DE3428717A1 - X-RAY COLLIMATOR AND X-RAY RADIATION EXPOSURE DEVICE WITH X-RAY RAY COLLIMATOR - Google Patents
X-RAY COLLIMATOR AND X-RAY RADIATION EXPOSURE DEVICE WITH X-RAY RAY COLLIMATORInfo
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Description
RöntgenstranLkoLLimator und Röntgenstrah lbeLichtungs· vorrichtung mit RöntgenstranLkoLIimatorX-ray diffuser and X-ray exposure device with X-ray diffuser
Die Erfindung bezieht sich auf einen Kollimator zum Kollimieren von Röntgenstrahlen, insbesondere weichen Röntgenstrahlen, und auf eine mit einem solchen Kollimator versehene Röntgenstrah lbe Iichtungsvorrichtung.The invention relates to a collimator for collimating X-rays, in particular soft X-rays, and to an X-ray exposure device provided with such a collimator.
Röntgenstrah Ikol I imatoren sind gebräuchlich auf dem Gebiet der Röntgenana lysatoren; seit einiger Zeit werden sie auch für Röntgenstrah lbe I ichtungsvorrichtungen benutzt, bei denen Röntgenstrahlen dazu gebraucht werden, um ein auf einer Schablone oder Gitterplatte ausgebildetes integriertes Schaltungsbild auf eine strahlungsempfindliche Schicht auf einem Substrat zu übertragen. Bei der Röntgenstrahlbe Iichtungsvorrichtung wird die Schablone oder Gitterplatte (im folgenden einfach "Schablone" genannt) mit der auf ihr ausgebildeten Struk·X-ray imators are common in the field the X-ray analyzers; For some time they have also been used for X-ray exposure devices in which X-rays are used to transfer an integrated circuit pattern formed on a stencil or grid plate to a radiation-sensitive layer on a substrate. In the case of the X-ray exposure device, the template or grid plate (hereinafter simply called "template") with the structure formed on it.
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tür mit divergierenden weichen Röntgenstrahlen derartdoor with diverging soft X-rays like this
bestrahlt, daß die Bildübertragung auf die empfindliche
Schicht auf dem Substrat dazu neigt, von den Inzidenzwinkeln der Röntgenstrahlen beeinflußt zu werden. Deshalb
wird ein Röntgenstrahlkollimator angewendet, um die weichen die Schablone bestrahlenden Röntgenstrahlen zu
kollimieren und so die Genauigkeit der übertragung des
Schaltungsbilds von der Schablone auf die empfindliche
Schicht zu verbessern.
10irradiated that the image transfer to the sensitive layer on the substrate tends to be influenced by the angles of incidence of the X-rays. Therefore, an X-ray collimator is used to collimate the soft X-rays irradiating the stencil and thus improve the accuracy of the transfer of the circuit diagram from the stencil to the sensitive layer.
10
Figur 1 zeigt ein Beispiel für den Grundaufbau eines Röntgenstrahlkollimators. Der Kollimator weist zwei Blöcke auf, die beide mit einer Vielzahl dünner Spaltbacken 1 aus Metall versehen sind, die miteinander über zwischen ihnen angeordnete Abstandshalter 2 verbunden sind. Die Spaltbacken 1 und Abstandshalter 2 sind an einem Tragrahmen (nicht dargestellt) befestigt und bilden so den jeweiligen Block. Wie aus der Zeichnung hervorgeht, ruht einer der so geformten Blöcke derart auf dem anderen, daß die Längsrichtung des Spalts eines Blocks rechtwinkelig zu der des anderen Blocks verläuft. Von den aus einer nicht dargestellten Quelle austretenden divergierenden Röntgenstrahlen 3 werden nur die zu der Ko 11 imationseinrichtung etwa orthogonalen Teilstrahlen aufgenommen, wodurch ein nahezu paralleler Röntgenstrah L-strom 6 erhalten werden kann. Aus Gründen der Beschreibung sind bei der dargestellten Anordnung die Weite d und die Länge I jedes Spalts in einem Block gleich den jeweils anderen in dem anderen Block. Deshalb beträgt der Divergenzwinkel 2tan (d/l) Grad und der Röntgenst rah Itransmissionskoeffizient begrägt 1/(1+t/d) , wobei t die Dicke der Spaltbacke ist. Die Röntgenstrahlintensität nimmt im umgekehrten Verhältnis zum Quadrat des Abstands zu der Röntgenstrah Ique I Ie ab. Aus den obigen mathematischen Bedingungen geht hervor, daß, um eine gute Parallelität (einen gleichen Divergenzwinkel),Figure 1 shows an example of the basic structure of an X-ray collimator. The collimator has two blocks, both of which are provided with a multiplicity of thin split jaws 1 made of metal, which are connected to one another via spacers 2 arranged between them. The split jaws 1 and spacers 2 are attached to a support frame (not shown) and thus form the respective block. As can be seen from the drawing, one of the blocks thus formed rests on the other in such a way that the longitudinal direction of the gap of one block is perpendicular to that of the other block. Of the diverging x-rays 3 emerging from a source (not shown), only the partial rays that are approximately orthogonal to the co-imation device are recorded, as a result of which an almost parallel x-ray beam L-flow 6 can be obtained. For the sake of description, in the illustrated arrangement, the width d and length l of each gap in one block are the same as the others in the other block. Therefore the divergence angle is 2tan (d / l) degrees and the X-ray transmission coefficient is limited to 1 / (1 + t / d), where t is the thickness of the split jaw. The X-ray intensity decreases in inverse proportion to the square of the distance to the X-ray Ique I Ie. From the above mathematical conditions it follows that, in order to achieve good parallelism (an equal angle of divergence),
— C _- C _
einen hohen Transmissionskoeffizienten und eine große RöntgenstrahIst romstärke zu sichern, die Weite d des Spalts und die Dicke t der Spaltbacke vorzugsweise vermindert werden, um einen Anstieg der Länge I des Spalts zu vermeiden. Um die industrielle Fertigung zu erleichtern, soll außerdem der Aufbau einfach sein und der Kostenanstieg vermieden werden.a high transmission coefficient and a large one X-ray strength to ensure the width of the Gap and the thickness t of the gap jaw preferably reduced to avoid increasing the length l of the gap. To facilitate industrial production, In addition, the structure should be simple and the increase in cost should be avoided.
Normalerweise kann jedoch die Dicke t der Spaltbacke nicht unterhalb eines Bereichs von 0,03 mm liegen, selbst dann nicht, wenn die Spaltbacke aus einem Metall mit großer Steifigkeit hergestellt ist.Falls eine geringere Dicke erwünscht ist, ist es notwendig, zusätzliche Elemente zur Beseitigung der Durchbiegung der Spaltbacken einzubauen, was nachteilhaft zu einem komplizierten Aufbau und zu einem Herstellungskostenanstieg der Vorrichtung führt.Normally, however, the thickness t of the split jaw can be do not lie below a range of 0.03 mm, even if the split jaw is made of a metal Great rigidity is made. If a smaller thickness is desired, it is necessary to add additional elements to remove the deflection of the split jaws, which disadvantageously leads to a complicated structure and an increase in the manufacturing cost of the device leads.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Röntgenstrahlkollimator zu schaffen, dereine verbesserteIt is therefore an object of the invention to provide an x-ray collimator which is an improved one
Parallelität und einen erhöhten Transmissionskoeffizienten des Röntgenstrahlstroms gewährleistet. Dieser verbesserte RöntgenstrahIkolIimator soll in eine Röntgenstrah Ibe-Ii chtungsvorri.chtung eingebaut werden. 25Parallelism and an increased transmission coefficient of the X-ray current ensured. This improved X-ray radiation imager should be placed in an X-ray beam Ibe-Ii device to be installed. 25th
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen. Es zeigen:Further features and advantages of the invention emerge from the following description of exemplary embodiments with reference to the drawings. Show it:
Figur 1 eine perspektivische Darstellung eines Bei-Figure 1 is a perspective view of a case
spiels für den Grundaufbau eines RöntgenstrahI-kol I imators;game for the basic structure of an X-ray col I imators;
Figur 2 eine perspektivische Darstellung eines Ausführungsbeispiels
eines erfindungsgemäßen Röntgenst rah Ikol limator s;
35FIG. 2 shows a perspective illustration of an exemplary embodiment of an X-ray crystal limator according to the invention;
35
Figur 3 eine vergrößerte Darstellung des wichtigen Teils des in Figur 2 dargestellten Röntgenstrahlkollimators;
FigurenFigure 3 is an enlarged view of the essential part of the X-ray collimator shown in Figure 2;
characters
4A,4B,4C jeweils andere Ausführungsbeispiele eines erfindungsgemäßen Röntgenstrahlkol limators;4A, 4B, 4C each other exemplary embodiments of an inventive X-ray collimators;
Figur 5 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen RöntgenstrahlbeIichtungsvorrichtung.Figure 5 is a schematic representation of an inventive X-ray exposure device.
Figur 2 gibt einen überblick über ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Kollimators für weiche Röntgenstrahlen, während Figur 3 den wichtigen Abschnitt des in Figur 2 dargestellten Aufbaus in Vergrößerung zeigt. Der Kollimator weist einen aus Glas hergestellten Kollimationsabschnitt 7 für weiche Röntgenstrahlen auf. Wie am besten aus Figur 3 hervorgeht, ist der Kollimationsabschnitt 7 mit einer Vielzahl einheitlicher, kleiner Durchbohrungen bzw. Durchgangs löcher 9,9' versehen, die alle einen Innendurchmesser d im Bereich von 10 Mikron und eine Länge I im Millimeterbereich haben. Der Kollimationsabschnitt 7 wird in einem aus Glas oder anderem geeigneten Material hergestellten Halterahmen 8 gelagert.Figure 2 gives an overview of an embodiment a collimator for soft X-rays according to the invention, while Figure 3 shows the important portion of the structure shown in Figure 2 enlarged. The collimator has a collimating section made of glass 7 for soft X-rays. As best seen in Figure 3, the collimation section 7 provided with a large number of uniform, small through bores or through holes 9,9 ', the all have an inside diameter d in the range of 10 microns and a length I in the millimeter range. The collimation section 7 is stored in a holding frame 8 made of glass or other suitable material.
Mit dieser Anordnung werden von einem Röntgenstrahlgenerator 22 ausgesendete, divergierende weiche Röntgenstrahlen 3 durch den Kollimationsabschnitt 7 kollimiert, so daß ein nahezu paralleler Röntgenstrah I st rom 6' erzielt wird. Genauer gesagt, durch die Vorkehrung der jeweils mit einem Innendurchmesser d und einer Länge I versehenen Durchbohrungen 9, 91 werden nur die weichen Röntgenstrah-With this arrangement, diverging soft X-rays 3 emitted from an X-ray generator 22 are collimated by the collimation section 7, so that an almost parallel X-ray beam I stream 6 'is obtained. More precisely, through the provision of the through-holes 9, 9 1 , each provided with an inner diameter d and a length I, only the soft X-ray radiation
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Len mit kleineren Divergenzwinkeln als 2tan (d/l) aufgenommen. Bei der Betrachtung der Kollimation in einem der kleinen Durchgangs löcher 9,9' sieht man, daß ein Teil der in das kleine Durchgangs loch eintretenden divergierenden weichen Röntgenstrahlen auf die Glaswand des Durchgangslochs trifft, wodurch dieser Teil zurückgehalten wird, Len recorded with divergence angles smaller than 2tan (d / l). When looking at the collimation in one of the small through holes 9,9 'you can see that part of the diverging entering the small through hole soft X-rays hit the glass wall of the through hole, thereby retaining this part,
während der restliche AnteiL das kleine Durchgangs loch durchquert, ohne daß er auf die Glaswand auftrifft. Der letztere, der austretende Röntgenstrah I st rom, weist einen Divergenzwinkel von 2tan (d/l) auf, wie oben beschrieben.while the remainder is the small through hole crossed without hitting the glass wall. The latter, the exiting X-ray beam I stream, has one Divergence angle of 2tan (d / l) as described above.
Wenn beispielsweise ein Divergenzwinkel von einem Grad erzielt werden soll und der Innendurchmesser d des Durchgangsloch 30 Mikron beträgt, ergibt sich die Länge I des Durchgangs Lochs auf etwa 3,44 mm.For example, if a divergence angle of one degree is to be achieved and the inner diameter d of the through hole is 30 microns, the length I results of the through hole to about 3.44 mm.
Die kleinen Durchgangs löcher können auf bekannte Art und Weise hergestellt werden, beispielsweise durch das Versehen einer Glasscheibe mit kleinen öffnungen zur Herstellung einer Hikrolochscheibe (wie veröffentlicht in "Optical Fiber", Seite 191 bis 193, herausgegeben von Kyoritsu Shuppan Kabushiki Kaisha). Diese Technik ist sehr gebräuchlich; die Scheibe mit den kleinen Durchbohrungen kann als äquivalent der klein gelochten Scheibe vor der Bildung von Elektroden oder ähnlichem betrachtet werden. Entsprechend können die kleinen Durchbohrungen der Erfindung einfach hergestellt werden.The small through holes can be produced in a known manner, for example by oversight a pane of glass with small openings for the production of a micro-hole pane (as published in "Optical Fiber", pages 191 to 193, edited by Kyoritsu Shuppan Kabushiki Kaisha). This technique is very common; the disc with the small perforations can be used as the equivalent of the small perforated disc considered prior to the formation of electrodes or the like will. Accordingly, the small through holes of the invention can be easily made.
Anhand der Figuren 4A bis 4C werden modifizierte Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Kollimators beschrieben. Der in Figur 4A dargestellte Kollimator weist einen Glasrahmen 10 und eine Vielzahl innerhalb des Rahmens 10 gelagerter kleiner rohrförmiger Elemente 11 auf. Da der Durchmesser jedes rohrförmigen Elements so klein ist, daß die Handhabung des Elements nicht einfach ist, werden die rohrförmigen Elemente zunächst in reihenförmi-9er Weise angeordnet und dann in einem Ofen einer hohen Temperatur und einem hohen Druck ausgesetzt, so daß sie miteinander verschweißt werden.Modified exemplary embodiments are shown on the basis of FIGS. 4A to 4C of the collimator according to the invention described. The collimator shown in Figure 4A has a glass frame 10 and a plurality of small tubular elements 11 stored within the frame 10. Since the diameter of each tubular element is so small that handling of the element is not easy, the tubular elements are initially arranged in rows Way arranged and then exposed in a furnace of high temperature and pressure so that they are welded together.
Alternativ kann das rohrförmige Element 11 durch optische Fasern ersetzt werden, die alle einen schmelzbaren Kern haben. In diesem Fall wird der Kern durch eine geeigneteAlternatively, the tubular element 11 can be replaced by optical fibers, all of which have a fusible core to have. In this case, the core is replaced by a suitable
Säurebehandlung nach dem Verschweißen entfernt.Acid treatment removed after welding.
Die so gebildete geschweißte Platte wird danach zerschnitten, um so Kollimatoren gewünschter Dicke herzustellen. Bei dem in Figur 4 A dargestellten Kollimator liegt die Wandstärke jedes rohrförmigen Elements im Bereich von 2,5 Mikron, während der Innendurchmesser im Bereich von 25 Mikron liegt. Die Figuren 4 B und 4 C zeigen weitere modifizierte Ausführungsbeispiele, wobei jedes in Figur 4B dargestellte kleine Durchgangs loch Rechteckquerschnitt hat, während jedes in Figur 4C dargestellte kleine Durchgangsloch Hexagonalquerschnitt hat. Die Ausführungsbeispiele mit kreisförmigem und hexagonalem Querschnitt sind besonders vorteilhaft, weil die kleinen Durchgangs löcher dieserAusführungsbeispie Ie einfach herzusteLlen sind und außerdem die durch die Teilungswände verbrauchte Querschnitt sf lache klein ist, wodurch der Röntgenstrahl-Transmissionskoeffizient weiter verbessert werden kann.The welded plate thus formed is then cut, so as to produce collimators of the desired thickness. In the collimator shown in FIG. 4 A, the Wall thickness of each tubular member is in the range of 2.5 microns while the inner diameter is in the range of 25 microns. Figures 4 B and 4 C show more modified exemplary embodiments, each in FIG 4B illustrated small through hole rectangular cross-section while each small through hole shown in Figure 4C has a hexagonal cross-section. The working examples with circular and hexagonal cross-section are particularly advantageous because the small through holes these exemplary embodiments are easy to produce and also the cross section consumed by the dividing walls sf area is small, reducing the X-ray transmission coefficient can be further improved.
Der erfindungsgemäße Kollimator kann in allen Bereichen benutzt werden, in denen kollimierte weiche Röntgenstrahlen benutzt werden sollen, beispielsweise bei typischen Röntgenana lysatoren und Röntgenstrah Ibe I ichtungsvorrichtungen. The collimator according to the invention can be used in all areas be used in which collimated soft X-rays should be used, for example, in typical Röntgenana lysatoren and Röntgenstrah Ibe I ichtungvorrichtungen.
In Figur 5 wird eine erfindungsgemäße Röntgenstrahlbelichtungsvorrichtung beschrieben. Die Röntgenstrahlbelichtungsvorrichtung beinhaltet eine Vakuumkammer 12, Elektronenstrahler 13, eine AuftrefffIäche 14 zur Erzeugung weicher Röntgenstrahlen und ein Fenster 15 zum Durchlaß der durch die Auftrefffläche 14 erzeugten weichen Röntgenstrahlen. Die Elektronenstrahler 13 sind senkrecht zum Zeichnungsblatt aufgereiht und die Auftrefff lache 14 erstreckt sich senkrecht zum Zeichnungsblatt,so daß ein linearer weicher RöntgenstrahI st rom hergestellt wird.FIG. 5 shows an X-ray exposure apparatus according to the invention described. The X-ray exposure device includes a vacuum chamber 12, electron guns 13, an impact surface 14 for generating soft X-rays and a window 15 for passage of the soft X-rays generated by the impact surface 14. The electron guns 13 are perpendicular to the Drawing sheet lined up and the Auftrefff lache 14 extends perpendicular to the drawing sheet, so that a linear soft X-ray stream is produced.
Die Röntgenstrahlbelichtungsvorrichtung beinhaltet'ferner einen RöntgenstrahIkolIimator mit einem Ko 11 imationsabschnitt 7 und einem Halterahmen 8 für den Ko 11imationsabschnitt. Der in dieser Zeichnung dargestellte KoLM-mator weist etwa denselben Aufbau wie der in Figur 2 dargestellte Kollimator auf. Die ' Vorrichtung beinhaltet weiter einen Fotoschablonenträger 17 zur Halterung einer Fotoschablone 16 mit einem darauf ausgebildeten integrierten Schaltungsbild und einen Substrattrager 19 zur'Halterung eines Substrats 18 mit einer auf dem Substrat 18 ausgebildeten empfindlichen Schicht. Der Fotoschablonenträger 17 und der Substratträger 19 sind derart angeordnet, daß sie durch einen nicht dargestellten Antriebsmechanismus als Einheit mit konstanter Geschwindigkeit längs eines Führungselements 20 bewegt werden, während sie die Fotoschablone 16 und das Substrat 18 in konstanter Abstandsbeziehung halten.The X-ray exposure apparatus further includes an X-ray cooler with a co 11 imation section 7 and a holding frame 8 for the coordination section. The KoLM-mator shown in this drawing has approximately the same structure as the one shown in FIG Collimator on. The 'device includes further a photo stencil carrier 17 for holding a Photo template 16 with an integrated thereon Circuit diagram and a substrate carrier 19 zur'Halterung a substrate 18 having a sensitive layer formed on the substrate 18. The photo stencil carrier 17 and the substrate carrier 19 are arranged in such a way that they are driven by a drive mechanism, not shown as a unit with constant speed are moved along a guide element 20 while holding the photographic stencil 16 and the substrate 18 in constant Keep a distance relationship.
Bei dieser Anordnung bestrahlen die von den Elektronen-Strahlern 13 ausgesendeten Elektronenstrahlen die Auftrefffläche 14 so, daß weiche Röntgenstrahlen erzeugt werden. Die so erzeugten weichen Röntgenstrahlen durchqueren divergierend das Fenster und treffen auf den KoIIi mationsabschnitt 7 auf. Durch diesen Ko 11imationsabschnitt 7 werden die nicht parallelen Strahlungsanteile zurückgehalten, während die parallelen Strah lungsanteiLe den KoLLimationsabschnitt 7 durchqueren, um Linear auf die Fotoschablone 16 aufzutreffen. Da die Fotoschablone 16 und das Substrat 18 als Einheit wie oben beschrieben zur Abtastung bewegt werden, wird die gesamte Oberfläche sowohl der Fotoschablone 16 als auch des Substrats 18 einheitlich mit den weichen Röntgenstrahlen beaufschlagt.With this arrangement, the irradiate from the electron emitters 13 emitted electron beams hit the surface 14 so that soft X-rays generated will. The soft X-rays thus generated traverse diverging the window and meet the KoIIi mationsabschnitt 7 on. Through this co 11imation section 7 are the non-parallel radiation components held back while the parallel radiation components the KoLLimationsabschnitt 7 traverse to linear the photo stencil 16 to apply. As the photo template 16 and the substrate 18 are moved as a unit as described above for scanning, the entire surface of both the photo stencil 16 and the substrate 18 uniformly exposed to the soft X-rays.
Es ist bekannt, daß die weichen Röntgenstrahlen verglichen mit den harten Röntgenstrahlen, die im medizinischen Bereich benutzt werden, in der Luft stark abgeschwächt werden. Während der in Figur 1 dargestellte KolLimatorIt is known that the soft X-rays compared with the hard x-rays used in the medical Area in which the air is severely attenuated. While the KolLimator shown in Figure 1
einen Mindestabstand von 12 cm zwischen dem Erzeugungspunkt der Röntgenstrahlen und der Oberfläche der empfindlichen Schicht auf dem Substrat 16 braucht, um eine ausreichende Parallelität zu erzielen, verringert der e r findungsgemäße Kollimator den nötigen Abstand zwischen dem Erzeugungspunkt der Röntgenstrahlen und der Oberfläche der empfindlichen Schicht wirksam bis in den Bereich von einigen Millimetern. Dadurch wird die Belichtungszeit vorteilhaft bis in einen Bereich von 1/10 bis 'zu einem 1/20 oder weniger verringert, verglichen mit dem in Figur 1 dargestellten Kollimator.a minimum distance of 12 cm between the point of generation of the X-rays and the surface of the sensitive ones Layer on the substrate 16 needs to achieve sufficient parallelism, the e r according to the invention is reduced Collimator the necessary distance between the point of generation of the X-rays and the surface of the sensitive layer effective into the area of a few millimeters. As a result, the exposure time is advantageously up to a range from 1/10 to 'to decreased by 1/20 or less compared to that collimator shown in Figure 1.
Außerdem weist der erfindungsgemäße Röntgenstrah I ko 11 i mator selbst einen einfachen Aufbau auf und kann bei vermindertem Kostenaufwand hergestellt werden. Weiterhin ist die Weite des Kollimators ausreichend gering, so daß die Abschwächung der Röntgenstrahlen minimiert wird, um so .einen höheren Röntgenst rah L t ransmi ssi onskoeff i ζ i ent en zu gewährleisten.In addition, the X-ray beam according to the invention has I ko 11 imator itself has a simple structure and can be manufactured at a reduced cost. Furthermore is the width of the collimator sufficiently small that the Attenuation of the X-rays is minimized so .a higher X-ray transmission coefficient guarantee.
Wie oben beschrieben, weist der erfindungsgemäße Röntgenstrahlkollimator, und die erfindungsgemäße Röntgenstrahlbelichtungsvorrichtung verschiedene vorteilhafte Wirkungenauf. As described above, the X-ray collimator according to the invention, and the X-ray exposure apparatus of the present invention exhibits various advantageous effects.
Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf Zeichnungen anhand einiger bevorzugter Ausführungsbeispiele dargestellt und erläutert wird, versteht es sich, daß sie dadurch nicht beschränkt werden soll. Dem Fachmann sind zahlreiche Abwandlungen, Weglassungen und Änderungen hinsichtlich der Form und der Einzelheiten der beschriebenen Ausführungsformen möglich, ohne den Rahmen den Erfindung zu verlassen. Der Schutzumfang soll daher nicht durch eine der möglicherweise zufälligen Einzelheiten der beschriebenen Ausführungsformen oder der Zeichnungen begrenzt sein.Although the invention is illustrated with reference to drawings using a few preferred exemplary embodiments and illustrated, it should be understood that it is not intended to be limited thereby. There are numerous to those skilled in the art Modifications, omissions and changes in the form and details of the described embodiments possible without departing from the scope of the invention. The scope of protection should therefore not be limited by a the possibly accidental details of the described Embodiments or the drawings may be limited.
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Ein RöntgenstrahlkolIimator- minimiert die Abschwächung einer Röntgenstrahlung, um einen RöntgenstrahItransmissionskoeffizienten und eine RöntgenstrahLbelichtungsvorrichtung mit dem RöntgenstrahIko11imator zu verbessern.An x-ray collimator minimizes the attenuation an X-ray to improve an X-ray transmission coefficient and an X-ray exposure device with the X-ray co11imator. Der RöntgenstrahIkollimator hat einen Röntgenstrahlübertragungsabschnitt mit einer Vielzahl Durchgangslöcher und ein Halteelement zur Lagerung des Röntgenstrah lübertragungsabschnitts, wodurch die Abschwächung der Röntgenstrahlung abgeschwächt und der RöntgenstrahItransmissionskoeffizient verbessert wird. Die RöntgenstrahIbeIichtungs- vo'rrichtung benutzt den Röntgenst rah Iko 11 i mator, so daß die Belichtungszeit verringert wird.The X-ray collimator has an X-ray transmission portion with a plurality of through holes and a holding element for supporting the X-ray transmission section, whereby the attenuation of the X-ray radiation is weakened and the X-ray transmission coefficient is improved. The X-ray imaging device uses the X-ray scanner so that the exposure time is reduced.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0284810A2 (en) * | 1987-04-02 | 1988-10-05 | Firma Carl Zeiss | Plug element for supporting components in stacks |
EP0757838B1 (en) * | 1994-04-25 | 2001-10-04 | Gra*Star, Inc. | Radiation flux polarizer |
DE102008030893A1 (en) * | 2008-06-30 | 2009-12-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Stray radiation collimator for use in radiation detector, has group of absorber elements arranged in collimation direction and another group of another absorber elements arranged in another collimation direction |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0322408B1 (en) * | 1986-08-15 | 1993-05-05 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Instrumentation for conditioning x-ray or neutron beams |
US6175615B1 (en) * | 1999-04-12 | 2001-01-16 | General Electric Company | Radiation imager collimator |
DE19947537A1 (en) * | 1999-10-02 | 2001-04-05 | Philips Corp Intellectual Pty | X-ray absorption grating |
WO2005027143A2 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-24 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Arrangement for collimating electromagnetic radiation |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3543384A (en) * | 1966-11-14 | 1970-12-01 | Picker Corp | Methods of collimator fabrication |
DE1764273B1 (en) * | 1967-05-09 | 1971-09-23 | Tokyo Shibaura Electric Co | POSSIBLE COLLIMATOR BLOCK FOR THE DIRECTIONAL BLOCKING OF DIFFUSED ROENTGEN OR GAMMA RADIATION AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURING |
GB1236163A (en) * | 1968-04-01 | 1971-06-23 | Nuclear Chicago Corp | Radiation detector devices |
GB1274213A (en) * | 1968-06-05 | 1972-05-17 | Coal Industry Patents Ltd | Improvements in and relating to density-measuring apparatus |
IT939314B (en) * | 1970-07-07 | 1973-02-10 | Nuclear Chicago Corp | LOW ENERGY RAY COLLIMATOR RANGE AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE |
US3732419A (en) * | 1970-10-12 | 1973-05-08 | Nuclear Chicago Corp | Scintillation camera with improved resolution |
SE361948B (en) * | 1971-11-23 | 1973-11-19 | G Larsson | |
US3925660A (en) * | 1972-05-08 | 1975-12-09 | Richard D Albert | Selectable wavelength X-ray source, spectrometer and assay method |
FR2323158A1 (en) * | 1974-01-10 | 1977-04-01 | Radiologie Cie Gle | HYBRID SCAN SCINTIGRAPHY UNIT |
NL7506850A (en) * | 1974-06-11 | 1975-12-15 | Medical Data Systems Corp | TOMOGRAPHIC GAMMA RAYS IMAGE DEVICE. |
GB1536497A (en) * | 1975-03-17 | 1978-12-20 | Galileo Electro Optics Corp | X and gamma radiation collimator and method of manufacturing such collimator |
GB1578881A (en) * | 1976-02-09 | 1980-11-12 | Univ Ohio State | Gamma camera system |
SE423458B (en) * | 1980-09-10 | 1982-05-03 | Agne Larsson | DEVICE OF A CAMERA INCLUDING A DIFFERENT COLLIMATOR |
-
1983
- 1983-08-06 JP JP58144126A patent/JPS6034018A/en active Pending
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1984
- 1984-07-31 GB GB08419439A patent/GB2148680A/en not_active Withdrawn
- 1984-08-03 DE DE19843428717 patent/DE3428717A1/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0284810A2 (en) * | 1987-04-02 | 1988-10-05 | Firma Carl Zeiss | Plug element for supporting components in stacks |
EP0284810A3 (en) * | 1987-04-02 | 1991-01-23 | Firma Carl Zeiss | Plug element for supporting components in stacks |
EP0757838B1 (en) * | 1994-04-25 | 2001-10-04 | Gra*Star, Inc. | Radiation flux polarizer |
DE102008030893A1 (en) * | 2008-06-30 | 2009-12-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Stray radiation collimator for use in radiation detector, has group of absorber elements arranged in collimation direction and another group of another absorber elements arranged in another collimation direction |
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