DE2933848C2

DE2933848C2 - Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung

Info

Publication number: DE2933848C2
Application number: DE19792933848
Authority: DE
Inventors: Tatsuo Osaka Aizawa; Akira Suita Osaka Fushida; Nobuyoshi Neyagawa Osaka Hisao; Toshimitsu Himeji Hyogo Ikeda; Toshikazu Kishiwada Osaka Matsui; Shoji Neyagawa Osaka Matsumoto; Kaoru Hirakata Osaka Sakata
Original assignee: Mita Industrial Co Ltd
Current assignee: Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Priority date: 1978-08-22
Filing date: 1979-08-21
Publication date: 1982-04-08
Also published as: JPS5529834A; FR2434414A1; GB2029279A; DE2933848A1; GB2029279B; JPS6360390B2; FR2434414B1

Description

Die Erfindung betrifft eine Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.

Beim Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes mittels eines pulverförmigen Entwicklers wurde in jüngster Zeit die Verwendung eines Einkomponenten-Entwicklers, der lediglich Toner-Teilchen enthält, angeregt, und diese wurde vom Markt anstelle der Verwendung eines Zweikomponenten-Entwicklers angenommen, der Toner-Teilchen und Träger-Teilchen enthält.

Der Einkomponenten-Entwickler wird grob eingeteilt in (a) einen Entwickler mit Toner-Teilchen, die auf eine bestimmte feste Polarität aufladbar und daher relativ nichtleitend sind, und (b) einen Entwickler mit relativ leitenden Toner-Teilchen.

Es gibt bereits eine Vorrichtung, die den Entwickler (a) verwendet (vergleiche US-PS 30 93 039, 36 45 770 und JP-OS 45639/75). Bei dieser Vorrichtung werden die Toner-Teilchen zuerst auf eine bestimmte Polarität aufgeladen, indem sie an einem geeigneten Material gerieben werden oder indem eine Koronaentladung auf die Toner-Teilchen einwirkt. Dann werden die Toner-Teilchen mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht, das ein latentes elektrostatisches Bild mit einer Ladung der zur oben erwähnLen Polarität entgegengesetzten Polarität aufweist. Auf diese Weise werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials durch die Coulombsche Anziehungskraft angezogen, die zwischen der Ladung der Toner-Teilchen und der Ladung des latenten elektrostatischen Bildes wirkt. Diese Vorrichtung hat jedoch den Nachteil, daß sich der Ladungsgrad der Toner-Teilchen durch Reibung oder Koronaentladung stark abhängig von den Umgebungsbedingungen, wie z. B. der Temperatur oder der Feuchtigkeit, verändert, und daher hängt die Qualität der Entwicklung des latenten elektrostatischen Bildes stark von den Umgebungsbedingungen ab. Wenn die Toner-Teilchen durch Reibung aufzuladen sind, hat die Vorrichtung den Nachteil, daß sich der Ladungsgrad der Toner-Teilchen entsprechend dem Oberflächenzustand des Materials verändert, an dem die Toner-Teilchen zu reiben sind.

Wenn so die Oberfläche dieses Materials verschmutzt oder ermüdet ist, verringert sich die Ladungsmenge der Toner-Teilchen stark. Wenn weiterhin die Toner-Teilchen durch Einwirken einer Koronaentladung zu laden sind, hat die Vorrichtung den Nachteil, daß die Toner-Teilchen an Entladungselektroden der Koronaentladungseinrichtung haften und diese verschmutzen, was den Entladungswirkungsgrad der Koronaentladungseinrichtung innerhalb kurzer Zeitdauer herab-

setzt.

Auch eine Entwicklungsvorrichtung mit dem Entwickler (b) wurde bereits beschrieben (vergleiche z. B. JP-AS 491/62, 492/62 und 20695/63, JP-OS 5035/74 sowie US-PS 29 76 144, 36 39 245, 39 09 258 und -. 40 81 571). Bei dieser Vorrichtung berühren die Toner-Teilchen direkt die Oberfläche eines bildtragenden Materials, das ein latentes elektrostatisches Bild aufweist, ohne die Toner-Teilchen auf eine bestimmte Polarität aufzuladen. Damit werden die Toner-Teilchen κι zur Oberfläche angezogen, was weiter unten näher erläutert wird. Diese Vorrichtung weist nicht die Nachteile der Vorrichtung mit dem Entwickler (a) auf: es gibt aber noch verschiedene Probleme, die zu lösen sind. ι ί

Um den Entwickler mit der Oberfläche des bildtragenden Materials in Berührung zu bringen, ist es zunächst im allgemeinen erforderlich, den Entwickler auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festzuhalten, die aus einem geeigneten Material besteht, .'» wie z. B. auf einer Hülse oder einem Endlosband. Wenn die den Entwickler bildenden Toner-Teilchen magnetisch sind, kann der Entwickler einfach und sicher auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden, 2> das in üblicher Weise durch Magneten erzeugt ist. Jedoch verwenden die bestehenden Vorrichtungen (vergleiche JP-AS 491/62, 492/62 und 20695/63 und US-PS 29 76 144) einem Entwickler aus unmagnetischen Toner-Teilchen, und daher kann der Entwickler nicht 3<> auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden. Damit wird der Entwickler bei dieser Vorrichtung auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch van der Waalsche Kräfte usw. 3j festgehalten. Jedoch ist in diesem Fall das Festhalten des Entwicklers beträchtlich schwierig und weiterhin instabil, so daß derartige Vorrichtungen in der Praxis noch nicht brauchbar sind.

Dagegen wird bei anderen bestehenden Vorrichtun- 4<i gen (vergleiche US-PS 36 39 245, 39 09 258 und 40 81 571 sowie JP-OS 5035/74) ein Entwickler verwendet, der aus magnetischen Toner-Teilchen zusammengesetzt ist. Entsprechend kann der Entwickler magnetisch auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit einfach und sicher durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden.

Infolge der obigen Tatsache ist die beste Entwicklungsvorrichtung unter den bisher angeregten Vorrichtungen eine Vorrichtung, bei der magnetisch ein Einkomponenten-Entwickler aus Toner-Teilchen, die relativ leitend und magnetisch sind, auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinrichtung festgehalten wird, und bei der der Entwickler auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht wird, das ein latentes elektrostatisches Bild trägt.

Diese Entwicklungsvorrichtung, die unter den herkömmlichen Vorrichtungen bevorzugt wird, hat noch zu lösende Probleme, die auf der Verwendung einer Entwickler-Rückhalteeinheit beruhen, die insgesamt leitend ist oder auf ihrer Oberfläche eine nichtleitende Beschichtung aufweist.

Bei dem einer bestehenden Entwicklungsvorrichtung (vergleiche US-PS 39 09 258) wird eine leitende Entwickler-Rückhalteeinheit verwendet. Wie aus der Fig.4 dieser US-PS folgt, beginnt bei dieser Entwicklungsvorrichtung, wenn relativ leitende Toner-Teilchen, die magnetisch auf der Oberfläche einer leitenden Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten sind, nahe zu einem latenten elektrostatischen Bild kommen, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials geformt ist, eine elektrische Ladung entgegengesetzter Polarität zur Ladung des latenten elektrostatischen Bildes in die Toner-Teilchen von der Entwickler-Rückhalteeinheit injiziert zu werden. Wenn diese Toner-Teilchen auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit, die ganz außen liegen, die Ladung des latenten elektrostatischen Bildes berühren, wandert die Ladung, die in die Toner-Teilchen von der Entwickler-Rückhalteeinheit injiziert ist, durch mehrere Toner-Teilchen und kommt an den Toner-Teilchen an, die die Ladung des latenten elektrostatischen Bildes berühren. Durch die Anziehungskraft der beiden Ladungen werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials angezogen. Tatsächlich wandert die Ladung des latenten elektrostatischen Bildes zur Entwickler-Rückhalteeinheit durch Toner-Teilchen in Berührung hiermit, und wenn daher die Berührungszeit zwischen den Toner-Teilchen und dem latenten elektrostatischen Bild verlängert wird werden die beiden Ladungen neutralisiert, und die oben erwähnte Anziehungswirkung verschwindet.

Wenn insbesondere bei der oben erläuterten Entwicklungsvorrichtung das Entwickeln mit hohen Geschwindigkeiten ausgeführt wird, wird die Ladung leicht in die Toner-Teilchen voi der Entwickler-Rückhalteeinheit injiziert, selbst wenn die Ladung auf dem bildtragenden Material ein beträchtlich geringes Potential hat. Entsprechend werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials und insbesondere zuverlässig zum Potential der Oberfläche des bildtragenden Materials sowie daher mit einer sehr hohen Entwicklungsempfindlichkeit angezogen. Diese merklich hohe Entwicklungsempfindlichkeit wird beim Entwickeln im üblichen elektrostatischen Kopierprozeß nicht angestrebt und ruft die folgenden Mangel hervor.

Wenn der elektrophotographische Kop'erprozeß der sogenannte PPC-Prozeß (PPC = Kopieren mit ebenem Papier) ist, wird für das bildtragende Material im allgemeinen ein lichtempfindliches Material mit einer photoleitenden Selenschicht oder eine organische photoleitende Schicht aus Polyvinylcarbazol verwendet. Ein latentes elektrostatisches Bild wird auf der Oberfläche dieses lichtempfindlicher Materials gebildet und entwickelt, und dann wird das entwickelte Bild auf das ebene Papier übertragen. Dieses Vorgehen wird wiederholt durchgeführt. Bevor ein latentes elektrostatisches Bild auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials gebildet wird, ist es erforderlich, die Restladung und den vom vorhergehenden Kopierprozeß auf dem lichtempfindlichen Material zurückgelassenen Entwickler zu entfernen. Da es bekanntlich sehr schwierig oder sogar unmöglich ist, die Restladung vollständig und allgemein zu entfernen, bleibt sogar nach dem Entfernungsschritt eine Ladung von ca. 50 V bis ca. 100 V noch zurück. In der einen bestehenden Entwicklungsvorrichtung (vergleiche US-PS 39 09 258) ist die Entwicklungsempfindlichkeit extrem hoch. Selbst wenn so die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials ein niederes Potential von ca. 50 V bis ca. 100 V besitzt, werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des lichtempfindlichen Materials entsprechend dieser Ladung angezogen. Demgemäß werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des lichtempfindlichen Materials nicht nur durch die normale Ladung des latenten

elektrostatischen Bildes, sondern auch durch die obige Restladung angezogen, was einen »Hintergrund-Schleier« hervorruft (dies ist die Erscheinung, daß Toner-Teilchen relativ dünn zu einer Nichtbild-Fläche angezogen sind, zu der die Toner-Teilchen nicht angezogen sein sollten).

Die Verwendung einer Entwickler-Rückhalteeinheit aus einem Hauptkörper aus einem leitenden Material, wie z. B. Aluminium, und aus einer Isolier-Beschichtung, wie z. B. Aluminiumoxid, die auf der Oberfläche des Hauptkörpers ausgeführt ist, wurde bereits angeregt (vergleiche US-PS 4081571). Die Verwendung einer derartigen Entwickler-Rückhalteeinheit kann stark den Hintergrund-Schleier verringern (vergleiche Spalte 6, Zeilen41 bis 44 der US-PS 40 81 571).

Wenn die Entwickler-Rückhalteeinrichtung mit einer Isolier-Beschichtung verwendet wird, hat sich gezeigt, daß ein »Nachlaufeffekt« (der weiter unten näher erläutert wird) auftritt, wenn nicht die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheil bewegt wird einerseits in der gleichen Richtung wie die Bewegungsrichtung der Oberfläche des bildtragenden Materials, auf dem ein zu entwickelndes latentes elektrostatisches Bild erzeugt wird, und andererseits im wesentlichen mit der gleichen oder einer höheren Geschwindigkeit wie bzw. als die Bewegungsgeschwindigkeil der Oberfläche des bildtragenden Materials in der Entwicklungszone (d. h., wenn die Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest bzw. stationär ist oder relativ langsam bewegt wird).

Um eine gute Entwicklung zu erreichen, ist es wichtig (vergleiche US-PS 40 81571), genau den Abstand zwischen der Oberfläche des bildtragenden Materials und der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit auf einen relativ kleinen Wert (z. B. ca. 0,15 bis ca. 0.5 mm) einzustellen. Wenn jedoch gewünscht wird, daß zusätzlich zur genauen Einstellung des obigen Abstandes die Oberfläche der Entwickler-Rückhaheeinheit mit einer relativ hohen Geschwindigkeit bewegt wird, sind die Toleranzen bei der Konstruktion der Vorrichtung extrem klein. Um den obigen Abstand genau einzustellen, ohne drastisch die Konstruktionstoleranzen zu verringern, ist es erforderlich, die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest oder stationär zu halten.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung anzugeben, bei der magnetisch ein relativ leitender Einkomponenlen-Entwickler auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten wird, und bei der der Entwickler mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht wird, das darauf ein latentes elektrostatisches Bild aufweist, wobei diese Vorrichtung das angestrebte hervorragende entwickelte Bild gewährleisten soll, ohne einen Hintergrund-Schleier und einen N achlauf effekt zu verursachen, selbst wenn die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest gehalten wird.

Diese Aufgabe wird bei einer Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 erfindungsgemäß durch die in dessen kennzeichnenden Teil angegebenen Merkmale gelöst

Die Erfindung sieht also eine Vorrichtung zum Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes vor, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials erzeugt ist, indem dort ein pulverförmiger Entwickler aufgetragen ist. Dabei wird magnetisch eine Schicht eines relativ leitenden Einkomponenten-Entwicklers mit einem spezifischen Widerstand nicht höher als 10^uOhm · cm auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten. Weiterhin wird der Entwickler auf der Oberfläche der Enteickler-Rückhalleeinheit in Berührung mit der Oberfläche des ■ι bildtragenden Materials gebracht. Die Entwickler-Rückhalteeinheit hat einen Widerstandswert von 3 · 10⁷Ohm bis 1 · 10¹⁰Ohm — gemessen durch eine Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode in einer Umgebung, die auf einer Temperatur von 20°C und einer

κι Feuchte von 50% gehalten ist. Durch diese Vorrichtung ist eine gute Entwicklung ohne Hintergrund-Schleier oder Nachlaufeffekt möglich.

Anhand der Zeichnung wird die Erfindung nachfolgend beispielsweise näher erläutert.

ι ■> Es zeigt

Fig. 1 einen vereinfachten Schnitt zur Erläuterung der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung,

Fig. 2 einen vereinfachten Schnitt zur Erläuterung einer Methode zum Messen des Punkt/Ebene-Wider-

2(i standswertes einer Entwickler-Rückhaheeinheit,

F i g. 3A und 3B vergrößerte Schnitte einer Entwicklungszone, um die Ursache eines »Nachlaufeffektes« zu erläutern,

Fig. 4A eine vereinfachte Draufsicht mit einem

2) entwickelten Bild, in dem der Nachlaufeffekt auftritt, und

Fig.4B ein Diagramm mit der Bilddichte des in F i g. 4A gezeigten entwickelten Bildes.
Anhand der Zeichnung wird die erfindungsgemäße

so Entwicklungsvorrichtung näher erläutert.

In Fig. 1 ist das bildtragende Material im dargestellten Ausführungsbeispiel ein zylinderförmiges lichtempfindliches Material 2, das in der Richtung eines Pfeiles 8 drehbar ist und aus einer leitenden Grundschicht 4 und

Ji einer photoleitenden Schicht 6 besteht, die auf der Grundschicht 4 ausgeführt ist. Die photoleitende Schicht 6 kann jede übliche Schicht sein, wie z. B. eine photoleitende Schicht aus ZnO und einem Harz-Bindemittel, eine anorganische photoleitende Schicht aus hauptsächlich Se oder eine organische photoleitende Schicht aus hauptsächlich Polyvinylcarbazol. Gegebenenfalls kann eine (nicht gezeigte) isolierende dünne Schicht aus z. B. Mylar außerdem auf der Oberfläche der photoleitenden Schicht 6 vorgesehen sein.

4> Ein latentes elektrostatisches Bild wird auf der Oberfläche des photoleitenden Materials 2 durch geeignete, an sich bekannte Methoden gebildet, die das Einwirken einer Koronaentladung und das bildweise Belichten des Materials umfassen. Das latente elektrostatische Bild wird mit einem pulverförmigen Entwickler durch die Wirkung einer Entwicklungseinrichtung 10 entwickelt

Die Entwicklungseinrichtung 10 besteht aus einer Entwickler-Rückhalteeinheit und einem Entwickler-Zufuhr-Behälter 14 zum Zuführen eines Einkomponenten-Entwicklers 16 aus lediglich Toner-Teilchen auf die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit Die Entwickler-Rückhalteeinheit besteht im dargestellten Ausführungsbeispiel aus einer ortsfesten oder stationären Hülse 20, die so angeordnet ist daß sich deren Oberfläche der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 in einer Entwicklungszone 18 nähert Innerhalb der Hülse 20 ist ein Drehmagnet 22 angeordnet der in der Richtung eines Pfeiles 24 drehbar ist Vorzugsweise ist der Magnet 22 ein walzenähnlicher Dauermagnet mit zahlreichen Polen (10 Pole in der Zeichnung) entgegengesetzter Polaritäten, die abwechselnd auf dessen Rand vorgesehen sind.

Dlt I■jinviekler-Ziiiiihr-Uehiiller 14 besieht mis einer Vorderhand 26. einer KückwmiilI 28 ιιικΙ /uei (nielli ge/eigien) Seileiiwiiiuleii. imcl eine AuslaüolTiitiiig für ilen KtiiwiekkT lh im Behiilier 14 isi /wischen clem unteren Kndeder Vorderwand 26 und dem unleren Kndc x\c\- Rückwand 28 vorgesehen. Am unteren I Julteil der Rückwand 28 liegt ein Vorsprung 30. der sieh im wesentlichen waagrecht /ur Vorderhand 2β erstreckt. Der Vorsprung 30 dient /ur Umstellung der durch tue Auslaßöffnung fließenden Entwicklermenge auf einen gewünschten Wert und verhindert, dal.i eine große Menge an !-!ntwickler aus dem Zufuhr liehallcr 14 strömt. HiIf-¹Cf-¹CH nahen sich das untere I ink ilcr Vorilcru and 26 der Oberfläche der Hülse 20 mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen und wirkt als Abstreifmesser zur Einstellung der Dicke der auf der Oberfläche der Hülse 20 lest gehalt ei ic η I 111 w icklcrschichl aiii einen uirheslinimten Wen.

In der oben erläuterten Entwicklungseinrichtung 10 wird eine gesteuerte Menge an Entwickler 16 auf die Oberfläche der Hülse 20 von der Auslaßöffnung des Zufuhr-Behälters 14 gespeist und magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 durch die Wirkung eines durch den Magneten 22 gebildeten Magnetfeldes festgehalten. Der magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltene Entwickler 16 wird auf der Oberfläche der Hülse 20 in der Richtung des Pfeiles 32 gedreht, die entgegengesetzt zur Drehrichtung des Magneten 22 durch die Drehung des Magneten 22 in der Richtung des Pfeiles 24 ist. Auf diese Weise berührt der Entwickler 16 nacheinander die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials, das in der Richtung eines Pfeiles 8 gedreht ist, um das auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 gebildete latente elektrostatische Bild nacheinander mit dem Entwickler lö zu entwickeln.

Versuche der Erfinder zeigten, daß im allgemeinen der Abstand zwischen der Oberfläche der Hülse 20 und dem unteren Ende der Vorderwand 26 des Behälters 14, das als Abstreifmesser in der in Fig. 1 gezeigten Entwicklungseinrichtung 10 dient, vorzugsweise 0,2 bis 0,5 m beträgt, obwohl er sich abhängig entsprechend dem spezifischen Widerstand, der Fließfähigkeit, der Größe usw. der Toner-Teilchen ändert, die den Entwickler 16 bilden. Die Drehzahl des Magneten 22 beträgt viiiviigsweise ca. SOO bis ca. 1 SOO 11 nun wenn /. 15. die Starke des Magnetfeldes aiii dci Oberfläche der Hülse 20 1000 Gauß ist. Der Abstand zwischen der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials und der Oberfläche der I luke betragt vor/ugsw eise ca o. 3 bis ca. 0.7 mm m einem Punkt, in dem beide Oberflächen am nächsten beieinander sind. Wenn alle obigen Bedingungen erfüllt sind, berührt der aiii der Oberfläche der Hülse 20 !estgchahene ! ntvMckler !6 die iiberrUiche ties lichtempfindlichen Materials relam leicht.

Entsprechend der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung ist der in der Entwicklungseinrichtung 10 verwendete Entwickler 16 ein Einkomponenten-Entwickler aus lediglich magnetischen Toner-Teilchen, die magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 durch die Wirkung eines durch den Magneten 22 erzeugten Magnetfeldes festgehalten werden können. Der Entwickler 16 — und damit die Toner-Teilchen — ist relativ leitend und hat einen spezifischen Widerstand von nicht mehr als 10¹³Ohm - cm und vorzugsweise von nicht mehr als 5 - 10" Ohm - cm. Der bei der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung verwendete Entwickler 16 ist von üblicher Art und kann auf herkömmliche Weise erzeugt werden (vergleiche z. B. die Verfahren in US-PS 36 39 245, JP-OS 5035/74 oder 52639/77).

Bei der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung ist es von Bedeutung, daß die Enlwickler-Rückhalteeinheit, die im dargestellten Ausführungsbeispiel die Hülse ^ri 20 ist, einen Widerslandswert — gemessen durch eine Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode, die weiter unten näher anhand der Fig. 2 erläutert wird — von 3 · 10⁷ Ohm bis 1 · 10^l0Ohm, vorzugsweise von 5 · 10⁷Ohm bis 5 · 10⁸ Ohm, in einer Umgebung besitzt,

κι die auf einer Temperatur von 20°C und einer Feuchte von 50% gehalten ist.

Eine derartige Entwickler-Rückhalteeinheil kann erzeugt werden, indem eine Oberflächenschicht mit einem geeigneten Widerstandswert auf einer Hülse erzeugt wird, die aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer Aluminiumoxidschicht darauf zusammengesetzt ist.

Die Oberflächenschicht kann einfach hergestellt werden, indem Kohlenstoff-Ruß-Pulver in einem geeig-

2Ii neten Kunstharz-Material dispergiert oder zerstreut wird, indem die sich ergebende viskose Zusammensetzung auf die Aluminiumoxidschicht aufgetragen wird, und indem die Beschichtung getrocknet wird. Der Widerstand der Entwickler-Rückhalteeinheit, der durch

2^ri die obige Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode gemessen ist, kann genau gesteuert werden, indem z. B. die Menge des im Kunstharz-Material dispergierten Rußes verändert wird.

Die in der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrich-

jo ter verwendete Entwickler-Rückhalteeinheit kann auch hergestellt werden, indem direkt eine Oberflächenschicht mit einem geeigneten Widerstandswert, z. B. eine Kunstharz-Oberflächenschicht, die Kohlenstoff-Ruß-Pulver dispergiert enthält (vergleiche oben), auf der Oberfläche des Hauptkörpers aus Aluminium, rostfreiem Stahl oder dergleichen hergestellt wird.

Im folgenden wird anhand der Fig. 2 die Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode für die Entwickler-Rückhalteeinheit näher erläutert.

Um z. B. den Punkt/Ebene-Widerstandswert einer Entwickler-Rückhalteeinheit 20 zu messen, die zusammengesetzt ist aus einem Hauptkörper 34, der aus einem leitenden Material, wie z. B. Aluminium, hergestellt ist, aus einer isolierenden Zwischenschicht 36, die

z. B. aus Aluminiumoxid hergestellt ist, und aus einer Kunstharz-Oberflächenschicht 38, in der Kohlenstoff-Ruß-Pulver dispergiert ist. muß zunächst eine Elektrode 40 aus einer Stahlkugel mit einem Durchmesser von ca. 0,5 mm die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 berühren.

Die Elektrode 40 ist in einer Halbkugel-Vertiefung angeordnet, die am unteren Ende eines leitenden Stählstäbes 42 vorgesehen ist Der leit

°^ 42 *^c+ *r

einen allgemein zylinderförmigen Isolator 44 eingepaßt.

so daß er vertikal oder senkrecht nach oben und unten bewegt werden kann. Eine Spiralfeder 50 liegt zwischen einer Unterlagscheibe 46, die am leitenden Stab 42 befestigt ist und einem Absatz 48, der in der Innenfläche des Isolators 44 ausgeführt ist Die Spiralfeder 50 treibt den leitenden Stab 42 elastisch zur Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 40 und stößt so die Elektrode 40 gegen die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 mit einer Kraft von ca. 300 ρ (g). Die Seitenwände und das obere Ende des Isolators 44

b5 sind durch ein Schirmgehäuse 52 umgeben, um eine Instabilität der Messung zu verhindern, die durch elektrische Stör- oder Rauschsignale hervorgerufen werden kann. Der leitende Stab 42 ist mit einem

Gleichstrom-Amperemeter 60 über ein Koaxialkabel 58 verbunden, und das Gleichstrom-Amperemeter 60 ist an den leitenden Hauptkörper 34 der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 über eine Gleichstromquelle 62 von 100 V angeschlossen.

In der in Fig. 2 gezeigten Schaltung wird der durch das Gleichstrom-Amperemeter erfaßte Stromwert i gemessen, und aus diesem Wert wird R=\00/i berechnet. Der so berechnete Wert R stellt den Widerstand zwischen der Elektrode 40 aus einer Stahlkugel mit einem Durchmesser von 0,5 mm, die gegen die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 mit einer Kraft von 300 ρ gestoßen ist, und dem leitenden Hauptkörper 34 der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 zu einer Zeit dar, wenn eine Spannung von 100 V an der Elektrode 40 und dem Hauplkörper 34 liegt. Der erhaltene Widerstandswert ist der Wert der Entwickler-Rückhalteeinheit 20, gemessen durch die Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode, auf die oben Bezug genommen wurde.

Wie bereits weiter oben erläutert wurde, ist es bei der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung von Bedeutung, daß die Entwickler-Rückhalteeinheit einen Widerslandswert — gemessen durch die obige Punkt/ Ebene-Widerstands-Meßmethode — von 3 · 10⁷ Ohm bis ! ■ 10^l0Ohm, vorzugsweise von 5 · lO'Ohm bis 5 · 10⁸Ohm, in einer Umgebung aufweisen sollte, die bei einer Temperatur von 20⁰C und einer Feuchte von 50% gehalten ist.

Wenn eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Widerstandswert kleiner als 3 · 10⁷ Ohm verwendet wird, ist die Entwicklungsempfindlichkeit zu hoch, und es werden daher leicht »Hintergrund-Schleier« wie in einer bestehenden Entwicklungsvorrichtung (vergleiche US-PS 39 09 258) hervorgerufen, bei dem eine leitende Entwickler-Rückhalteeinheit aus lediglich einem leitenden Hauptkörper verwendet wird.

Wenn dagegen eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Widerstandswert größer als 1 ■ 10" Ohm verwendet wird, tritt leicht ein »Nachlaufeffekt« auf, wenn die Entwickler-Einheit wie in einer bestehenden Entwicklungsvorrichtung (vergleiche US-PS 40 81 517) ortsfest gehalten oder relativ langsam bewegt wird, wobei bei dieser Vorrichtung eine Entwickler-Rückhalteeinheit aus einem leitenden Hauptkörper und einer isolierenden Beschichtung verwendet wird.

Entsprechend der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann eine gute und gewünschte Entwicklung erzielt werden, ohne einen Hintergrund-Schleier und einen Nachlaufeffekt hervorzurufen, indem eine Entwickler-Rückhalteeinheit verwendet v.ird, die einen Widerstandswert in einem bestimmten Bereich besitzt, der zwischen dem Widerstand der einen bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS 39 09 258) und dem Widerstandswert der anderen bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS 40 81 517) liegt

Zum besseren Verständnis der mil der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung zu erzielenden Vorteile wird der »Nachlaufeffektv. der auftritt, wenn eine Emwickler-Rüekhalteeinheit aus einem leitenden Hauptkörper und einer isolierenden Beschichtung wie in einer bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS 40 81 517) verwendet wird, weiter unten anhand der Fig.3A und 3 B näher erläutert, die eine vergrößerte Darstellung einer Entwicklungszone zeigen.

In den Fig.3A und 3B wird ein lichtempfindliches Material 2, das aus einer geerdeten leitenden Grund-

oder Basisschicht 4 und einer photoleitenden Schicht 6 darauf zusammengesetzt ist, in der Richtung des Pfeiles 8 bewegt. In der Zwischenzeit wird die Hülse 20 aus einem geerdeten leitenden Hauptkörper 34 und einer darauf gebildeten isolierenden Beschichtung 36 ortsfest gehalten. Der magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltene Entwickler 16 wird in der Richtung des Pfeiles 32 auf der Oberfläche der Hülse 20 durch die Wirkung des Magneten 22 bewegt, der in der Richtung des Pfeiles 24 umläuft.

Wenn als Ergebnis der Bewegung des lichtempfindlichen Materials 2 in der Richtung des Pfeiles 8 eine Ladung 64 eines auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 gebildeten latenten elektrostatischen Bildes — wie in der Fig. 3A gezeigt — eine Entwicklungszone 18 erreicht und den Entwickler 16 berührt, beginnt ein Teil der Ladung 64 zur Hülse 20 über den Entwickler 16 zu wandern. Das Wandern der Ladung schreitet schrittweise fort, während die Ladung

in 64 in Berührung mit dem Entwickler 16 ist. Die Ladung, die die Oberfläche der Hülse 20 erreicht hat, wird dort gesammelt. Die Ladung 66, die auf der Oberfläche der Hülse 20 gesammelt ist (vergleiche F i g. 38), bleibt für eine Zeitdauer auf der Oberfläche der Hülse 20, selbst nachdem sich die Ladung 64, die die Erzeugung der Ladung 66 hervorgerufen hat, hinter die Entwicklungszone 18 bewegt hat und nicht länger in Berührung mit dem Entwickler 16 ist. In dieser Situation bewirkt ein durch die gesammelte Ladung 66 erzeugtes elektrisches

jo Feld, daß der Entwickler J6 zu der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 selbst an einem Teil stromauf oder hinter einer normalen Bildfläche angezogen wird, wo die Ladung 64 des latenten elektrostatischen Bildes vorliegt, wodurch so ein Bild ähnlich dem Nachlauf oder »Schwanz« der normalen Bildfläche erzeugt wird. Diese Erscheinung wird als »Nachlaufeffekt« bezeichnet.

Die angesammelte Ladung 66 zerfällt oder neutralisiert sich mit der Zeit (die Neutralisierungsgeschwindigkeit hängt von der Impedanz der isolierenden Beschichtung 36, die auf der Oberfläche der Hülse 20 vorgesehen ist, und der Impedanz des Entwicklers 16 ab), und daher ist der Nachlaufeffekt schwächer an einem Teil, der weiter von der normalen Bildfläche entfernt ist.

Wenn dagegen (vergleiche Fig.3B) die nächste Ladung 68 des latenten elektrostatischen Bildes an der Entwicklungszone t8 ankommt und den Entwickler 16 berührt, bevor sich die angesammelte Ladung 66

so ausreichend neutralisiert hat, fällt die Potentialdifferenz zwischen der Oberfläche der Hülse 20 und der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 entsprechend der angesammelten Ladung 66 ab. Folglich wird die Dichte des zur Bildfläche mit der Ladung 68 auf dem lichtempfindlichen Material 2 angezogenen Entwicklers geringer. Diese Erscheinung, die eine Abnahme in der Dichte der normalen Bildfläche verursacht, kann auch als eine Art eines Nachlaufeffektes angesehen werden. Wenn der oben erläuterte Nachlaufeffekt auftritt, entstehen dünn entwicklete Teile, die durch Punkte stromauf der normal entwickelten Bildflächen X und Y gezeigt sind, wie dies in Fig.4A dargestellt ist. Gleichzeitig wird die Dichte der entwickelten Bildfläche "Kauf der stromauf gelegenen Seite verringert Auf diese Weise wird aus der entwickelten Bilddichte, die gewöhnlich den durch eine Zweipunkt-Strichlinie in F i g. 4B gezeigten Verlauf haben sollte, die entwickelte Bilddichte mit dem durch eine Vollinie in Fig.4B

dargestellten Verlauf.

Da der Nachlaufeffekt durch die oben erläuterten Ursachen auftritt, kann'er vermieden werden, wenn in der Entwicklungszone 18 die Hülse 20 bewegt wird in der gleichen Richtung wie die Bewegungsrichtung des lichtempfindlichen Materials 2 und mit im wesentlichen der gleichen oder einer etwas höheren Geschwindigkeit wie bzw. als die Laufgeschwindigkeit des lichtempfindlichen Materials 2, um die gesammelte Ladung 66 zusammen mit der Ladung 64 zu bewegen, die die Bildung der Ladung 66 hervorgerufen hat. Wenn jedoch die Hülse 20 mit einer relativ hohen Geschwindigkeit bewegt wird, sind die Toleranzen in der Maschinenkonstruktion extrem verringert, wie dies oben erläutert wurde. Entsprechend sollte in zahlrechen Fällen die Hülse 20 ortsfest oder stationär gehalten werden.

Um den Nachlaufeffekt zu vermeiden, während die Hülse 20 ortsfest gehalten wird, ist es wichtig, daß sich die angesammelte Ladung 66 rasch neutralisiert. Wenn nun die Hülse 20 lediglich aus einem leitenden Hauptkörper 34 besteht, während die isolierende Beschichtung 36 weggelassen ist, baut sich die Ladung 66, die zur Oberfläche der Hülse 20 gewandert ist, niemals dort auf, und der oben erläuterte Nachlaufeffekt tritt nicht auf. Dies ruft jedoch Hintergrund-Schleier hervor, wie dies oben erläutert wurde.

Die Erfinder haben erkannt, daß, wenn der durch die obige Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode gemessene Widerstand in einer auf einer Temperatur von 20⁰C und einer Feuchte oder Feuchtigkeit von 50% gehaltenen Umgebung der Hülse 20 auf 3 · 10' Ohm bis 1 · 10'°Ohm, vorzugsweise auf 5 ■ 10⁷Ohm bis 5 ■ 10⁸Ohm, eingestellt wird, indem z.B. eine Kunstharz-Oberflächenschicht, die darin dispergiert Kohlenstoff-Ruß-Teilchen enthält, auf der isolierenden BeTabelle 1

20

schichtung 36 der Hülse 20 gebildet wird, oder indem die Kunstharzschicht direkt auf den leitenden Hauptkörper 34 der Hülse 20 ohne die isolierende Beschichtung 36 aufgetragen wird, eine rasche Neutralisation der angesammelten Ladung 66 erzielbar und der Nachlaufeffekt vermeidbar sowie außerdem der Hintergrund-Schleier verhinderbar ist.

Eine rasche Neutralisation der angesammelten elektrischen Ladung 66 kann auch bewirkt werden, indem merklich der spezifische Widerstand des Entwicklers verringert wird. Wenn jedoch der spezifische Widerstand des Entwicklers stark herabgesetzt ist, wird es extrem schwierig, ein entwickeltes Bild mit dem Entwickler zu übertragen, worauf bereits hingewiesen wurde. Entsprechend ist die Verwendung eines Entwicklers mit einem sehr kleinen spezifischen elektrischen Widerstand während der Entwicklung in einem elektrophotographischen Kopierprozeß einschließlich der Übertragung eines entwickelten Bildes unerwünscht.

Spezielle Beispiele werden weiter unten angegeben, um die Erfindung weiter zu erläutern.

Beispiel I

Fünf Hülsen werden vorgesehen, deren jede aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer durch Anodisierung auf dem Hauptkörper gebildeten Aluminiumoxidschicht besteht. Die Oberfläche jeder der fünf Hülsen wird geichmäßig mit jeder viskosen Zusammen-Setzung Nr. 1 bis Nr. 5 beschichtet, die die unten in Tabelle 1 angegebenen Substanzen enthalten, und dann bei 60°C für mehr als 30 Minuten in einem Heiß!uft-Umwäl?ofen getrocknet, um Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 zu bilden, deren jede eine Oberflächenschicht auf der Oberseite der Aluminiumoxidschicht aufweist.

	Viskose	Zusammensetzung	(Gemisch)	Nr. 4	Nr S
	Nr. ]	Nr. 2	Nr. 3	0.5 g	Og
Spezial-Ruß Nr. 4	0,5 g	0.5 g	0,5 g	0.05 g	0,05 g
Ol-RulJ HBB	0,05 g	0,05 g	0.1)5 g	20 g	20 g
T. 11. F. (insgesamt)	20 g	20 g	20 g	6g	5g
Denka-Lack 21 K	12,5 g	10g	8g

Jede der viskosen Zusammensetzungen oder Gemische Nr. 1 bis Nr. 5 wird auf die folgende Weise vorbereitet.

Zunächst werden Spezial-Ruß Nr. 4 (Kohlenstoff-Ruß-Pulver, hergestellt von der Firma Degussa) und Öl-Ruß HBB (ein öllöslicher Farbstoff, hergestellt von der Firma Orient Chemical Co. Ltd.) in einen 500 ml-Kunststoffbehälter eingewogen. Dann wird T. H. F. (Tetrahydrofuran) zugesetzt Die Materialien werden für ca. 3 Minuten mittels eines Ultraschall-Dispergierers dispergiert. Denka-Lack 21 K (ein Vinylchlorid-Copolymer mit einem Feststoffanteil von 40%, ein

Tabelle 2

Produkt der Firma Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) wird in die Dispersion gegeben und durch Ultraschall-Schwingung für weitere 3 Minuten oder dergleichen dispergiert. Nach der Dispersion wird T. H. F. in einer Menge von ca. 60% des ursprünglich zugesetzten T. H. F. zugesetzt, und die Mischung wird umgerührt. Auf diese Weise vvird jede der viskoser. Zusammensetzungen Nr. 1 bis Nr. 5 vorbereitet.

Die Widerstandswerte der Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 werden durch die oben anhand der Fig.2 erläuterte Punkt/Ebene-Widerstands-Meßmethode gemessen. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 2 angegeben.

Meßumgebung

(Temperatur,

Feuchtigkeit)

Widerstanäswerte (U ) der Hülsen
Nr. 1 Nr. 2 Nr. 3

Nr. 4

Nr. 5

23 C, 85%
28 C, 50%
36 C. 24%

5 -	10⁹	5 ·	10^s	1,2	- ΙΟ⁸	1 ■	ΙΟ⁷	2 ■	ΙΟ¹²
1 -	10'°	7 -	10^s		- 10^s	1,3	-ΙΟ⁷	9 -	10"
2 -	10'°	1 -	10'	2 ·	ΙΟ⁸	3 -	ΙΟ⁷	8 -	10'°

Jede der Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 wird als Entwickler-Rückhaiteeinheit in einer Entwicklungseinrichtung der in Fi g. 1 gezeigten Art verwendet, und es wird ein latentes elektrostatisches Bild, das auf der Oberfläche eines bilairagenden Materials ausgeführt ist, das aus einer Unterlage aus Aluminium und einer photoleitenden Schicht besteht, die ZnO und ein Harz-Bindemittel enthält, entwickelt. Der verwendete Entwickler ist ein relativ leitender Einkomponenten-Entwickler, der lediglich aus Toner-Teilchen mit einem spezifischen Widerstand von ca. 5-IG¹⁰ Ohm cm zusammengesetzt ist.

Wenn die Hülse Nr. 5 verwendet wird, tritt ein N achlauf effekt bei geringer Feuchtigkeit und bei hoher Feuchtigkeit auf.

Wenn die Hülse Nr. 1 verwendet wird, tritt kein Nachlaufeffekt in der Anfangsstufe bei einer Feuchtigkeit von 50% auf; nachdem jedoch kontinuierlich die Entwicklung einige zehn Mal wiederholt wird, beginnt ein geringer Grad eines Nachlaufeffektes aufzutreten. Dies beruht vermutlich auf einem Temperaturanstieg der Hülse während des wiederholten Entwickeins und ruft eine Steigerung im Widerstandswert der Hülse hervor.

Wenn die Hülse Nr. 2 verwendet wird, tritt ein sehr geringer Grad eines Nachlaufeffektes bei einer kleinen Feuchtigkeit von weniger als ca. 20% auf, nachdem das Entwickeln ca. 500mal kontinuierlich wiederholt wurde.

Wenn die Hülse Nr. 3 verwendet wird, tritt weder der Nachlaufeffekt noch der Hintergrund-Schleier auf, nachdem selbst das Entwickeln einige lOOOmal in verschiedenen Umgebungen wiederholt wurde.

Wenn die Hülse Nr. 4 verwendet wird, tritt kein Nachlaufeffekt auf. In anderen Umgebungen als Umgebungen mit geringer Feuchtigkeit tritt jedoch der Hintsrgrund-Schleier auf, nachdem das Entwickeln ca. lOOmal wiederholt wurde.

Wenn eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Widerstand von 3 ■ 10'Ohm bis 1 · 10^ln Ohm, vorzugsweise 5 · 10⁷ Ohm bis 5 · 8⁸ Ohm, in einer Umgebung verwendet wird, die auf einer Temperatur von 20° C und einer Feuchtigkeit von 50% gehalten ist, was als eine mittlere Umgebung in einem elektrostatischen Kopiergerät angesehen wird, kann eine gute Entwicklung ohne Nachlaufeffekt oder Hintergrund-Schleier erzielt werden, wie aus den obigen Ergebnissen zu ersehen ist.

Beispiel II

Es werden Hülsen vorgesehen, die lediglich aus einem Hauptkörper aus Aluminium zusammengesetzt sind. Die folgenden Bestandteile werden in der gleichen Weise wie im Beispiel I verarbeitet, um viskose Zusammensetzungen zu bilden:

Spezial-RußNr.4	ig
Öl-Ruß HBB	0,1g
T. H. F.	45 bis 50
Denka-Lack21 K	40 g

Die viskosen Zusammensetzungen werden jeweils auf die Oberfläche jeder Hülse aufgetragen, um eine Oberflächenschicht zu bilden. Die Widerstandswerte der so herestellten Hülsen betragen 1 · 10⁸Ohm bis 3 · 10⁸Ohm unter den in Tabelle 2 angegebenen drei Umgebungen. Mittels jeder dieser Hülsen als eine Entwickler-Rückhalteeinheit wird ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 entwickelt. Gute Ergebnisse werden erhalten.

Beispiel III

Es werden Hülsen vorgesehen, die lediglich aus einem Hauptkörper aus rostfreiem Stahl zusammengesetzt sind. Die folgenden Bestandteile werden in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 bearbeitet, um viskose Zusammensetzungen zu bilden:

Spezial-RußNr.4	ig
Öl-Ruß	0,1g
T. H. F.	45 bis 50 g
AROTAP 3211
(Festsioffgehalt50%)	32 g

ι > Die viskosen Zusammensetzungen \verden jeweils auf die Oberfläche jeder Hülse aufgetragen, um eine Oberflächenschicht zu bilden. Der Stoff AROTAP 3211 wird anstelle von Denka-Lack K 21 verwendet, um ein gutes Haften am Hauptkörper aus rostfreiem Stahl zu

μ gewährleisten.

Die Widerstandswerte der sich ergebenden Hülsen betragen unter den drei in Tabelle 2 angegebenen Umgebungen 1 · 10^KOhmbis3 · 10" Ohm.
Wenn ein latentes elektrostatisches Bild in der

-j gleichen Weise w'c im Beispiel 1 mittels jeder dieser Hülsen als ein» Eniwickler-Rückhalteeinheit entwickelt wird, werden gute Ergebnisse erhallen.

Es hat sich gezeigt, daß der Temperaturanstieg während wiederholten Entwickeins kleiner ist in Hülsen,

in die aus rostfreiem Stahl als Hauptkörper zusammengesetzt sind, als in Hülsen, die aus Aluminium als Hauptkörper zusammengesetzt sind. Dies beruht vermutlich darauf, daß der Grad eines Wirbelstromes, der aufgrund eines wechselnden Magnetfeldes hervor-

3"> gerufen ist, das durch die Drehung eines Magneten erzeugt ist, in einem Hauptkörper aus rostfreiem Stahl kleiner ist als in einem Aluminium-Hauptkörper.

Entsprechend wird die Verwendung einer Hülse aus rostfreiem Stahl als Hauptkörper bevorzugt, wenn das

·"' bildtragende Material oder der Entwickler leicht nachteilhaft selbst bei relativ kleinen Temperaturen von z. B.ca.40°C beeinflußt wird.

Beispiel IV

Zwei Hülsen werden vorgesehen, deren jede aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer darauf durch Anodisierung gebildeten Aluminiumoxidschicht besteht. Kohlenstoff-Ruß wird auf die Oberflächen dieser Hülsen geschichtet, indem die Kerne von handelsüblichen Schreibsliften verwendet werden. Dann wird die Oberfläche jeder I lülsc mit Watte gerieben, die mit Alkohol imprägniert ist, um Beschichtungs-Unebcnheiicn /u entfernen und die Menge des geschichteten Kohlenstoff Rußes einzustellen. Auf diese Weise werden eine erste I lülsc mit einem Widerstandswert von 1 · KV Ohm bei einer Temperatur von 2O⁰C und einer I'euehligkcil von 50% und eine zweite Hülse mit einem Widerstandswert von 0,5 · 10⁷ Ohm bei einer Temperatur von 20⁰C und einer Feuchtigkeit von 50% hergestellt.

Mittels der ersten Hülse als eine Entwickler-Rückhaiteeinheit wird ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 entwickelt. Nachdem das Entwickeln einige zehn Mal wiederholt ist, tritt ein

M beträchtlicher Schleier in der Hintergrund-Fläche auf.

Wenn ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 mit der zweiten Hülse als eine Eniwickler-Rückhalteeinheit entwickelt wird,

15 16 ^Λ

tritt einiger Hintergrund auf, nachdem das Entwickeln ca. lOOmal bei einer hohen Feuchtigkeit (Temperatur

20° C, Feuchtigkeit 82%) wiederholt ist |

Beispiel V

Ein latentes elektrostatisches Bild wird in der gleichen Entwickler-Rückhalteeinheit entwickelt Es zeigt sich

Weise wie in Beispiel I mit einer Hülse aus einem folglich, daß bei geringen Feuchtigkeiten ein beträchtli-

Hauptkörper aus Aluminium und einer darauf durch eher Nachlaufe!fekt auftritt Anodisierung gebildeten Aluminiumoxidschicht als

Hiereu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung für die Entwicklung elektrostatischer Bilder mit einem ί relativ leitenden Einkomponenten-Entwickler von einem spezifischen Widerstand von nicht mehr als 10¹³Ohm · cm, mit einem drehbaren, zylindrischen, mehrpoligen Permanentmagnet und einer zylindrischen Hülse als Entwickler-Rückhalteeinheit, da- in durch gekennzeichnet,

— daß die Hülse (20) aus einem Hauptkörper aus elektrisch leitendem Material besttht und eine Oberflächenschicht besitzt, deren Widerstandswert — gemessen durch eine Punkt/Ebene- π Widerstands-Meßmethode (Fig.2) — in einer Umgebung, die auf einer Temperatur von 20°C und einer Feuchtigkeit von 50% gehalten ist, 3 - 10⁷-l - 10¹⁰ Ohm beträgt

2. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach -?< > Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

— daß der Widerstandswert 5 · 10⁷ bis 5 · 10⁸ Ohm beträgt.

3. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,

— daß sich der Permanentmagnet (22) in der ortsfesten, zylindrischen Hülse (20) dreht, und daß die Pole entgegengesetzter Polarität des Permanentmagneten (22) abwechselnd auf dessen Rand vorgesehen sind, so daß der jo Entwickler (16) auf der Oberfläche der Hülse (20) durch die Wirkung des durch den Permanentmagneten (22) erzeugten Magnetfeldes festhaltbar ist.

4. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach 35 — Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,

— daß in einer Entwicklungszone, in der der Entwickler (16) die Oberfläche des bildtragenden Materials berührt, die Oberfläche des bildtragenden Materials kontinuierlich in einer vorbestimmten Richtung bewegbar ist, während der Permanentmagnet (22) in einer Richtung entgegengesetzt zur vorbestimmten Richtung bewegbar ist, wodurch der Entwickler (16) auf der Oberfläche der Hülse (20) jn der vorbestimmten Richtung bewegbar ist

5. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet,

— daß die Hülse (20) besteht aus einem Hauptkörper (34) aus Aluminium, einer auf den Hauptkörper aufgetragenen Aluminiumoxidschicht (36) und aus einer Oberflächenschicht (38) aus einem Kunstharz, in dem Kohlenstoff-Ruß-Pulver dispergiert ist

6. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet,

— daß die Hülse (20) besteht aus einem Hauptkörper (34) aus Aluminium und einer Oberflächenschicht (38) aus einem Kunstharz, in dem Kohlenstoff-Ruß-Pulver dispergiert ist.

7. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet,

— daß die Hülse (20) besteht aus einem Hauptkörper (34) aus rostfreiem Stahl und einer Oberflächenschicht (38) aus einem Kunstharz, in dem Kohlenstoff-Ruß dispergiert ist.

8. Magnetbürsten-Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,

daß der Entwickler (16) einen spezifischen Widerstand nicht größer als 5 · 10" Ohm - cm aufweist.