin, daß jedes
fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung
ausgezeichnete elektrofotografische Eigenschaften
hat und insbesondere, daß die Belichtung
zur Reduktion des Anfangsoberflächenpotentials auf
die Hälfte, ungefähr 2 bis 4 lux · sec infolge der
stabilen Sensibilität, aufweist.
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 2, mit
Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-9) die
Enaminverbindung (5-2) verwendet wurde, wurde ein
elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen
Kopiergerätes, wurde das so hergestellte fotoempfindliche
Element mit einer Coronaladung von +6 kV
beaufschlagt, dann wurde das Anfangspotential V 0 (V),
die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die zur Reduktion des
Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und
die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials,
nachdem das fotoemfpindliche Element für
fünf Sekunden im Dunkeln belassen worden war, gemessen.
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß Beispiel 2 wurde
ein fotoempfindliches Element hergestellt, das denselben
Aufbau wie beim Beispiel 2 aufweist, wobei anstatt
der beim Beispiel 2 verwendeten Enaminverbindung
(1-9) die Enaminverbindung (5-3) verwendet wurde.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 36 die Werte
gemäß V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Ein Gewichtsteil einer Mischung aus fotoleitfähigem
Material, wie beim Beispiel 36 hergestellt, mit Kupferphthalocynin
und Tetranitrokupferphthalocyanin, ein
Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon
wurden in einer Kugelmühle 24 Stunden gemahlen
und dadurch gemischt, um eine fotoempfindliche
Beschichtungslösung herzustellen. Die Lösung wurde
auf ein Aluminiumsubstrat aufgebracht und getrocknet,
um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von
1 µm herzustellen.
Durch Lösen von zehn Gewichtsteilen der vorstehend
genannten Enaminverbindung (5-4) und zehn Gewichtsteilen
Polycarbonatharz in 100 Gewichtsteilen Tetrahydrofuran
wurde eine Beschichtungslösung hergestellt
und auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und
getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer
Dicke von 15 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise
wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element
wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 36, mit
Ausnahme, daß das Element mit einer Coronaladung von
-6 kV beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5
gemessen.
Es wurden zwei Gewichtsteile Disazopigment, repräsentiert
durch die allgemeine Formel (A), ein Gewichtsteil
Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon
in einer Kugelmühle für 24 Stunden gemahlen und
dadurch vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung
zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein
Aluminiumsubstrat aufgetragen und getrocknet, um eine
ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu
bilden.
Durch Lösen von zehn Gewichtsteilen der vorstehend genannten
Enaminverbindung (5-11) in einem Lösungsmittel,
bestehend aus Polyallylatharz und 100 Gewichtsteilen
Chlorbenzol, wurde eine Beschichtungslösung hergestellt
und auf die ladungserzeugende Schicht aufgebracht und
getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer
Dicke von 15 µm zu bilden. Auf diese Art und Weise wurde
ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden
durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 36 die Werte
für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse für die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 der
fotoempfindlichen Elemente gemäß der Beispiele 36 bis
39 sind in der Tabelle 5 aufgeführt.
Wie aus der Tabelle 5 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche
Element gemäß der vorliegenden Erfindung
einen stabilen Wert V 0 von mehr als 600 V und ausgezeichnete
Ladungseigenschaften, da die Dunkelreduktionsgeschwindigkeit
für die praktische Verwendung eines
fotoempfindlichen Elementes klein genug ist. Die Tabelle
zeigt weiterhin, daß jedes fotoempfindliche Element
gemäß der vorliegenden Erfindung einen kleineren
Wert für E 1/2, von 1,6 bis 2,6 lux · sec und eine hohe
Sensibilität aufweist. Weiterhin wurde unter Verwendung
eines elektrofotografischen Kopiergerätes die Kopieroperation
wiederholt, indem die fotoempfindlichen Elemente
gemäß des Beispiels 36 positiv geladen wurden.
Bei 10.000 Kopierfolgen konnte sowohl beim ersten, als
auch beim letzten Kopiervorgang ein Kopierbild mit
ausgezeichneter Helligkeitsabstufung erzielt werden.
Ohne irgendeine Änderung der Sensibilität wurden über
10.000 Kopien hinweg scharfe Kopierbilder erhalten. Somit
hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden
Erfindung bei Kopierwiederholung ein stabiles
Verhalten.
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4,
mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindungen (1-8)
die im folgenden aufgeführten Enaminverbindungen (a)
bis (h) verwendet wurden, fotoempfindliche Elemente
hergestellt.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen
wurden mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 4 die
Werte für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen. Die Ergebnisse
sind in der Tabelle 6 aufgeführt.
An der Oberfläche der fotoempfindlichen Elemente gemäß
der Vergleichsbeispiele 2, 4 und 8 wurden die
Kristalle der verwendeten Enaminverbindungen getrennt
und auf den Kopierbildern konnten viele weiße Punkte
beobachtet werden.
Claims (20)
1. Fotoempfindliches Element mit einer fotoempfindlichen
Schicht, die als ladungstransportierende Substanz mindestens
eine Enaminverbindung der allgemeinen Formel
enthält, bei der T und W unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen, eine Alkylgruppe, Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe,
di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte
Arylgruppe,
eine kondensierte polyzyklische Gruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen, die jeweils auch eine oder mehrere Substituenten haben können, wobei jedoch von T und W mindestens eines eine kondensierte polyzyklische Gruppe, heterozyklische Gruppe, Alkyl-Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, halogenisierte Arylgruppe oder eine Gruppe der Formel (wobei Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2),
die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, ist und wobei X und Y unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, gegebenenfalls mit einem oder mehreren Substituenten, ausgenommen Alkyl und/oder di-substituierte Aminogruppe bedeuten, X und Y aber nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
eine kondensierte polyzyklische Gruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen, die jeweils auch eine oder mehrere Substituenten haben können, wobei jedoch von T und W mindestens eines eine kondensierte polyzyklische Gruppe, heterozyklische Gruppe, Alkyl-Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, halogenisierte Arylgruppe oder eine Gruppe der Formel (wobei Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2),
die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, ist und wobei X und Y unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, gegebenenfalls mit einem oder mehreren Substituenten, ausgenommen Alkyl und/oder di-substituierte Aminogruppe bedeuten, X und Y aber nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
2. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Ar-Gruppe
in der Formel
eine Phenylgruppe oder
Naphthylgruppe ist.
3. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von X
oder Y repräsentierte Phenylgruppe eine Phenylgruppe,
eine Alkoxyphenylgruppe, die eine C1-C4 Alkylgruppe
haben kann, oder eine halogenierte Phenylgruppe ist.
4. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte di-substituierte Aminoarylgruppe
eine Aminophenylgruppe, die eine C1-C4
Alkylgruppe haben kann, oder eine Morpholinyl-,
Piperidyl-, Piperazinyl-, 2-3-Dihydropyridyl- oder
Tetrahyrochinolylgruppe ist.
5. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte halogenierte Phenylgruppe
eine Chlorphenyl- oder Fluorphenylgruppe ist.
6. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte heterozyklische Gruppe eine
Pyridyl-, Pyrrolyl-, Purinyl-, Karbozolyl-, Indolyl-,
Thienyl-, Furyl-, Chinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-,
Tetrahyrochinolyl-, Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-,
Dihydrobenzopyryl-, Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-,
Benzoimidazolyl-, Thiazyolyl- oder Dibenzofurylgruppe
ist.
7. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte kondensierte polyzyklische
Gruppe eine Naphthyl-, Alkoxy-, di-substituierte
Aminonaphthylgruppe oder Anthrylgruppe ist.
8. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte Phenylgruppe eine Phenylgruppe,
C1-C4 Alkoxyphenylgruppe oder halogenierte
Phenylgruppe ist.
9. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die von T
und/oder W repräsentierte Aralkylgruppe eine Benzylgruppe
ist, die einen oder mehrere Substituenten haben kann.
10. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß T und/oder W
eine halogenierte Phenylgruppe und X und/oder Y
eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
11. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß T und/oder W
eine di-substituierte Aminoarylgruppe, und X und/oder Y
eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe
ist.
12. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß T und/oder W
eine heterozyklische Gruppe und X und/oder Y eine
Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
13. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß T und/oder W
eine Gruppe der Formel
(m = 1 oder 2)
und X und/oder Y eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe ist.
und X und/oder Y eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe ist.
14. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß T und/oder W
eine kondensierte polyzyklische Gruppe und X oder Y
eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
15. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
der allgemeinen Formel
ist, wobei R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die
jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können,
wobei jedoch von R1 und R2 mindestens das eine eine
Aminoarylgruppe mit einer C1-C4 Alkylgruppe oder eine
Morpholinyl-, Piperidyl-, Piperazinyl-, 2,3-Dihydropyridyl-
oder Tetrahydrochinolylgruppe ist und die
Arylgruppe eine Phenyl-, Naphthyl- oder Anthrylgruppe
ist, und wobei R3 und R4 unabhängig voneinander Wasserstoff
oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder
Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere
Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer
di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei
R3 und R4 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
16. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
eine Verbindung der allgemeinen Formel
ist, wobei R5 und R6 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder ein Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte
polyzyklische Gruppe ist, von denen jedes
einen oder mehrere Substituenten haben kann, wobei jedoch
von R5 und R6 mindestens das eine eine heterozyklische
Gruppe, nämlich eine Pyridyl-, Pyrrolyl-,
Purinyl-, Karbazolyl-, Indolyl-, Thienyl-, Furyl-,
Chinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydrochinolyl-,
Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofurly-, Dihydrobenzopyryl-,
Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-, Benzoimidazolyl-,
Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe ist
und R7 und R8 unabhängig voneinander Wasserstoff oder
eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe
bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten
mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten
Aminogruppe haben können und wobei R7 und R8 nicht gleichzeitig
Wasserstoff sind.
17. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
eine Verbindung der allgemeinen Formel
ist, wobei R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die
jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können,
vorausgesetzt, daß von R5 und R6 mindestens das eine
eine Gruppe der Formel
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2) ist
und R11 und R12 unabhängig voneinander Wasserstoff
oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe
bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten
mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer
di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei
R11 und R12 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
18. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
eine Verbindung der allgemeinen Formel
ist, wobei R13 und R14 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die
jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können,
wobei von R13 und R14 mindestens das eine eine halogenierte
Arylgruppe ist, und wobei R15 und R16 unabhängig
voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-,
Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils
einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von
Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben
können und wobei R15 und R16 nicht gleichzeitig Wasserstoff
sind.
19. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
eine Verbindung der allgemeinen Formel
ist, wobei R17 und R18 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die
jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können,
wobei von R17 und R18 mindestens eines eine kondensierte
polyzyklische Gruppe ist, und wobei R19 und R20 unabhängig
voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-,
Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils
einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl
und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können
und wobei R19 und R20 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
20. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung
eine Verbindung der allgemeinen Formel
ist, wobei R21 und R22 unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-,
Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte
Aminoarylgruppe
(Ar = Arylgruppe,
m = 1 oder 2), eine heterozyklische
Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die
jeweils einen oder mehere Substituenten haben können,
wobei von R21 und R22 mindestens eines eine C1-C4
Alkylgruppe ist, und wobei R23 und R24 unabhängig voneinander
Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl-
oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen
oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/
oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können
und wobei R23 und R24 nicht gleichzeitig Wasserstoff
sind
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |