DE3249203T1 - Verfahren zum aufdampfen von ueberzuegen - Google Patents
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Description
DIPL-PHYS; F. ENDLICH
PATENTANWALT
EUROPEAN PATENT ATTORNEY
TELEFON: (089)84 36 3β
D-8034 GERMERING
20.JuIi 1983 E/m Meine Akte: G-5101
Anmelder: Roy Gerald Gordon, Cambdri'ge, Massachusetts, USA
Verfahren zum Aufdampfen vpn Überzügen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufdampfen von siliziumenthaltenden
Überzügen, insbesondere die Ausbildung von Überzügen durch thermische
Zersetzung und Reaktion mit Sauerstoff von siliziumenthaltenden Substanzen, die aus der Dampfphase auf eine heiße Oberfläche aufgebracht werden.
Es sind bereits Verfahren bekannt (US-PS 4 187 336 und 4 2Ö6 252), mit denen
transparente, silizjumoxidenthaltende Überzüge durch Oxidation von Silanen aufgetragen werden, in gewissen Fällen in Kombination mit anderen Substanzen
wie Zinnverbindungen, um Überzüge mit einem speziellen Brechungsindex
herzustellen. Derartige Überzüge sind beispielsweise als Zwischenschichten auf Glassubstraten unter Überzügen aus infrarotstrahlungreflektierenden Materialien
wie mit Fluor dotiertem Zinnoxid verwendbar, die eine Dicke von weniger als
1μ aufweisen, welche Beschichtungen dazu dienen, eine Irisation zu verhindern.
Dabei können Silane wie SiH4, (CH3)SiH2, (C2Hg)2SiH2 und g432
Verwendung finden.
Mit diesen Materialien können sehr zufriedenstellende Überzüge hergestellt
werden. Derartige Materialien sind jedoch entflammbar und leicht oxidierbar, so daß besondere Maßnahmen bei der Lagerung und der Benutzung erforderlich
sind. SiH4 ist spontan in Luft entzündbar, während die anderen erwähnten Silane nicht spontan entzündbar sind, aber Luftsauerstoff absorbieren und
damit reagieren. Bei Verwendung dieser Silane für ein chemisches Aufdampfen von Überzügen kann die leichte Entflammbarkeit zu unkontrollierten Reaktionen
und einer nachteiligen Bildung von Pulver führen, falls die Reaktion«-
bedingungen nicht sorgfältig gesteuert werden. Deshalb wurden Forschungsarbeiten
mit dem Ziel durchgeführt, weniger entflammbare Materialien zu finden, die
als siliziumenthaltende Überzüge verwendbar sind. Auch bei verringerter Oxidierbarkeit
derartiger Verbindungen ist es noch erforderlich, daß sie noch Reaktionsgeschwindigkeiten
ermöglichen, die eine kontinuierliche Beschichtung erlauben, beispielsweise Besehtchtungsraten, die für die industrielle Bandfabrikation
von Glaskörpern geeignet sind.
Eine gleichzeitige Oxidation von Silanen und einer zinnenthaltenden Verbindung
wie Tetramethylzinn ergibt gemischte Überzüge aus Silizium- und Zinnoxid, die jedoch räumlich keine gleichförmige Zusammensetzung oder keinen gleichförmigen Brechnungsindex aufweisen. Diese unterschiedliche Reaktivität kann vorteilhaft
zur Herstellung nicht irisierender Überzüge mit einem Gradienten verwendet
werden (US-PS 4 206 252). Bei anderen Anwendungszwecken (z.B.
US-PS 4 187 336) sind jedoch homogene Schichten mit gleichförmiger Zusammensetzung
und gleichförmigem Brechungsindex wünschenswert. Es hat sich als
schwierig gezeigt, ein siliziumenthaltendes Material zu finden, dessen Reaktionsvermögen weitgehend demjenigen von Tetramethylzinn entspricht, so daß gleichzeitig mit dem Tetramethylzinn eine Oxidation erfolgt, um die Herstellung von
Überzügen mit einem homogenen Brechungsindex zu ermöglichen.
Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Aufbringen von dünnen
Überzügen anzugeben, z.B. von infrarotstrahlungreflektierenden Überzügen mit
weniger als 1μ Dicke, welche auf Glassubstrate unter Verwendung von eine
Irisation unterdrückenden , siliziumenthaltenden Zwischenschichten aufgebracht werden können.
Ferner soll ein Verfahren zum Auftragen von optisch homogenen Schichten angegeben
werden, deren Brechungsindex auf irgendeinen gewünschten Wert zwischen etwa 1,44 und 2,0 eingestellt werden'kann.
Ferner soll ein Verfahren zur Ausbildung einer dünnen transparenten, siliziumenthaltenden
Schicht angegeben werden, bei dem weniger entzündbare Substanzen verwendbar sind.
Ferner soll ein Verfahren angegeben werden, bei dem durch Verringerung der
Empfindlichkeit gegenüber einer Oxidation der Substanzen erreicht werden kann,
daß vorteilhafte Überzugsreaktionen und weniger Nebenreaktionen auftreten, durch
die eine Bildung von Pulver und/oder eine Trübung verursacht werden kann.
Ferner soll das Verfahren eine Erhöhung der Auftragsgeschwindigkeit und Erniedrigung der Herstellungskosten unter Beibehaltung der angestrebten verringerten
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Entzündbarkeit ermöglichen.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß in Verbindung mit der Lösung
der gestellten Aufgabe neue Überzüge Silizium-Kohlenstoffbindungen und Silizium-Sauerstoffbindungen
aufweisen, die während des Verfahrens gebildet werden. Derartige Überzüge weisen sehr gute Eigenschaften im Hinblick auf Transparenz,
Langzeitverhalten und Brechungsindex auf, sowie in mancher Hinsicht gewisse
Vorteile im Vergleich zu bekannten siliziumoxidenthaltenden Überzügen.
Die Zielsetzung der Erfindung wird im wesentlichen dadurch erreicht, daß
Alkoxyperalkylpolysilane verwendet werden, bei denen zumindest ein endständiges Siliziumatom mit einer Alkoxygruppe verbunden ist. Vorteilhafterweise sind
die Verbindungen Monomethoxypermethylpolysilane mit einem endständigen Silan,
das eine Methoxygruppe enthält. Bevorzugte Verbindungen entsprechen deshalb der Formel:
Me-(Me2Si)n-OMe
wobei η gleich 2 bis etwa 10 beträgt. Die beste Kinetik zur Bildung von dünnen
siljziumenthaltenden, nichtirisierenden Überzügen kann nach bisherigen Versuchsergebnissen unter Verwendung von Verbindungen erreicht werden, wenn η zwischen
2 und 6 beträgt. Die Verbindung mit η = 2 (ein Disilan) wird wegen ihrer
größeren Flüchtigkeit und einfachen Synthese vorgezogen. Wenn η gleich 10 oder
mehr beträgt, ist der Dampfdruck bei den meisten praktischen Verfahren zu
gering. Jedoch hängt die genaue minimale Kettenlänge im Hinblick auf die Ausbildung eines geeigneten Überzugs von dem Aufwand zur Erzielung einer geeigneten
Flüchtigkeit ab. Beispielsweise ermöglicht eine Verdampfung in ein inertes Trägergas vor der Vermischung mit Luft eine höhere Verdampfungstemperatur
und damit die Verwendung von Substanzen mit höherer Siedetemperatur. Durch eine derartige Verdünnung wird eine Oxidationsgefahr bei einer gegebenen Temperatur
verringert. Das Verfahren gemäß der Erfindung kann dadurch durchgeführt werden, daß siliziumenthaltende Schichten aufgetragen werden, gegebenenfalls
zusammen mit Zinnoxid oder anderen derartigen Oxiden, die durch Oxidation
verschiedener Substanzen mit den bevorzugten, siliziumenthaltenden Materialien gebildet werden können, was oft für optische Anwendungszwecke wünschenswert
ist.
Es wird angenommen, daß die geringere Entzündbarkeit dadurch erzielt wird,
daß keine Silizium-Wasserstoffverbindungen vorhanden sind. Es wurde festgestellt,
daß ein Resultat dieser verringerten Reaktivität die Möglichkeit ist, daß gasförmige Reaktionsmischungen mit höheren Konzentrationen des siliziumenthalten-
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den Materials verwendet werden können. Ferner wurde festgestellt, daß höhere
Temperaturen in der Reaktionszone verwendet werden können. Diese Faktoren
ermöglichen eine schnellere Herstellung der überzüge als dies bisher bei kontinuierlichen
Verfahren möglich war, so daß sich durch die schnellere Aufdampfung,
auch Vorteile wirtschaftlicher Art ergeben. Ferner wird eine Verbesserung der Reaktionsgeschwindigkeit erzielt, ohne daß die normalerweise vorhandene
Gefahr besteht, daß nachteilige Nebenreaktionen auftreten. Es wurde festgestellt,
daß unkontrollierte Reaktionen, die zu einer Trübung des transparenten Glassubstrats oder zu einem Niederschlag von Pulver führen können, in einfacherer
Weise durch Verwendung von dem Anmeldungsgegenstand entsprechenden Reaktionsmischungen
vermieden werden können.
Analysen von einigen Überzügen, die nach dem Verfahren gemäß der Erfindung
hergestellt wurden, zeigen, daß das Silizium einige Silizium-Kohlenstoffverbindungen aufweist, die selbst in der fertiggestellten, eine Irisation verhindernde. Zwischenschicht
verbleiben. Trotzdem sind derartige Überzüge vorteilhaft für eine
Unterdrückung der Irisation verwendbar. Die chemische Zusammensetzung des aufgetragenen Überzugs ist eine neue Mischung von SiCL und (MepSiO) .
Der Brechungsindex derartiger Überzüge betrug etwa 1,44 entsprechend durchgeführten
Messungen. Dieser Wert liegt zwischen dem Brechungsindex von Siliziumdioxid, der typischerweise 1,45 bis 1,4(3 beträgt und den Werten 1,38
bis 1,41, die typisch für derartige siliziumenthaltende Polymere sind.
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Überzüge mit höherem Brechungsindex können hergestellt werden, wenn ein
Alkoxypolysilan zusammen mit einer oxidierbaren Zinnoxidverbindung oxidiert
wird, wie beispielsweise Tetraalkylzinn. In dieser Weise können gemischte Siliziumdioxid-Siliziumzinnoxid-Überzüge mit einem Brechungsindex zwischen 1,44 und
etwa 2,0 hergestellt werden. Eine bevorzugte Kombination von reagierenden Substanzen
für eine derartige Auftragung besteht aus Methoxypentamethyldisilan
und Tetramethylzinn. Es wurde festgestellt, daß Dampfmischungen derartiger Materialien in Luft mit etwa gleicher Reaktionsgeschwindigkeit oxidieren und
klare transparente Überzüge auf Oberflächen ergeben, die auf etwa 500 bis 6000C erhitzt sind. Der Brechungsindex derartiger gemeinsam'aufgetragener
Schichten ist etwa eine lineare Funktion des Molprozentsatzes von Zinnatomen,
aus der Gesamtmenge Zinn + Siliziumatomen in der Dampfphase, wie in Fig. dargestellt ist. Deshalb kann durch eine geeignete Bildung der Reaktionsmischung
eine gleichförmie homogene transparente Schicht mit einem gewünschten
Brechungsindex innerhalb des angegebenen Bereichs ausgebildet werden.
Die verwendeten Methoxy-Materialien ermöglichen die Verwendung von Reaktionstemperaturen oberhalb 5700C, beispielsweise von etwa 6200C. Ferner kann die
Konzentration des M et ho χ y gases auf über 0,4% in der Reaktionsmischung angehoben
werden, z.B. auf etwa 0,5% und mehr. Da eine sichere Arbeitsweise bei derartigen Konzentrationen und Temperaturen möglich ist, können pro Zeiteinheit
beträchtlich größere Flächen beschichtet werden. Durch Verwendung des
Verfahrens gemäß der Erfindung ist es beispielsweise möglich, Überzüge zwischen etwa 60 und 150 Angström pro Sekunde oder auch dickere Schichten aufzutragen,
ohne daß eine gefährliche Entzündungsgefahr besteht. Auftragsraten zwischen 80 Angström pro Sekunde bis zu etwa 125 Angström pro Sekunde werden als
optimal angesehen.
Anhand der Zeichnung soll die Erfindung beispielsweise näher erläutert werden.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens gemäß der Erfindung; .
Fig. 2 eine schematische Schnittansicht einer mit einem Überzug gemäß der
Erfindung versehenen Glasplatte; und
Fig. 3 eine grafische Darstellung der Abhängigkeit des Brechungsindexes von
der Gaszusammensetzung.
Die Vorrichtung 10 in Fig. 1 enthält eine erste Reaktionszone 16 und eine zweite
Reaktionszone 18. Den beiden Reaktionszonen 16 und 18 wird eine Reaktionsmischung über Verteilerleitungen 22 und 24 zugeführt sowie durch Gaszuführöffnungen
26 und 28./jeder dieser Öffnungen ist ein dünnmaschiges Sieb 29 angeordnet,
das einen ausreichenden Strömungswiderstand verursacht, beispielsweise ein Druckgefälle von größenordnungsmäßig 10 cm Wassersäule, um eine gute
Gasverteilung zu erzieleh. Die Reaktionsmischung wird derart ausgewählt, daß
eine dünne Schicht, die beispielsweise eine optische Dicke entsprechend 1/4 Wellenlänge
aufweist mit dem gewünschten Brechungsindex aufgetragen wird, wie
bei der Herstellung von eine Irisation unterdrückenden Überzügen an sich bekannt
ist (US-PS 4 187 336). Die Strömungsrate der gasförmigen Reaktiohsmischung
wird so ausgewählt, daß praktische eine Erschöpfung vorhanden ist, wenn das
Ende des Strömungswegs zwischen dem Glas und dem Überzugsmaterial erreicht
wird.
Die Gesamtlänge der Vorrichtung von dem Gaseinlaß zu dem Gasauslaß kann
zweckmäßigerweise etwa 15 cm betragen. Die Vorrichtung wird an einer üblichen
Stützstruktur angeordnet, die in der Figur nicht dargestellt ist. Die Reaktions-
raten und andere Bedingungen in den Reaktionszonen werden beträchtlich verbessert,
wenn diejenigen Oberflächen der Vorrichtung 10, die sich in der Reaktionszone
befinden, auf einer relativ niedrigen Temperatur gehalten werden, um
dort eine Auftragung von Überzugsmaterial zu verhindern und die Reaktionsgeschwindigkeit
zu verringern. Deshalb wird beispielsweise Kühlluft Kühlkammern
40 zugeführt, die jeweils einer Reaktionszone zugeordnet sind. Die Vorrichtung
wird derart angeordnet, daß eine Höhe von etwa 3,8 mm für die Gasströmung
zwischen dem Glassubstrat und der Oberfläche der Vorrichtung vorhanden ist.
Das Gas tritt aus der Reaktionszone durch Auslaßöffnungen 50 aus. Rollen 58 stützten das Glas bei dessen Förderung mit Hilfe von Einrichtungen ab, die in
der Glasindustrie allgemein bekannt sind.
Ein klarer transparenter Überzug mit einem homogenen Brechungsindex von etwa
1,67 wurde auf Glas bei einer Temperatur von etwa 580°C aufgetragen, indem
über die Glasoberfläche eine Gäsmischung mit folgender Zusammensetzung (in
Molprozent des Gases) geleitet wurde:
Methoxypentamethyldisi lan (Me4-Si0OM ) 0,4% .
Tetramethylzinn (Me4Sn) 0,8%
trockene Luft Rest
Die Unterseite der Vorrichtung in Fig. 1 wurde auf einer Temperatur von etwa
3000C gehalten. Ein Überzug von etwa 800 Angström Dicke wurde in etwa 10
Sekunden aufgetragen. Die Strömungsrate der Gasmischung wurde derart eingestellt, daß irgendein spezielles Gasvoiumen in der Reaktionszone während etwa
0,1 Sekunden verbleibt.
Ein Überzug aus mit Fluor dotiertem Zinnoxid wurde dann die Oberseite der
Schicht aus Silizium-Zinnoxid aufgetragen, indem das Glas unter einer gleich
ausgebildeten Vorrichtung vorbei gefördert wurde, durch die die folgende Mischung
hindurchgeleitet wurde:
Tetramethylzinn (Me4Sn) 1,8%
Bromtriflüormethan (CF3Br) 3,0%
trockene Luft Rest
Ein Überzug von etwa 0,25μ Dicke wurde aufgetragen, bei gleichen Bedinungen
hinsichtlich Temperatur, Zeit und Strömungsrate wie bei der Ausbildung der
ersten Schicht.
Das schließlich hergestellte, beschichtete Glas war klar und farblos, sowohl im
hindurchtretenden als auch im reflektierten Licht. Das Glas hatte ein Reflexions-
. Λ-
vermögen für Infrarotstrahlung von 85% bei einer Wellenlänge von 10μ und einen
elektrischen Flächenwiderstand von 20 Ohm pro quadratischer Einheit.
Es wurde eine Kombination von Reaktionmischungen aufgetragen, die aus einer
ersten Mischung mit einem relativ niedrigen Brechungsindex bestand, die in der Zone 16 aufgetragen wurde und einer zweiten Mischung mit relativ hohem Brechungsindex,
die in der Zone 18 aufgetragen wurde.
Die erste Mischung enthielt:
Volumen-% | |
Me.Sn 4 |
0,5 |
Me5Sip(Ome) | 0,5 |
trockene Luft | Rest |
Die zweite Mischung enthielt: | |
Me4Sn | 1,8 |
Me5Si2(OMe) | 0,2 |
trockene Luft | Rest. |
Das Glas wurde mit einer Geschwindigkeit von eta 10 cm/sec durch die Zone
bewegt und trat in die Zone mit einer Temperatur von etwa 5800C ein. Die
Gasmischungen wurden mit einer Strömungsrate zugeführt, die eine Verweilzeit von etwa 0,1 Sekunden in der Reaktiönszone ermöglichte. Die Oberfläche
der über dem Glas angeordneten Reaktionszone wurde auf etwa 3000C gehalten.
Fig. 2 zeigt eine Glasscheibe 59, die zuerst mit dem Verfahren gemäß der Erfindung
mit einer doppelten Beschichtung 60 zwischen dem Glas 64 und einer
dünnen Zinnoxidschicht 62 überzogen wurde. Jede Schicht hat eine optische
Dicke von etwa 1/4 Wellenlänge, um eine optimale, eine Irisation unterdrückende Zinnoxidschicht von beispielsweise 0,3μ Dicke zu erhalten.
Ein klarer transparenter Überzug mit einem Brechungsindex von etwa 1,4.4 wurde
auf Glas bei einer Temperatur von etwa 6000C aufgetragen, indem über die
Glasoberfläche eine Gasmischung mit der folgenden Zusammensetzung geleitet
wurde:
Methoxypentamethyldisilan (Me1-SUOMe) 0,4%
trockene Luft Rest.
Die Aufdampfung erfolgte wie in Beispiel 1. Ein Überzug von etwa 600 Ang-
ström Picke wurde in 10 Sekunden ausgebildet.
Ein Überzug von etwa 0,25μ Dicke aus mit Fluor dotiertem Zinnoxid wurde dann
auf die Oberseite dieser Schicht aufgetragen, wie in Beispiel 1 beschrieben
wurde. Das resultierende beschichtete Glas war klar, aber stark rosarot gefärbt
im reflektierenden Licht und leicht grün getönt im durchgelassenen Licht. Die elektrischen Eigenschaften und das Reflexionsvermögen für Infrarotstrahlung waren
wie beim Beispiel 1.
Dieses Beispiel dient zur Erläuterung der Bedeutung von Dialkoxy-Verbindungen.
Diese reagieren etwas schneller als Tetraäthylzinn und sind deshalb besonders
zur Herstellung von Überzügen mit Gradienten der Zusammensetzung und des
Brechungsindexes geeignet. Ein klarer transparenter Überzug wurde mit einem
Gradienten des Brechungsindexes von etwa 1,55 bis 1,9 hergestellt, wobei der
untere Wert des Brechungsindexes (1,55) in dem an das Glas angrenzenden Bereich
vorhanden war und der höhere Brechungsindex (1,9) auf der Oberfläche
des Überzugs. Dazu verwendbare Vorrichtungen sind an sich bekannt (US-PS
4 206 252). Eine Gasströmung aus:
Pimethoxytetramethyldisilan (Me4SIp(OMe)2) 0,35%
Tetramethylzinn (Me4Sn) 1,0%
trockene Luft Rest
wurde in einer Richtung in eine 25cm lange Reaktionszone mit einer Strömungsgeschwindigkeit
von etwa 250 cm/sec entlang 580° der Glasoberfläche geleitet und zwar in derselben Richtung, in der das Glas bewegt wurde. Mit einer Reaktionszeit
von etwa 12 Sekunden wurde eine Schicht mit einem Gradienten
und einer Dicke von etwa 1100 Angström gebildet.
Danach wurde ein Überzug aus mit Fluor dotiertem Zinnoxid wie in Beispiel
1 aufgetragen. Das beschichtete Glas war klar und farblos und hatte dieselben
elektrischen und optischen Eigenschaften wie im Beispiel 1.
Claims (17)
- -YS-Patentansprüche■1. Verfahren zum Aufdampfen von siliziumoxidenthaltenden transparenten Überzügen, bei dem ein siliziumenthaltendes Gas bei erhöhten Temperaturen mit einer gasförmigen oxidierenden Substanz zur Reaktion gebracht wird, um das Silizium auf der heißen Oberfläche des zu beschichtenden Gegenstands zu oxidieren, dadurch gekennzeichnet, daß das siliziumenthaltende Gas mindestens eine Siliziumverbindung entsprechend der FormelR(R2Si)nOR
aufweist,wobei R eine niedrigere Alkylgruppe und η eine ganze Zahl zwischen 2 und etwa 10 ist. - 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzei c h net, daß η zwischen 2 und 6 beträgt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daßR eine Methylgruppe ist.
- 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da durch g e ken η ζ ei chnet , daß die Reaktion bei Temperaturen oberhalb 5700C durchgeführt wird.,
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1,2 oder 3, dadurch gekennzei cn net , daß die Reaktion mit Reaktionsmischungen durchgeführt wird, die eine anfängliche Konzentration von mehr als 0,4% der das Silizium enthaltenden Verbindung aufweisen.
- 6. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion bei Temperaturen oberhalb 5700C mit einer Reaktionsmischung durchgeführt wird, die eine anfängliche Konzentration von mehr als 0,4% der das Silizium enthaltenden Verbindung aufweist.
- 7. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß η zwischen 2 und 6 beträgt, und daß die Reaktion bei einer Temperatur oberhalb 57Ö°C durchgeführt wird.
- 8. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch geke η η zeichnet , daß zusätzlich oxidierbares zinnenthaltendes Gas dem siliziumenthaltenden Gas beigemischt wird und daß Zinn zusammen mit dem Silizium in dem Überzug aufgetragen wird..... .. - · . ■ 3.2 k 3.1.0 s: ■ '■■-■ . - 1-1- -
- 9. Verfahren nach Anspruch 1,2 oder 3, dad u r c h g e k en nzei c h η e t , daß zusätzlich ein oxdierbares zinnenthaltendes Gas dem siliziumenthaltenden Gas beigemischt wird und daß Zinn zusammen mit dem Silizium aufgetragen wird, und daß die Auftragung bei Temperaturen oberhalb 57O0C durchgeführt wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch ge kennzeichn et , , daß die das Silizium enthaltende Verbindung Me^Si-OMe ist.
- 11. Verfahren nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Auftragungsrate zwischen 60 und 150 Angström pro Sekunde beträgt.
- 12. Verfahren nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion bei einer Temperatur oberhalb 5700C oder mit Reaktionsmischungen durchgeführt wird, die eine anfängliche Konzentration von mehr als 0,4% der siliziumenthaltenden Verbindung aufweisen, und daß die Auftragungsrate zwischen 60 und 150 Angström pro Sekunde beträgt.
- 13. Verfahren zur Hersteilung eines siliziumoxidenthaltenden transparenten Überzugs durch Reaktion von siliziumenthaltendem Gas bei erhöhten Temperaturen mit einem gasförmigen Oxidationsmittel zum Oxidieren des Siliziums auf der heißen Oberfläche eines zu überziehenden Gegenstands, dadurch gekennzeichnet, daß das siliziumenthaltende Gas mindestens eine siliziumenthaltende Verbindung entsprechend der Formel RO)(R0Si) ORenthält, wobei R eine niedrigere Alkylgruppe und η eine ganze Zahl zwischen 2 und etwa 10 ist.
- 14. Verfahren nach Anspruch 13, d a du r c h ge kennzeichnet , daß η zwischen 2 und 6 beträgt.
- 15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daßR eine Methylgruppe und η 2 ist. .
- 16. Verfahren nach Anspruch 13, 14 oder 15, dadurch gekennze i ch net , daß die Reaktion bei Temperaturen oberhalb 5700C durchgeführt wird.
- 17. Verfahren nach Anspruch 13, 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet , daß die Reaktion mit Reaktionsmischungen durchgeführt wird, die eine anfängliche Konzentration von mehr als 0,4% der siliziumenthaltenden Verbindung aufweisen.
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