DE3343181C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Beobachtungsvorrichtung,
die bei der Ausrichtung von Gegenständen oder Teilen Verwen
dung findet und insbesondere bei der Kontrolle der Ausrich
tung einer ersten und zweiten Markierung in einem gemeinsamen
Gesichtsfeld.
Wie allgemein bekannt ist, werden ICs und ISIs herge
stellt, indem eine Anzahl von kompliziert ausgebildeten
Schaltungsmustern übereinander angeordnet wird. Da die
Tendenz zu eher höheren Betriebsgeschwindigkeit und
einer höheren Dichte der Muster geht, muß die Breite
der Schaltungsleitungen immer kleiner und kleiner werden,
was eine immer höhere Genauigkeit bis unter den µm-Bereich
erforderlich macht. Um diesen Erfordernissen gerecht zu
werden, ist eine schrittweise und repetierend arbeitende
Ausrichtungsvorrichtung entwickelt worden, die als
Schrittvorrichtung bezeichnet wird. Bei einer derartigen
Vorrichtung wird ein Muster einer Strichplatte im Maß
stab 1 : 1 oder im verkleinerten Maßstab auf ein Mikro
plättchen projiziert. Aufgrund der durch die Ausbildung
des optischen Projektionssystems vorgegebenen Grenzen
ist der Projektionsbereich notwendigerweise begrenzt
oder klein, so daß normalerweise die gesamte Ober
fläche des Mikroplättchens nicht in einem einzigen
Schritt belichtet werden kann. Um daher die gesamte
Oberfläche abzudecken, wird das Muster auf einen Teil
der Oberfläche des Plättchens projiziert, wonach zum
nächsten Teil übergegangen und dort projiziert wird.
Dies wird über das gesamte Mikroplättchen wiederholt.
Mit zunehmender Größe der Mikroplättchen steigt auch
die Anzahl der Schritte, die für ein Plättchen er
forderlich sind, so daß auch die zur Bearbeitung
eines Mikroplättchens erforderliche Zeit ansteigt.
Vor jedem Projektionsvorgang, d. h. der Be
lichtung des Plättchens mit dem Muster, müssen die
Strichplatte und das Plättchen zueinander ausgerichtet
werden. Diesem Ausrichtungsvorgang kommt daher sowohl
in bezug auf die Genauigkeit als auch die hierfür er
forderliche Zeitdauer eine große Bedeutung zu. Bei
einer Ausrichtung mit versetzter Achse (OFF-AXIS
alignment) ist es bekannt, ein Teil an einer vor
gegebenen Stelle außerhalb der Belichtungsstation
korrekt anzuordnen und dieses Teil danach über eine
vorgegebene Strecke, ermittelt durch ein Laser-Interferro
meter, in die Belichtungsposition zu bewegen. Eine derartige
Vorrichtung ermöglicht eine hohe Betriebsgeschwindig
keit, bringt jedoch insofern Probleme mit sich, als
daß die Ausrichtung nicht unmittelbar an der Be
lichtungsstation bestätigt werden kann. Ferner kann
die Vorrichtung keine nichtlinearen örtlichen Form
änderungen erfassen, die, wie die Erfahrung zeigt,
bei der Bearbeitung des Plättchens hervorgerufen
werden können. Schließlich kann die Genauigkeit der
Überwachung der Tischbewegung die Ausrichtung beein
flussen.
Bei einer Beobachtungsvorrichtung bzw. einer sogenannten TTL-Vorrichtung wird das
Mikroplättchen durch das Projektiv an der Belichtungs
stelle oder in der Nähe derselben beobachtet, um es
zur Strichplatte auszurichten. Hierbei können örtliche
Formänderungen des Plättchens erfaßt und Ungenauigkeiten
bei der Bewegung des Plättchentisches vermieden werden,
so daß eine bessere Ausrichtung zwischen der Strich
platte und dem Plättchen erreicht wird.
Bei diesem TTL-System ist es bekannt, den Ausrichtungs
vorgang mit Hilfe einer Laserstrahlabtastung durchzu
führen. Ein Beispiel hierfür zeigt die Fig. 13 mit
einer schematischen Ansicht einer Beobachtungsvorrichtung.
Hierbei wird
ein einziger Laserstrahl von einer einzigen Laserstrahl
quelle 1 in zwei Strahlen aufgeteilt, die danach auf
ein linkes und rechtes Objektiv gerichtet werden, so daß
auf diese Weise die Erfassung der Verschiebung oder des
Fehlausrichtungsgrades zwischen der Strichplatte 12
und dem Plättchen 13 an zwei Stellen möglich ist. Hier
durch können zwei Arten von Verschiebungen, nämlich
in X- und X-Richtung (translatorisch) und in ⊖-
Richtung (rotatorisch), korrigiert werden, indem ent
weder die Strichplatte oder das Mikroplättchen relativ
zu dem anderen Element bewegt wird.
Das in Fig. 13 dargestellte optische System umfaßt eine
Sammellinse 2 zum Fokussieren des Laserstrahles, einen
Polygonalspiegel 3, eine f-⊖-Linse 4 und einen Strahlen
teiler 5. Der von der Laserstrahlquelle 1 abgegebene
Laserstrahl wird zur Abtastung von dem Polygonalspiegel 3
abgelenkt und trifft dann auf den Strahlenteiler 5 etc.
Das System umfaßt des weiteren eine Feldlinse 6 und ein
Gesichtsfeldteilerprisma 25, das ebenfalls den Laser
strahl in zwei Strahlen aufteilt. Aufgrund seiner
zwei Funktionen kann man das Prisma 25 als Gesichts
feldteilerprisma und räumliches Strahlenteilerprisma
bezeichnen. Der Strahl passiert einen Polarisations
strahlenteiler 7 bzw. wird durch diesen reflektiert,
eine Relaislinse 8 und einen Strahlenteiler 9 und
erreicht schließlich das Objektiv 11, durch das er zum Abtasten auf den Gegen
ständen abgebildet wird. Das
System von optischen Elementen, das sich von einer
Pupillenabbildungslinse 14 bis zu einem Detektor 18
erstreckt, stellt ein fotoelektrisches Erfassungs
system dar. Die Vorrichtung umfaßt des weiteren ein
chromatisches Filter 15, ein Ortsfrequenzfilter 16,
der spiegelnd reflektierte Strahlen (von der Strich
platte oder dem Plättchen) blockiert, jedoch ge
streut reflektierte Strahlen durchläßt, ein optisches
Beleuchtungssystem mit einer Sammellinse 17, einer
Lichtquelle 19, einer Sammellinse 20 und einem
chromatischen Filter 21 und ein optisches Beobachtungs
system mit einem entsprechenden Aufbau und einem
Okular. Die Funktionsweise dieser Elemente ist bekannt,
so daß an dieser Stelle auf ausführliche
Erläuterungen verzichtet werden kann. Bei diesem
Beispiel wird der vom Polygonalspiegel 3 abgelenkte
Strahl in seinem Ablenkbereich durch das Gesichts
feldteilerprisma 25, das relativ zu der Strichplatte
12 und dem Plättchen 13 optisch konjugiert ist, ge
teilt, um in wirksamer Weise die Lichtmenge des Laser
strahles auszunutzen. Die Ablenklinie verläuft quer
zur Kante des Prismas 25. Die entsprechenden vom
Prisma 25 geteilten Strahlen treffen durch die jeweili
gen Objektive 11 auf Ausrichtungsmarken "F" und
tasten diese ab. Das mit Mikroskopen versehene Aus
richtungssystem dient zur
Beobachtung der Ausrichtungsmarken.
Hierauf kann insbesondere bei der Überwachung des Aus
richtungszustandes und der anfänglichen Einstellung ei
ner Strichplatte nicht verzichtet werden. Bei dem
optischen Beobachtungssystem bzw. der Beobachtungsvorrichtung
ist es wünschenswert, daß die Bilder in natürlicher und einfacher Weise
beobachtet werden können.
Fig. 2 zeigt die Gesichtsfelder des Bildes, wie sie
durch das Okular 23 bei der in Fig. 13 dargestellten
Ausführungsform erscheinen. In Fig. 2 ist mit 31 die
Gesichtsfeldteilungslinie bezeichnet, die durch die
Kante des Gesichtsfeldteilerprismas 25 gebildet wird.
Mit 32 ist die Abtastlinie des Laserstrahles, mit 33
das Gesichtsfeld durch das rechte Objektiv und mit
34 das Gesichtsfeld durch das linke Objektiv be
zeichnet. Die Ausrichtungsmarke ist durch den Buch
staben "F" gekennzeichnet. Wie aus Fig. 2 hervorgeht,
werden die linke und die rechte Ausrichtungsmarke auf
der Strichplatte 12 im rechten und linken Gesichtsfeld
durch die Mikroskope als aufrechtstehende Bilder ge
sehen. Diese Ausrichtungsmarken spielen bedeutende
Rollen bei der Herstellung von Halbleiterschaltungen,
stellen jedoch kein tatsächliches Schaltungsmuster dar.
Nach der vollständigen Bearbeitung des Mikroplättchens
ist daher der mit den Ausrichtungsmarken versehene
Teil des Plättchens ein Bereich, der nicht genutzt
werden kann. Aus diesem Grunde sollte der von einer
Ausrichtungsmarke eingenommene Bereich so klein wie
möglich sein, um eine bessere Ausbeute zu erhalten.
Fig. 3 zeigt ein Beispiel einer Strichplatte oder
Maske (hiernach einfacherweise als Strichplatte be
zeichnet). Wenn die Ausrichtungsmarken auf den
Trennlinien zwischen benachbarten Chips 101 vorge
sehen werden, fordern sie keinen speziellen Raum, so
daß das vorstehend genannte Problem gelöst ist. Da
sich der abtastende Laserstrahl in der die Ausrichtungs
marken verbindenden Richtung (nachfolgend als Längs
richtung bezeichnet) bewegt, sind zwei Markierungen bzw. Ausrichtungs
marken in dieser Richtung angeordnet, d. h. entlang
und innerhalb einer Trennlinie, die sich in der Nähe
des Mittelpunktes der Strichplatte befindet. Die
sich in der Nähe des Mittelpunktes befindende Trenn
linie ist für diesen Zweck geeignet, da dadurch
eine höhere Genauigkeit erreicht werden kann.
Bei einer schrittweise arbeitenden Belichtungs- und
Ausrichtungsvorrichtung, u. a. einer schrittweise
arbeitenden Vorrichtung mit Verkleinerung, ist es je
doch möglich, daß eine Strichplatte als Ganzes nur
einem einzigen Chip entspricht, so daß sich eine der
artige Trennlinie nur am Grenzbereich befindet, d. h.
es ist keine Trennlinie in der Nähe des Mittelpunktes
vorhanden, die sich besser zur Aufnahme der Aus
richtungsmarken eignen würde, wie vorstehend erläutert.
Fig. 4 zeigt eine solche Strichplatte, die mit einem
Muster von nur einem Chip versehen ist, in der die
möglichen Ausrichtungsmarken durch die Bezugsziffern
102 und 103 gekennzeichnet sind. Wenn man voraussetzt,
daß die Abtaststrahlen beispielsweise von links nach
rechts laufen, sollte ein Paar von Ausrichtungsmarken
entweder in der mit 102 oder in der mit 103 gekenn
zeichneten Weise angeordnet sein. Im letztgenannten
Fall erstreckt sich jede Ausrichtungsmarke über den
Bereich des Schaltungsmusters, so daß breitere
Trennlinien erforderlich sind. Dies ist besonders nach
teilig, da dadurch die Ausbeute beträchtlich gesenkt
wird. Im erstgenannten Fall, d. h. der Ausrichtungsmarken
102, ist dies nicht unbedingt erforderlich, jedoch be
finden sich die Marken 102 nur an der Oberseite (Fig. 4),
so daß an der Unterseite die Fehlausrichtung größer ist.
Diese Probleme können durch die in Fig. 5 dargestellten
Ausrichtungsmarken 104 gelöst werden, d. h. durch An
ordnung der Ausrichtungsmarken in der Nähe des Mittel
punktes der Strichplatte und durch Erstreckung derselben
in senkrechter Richtung, d. h. in einer Richtung senkrecht
zur Längsrichtung, die die beiden Ausrichtungsmarken mit
einander verbindet, und der Abtastung des Laserstrahles
in senkrechter Richtung entsprechen.
Die senkrechte Abtastung des Laserstrahles kann bei der
in Fig. 13 dargestellten Ausführungsform erreicht werden,
indem man die Systeme 1, 2 und 3, die die Laserstrahl
systemteile enthalten, dreht und einen breiteren Laser
strahl entlang der Kante des Prismas 31 bewegt. Hierbei
handelt es sich um eine Aufteilung eines einzigen Laser
strahles in Richtung der Strahlablenkung, im Gegensatz
zu der Ausführungsform der Fig. 13, bei der der Strahl
durch die Kante aufgeteilt wird, die sich senkrecht zur
Strahlablenkung erstreckt. Daher ist eine solche Ab
änderung der in Fig. 13 dargestellten Ausführungsform
nicht vorteilhaft, da die Lichtmenge infolge der Teilung
des Strahles in Ablenkrichtung auf die Hälfte reduziert
wird und da durch die Kante des Prismas 31 immer Stör
licht erzeugt wird. Es ist zwar möglich, eine das Bild
um 90° drehende Einrichtung an einer geeigneten Stelle
nach dem Prisma 31 vorzusehen, um eine in Längsrichtung
verlaufende Abtastung in eine in senkrechter Richtung
verlaufende Abtastung umzuwandeln. Wenn man dies je
doch durchführt, wird der reflektierte Strahl ebenfalls
um 90° gedreht, so daß die Ausrichtungsmarke (F) um
90° gedreht und somit eine natürliche und einfache
Beobachtung unmöglich gemacht wird.
Des weiteren ist aus der DE 30 29 827 A1 eine Beobachtungs
vorrichtung zur Kontrolle der Ausrichtung einer ersten und
zweiten Markierung in einem gemeinsamen Gesichtsfeld bekannt,
mit einem ersten optischen System mit einem ersten Objektiv,
einem zweiten optischen System mit einem zweiten objektiv,
einem Prisma und einem gemeinsamen optischen System, wobei
das erste und zweite optische System optisch mit dem gemein
samen optischen System über das Prisma gekoppelt sind, wobei
die erste und zweite Markierung an unterschiedlichen Stellen
eines Substrats, wie z. B. einer Maske oder einem Mikroplätt
chen, liegen und jeweils durch das erste und zweite Objektiv
abgebildet werden, wobei ein erster Lichtstrahl, der durch
die erste Markierung reflektiert wird, durch das erste objek
tiv empfangen wird, und ein zweiter Lichtstrahl, der durch
die zweite Markierung reflektiert wird, durch das zweite Ob
jektiv empfangen wird, wobei ein Abbildungsstrahlengang des
ersten optischen Systems auf einer Seite des Prismas und ein
Abbildungsstrahlengang des zweiten optischen Systems auf die
andere Seite des Prismas gelenkt wird, wobei das gemeinsame
optische System den ersten und zweiten Lichtstrahl von dem
Prisma empfängt und die Abbildungen der ersten und zweiten
Markierungen projiziert, um eine Beobachtung der ersten und
zweiten Markierung im gemeinsamen Gesichtsfeld zu ermögli
chen.
Bei einer derartigen Beobachtungsvorrichtung stellen sich die
zu beobachtenden Markierungen einem Benutzer als voneinander
getrennt dar. Dieses führt dazu, daß die Markierungen in ih
rer seitlichen Erstreckung nur unzureichend beobachtet werden
können.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Beobach
tungsvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1
derart weiterzubilden, daß die Kontrolle der Ausrichtung der
ersten und zweiten Markierung in dem gemeinsamen Gesichtsfeld
vereinfacht ist.
Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des Pa
tentanspruchs 1 angegebenen Maßnahmen gelöst.
Dadurch daß das Prisma um einen Betrag Δ in Richtung des
gemeinsamen optischen Systems verschoben wird und daß mittels
einer Feldlinse die dadurch verursachten Verschiebungen der
Hauptstrahlen korrigiert werden, ist die Kontrolle der beiden
Markierungen wirkungsvoll vereinfacht.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprü
che.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispie
len unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrieben. Es
zeigt
Fig. 1 ein erstes Ausführungsbeispiel einer
erfindungsgemäßen Beobachtungsvorrichtung,
Fig. 2 die Beziehung zwischen einer Abtast
linie und einem Gesichtsfeldteilerprisma,
Fig. 3 ein Beispiel einer Maske oder einer
Strichplatte,
Fig. 4 Markierungen bzw. Ausrichtungsmarken für eine aus einem
Chip bestehende Strichplatte,
Fig. 5 Ausrichtungsmarken für eine aus einem
Chip bestehende Strichplatte, die bei den Ausführungs
beispielen verwendet wird,
Fig. 6A eine perspektivische Ansicht eines weiteren
Ausführungsbeispiels
einer erfindungsgemäßen Beobachtungsvorrichtung,
Fig. 6B eine Draufsicht auf einen Teil der in
Fig. 6A dargestellten Beobachtungsvorrichtung,
Fig. 7 die optische Beziehung zwischen den
beiden Prismen,
Fig. 8 von der Beobachtungsvorrichtung gemäß Fig. 6A
erfaßte Bilder, wobei eine koaxiale
optische Anordnung Verwendung findet,
Fig. 9 von der Beobachtungsvorrichtung gemäß Fig. 6A
erfaßte Bilder, wobei eine exzentrische
optische Anordnung Verwendung findet,
Fig. 10 die koaxiale und die exzentrische
optische Anordnung,
Fig. 11 eine Funktion eines telezentrischen
optischen Systems,
Fig. 12 eine exzentrische optische Anordnung,
bei der die Richtung der Exzentrik
senkrecht zu der der Fig. 10 verläuft,
und
Fig. 13 eine Beobachtungsvorrichtung nach dem
Stand der Technik.
In Fig. 6A ist eine Beobachtungsvorrichtung gemäß
einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Er
findung dargestellt.
Hierbei wird der von einer Laserquelle 1 erzeugte
Laserstrahl von einem Polygonalspiegel 3 abgelenkt.
Der abgelenkte Strahl wird von einem Prisma 25
empfangen, das eine Kante 31 aufweist, die sich senk
recht zur Ablenkrichtung erstreckt, wie auch in
Fig. 6B gezeigt ist. Die Oberflächen der Prismen
schrägseiten sind mit einem lichtreflektierenden Film
beschichtet, auf oder in der Nähe von dem der Laser
strahl durch die Linsen 2 und 4 abgebildet wird.
Die geteilten Strahlen 110 werden durch entsprechende
Bilddrehvorrichtungen, die jeweils aus den Elementen
7 und 7a bestehen, um im wesentlichen 90° gedreht,
so daß auch die Ablenkrichtung um 90° gedreht wird.
Nachfolgend wird aus Gründen der Einfachheit nur der
linke Teil des Systems beschrieben, da der andere
Teil symmetrisch ausgebildet ist. Die Bilddreh
vorrichtung umfaßt ein Prisma 7a mit einer geneigten
Reflextionsfläche und einen Glasblock 7, der eine
Polarisationsstrahlenteilerfunktion übernimmt und
eine geneigte Fläche aufweist, die unter einem Winkel
von 90° zu der geneigten Reflexionsfläche des Prismas
7a angeordnet ist. Die Bilddrehvorrichtung kann jedoch
auch anders ausgebildet sein, wenn nur eine ähnliche
Funktionsweise sichergestellt ist. Der von der Bild
drehvorrichtung ausgehende Abtaststrahl fällt durch
eine Linse 8, einen Strahlenteiler 9 und ein Mikroskop
objektiv 11 auf die Strichplatte 12, die von einem
nicht gezeigten Halter getragen wird, um die mit dem
Buchstaben "F" gekennzeichnete Markierung bzw. Ausrichtungsmarke
in senkrechter Richtung (durch einen Pfeil gezeigt),
d. h. senkrecht zu der Richtung, in der sich die Aus
richtungsmarken erstrecken, abzutasten. Die Strich
platte 12 und das Prisma 25 nehmen eine optisch
konjugierte Beziehung ein. Ähnlich wie bei dem Ausführungs
beispiel gemäß Fig. 13 sind ein Projektiv 29 und
ein Mikroplättchen 13 unter der Strichplatte 12 ange
ordnet. Der die Ausrichtungsmarken der Strichplatte
abtastende Strahl tastet auch Ausrichtungsmarken des
Mikroplättchens, die den Marken der Strichplatte ent
sprechen, in senkrechter Richtung ab. Die Beobachtungs
vorrichtung umfaßt des weiteren ein optisches System
zum Beleuchten der Ausrichtungsmarken der Strichplatte
12 und des Plättchens 13 durch das Objektiv 11. Der
Laserstrahl und der Beleuchtungsstrahl, die von den
Ausrichtungsmarken der Strichplatte 12 und dem
Plättchen 13 reflektiert werden, kehren dann zum Ob
jektiv 11 zurück. Der reflektierte Strahl trifft über
die Elemente 9 und 8 auf den Glasblock 7. Der zurück
reflektierte Strahl hat bereits zweimal eine λ/4-
Platte 111 passiert, die innerhalb des Projektives
29 vorgesehen ist, so daß die Polarisationsrichtung
des auf den Glasblock 7 treffenden, reflektierten
Strahles im Vergleich zu dem auftreffenden Laserstrahl
um 90° gedreht worden ist. Somit wird der reflektierte
Strahl durch den Strahlenteiler 7 geschickt, wo er aus
der Bahn des auftreffenden Strahles abgelenkt wird.
Die λ/4-Platte 111 muß nicht unbedingt inner
halb des Projektives 29 vorgesehen sein, sondern kann
an irgendeiner geeigneten Stelle zwischen dem Polari
sationsstrahlenteiler 7 und dem Plättchen 13 angeordnet
werden.
Da der reflektierte Strahl durch den Strahlenteiler
7 geschickt wird, verfolgt er nicht die Richtung des
auftreffenden Strahles zurück, wie vorstehend erläutert.
Daher wird dieser Strahl durch die 90°-Bilddrehvorrichtung
nicht beeinflußt. Der Strahl verläuft durch den Pola
risationsstrahlenteiler 7, wird von dem Strahlenteiler
43 reflektiert und wird danach auf ein Dachprisma 41
gerichtet, das eine Kante 51 aufweist, wie in den
Fig. 6A und 6B gezeigt. Das Prisma 41 ist in der Lage,
die Strahlen von den beiden Objektiven 11 miteinander
zu vereinigen. Die Oberflächen des Prismas 41 stehen
mit der Strichplatte 12 in einer optisch konjugierten
Beziehung. Die auf den Oberflächen ausgebildeten Bilder
der Abtastlinien verlaufen parallel zur Kante des
Prismas 41, da die diese Bilder erzeugenden Strahlen
die Bilddrehvorrichtungen nicht passieren. Die mit den
Elementen 7 und 7a versehene Bilddrehvorrichtung
funktioniert daher so, als ob sie eines der Dachprismen
25 und 41 verdrehen würde, so daß die Kanten der
Prismen senkrecht zueinander verlaufen würden, wie in
Fig. 7 gezeigt. Die umgedrehten Bilder werden durch
die Okularsysteme 42, 22 und 23 in eine aufrechte
Stellung gebracht. Der Strahl passiert einen Strahlen
teiler oder Halbspiegel 43 und wird durch ein Orts
frequenzfilter 15, so daß nur ein gestreuter Strahl
durchgelassen wird, auf einen Fotodetektor 18 gerichtet.
Die Ausrichtungsmarken der Strichplatte 12 und des
Plättchens 13 werden von dem Fotodetektor 18 abgetastet.
Auf der Basis der in Abhängigkeit von den Ausrichtungs
marken vom Fotodetektor 18 erzeugten Signale ermittelt
die zugehörige Prozeß-Schaltung den Grad der Fehlaus
richtung zwischen den Ausrichtungsmarken der Strich
platte 12 und des Plättchens 13. Zur Kompensation dieser
Fehlausrichtung wird der Plättchentisch 13′ durch einen
Motor o. ä. in X-, Y- und ⊖-Richtung bewegt, um wie bei
dem System gemäß Fig. 13 die Strichplatte 12 und das
Plättchen 13 zueinander auszurichten.
Fig. 8 zeigt das durch das Okular des Systems der Fig.
6A erfaßte Bild. Das zu beobachtende Muster ist durch den
Buchstaben "F" gekennzeichnet. Da die Kanten des Gesichts
feldteilerprismas 41 und des räumlichen Strahlenteiler
prismas 25 optisch senkrecht zueinander verlaufen, wie in
Fig. 7 gezeigt, werden die getrennt voneinander ange
ordneten Muster in der richtigen Reihenfolge abgebildet.
Da sich jedoch die Kanten der Dachprismen 25 und 41
auf der optischen Achse befinden, wie in Fig. 6B gezeigt,
werden das rechte und linke Gesichtsfeld durch die Kante
51 des Dachprismas 41 voneinander getrennt, so daß das
rechte und linke Gesichtsfeld in seitlicher Richtung über
ihre gesamte Erstreckung nicht beobachtet werden können,
wie aus Fig. 10 hervorgeht. Auch der Strahl für eine
untere Gesichtsfeldhälfte wird durch das Dachprisma 25
verdunkelt. Diese Probleme werden gelöst, indem die Kante
des Dachprismas 41 aus der optischen Achse heraus ver
schoben wird, d. h. indem ein exzentrisches optisches System
verwendet wird.
In Fig. 10 ist die Funktionsweise eines derartigen
exzentrischen optischen Systems dargestellt. In dieser
Figur ist der bei (a) gezeigte linke Teil ein übliches
koaxiales optisches System, durch das das Bild in der
in Fig. 8 gezeigten Weise gesehen wird. Bei diesem System
sind das Gesichtsfeld des linken optischen Systems 55a
und das Gesichtsfeld des optischen Systems 55b durch
das Gesichtsfeldteilerprisma 41 miteinander vereinigt
worden. Um das Gesichtsfeld zu erweitern, werden, wie
in Fig. 6 gezeigt, die optischen Achsen der optischen
Systeme 55a und 55b jeweils um den Betrag b ver
schoben, wie in Fig. 10(b) gezeigt. Die Richtung der
Verschiebung verläuft senkrecht zur Kante 51 des Ge
sichtsfeldteilerprismas 41.
Das in Fig. 10 gezeigte exzentrische optische System
kann aufgrund der vorhandenen Exzentrizität zwischen
den optischen Systemen 55a oder 55b und dem Bildauf
richter 22 zu einer Qualitätsverschlechterung des zu
beobachtenden Bildes führen. Um dies zu vermeiden,
ist es wünschenswert, daß die Lichtstrahlen an der
Stelle, an der die Gesichtsfelder miteinander ver
einigt werden, telezentrisch sind. Dies wird in Ver
bindung mit Fig. 11 erläutert. Fig. 11(a) zeigt
den nicht telezentrischen Fall. Trotz der Tatsache,
daß zur richtigen Funktionsweise des optischen Systems
der Hauptstrahl der Lichtstrahlen oberhalb der optischen
Achse des Bildaufrichters 22 parallel zur optischen
Achse verlaufen sollte, ist dieser geneigt. Fig. 11(b)
zeigt den telezentrischen Fall, bei dem die Haupt
strahlen der Lichtstrahlen parallel zur optischen Achse
des optischen Systems 22 verlaufen. Dadurch kann das
Auftreten des vorstehend erwähnten Problems vermieden
werden. Wenn die Lichtstrahlen von dem optischen
System 55 ausgehen, wird nach dem optischen System 55
eine Feldlinse 56 angeordnet, um den gleichen Effekt
zu erzielen, wie in Fig. 11(c) gezeigt.
Die Verschiebung Δ zur Vereinigung der Gesichtsfelder
kann in der in Fig. 10 dargestellten Art und Weise
durchgeführt werden. Um die Verdunkelung durch das
Prisma 25 zu verhindern und eine sichtbare untere
Hälfte des Gesichtsfeldes vorzusehen, werden das optische
System 55 und der Bildaufrichter relativ zueinander um
eine bestimmte Strecke Δ′ verschoben, wie in Fig. 12a
gezeigt, und zwar in Richtung der Teilungslinie des
Gesichtsfeldteilerprismas 41, indem beispielsweise das
gesamte Okularsystem entlang der Kante 51 verschoben
wird. Die gleichen Ergebnisse werden erzielt, indem das
Bildaufnehmerelement 61 mit dem optischen System 55 um
βΔ′ verschoben und der Bildaufrichter 22 in der
Richtung senkrecht zur Kante 51 koaxial gehalten wird,
wie in Fig. 12(b) gezeigt.
Das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6 besitzt zwei Dach
prismen 25 und 41. Dies ist jedoch nicht unbedingt er
forderlich. Ein einziges Prisma ist ebenfalls aus
reichend. Dieser Fall ist in Fig. 1 gezeigt. Unter
schiedlich gegenüber dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6A
sind die Prismen 130, die jeweils zwischen die Strahlen
teiler 43 und die Dachprismen 25 eingesetzt sind.
Die durch die Einfügung der Prismen 130 verursachte
Längenänderung der optischen Bahn wird durch die Linsen
131 korrigiert. Die Prismen 130 sind in der Lage, die
optische Bahn in geeigneter Weise zu verschieben. Der
Grad der Verschiebung hängt davon ab, wie groß die
Exzentrizität sein soll.
Das in Fig. 6A gezeigte Ausführungsbeispiel weist in der
optischen Bahn des Abtaststrahles und nicht in der
optischen Bahn des reflektierten Strahles eine 90°-
Bilddrehvorrichtung auf. Um die gleichen Wirkungen zu
erzielen, kann die Vorrichtung jedoch auch nur in der
optischen Bahn für den reflektierten Strahl vorgesehen
sein. Hierzu kann das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6A
verändert werden, indem das die Laserstrahlquelle 1,
die Sammellinse, den Polygonalspiegel 3 und die f-⊖-
Linse umfassende Laserstrahlsystem durch das Beobachtungs
system ersetzt wird, das das Okular 23, die Linsen 22 und
42 und Prismen zur Einführung des Laserstrahles in das
Prisma 41 und zur Richtung des reflektierten Strahles
auf das Prisma 25 umfaßt, indem eines der beiden Prismen
über dem Objektiv 11 weggelassen wird und indem der
restliche Teil um 90° gedreht wird, so daß der einfallende,
von dem Element 9 reflektierte Strahl nach Reflexion durch
das verbleibende Prisma nach unten auf das Objektiv ge
richtet wird. In diesem Fall werden die Elemente 9, 21,
20 und 19 vom Element 8 um die Strecke zwischen den beiden
Prismen oberhalb des Objektives 11 verschoben, um die
Position des Objektives aufrechtzuerhalten.
Diese Modifikationen können auch bei dem Ausführungsbeispiel gemäß
Fig. 1 vorgenommen werden.
Die Beobachtung kann auch nur mit der Laserstrahlquelle durchge
führt werden. Wenn beispielsweise ein He-Cd-Laser (441,6 nm)
verwendet wird, stellt die chromatische Aberration der
in bezug auf die g-Strahlung (435,8 nm) korrigierten Linse
kein Problem für den abtastenden Laserstrahl dar. Wenn das
Projektionssystem durch ein Spiegelsystem gebildet wird,
das keine oder nur eine geringe chromatische Aberration
aufweist, können He-Ne-Laser oder Ar⁺-Laser u. a. Ver
wendung finden. In diesen Fällen ist eine gemeinsame
Strahlenquelle sowohl für das optische Beobachtungssystem
als auch das optische fotoelektrische Erfassungssystem
geeignet, so daß der Aufbau der Vorrichtung vereinfacht
werden kann. Der optische Schnittwinkel zwischen den Kanten
des Gesichtsfeldteilerprismas 41 und des Ablenkungs
teilerprismas 25 ist nicht auf 90° begrenzt. Andere
Winkel können ebenfalls zur Anwendung gelangen.
Claims (2)
1. Beobachtungsvorrichtung zur Kontrolle der Ausrichtung ei
ner ersten und zweiten Markierung in einem gemeinsamen Ge
sichtsfeld, mit
einem ersten optischen System mit einem ersten Objektiv,
einem zweiten optischen System mit einem zweiten Objektiv,
einem Prisma (25; 41) und
einem gemeinsamen optischen System (22, 23, 42), wobei das erste und zweite optische System optisch mit dem gemeinsamen optischen System (22, 23, 42) über das Prisma (25; 41) gekop pelt sind,
wobei die erste und zweite Markierung an unterschiedlichen Stellen eines Substrats, wie z. B. einer Maske oder einem Mi kroplättchen, liegen und jeweils durch das erste und zweite Objektiv abgebildet werden,
wobei ein erster Lichtstrahl, der durch die erste Markierung reflektiert wird, durch das erste Objektiv empfangen wird, und ein zweiter Lichtstrahl, der durch die zweite Markierung reflektiert wird, durch das zweite Objektiv empfangen wird, wobei ein Abbildungsstrahlengang des ersten optischen Systems auf einer Seite des Prismas (25; 41) und ein Abbildungsstrah lengang des zweiten optischen Systems auf die andere Seite des Prismas (25; 41) gelenkt wird,
wobei das gemeinsame optische System (22, 23, 42) den ersten und zweiten Lichtstrahl von dem Prisma (25; 41) empfängt und die Abbildungen der ersten und zweiten Markierungen proji ziert, um eine Beobachtung der ersten und zweiten Markierung im gemeinsamen Gesichtsfeld zu ermöglichen, dadurch gekennzeichnet,
daß das Prisma (25; 41) um einen Betrag Δ in Richtung des gemeinsamen optischen Systems (22, 23, 42) verschoben wird und
daß mittels einer Feldlinse (56) die dadurch verursachten Verschiebungen der Hauptstrahlen korrigiert werden.
einem ersten optischen System mit einem ersten Objektiv,
einem zweiten optischen System mit einem zweiten Objektiv,
einem Prisma (25; 41) und
einem gemeinsamen optischen System (22, 23, 42), wobei das erste und zweite optische System optisch mit dem gemeinsamen optischen System (22, 23, 42) über das Prisma (25; 41) gekop pelt sind,
wobei die erste und zweite Markierung an unterschiedlichen Stellen eines Substrats, wie z. B. einer Maske oder einem Mi kroplättchen, liegen und jeweils durch das erste und zweite Objektiv abgebildet werden,
wobei ein erster Lichtstrahl, der durch die erste Markierung reflektiert wird, durch das erste Objektiv empfangen wird, und ein zweiter Lichtstrahl, der durch die zweite Markierung reflektiert wird, durch das zweite Objektiv empfangen wird, wobei ein Abbildungsstrahlengang des ersten optischen Systems auf einer Seite des Prismas (25; 41) und ein Abbildungsstrah lengang des zweiten optischen Systems auf die andere Seite des Prismas (25; 41) gelenkt wird,
wobei das gemeinsame optische System (22, 23, 42) den ersten und zweiten Lichtstrahl von dem Prisma (25; 41) empfängt und die Abbildungen der ersten und zweiten Markierungen proji ziert, um eine Beobachtung der ersten und zweiten Markierung im gemeinsamen Gesichtsfeld zu ermöglichen, dadurch gekennzeichnet,
daß das Prisma (25; 41) um einen Betrag Δ in Richtung des gemeinsamen optischen Systems (22, 23, 42) verschoben wird und
daß mittels einer Feldlinse (56) die dadurch verursachten Verschiebungen der Hauptstrahlen korrigiert werden.
2. Beobachtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß aufgrund der Korrektur der Verschiebungen mit
tels der Feldlinse (56) die Hauptstrahlen telezentrisch ver
laufen.
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DE3343181C2 true DE3343181C2 (de) | 1992-10-22 |
Family
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JP (1) | JPS59101828A (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03F 9/00 |
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Free format text: SUZUKI, AKIYOSHI, TOKIO/TOKYO, JP |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |