DE3229432A1 - Optische fasern mit einfachpolarisation und verfahren zu ihrer herstellung - Google Patents

Optische fasern mit einfachpolarisation und verfahren zu ihrer herstellung

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DE3229432A1 DE19823229432 DE3229432A DE3229432A1 DE 3229432 A1 DE3229432 A1 DE 3229432A1 DE 19823229432 DE19823229432 DE 19823229432 DE 3229432 A DE3229432 A DE 3229432A DE 3229432 A1 DE3229432 A1 DE 3229432A1
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Description

Die Erfindung bessieht sich auf optische Fasern mit Einfachpolarisation und insbesondere auf solche, bei denen ein Anstieg im Lichtübertragungsverlust im langen WeI-leialängjBnbereich unterdrückt wird·
Zur Erläuterung des Standes der Technik wird Bezug genommen auf
Fig. 1, die einen Querschnitt durch eine herkömmliche optische Faser mit Einfachpolarisation zeigt.
In dieser Faser wird eine Lichtleitung ohne eine Änderung der Einmoden-Polarisationsebene bewirkt und diese optische Faser mit Einfachpolarisation weist einen Kern 11 mit einem Brechungsindex n^, einen elliptischen, den Kern 11 umschließenden Mantel 12 mit einem Brechungsindex n2 (n^ > n2), einen an der Außenseite des elliptischen . Mantels 12 angeordneten Träger 13 aus Silikaglas und eine plastische Hülle Ik, die die äußerste Lage oder Schicht
sr
der optischen Faser bildet, auf. Materialien für den Hern 11 und den elliptischen Mantel 12 sind folgende
Bauteil Material
Kern 11 a) SiOg
b) SiOg + BgO3
c) SiOg + GeOg
d) SiO2 + P2O5
elliptischer
Mantel 12		 a) SiOg + BgO,
b) SiOg + GeOg + B3O3
Bei derartigen optischen Fasern mit Einfachpolarisation wird eine auf der Differenz in den Wärmedehnungskoeffizienten zwischen den Materialien des eULptischen Mantels 12 und des Trägere 13 beruhende anisotropische Verzerrung auf den Kern 11 aufgebracht, so daß eine Differenz in den Portpflanzungskonstanten in zwei zueinander senkrechten und zur Übertragungsrichtung rechtwinkligen Richtungen erhöht werden kann, was eine Einmoden-Lichtleitung ohne Änderung der Polarisationsebene durchführbar macht.
Jedoch tritt bei solchen herkömmlichen optischen Fasern mit Einfachpolarisation, obwohl eine Lichtleitung mit einem unter einem vorgegebenen Wert liegenden Übertragungsverlust int kurzen Wellenlängenbereich, z.B. bei einer Wellenlänge λ = 0,63 Jim, durchgeführt werden kann, bei einer Wellenlänge λ β etwa 1,3 fun ein solcher Fall auf, wobei der Übertragungsverlust aus dem folgenden Grund nicht unter den vorgegebenen Wert gedruckt werden kann. Das beruht darauf, daß die herkömmlichen optischen Fasern mit Einfachpolarisation durch eine B-0-Bindung auf Grund des B3O5 im elliptischen Mantel 12 und eine
OH-Gruppe, die von der zum Träger 13 werdenden Silikaglasröhre in den elliptischen Mantel 12 bei beispielsweise einer hohen Darapfniederschlagstemperatur von 15OO C oder mehr zu der 2ßit, da ein Material des elliptischen Mantels 12 an der Innenoberfläche der Silikaglasröhre im Fall der Herstellung der optischen Fasern gemäß z.B. einem CVD-Verfahren (chemisches Dampfniederschlagsverfahren) als Dampf niedergeschlagen wird, diffundiert,
beeinflußt wird.
10
Ferner tritt auch ein solcher Fall auf, daß der elliptische Mantel 12 nicht mit einer vorgeschriebenen Elliptizität in die Ovalform gebracht werden kann, da der elliptische Mantel auch eine Tendenz zur Ausbildung einer Kreisform hat, die im Fall, daß die herkömmliche optische Faser mit Einfachpolarisation gemäß dem erwähnten CVD-Verfahren hergestellt wird, auf seiner eigenen Oberflächenspannung beruht.
Es ist demzufolge ein Ziel der Erfindung, optische Fasern mit Einfachpolarisation zu schaffen, bei denen ein Lichtübertragungsverlust im langen Wellenlängenbereich unterdrückt oder ge-däßipft wird.
Ein weiteres Ziel der Erfindung liegt darin, ein Verfahren zur Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation anzugeben, wonach eine Elliptizität des sich ergebenden elliptischen Mantels auf einen geeigneten,
vorgeschriebenen Wert gebracht werden kann. 30
Ein noch weiteres Ziel der Erfindung ist, ein Verfahren für die Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation aufzuzeigen, bei welchem die Dampfniederschla-
gung bei einer solchen Temperatur bewirkt werden kann, 35
wobei eine Diffusion einer OH-Gruppe aus der Silikaglasröhre in einen elliptischen Mantel in dem Fall abnimmt,
da das Material des elliptischen Mantels an der Innenoher·?lache der Silikaglasröhre gemäß einem CVD-Verfahren als Jatnpf niedergeschlagen wird.
Die optische Faser mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung besteht aus einem kreisförmigen Kern mit einem vorbestimmten ersten Brechungeindex, aus einem elliptischen Mantel mit einem vorbestimmten zweiten Brechungsindex, der kleiner ist als der erste, wobei der Mantel zur Verminderung des Brechungsindex BnO, und zur Senkung der Erweichungstemperatur sowie Viskosität ΡοΟς au^ **er Basis einer Gesamtkonzentration an Dotierungssubstanzen des erwähnten Bo0_ und Po0_ enthält, und aus einem aus Silikaglas gefertigten Träger.
Das Verfahren zur Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung umfaßt die folgenden Schritte: Dampfniederschlagung von SiO2 + P2 0K + B„0_, das zu einem elliptischen Mantel wird, an der Oberfläche einer Silikaglasröhre mit einer solchen vorgegebenen Temperatur, daß eine Diffusion der OH-Gruppe von der Silikaglasröhre in den elliptischen Mantel abnimmt; Dampfniederschlagung eines Kernmaterials an der Innenoberfläche des entstandenen elliptischen Mantels;
2^ Kollabieren der Silikaglasröhre, auf der die Dampfniederschlagung der genannten Materialien beendet worden ist, mit einem vorgegebenen Druckverminderungswert; unter Wärmeeinwirkung ausgeführtes Fadenziehen der kollabierten Silikaglasröhre auf der Basis des Unterschieds
in den Viskositäten zwischen der Trägermaterial-Silikaglasröhre und dem Material des elliptischen Mantels zur Zeit deren Erweichung und Schmelzung unter Regelung einer Elliptizität des elliptischen Mantels.
Die Erfindungsgegenstände werden anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
- *» 1* W -, */ fc,- W V fr
^W VVU νν V J* «f ν M
Fig. 2 ©inen Querschnitt durch eine optische Faser mit Einfachpolarisation in einer ersten Ausführungsform gemäß der Erfindung;
Fig. 3 einen Querschnitt durch eine optische Faser mit Einfachpolarisation in einer zweiten Ausführungsform gemäß der Erfindung;
Fig. 4 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Verfahrens der Dampfniederschlagung an der Innenoberfläche einer Silikaglasröhre im Verlauf der Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung;
Fig* 5 eine schenmtische Darstellung zur Erläuterung des
nach Beendigung der Dampfniederschlagung von Materialien durchzuführenden Verfahrens der Kollabierung der Sililcaglasröhre mit Hilfe einer Druckverminderung im Verlauf der Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung; Fig. 6 eine graphische, den Brechungsindex in diametraler
Richtung der optischen Faser mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung wiedergebende Darstellung; Fig. 7 und 8 graphische Darstellungen, die jeweils ein Beispiel für eine Konzentration an Dotierungssubstanzen in diametraler Richtung einer optischen Faser gemäß der Erfindung geben; Fig. 9 eine graphische Darstellung über eine Beziehung zwischen einer Elliptizität sowie einer Kopplungslänge der optischen Faser mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung.
Die Fig. 2 zeigt eine erste Ausführungsforra einer optischen Faser mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung, die aus einem kreisförmigen Kern 21, der vorzugsweise aus SiO2-GIaS oder SiO3 + GeO3 -Glas gebildet ist, einem elliptischen Mantel 22 aus SiO2 + P3O15 + B3O - Glas,
einem Träger 23, der aus einem Ausgangsmaterial einer Silikaröhre gefertigt ist, und einer plastischen Hülle Zk besteht. Der elliptische Mantel 22 kann unmittelbar auf
der Außenseite des Kerns 21, er kann aber auch an der Außenseite über wenigstens eine weitere Schicht angeord- r.-z sein» Der elliptische Mantel 22 enthält 5 - 20 Mol-%
von Po0_ + Bo0_ und das Mol-%-Verhältnis von B0O,- zu 2523 23
P0O1- liegt in einem Bereich von 1 : 1-1,2.
Bei einer optischen Paser mit Einfachpolarisation der obigen Bauart kann eine Temperatur zu der Zeit, da ein Glasfilm, der den elliptischen Mantel bilden wird, an der Innenseite der ein Ausgangsmaterial darstellenden Silikaröhre hergestellt wird, im Fall der Fertigung dieser optischen Faser auf beispielsweise etwa 1400 - 1500°C abgesenkt werden, so daß die Diffusion der OH-Gruppe von der Silikaröhre zum Material des elliptischen Mantels ebenfalls vermindert werden kann.
Das bedeutet, daß jede Glaserweichungstempteratur, die von Dotierungssubstanzen abhängt, in dem Fall, da beabsichtigt ist, Unterschiede im Brechungsindex auf der Basis des Brechungsindex von SiO„ - Glas zu erstellen, einen Wert hat, wie er in Tabelle 1 angegeben ist, in der die in Klammern gesetzten numerischen Werte Mol-% von beigegebenen Dotierungssubstanzen angeben.
Tabelle 1
ν. Brechzahl-
x^differenz <Δη
Glas ""*""""■·—««^^^		 0,05% 0,1% 0,5%
Si02 + P2°5 14O5°C
(1)		 12300C
(2)		 -
SiO2 + GeO2 - 15760C
(1,2)		 15580C
(6)
SiO2 + B2O3 15600C
(D		 154o°c
(2)		 138O0C
(10)
SiO2 + P2O5+ B2O3 13500C
(10)		 -
<W «t> υ ι*
"Ο
Im Zusammenhang mit Tabelle 1 ist zu bemerken, daß Ρ,Ο,. oder 6e0o einen Anstieg im Brechungsindex des resultierenden Glases bewirkt, während B^O^ eine Abnahme im Brechungsindex des resultierenden Glases herbeiführt. Auf eier Basis dieser Tatsache wird gemäß der Erfindung beabsichtigt, den Brechungsindex des elliptischen Mantels kleiner zu machen als den des Kerns 21, indem eineB20_- Menge eingeregelt und andererseits die Erweichungstemperatur des Materials des elliptischen Mantels 22 durch Einregeln einer zuzugebenden P3O--Menge abgesenkt wird.
Im Hinblick darauf ist ein Temperaturanstieg von etwa 2000C über diese Erweichungstemperatur ausreichend, um eine chemische Reaktion zu der Zeit zu fördern, wenn optische Fasern im CVD-Verfahren gefertigt werden, so daß die Diffusion der OH-Gruppe von der Silikaröhre gemäß der in Fig. 2 gezeigten Bauart verhindert werden kann.
Di« Fig. 3 zeigt eine zweite Ausführungsform einer optisehen Faser mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung, die aus einem kreisförmigen Kern 31, der vorzugsweise aus SiO2 + GeO2 - Glas od.dgl. gebildet ist, einer Umhüllung 32 mit kreisförmigem Querschnitt, die aus einem SiO2 - Glas hoher Reinheit gebildet ist, einem im wesentliehen aus SiO« + P2O1- + B2O* " Glas gefertigten elliptischen Mantel 33« einem SiO0 als Hauptkomponente enthaltenden Träger 3^ und einer plastischen Hülle 35 besteht·
"^ Bei der optischen Faser mit Einfachpolarisation gemäß der zweiten Ausführungsform ist die Anordnung so getroffen, daß die Stärke der kreisförmigen Umhüllung 32 einhalbmal größer als der Radius des Kerns 31 und kleiner als dessen Durchmesser ist, während die Brechzahl des
^° elliptischen Mantels 33 höher als diejenige der kreisförmigen Umhüllung 32 und geringer als diejenige des Kerns 31 ist.
Im Fall einer optischen Einmodenfaser sickert eine elektromagnetische Feldkomponente- im Gegensatz zum Fall einer optischen ilehrmodenfaser aufgrund der Schwankung der relativen Frequenz in die Umhüllung ein, so daß die Beschaffenheit der Umhüllung 32 von Bedeutung ist. Wenn in dieser Hinsicht die aus SiOg hoher Reinheit bestehende Umhüllung dick ist, dann wird der Einfluß von BgO- im elliptischen Mantel 35 gering. Wie Versuche gezeigt haben, liegt, wenn die Starke der kreisförmigen Umhüllung 32 größer als der Radius des Kerns 31 - wie im vorgenannten Fall - ist, ein Verlustanstieg bei einer Wellenlänge des 1,3 um-Bereichs in einem vernachlässigbaren Maß.
Ferner ist es wegen der Verhinderung einer Diffusion der B-0-Bindung vom elliptischen Mantel 33 vorteilhafter, wenn die Umhüllung 32 dick ist; wenn sie jedoch dicker ist als der Durchmesser des Kerns 31« dann wird e» schwierig, die Elliptizität des elliptischen Mantels 33 zu erhöhen, so daß günstige Einfachpolarisationskennwerte nicht erreicht werden können.
Bei einer optischen Einmodenfaser schwankt indessen, auch wenn eine Stärke der kreisförmigen Umhüllung 32, wie oben erwähnt wurde, vorgegeben wird, die Grenzwellenlänge in Abhängigkeit von einer geringfügigen Änderung im Kerndurchmesser und Brechungsindex, wodurch eine normalisierte, relative Frequenz an der aktiven Wellenlänge sich ändert, so daß ein Fall auftritt, wobei die elektromagnetische Feldlcomponente gelegentlich zum elliptischen Mantel 33
durchsickert. Wenn eine solche elektromagnetische Feldkomponente schwingungsübertragend ist, so wird ein Teil der Wellenenergie mittels des elliptischen Mantels absorbiert, was zu einer Steigerung im Übertragungsverlust
führt.
35
Wegen der Verhinderung eines solchen Anstiegs im Übertr?.r.D53ve:-lust wird ein unerwünschter Schwingungstyp «fei* Durchsickerung ausgesetzt und gleichzeitig wird der Brechungsindex des elliptischen Mantels 33 größer als derjenige der Umhüllung 32 gemacht, so daß man in der Lage ist, nur einen vorbestimmten Schwingungstyp derart zu übertragen, daß sich die elektromagnetische Feldkoraponento im zentralen Teil des Kerns 31 konzentriert.
Messungen an optischen Pasern aus Probefertigungen
zeigten folgende Ergebnisse. Ein Wert war 0,7 dB/km bei λ = 1,2 pm, und er t*ar 0,8 dB/km bei sogar λ = 1,3
Die Elliptizität der optischen Faser aus der Probeferti gung war £ = 60 %, und ihre Kopplungslänge war etwa 4 ram (Aa 1,3 um).
Ferner wird in Übereinstimmung mit einer Gleichung eine Definition von <s gegeben als
große Achse - kleine Achse 1f)n /„/*
= große Achse + kleine Achse x K/<"
und vorzugsweise liegt s im Bereich von 4o - 6o %.
Wie oben erläutert wurde, kann in Übereinstimmung mit der optischen Faser der Einfachpolarisationsart gemäß der Erfindung ein Anstieg im Übertragungsverlust im langen Wellenlängenbereich von einer Wellenlänge λ s etwa 1,3 JJm verhindert werden.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 4 und 5 wird ein Ausführungsbeispiel für das Verfahren zur Herstellung von optischen Fasern mit Einfachpolarisation gemäß der Erfindung erläutert.
γ Ein Glasfilm 43 des Systems SiO0 + P„0_ + Bo0_ wird an der Innenv/andflache einer transparenten Silikaglasröhre '-.;. die einen Außendurchmesser von 18 mm und eine Stärke von 1,5 πιπί hat, niedergeschlagen. In diesem fall ist es f; .aus noch zu erläuternden Gründen erforderlich, daß die Gesamtmenge von Po0_ und Bo0_ im Glasfxlm 5 - 20 % (das Mol-?o-Verhältnis von Bo0_ zu P0O-. ist, wie oben angegeben, 1:1- 1,2) und der Rest SiO2 ist/ der Glasfxlm 43, der im speziellen Ausführungsboispiel ausgebildet wurde, enthielt 12 Mol-% an P2 0S * 3Q01S*
Dann wird an der Oberfläche des ausgebildeten Glasfilms 43 ein weiterer Film aus SiO« hoher Reinheit mit einer Stärke von etwa IO um niedergeschlagen, und ein für den Kern vorgesehener SiO2 + GeO2 - Film mit einer Stärke von etwa 5 pm wird auf dem vorherigen SiO2-PiIm hoher Reinheit niedergeschlagen.
In Fig. 4 und 5 sind eine Drehmaschine 45 bzw. ein Brenner 46 schematisch angedeutet.
Nach dem Niederschlagen der Filme wird das eine Ende der Glasrohre 54 dicht verschlossen, der Druck in der Glasrohre wird mit Hilfe einer Einrichtung 57 zur Druckverminderung über das andere Ende der Glasrohre 54 auf 0,4903 mbar (5 mm WS) vermindert, die Glasrohre wird durch den Knallgasbrenner 46 auf eine Temperatur von etwa 19000C erhitzt (innerhalb der Glasrohre 5^ wird eine Reaktionstemperatur von l400 - 15000C erreicht) und die Verfahrgeschwindigkeit des Brenners 46 wird auf 5 mm/min eingeregelt, wodurch die Glasrohre 54 kollabiert, d.h. zusammengeschmolzen wird, so daß kein Hohlraum in ihr gebildet wird (als Glasröhre 54 ist die Glasröhre 44 bezeichnet, auf die im vorhergegangenen Schritt jeweils die beschriebenen Filme aufgebracht worden sind; mit 58 ist ein Druckmesser angedeutet).
Die auf diese Weise erhaltene feste Vorform wird einem F:id.'!r.2iehvorgang bei Hitzeeinwirkung unterworfen, um ü ritisclie Faser mit Einfachi>olarisation zu erhalten
Die Fig. 6 ist eine graphische Darstellung zum Verlauf des Brechungsindex in einem Abschnitt der gewonnenen optischen Faser, Fig* 7 ist eine graphische Darstellung über den Verlauf der Konzentration der Dotierungssubstanzen (Komponenten zur Einregelung des Brechungsindex außer dem von SiO»)·
In Uberexnstimmung mit dem Herstellungsverfahren gemäß der Erfindung für optische Fasern wurden solche der Einmodenpolarisationsart mit einer Grenzwellenlänge von 1,2 um im Fall einer Differenz in den Brechungszahlen
Δη, = 0,35 % zwischen dem Kern und der kreisförmigen Umhüllung, einer Differenz in den Brechungszahlen
^n2 = 0,05 % zwischen dem elliptischen Mantel und der kreisförmigen Umhüllung bei einem Kerndurchmesser von 8 um und einer Stärke der kreisförmigen Umhüllung von 4 um erhalten.
Bei dem Ausführungsbeispiel ist eine Konzentration an im elliptischen Mantel enthaltenen Dotierungssubstanzen diametral konstant, jedoch kann diese, wie in Fig. 8 gezeigt ist, diametral verändert werden.
In dem Fall einer diametralen Änderung wird es von Bedeutung, welcher Wert im Teil maximaler Konzentration gewählt wird. Auf alle FälLe ist es wichtig, daß die Menge an Dotierungssubstanzen im elliptischen Mantel auf 5-20 Mol-% eingeregelt wird. Das heißt, daß die Viskosität der Materialien zur Verminderung ihrer Oberflächenspannung herabgesetzt werden muß, so daß allein der elliptische ° Mantel in eine Ovalfora mit einer vorgeschriebenen Abplattung gebracht wird, wähx-end der innere Kern und die Umhüllung auf Kreisform gehalten werden. Aus diesem Grund
ist ein V7ert von 5-6 Mol-?S die Minimalmengc an Dotiermijssubäarx^en, um eine kritische Maximalviskosität zu v;;-;chaffcu, und wenn die dotierte Menge geringer als ~. - 6 MoI-Si ist, so steigt die Viskosität an, wodurch es
£ schwierig wird, den elliptischen Mantel in die Ovalform zu bringen.
Ferner ist eine Menge von 18 - 20 Uol-% ein Maximalwert an Dotierungssubstanzen, um eine minimale Viskosität zu bieten, bei der eine SiO2 - Glasschicht mit einem höheren Schmelzpunkt auf dem elliptischen Mantel-Niederschlag aufgebracht werden kann« Das heißt mit anderen Worten, daß, wenn SiO0 + Po0_ + Bo0_ - Glas mehr als 20 UoX-% an P2O- + B2O|;5 enthäl'fci sein Schmelzpunkt und seine Viskositat erheblich niedriger werden. Das hat zum Ergebnis, daß derartiges Glas einer Flüssigkeit auf der Reaktionstemperatur zur Bildung eines SiOg - Films hoher Reinheit darauf eng verwandt ist, so daß der Film für den elliptischen Mantel entlang des Verfahrweges des Brenners verformt
^O und somit die Herstellung von optischen Fasern schwierig wird.
Die Fig. 9 ist eine Graphik über die Beziehung zwischen einer Elliptizität und einer Kopplungslänge in bezug auf eine dotierte Menge des elliptischen Mantels.
Diese Elliptizität kann mit Hilfe eines Druckverminderungs· werts zu dem Zeitpunkt, da die Röhre kollabiert wird, gesteuert werden, wenn die Konzentration an Dotierungssub-
stanzen bestimmt ist.
Eine Abplattung von 40 % kann entweder durch Einregeln der Konzentration der Dotierungssubstanz auf 5 Mol-»j6 bei einem Druckabsenkungswert von 1,1767 tnbar (12 mm WS)
oder durch Einregeln der Konzentration der Dotierungssubstanz auf 20 Mol-% bei einem Druckabsenkungswert von 0,0;i90 mbar (0,5 mm WS) erreicht werden.
Zufolge den Versuchen, die auf seiton der Erfinder durch ~er :.L..irt wurden, kann eine geeignete r.oziehung zwischen e.iv\ef Konzentration an Dotierungssu'u -tanzen und einem ^QAickabsenkungswert,wie sie in Tabelle 2 angegeben ist, ;v.M.fgezeigt werden, jedoch sind optische Fasern leichter nit einem Konzentrationsbereich an Dutierungssubstanzen herzustellen, der um 8-15 Mol-?i> liegt.
Tabelle 2
Konzentration an
Dotierungssubstanz		 geeigneter Druckab-
senkun^swert
5-8 Mol-% 0,4905 - 1,4709 mbar
(5,0 - 15 mm WS)
8-11 Mol-?6 0,I96I - 0,8825 mbar
(2,0 - 9,0 mm WS)
11 - 20 MoI-Ji O,O49O - 0,5883 mbar
(0,5 - 6,0 mm WS)
Es ist klar, daß die in Tabelle 2 angegebenen Werte diejenigen sind, die bei den Versuchen erhalten wurden und innerhalb welcher optische Fasern für ihre Herstellung gut reguliert sind. Das bedeutet indessen nicht, daß optische Fasern gemäß der Erfindung nicht auch in anderen als den oben angegebenen Bereichen gefertigt werden können.
Seitens der Erfinder wurde bestätigt, daß ein kritischer Wert bezüglich des Betrags der Druckabsenkung gegeben ist und daß es schwierig ist, einen Kern vollständig kreisförmig zu halten, und zwar beispielsweise, wenn der Druckabsenkungswert 1,4709 rabar (15 :.im WS) übersteigt, und manchmal sogar den Kern zur Zeit der Gestaltung des elliptischen Mantels oval zu machen. Soweit diese Werte betroffen sind, bleibt Raum für eine Modifikation mit einem gewissen Ausmaß, wenn eine Aua.^angs-Silikaröhre bearbeitet oder deren Abmessung oder Gestalt verändert wird, jedoch werden diese Werte nicht von Grund auf merkbar verändert.
Als cine andere Bedingung für die Herstellung von opti-
se' -.η Fi3em gemäß der Erfindung als die vorher genannten WiVcI ;uer auf die Bewegungsgeschwindigkeit des Brenners ■'■jrv.'ieseii. 5 Es ist nämlich erforderlich, die Verfahrgeschwindigkeit dieses Brenners auf etwa 2,5 - 12 min/min einzustellen. i/enn diese Geschwindigkeit beträchtlich von dein oben angegebenen Bereich abweicht, dann wird es schwierig, das oben für die Erfindung aufgezeigte Ziel zu erreichen, daß nämlich der elliptische Mantel in eine Ovalform gebracht wird, während der Kern und die Außengestalt einer optischen Faser auf einer Kreisform gehalten werden,
-.la- Leer se\te

Claims (1)

  1. Pat entanspräche
    lL Optische Faser Bit Einfachpolarisation, gekennzeichnet durch einen kreisförmigen Kern (21) mit einem vorbestimmten ersten Brechungsindex, durch einen an der Außenseite des kreisförmigen Kerns angeordneten elliptischen, einen vorbestimmten zweiten, gegenüber dem ersten Brechungsindex geringeren Brechungsindex aufweisenden Mantel (22), der zur Herabsetzung de* Brechungsindex B20·* sowie zur Absenkung der Erweichungstemperatur und Viskosität Po°5 auf der Basis einer Gesamtkonzentration an Dotierungssubstanzen dieses B„0_ sowie Po0- enthält, und durch einen aus Silikaglas bestehenden sowie an der Außenseite des elliptischen Mantels angeordneten Träger (23).
    2. Optische Faser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der elliptische Mantel (22) 5 - 20 Mol-% an B3O3 sowie P3O enthält.
    g 3· Optische Faser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Mol-So- Verhältnis von B0O, zu PnO1. im elliptischen Mantel im Bereich von 1 : 1 - 1,2 liegt.
    4. Optische Faser mit Einfachpolarisation, gekennzeichnet durch einen kreisförmigen Kern (31) mit einem vorbestimmten ersten Brechungsindex, durch eine an der Außenseite des kreisförmigen Kerns angeordnete, einen vorbestimmten zweiten, gegenüber* dem ersten Brechungsindex geringeren Brechungsindex aufweisende kreisförmige Umhüllung (32), durch einen auf der Außenseite der kreisförmigen Umhüllung angeordneten elliptischen, einen gegenüber dem ersten Brechungsindex geringeren sowie gegenüber dem zweiten Brechungsindex größeren Brechungsindex aufweisenden Mantel (33)» der zur Herabsetzung des Brechungsindex B0O- sowie zur Absenkung der Erwatehungstemperatür und Viskosität P3O5 auJ^ der Basie «in. er Gesamtkonzentration an Dotierungssubstanzen dieses Bo0_ sowie P0O1. enthält, und durch einen aus Silikaglas bestehenden sowie an der Außenseite des elliptischen Mantels angeordneten Träger (35).
    5· Optische Faser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die kreisförmige Umhüllung (32) eine Dicke hat, die einhalbmal größer als der Radius des Kerns (31) und kleiner als dessen Durchmesser ist.
    6. Optische Faser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der elliptische Mantel (33) 5 - 20 Mol-96 an BgO» sowie P3O5 enthält.
    Optische Faser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Mol-%-Verhältnis von Bo0„ zu P2^q -*
    1 : 1 - 1,2 liegt.
    Bo0„ zu P2^q -*·111 elliptischen Mantel im Bereich von
    8. Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser mit Einrachpolarisation, gekennzeichnet durch Ausbilden eines Dotierungssubstanzen B3O5 sowie PgO enthaltenden Glasfilme, der zu einem elliptischen Mantel wird, und eines weiteren Glasfilms, der.zu einem Kern wird, auf der Innenoberfläche einer Silikaglasröhre, die zu einem Träger wird, durch Aussetzen der Silikaglasröhre gegenüber einer Druckabsenkung mit einem von der Konzentration der Dotierungssubstanzen abhängigen Druckabsenkungswert, wobei die Röhre kollabiert, und durch Ziehen eines Fadens von der kollabierten Röhre unter Hitzeeinwirkung.
    9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch
    gekennzeichnet, daß die Konzentration der Dotierungssubstanzen in einem Bereich von 5-20 MoI-Jo und der Wert der Druckabsenkung in einem Bereich von 0,0490 - 1,4709 mbar (0,5 - 15 mm WS) liegt.
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