DE2910280A1 - Optisches abbildungssystem - Google Patents
Optisches abbildungssystemInfo
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Description
Optisches Abbildungssystem
Die Erfindung bezieht sich auf ein optisches Abbildungssystem, bei dem ein konkaver sphärischer
Spiegel verwendet wird, und insbesondere auf ein optisches Abbildungssystem zum Umwandeln eines Punktobjekts
in ein Bogen-Bild oder eines Bogenobjekts
in ein Punkt-Bild.
Bei optischen Geräten treten manchmal Fälle auf,
bei denen ein bogenförmiges bzw. Bogen-Bild benötigt wird. Beispielsweise.ist bei der in der US-PS 3 963
beschriebenen Druck- bzw. Aufzeichnungsvorrichtung zur
Herstellung von Halbleiterschaltungen an einer Maske ein dünnes Bogenlichtquellen-Bild als Einrichtung
zum Ausleuchten der Maske erforderlich.
Wenn ein Bogenlichtquellen-Bild bzw. eine Bogenlichtquellen- Abbildung erzielt werden soll, muß gewöhnlich
die Lichtquelle bogenförmig sein. Bei Verwendung eines Heizwiderstands wie beispielsweise bei
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Deutsche Bank (München) KIo 51/61070
Dresdner Bank (München! Kto. 3939844
Posischeck (München) K!o. 670-43-804.
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einer Wolframlampe oder dergleichen kann eine Bogenlichtquelle
verhältnismäßig einfach dadurch erzielt werden, daß der Heizwiderstand bogenförmig gestaltet
wird. Da jedoch im allgemeinen eine Lichtquelle, bei der ein derartiger Heizwiderstand verwendet wird,
geringe Helligkeit hat und Schwierigkeiten hinsichtlich der Erzielung von ultraviolettem Licht ergibt, ist
- sie nicht zur Verwendung bei einem Drucker bzw. einem Aufzeichnungsgerät geeignet, bei dem wegen der Eigenschäften
von photoempfindlichem Material ultraviolette Strahlen als Druck- bzw. Aufzeichnungslicht verwendet
werden.
Als Lichtquellen zur Erzielung großer Helligkeit ^5 und zur Abgabe von ultravioletten Strahlen gibt es
Gasentladungsröhren wie Xenon- oder Quecksilberlampen. Um eine derartige Gasentladungsröhre zu einer Bogenlichtquelle
zu gestalten, muß die Glasröhre zu einem Bogen geformt werden. Die zur Formung der Glasröhre
™ in einen Bogen notwendige Glasbearbeitung ist sehr schwierig, so daß die sich ergebende bogenförmige
Gasentladungsröhre teuer wird. Die Lichtquelle ist ein Verbrauchsartikel, wobei insbesondere eine Gasentladungsröhre
mit großer Helligkeit eine kurze Lebensdauer hat, was zu nachteiligen hohen Kosten
führt. Daher muß zum Erzielen einer Bogenlichtquellen-Abbildung hoher Helligkeit eine Punktlichtquelle verwendet
werden, die dann mittels eines optischen Systems auf Bogenform umgewandelt wird. Ein in seiner Bedeu-
tung zwar etwas unterschiedliches Verfahren zur Erzielung eines bogenförmigen Lichtstrahls bzw. Lichtstrahlenbündels
ist in der japanischen Patentveröffentlichung 13477/1973 beschrieben. Gemäß diesem Verfahren
wird ein konischer Spiegel entlang zweier zu seiner Konuslinie senkrechter Ebenen optisch abgeschnitten,
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tun einen bandförmigen konischen Spiegel zu erhalten,
auf den ein Lichtstrahlenbündel mit einem bestimmten Punkt als Ursprung gerichtet wird. Der Ort der Lichtstrahlen
an einer Abtastungsfläche wird zu einem Bogen, dessen Mittelpunkt an der Konuslinie liegt.
Ein mittels eines derartigen bandförmigen konischen Spiegels gebildeter Kreisbogen wird jedoch in radialer
Richtung breit. Dies erfolgt deshalb, weil die Reflektionsflache
des bandförmigen konischen Spiegels keine Krümmung in einer die Konuslinie dieses Spiegels
enthaltenden Ebene hat,so daß diese Reflektionsflache
keine Sammel- oder Konvergenzwirkung hat.
Die US-PS 3 758 774 beschreibt ein optisches Abbildungssystem zur Umsetzung einer Punktlichtquelle
in ein gerades Lichtquellen-Bild durch Verwendung eines paraboloidischen oder parabolischen Spiegels.
Bei dieser US-PS ist jedoch kein optisches System zur Umsetzung einer Punktlichtquelle in ein bogenförmiges
Lichtquellen-Bild beschrieben.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein optisches Abbildungssystem zu schaffen, das die
Umsetzung eines Punktobjekts oder eines Bogenobjekts ■" in ein Bogen-Bild bzw. ein Punkt-Bild erlaubt.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein sphärischer Spiegel optisch zu einem
bandförmigen Spiegel abgeschnitten wird und ein vom
Krümmungsmittelpunkt der Kugelfläche des bandförmigen sphärischen Spiegels verschiedener Punkt an der
RotationsSymmetrieachse in einen bestimmten Zusammenhang
mit einer bogenförmigen Fläche an einer Ebene gebracht wird, die senkrecht zur Rotationssymmetrie-
achse steht und auf der Meridional-Lichtstrahlen ab-
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gebildet werden.
Der Ausdruck "optisches Abschneiden eines
% sphärischen Spiegels" hat nicht nur die Bedeutung eines körperlichen Abschneidens eines sphärischen
Spiegels, sondern auch eines zum körperlichen Abschneiden äquivalenten Vorgangs wie beispielsweise
des Abdeckens von Teilen des sphärischen Spiegels, die von den bandförmigen Teilen desselben verschieden
sind, mit einem reflektionsfreien Anstrich oder dergleichen. Mit Meridional-Lichtstrahlen sind Lichtstrahlen
in einer Schnittebene bezeichnet, die die Rotationssymmetrieachse des sphärischen Spiegels enthält.
Als Sagittal-Lichtstrahlen sind nachstehend Lichtstrahlen in einer Schnittebene senkrecht zum
Meridional-Schnitt, nämlich einer zur Rotationssymmetrieachse senkrechten Schnittebene bezeichnet.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 ist eine Darstellung eines bandförmigen sphärischen Spiegels.
25
Fig. 2 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel des optischen Abbildungssystems,
bei dem der bandförmige sphärische Spiegel verwendet wird.
Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel des optischen Abbildungssystems.
Fig. 4 zeigt eine Anwendung des optischen Systems nach Fig.
leuchtungssystem,
leuchtungssystem,
Systems nach Fig. 3 bei einem Be-
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Fig. 5 und 6 zeigen optische Anordnungen
für die Anwendung des zweiten Ausführungsbeispiels des Abbildungs—
systems bei einem Druck- bzw. Auf—" Zeichnungsgerät.
Die Fig. 1 stellt die Beschaffenheit eines bandförmigen sphärischen Spiegels dar.
Mit 1 ist ein konkaver sphärischer Spiegel bezeichnet,
während mit 2 ein bandförmiger sphärischer Spiegel bezeichnet ist, der durch Schneiden entlang
nicht gezeigter Ebenen gebildet ist, die senkrecht zu einer Rotationssymmetrieachse 3 des sphärischen
Spiegels 1 stehen und voneinander in einem bestimmten Abstand liegen. Mit 4 ist der Mittelpunkt des sphärischen
Spiegels 1 bezeichnet. Nimmt man nun an, daß eine Punktlichtquelle 5 an dem Mittelpunkt 4 angebracht
ist, so wird das von der Punktlichtquelle 5 zu dem
*0 bandförmigen sphärischen Spiegel 2 hin gehende Licht
durch diesen reflektiert und wieder an der Punktlichtquelle 5 gesammelt. Wenn die Punktlichtquelle
an irgendeinem, vom Mittelpunkt 4 verschiedenen Ort an der Rotationssymmetrieachse angebracht ist, wie
es in Fig. 2 gezeigt ist, wird ein bogenförmiges
Bild 6 erzielt^ D.h,, wenn gemäft der Darstellung in Fig.
1 die Punktlichtquelle 5 an dem Mittelpunkt 4 der Kugelform angebracht istr ist die relative Lage zwischen
der Punktlichtquelle und der bandförmigen
sphärischen Fläche an dem vorangehend genannten Sagittal-Abschnitt und Meridional-Äbschnitt gleich,
jedoch ist bei Anordnung der Punktlichtquelle 5 an irgendeinem vom Mittelpunkt 4 der Kugelform verschiedenen
Ort an der Rotationssymmetrieachse 3 gemäß der Darstellung in Fig. 2 die Lage für den Sagittal-Abschnitt
und den Meridional-Äbschnitt unterschied-
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lieh. Daher werden die Sagittal-Lichtstrahlen nicht an
einer Ebene abgebildet, an welcher in dem Meridional-Abschnitt die Meridional-Lichtstrahlen abgebildet
werden und die senkrecht zur Rotationssyrnmetrieachse steht. Daher ergibt sich ein bogenförmiges Bild der
Lichtquelle- Hierbei ist anzumerken, daß ein Ort 7 an der RotationsSymmetrieachse 3 ein Ort ist, der zu
der Punktlichtquelle 5 im Sagittal-Schnitt konjugiert
ist. Die Abbildung der Meridional-Lichtstrahlen in dem Meridional-Schnitt an einem zur Rotationssymmetrieachse
3 senkrechten Schnitt beruht darauf, daß ein Kreis, der näherungsweise einer Ellipse entspricht,
die als ihre beiden Brennpunkte die Punktlichtquelle und den Abbildungsort der Meridional-Lichtstrahlen
hat, mit dem Meridional-Schnitt der Kugelfläche des bandförmigen Spiegels 2 zusammenfällt.
Wenn ferner gemäß Fig. 2 ein mit dem Lichtquellen-Bild
identisches Objekt an dem Ort dieses Lichtquellen-Bilds 6 angebracht ist, wird dieses an dem Ort der
Punktlichtquelle 5 abgebildet.
Die Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel des Abbildungssystems und stellt einen Meridional-Schnitt
dar. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist der sphärische Spiegel 1 entlang zweier Ebenen so abgeschnitten,
daß die Tangente an einer Mitte 8 des bandförmigen sphärischen Spiegels 2 die Rotations-
syrametrieachse 3 unter 45 ° schneidet; die Punktlichton
quelle 5 ist an einem Ort angebracht, an dem eine durch diese Mitte 8 laufende Linie senkrecht auf der
Rotationssymmetrieachse 3 steht. Bei dieser Anordnung wird ein von der Punktlichtquelle 5 kommender Hauptstrahl
9 mittels des bandförmigen sphärischen Spiegels
2 unter rechtem Winkel abgelenkt und- trifft senkrecht
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auf eine Abbildungsebene 10. Dieses Abbildungssystem
kann als sog. telezentrisches optisches System bezeichnet werden, da der Hauptstrahl senkrecht auf die
Abbildungsebene trifft.
Anhand der Fig. 4 wird nun ein Ausführungsbeispiel beschrieben, bei dem das optisches Abbildungssystem
nach FJg. 3 zur Ausleuchtung verwendet wird.
Die Fig. 4A ist eine Vorderansicht, die Fig. 4B eine Seitenansicht und die Fig. 4C eine Draufsicht.
Eine Punktlichtquelle wie beispielsweise eine Hochspannungs-Quecksilberlampe
11 mit kurzem Lichtbogen oder dergleichen hat an ihrem oberen und unteren
Ende elektrische Anschlüsse und zwischen den beiden Anschlüssen eine Glasrohre, in der an den gegenüberliegenden
Enden Elektroden angebracht sind, die in einem bestimmten kurzen Abstand stehen. Das Innere
er Gasröhre ist derart mit Gas gefüllt, daß durch Anlegen einer Spannung an die Elektroden eine Entladung
auftritt, wodurch zwischen den Elektroden Licht abgegeben wird. Dieser Lichtabstrahlungspunkt ist mit 5
bezeichnet. 12 bezeichnet einen bandförmigen sphärischen Spiegel, während 13 eine Beleuchtungs- bzw. Ausleuchtfläche
bezeichnet; diese Bezugszeichen entsprechen den Bezugszeichen 2 und 10 in Fig. 3. Daher läuft ein
Hauptstrahl· 14 aus der Punktlichtquelle 5 parallel· zu der Ausleuchtfläche 13, wird mittels des bandförmigen
sphärischen Spiegels 12 unter rechtem Winkel· abgelenkt
und trifft senkrecht auf die Ausleuchtfl·äche 13 auf.
Auf diese Weise wird auf der Ausieuchtfl·äche 13 ein
bogenförmiges Biid der Lichtquelle ausgebildet.
Bisher wurde ein bandförmiger sphärischer Spie-
gel beschrieben, der durch Abschneiden eines sphärischen Spiegels entlang zweier zur Rotationssymmetrie-
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achse senkrechter Ebenen erhalten wurde; dadurch hat das erzielte bogenförmige Bild der Lichtquelle
entlang eines Kreisbogens gleichförmige Helligkeit. Wenn beispielsweise ein bogenförmiges Bild der
Lichtquelle erwünscht ist, das an den Randteilen stärkere Helligkeit als an dem Mittelteil des Kreisbogens
hat, kann dies dadurch bewerkstelligt werden, daß die Äusmasse des bandförmigen sphärischen Spiegels in Richtung
der Rotationssymmetrieachse an den Randteilen größer als an dem Mittelteil gewählt werden. In diesem
Fall braucht der sphärische Spiegel nicht entlang der beiden zur RotationsSymmetrieachse senkrechten Ebenen
abgeschnitten sein. Ferner wurde die Lage der Punktlichtquelle auf einen von dem Krümmungsmittelpunkt
verschiedenen Ort an der Rotationssymmetrieachse bestimmt; die Lage der Punktlichtquelle kann jedoch entsprechend
der Art des gewünschten Bilds der Lichtquelle etwas von diesem Ort abweichen. Dies gilt auch für die
Lage der Äbbildungsebene.
Nachstehend wird der Fall beschrieben, daß das Abbildungssystem bei einem Ausleuchtsystem eines Druckers
bzw. Aufzeichnungsgeräts für integrierte Schaltungen
unterschiedlichen Integrationsgrads oder dergleichen verwendet wird. Bei diesem Ausleuchtsystem wird das
Abbildungssystem nach Fig. 3, nämlich ein telezentrisches Abbildungssystem verwendet. Die Fig. 5 zeigt
die optische Anordnung des Ausleuchtsystems. Die Fig. 5A zeigt den Aufbau des ganzen Systems, die Fig.
αυ 5B zeigt eine Schlitzplatte S1, die Fig. 5C zeigt eine
Schlitzplatte S„ und die Fig. 5D und E zeigen die
Abbildung einer Lichtquelle 15 an einem Betrachtungsschirm VS.
In Fig. 5 ist die Lichtquelle 15 eine Hochspan-
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nungs-Quecksilberlampe, während"R ein sphärischer
Spiegel ist, der die durch die Guecksilberlampe qebildete Punktlichtquelle an dieser selbst abbildet.
R1 ist ein telezentrischer bandförmiger sphärischer
Spiegel. M. bezeichnet einen gewöhnlichen Spiegel,
während S1 die Schlitzplatte mit einer bogenförmigen
Öffnung gemäß der Darstellung in Fig. 5B ist. Auf der Fläche dieser Schlitzplatte S. wird ein bogenförmiges
Bild der Lichtquelle ausgebildet. Durch Veränderung der Radiallänge und der Länge in Richtung
des Kreisbogens der Öffnung der Schlitzplatte S. ist
es möglich, den Radius und die Länge des Kreisbogens eii.es bogenförmigen Bilds der Lichtquelle an einer
Maske MK einzustellen, die im folgenden beschrieben wird. Mit F ist ein Aufzeichnungs-Lichtfilter bezeichnet,
das während der Ausrichtung zwischen der Maske MK und einem Mikroplättchen bzw. Wafer an der Schlitzplatte
S1 eingefügt wird. M„ ist ein gewöhnlicher Spiegel,
während R2 ein eintrittsseitig telezentrischer
bandförmiger sphärischer Spiegel ist, der die Öffnung
der Schlitzplatte S1 in ein punktförmiges Bild umwandelt. M3 ist ein teildurchlässiger Spiegel. W ist
ein Verschluß, der in einer Abbildungsebene für das punktförmige Bild der Schlitzplatte S1 liegt und in
*-D dessen Lage gebracht werden kann, wenn die Beendigung
des Ausleuchtens der Maske gewünscht ist". Der Betrachtungsschirm
VS ist an einer Ebene angebracht, die in bezug auf den teildurchlässigen Spiegel M-. zu dem
Ort konjugiert ist, an dem das punktförmige Bild
ausgebildet wird. Daher werden an dem Schirm VS das
Bild der tatsächlichen Lichtquelle und ein durch den sphärischen Spiegel R ausgebildetes Bild der Lichtquelle geformt. Daher ist es möglich, den Schirm zum
Ausrichten bzw. Ausgleichen irgendeiner Fehleinstel-
lung gemäß der Darstellung in Fig. 5D dadurch zu ver-
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wenden, daß an dem Schirm ein Visier gemäß der Darstellung in den Fig. 5D und E angebracht wird und
bei der Ausrichtung des optischen Systems der Zustand festgelegt wird, bei dem zwei Bilder der Lichtquelle
innerhalb des Visiers oder Zielkreises liegen. M, ist ein Spiegel, während R-. ein austrittsseitig telezentrischer
bandförmiger sphärischer Spiegel ist, der das durch den bandförmigen sphärischen Spiegel R2 gebildete
punktförmige Bild wieder in ein bogenförmiges Bild an der Maske MK umsetzt. S- ist die Schlitzplatte,
die eine bogenförmige Öffnung gemäß der Darstellung in Fig. 5C hat und die dazu dient, die numerische Apertur
für das auf die Maske MK fallende Lichtstrahlenbündel
zu steuern. Die Abbildungsleistung eines in Fig. 6 gezeigten optischen Projektionssystems ändert sich in
einem gewissen Ausmaß mit dem Verhältnis der numerischen Apertur dieses Lichtstrahlenbündels zur numerischen
Apertur dieses optischen Projektionssystems, so daß es daher wichtig ist, die Breite dieser schlitzförmigen
Öffnung festzulegen.
Anhand der Fig. 6 wird nun ein Gerät beschrieben, mit welchem eine mittels eines derartigen Ausleuchtsystems
beleuchtete Maske auf einem Mikroplättchen bzw. Wafer gedruckt bzw. aufgezeichnet wird.
In Fig. 6 ist die optische Anordnung gemäß der Fig. 5A insgesamt mit 22 bezeichnet.
Die Fig. zeigt ein Aufzeichnungsgerät, bei dem
ein katoptrisches System mit der Vergrößerung 1 verwendet wird, wie es in der US-PS 3 963 353 beschrieben
ist. Der mit 16 bezeichnete Teil ist das katoprische
bzw. Spiegel-System (optisches Projektionssystem) mit der Vergrößerung 1. Ein Konkavspiegel 17
° und ein Konvexspiegel 18 (dessen konvexe Fläche den
halben Krümmungsradius desjenigen der konkaven Fläche
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des Spiegels 17 hat) sind so angeordnet, daß ihre Krümmungsmittelpunkte übereinstimmen; durch Planspiegel
19 und 20 wird der Lichtweg so abgelenkt, daß zwischen der Fläche der Maske MK und der Fläche
des Wafers WF ein 1:1-Abbildungsverhältnis besteht.
Einzelheiten dieses optischen Systems sind in der vorstehend genannten US-PS beschrieben, so daß sie
hier nicht weiter beschrieben werden müssen. Die Merkmale dieses optischen Systems liegen in einfacher
Zusammenfassung darin, daß es durch Spiegel gebildet ist und daher keinen Farbfehler hat, während aufgrund
des Umstands, daß nur bei einer bestimmten BiIdhöhe h kein Abbildungsfehler auftritt, eine optimale
Lage an einem kreisförmigen Umfang mit dem Radius h in bezug auf die optische Achse 21 der Spiegel 17 und
18 liegt; unter Belichtung über die bogenförmige Schlitzöffnung und Bewegen der Maske MK und des Wafers WF
als eine Einheit (unter Festhalten der anderen Teile) wird eine Aufzeichnung auf der ganzen Fläche dadurch
bewerkstelligt, daß eine bewegbare Belichtungseinheit in Pfeilrichtung bewegt wird; daher ist es möglich,
Wafer WF großen Ausmaßes zu bedrucken.
An dem katoprischen System 16 ist das optische Ausleuchtsystem 22 angebracht; die Einzelheiten des- ■
selben entsprechen den in Fig. 5A gezeigten. (In Fig. 6 ist ein Teil des optischen Ausleuchtsystems
weggelassen).
Zwischen das katoprische System 16 und das optische Ausleuchtsystem 22 ist ein optisches Beobachtungssystem 23 eingefügt. Das optische Beobachtungssystem
wird dafür verwendet, die Maske MK mit dem Wafer WF auszufluchten; es weist einen Halbspiegel 24, ein
Objektiv 25, Planspiegel 26 und 27, eine Relaislinse
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28 und ein Okular 29 auf. Wenn zum Ausleuchten der Maske MK das bogenförmige Lichtstrahlenbündel aus
dem optischen Ausleuchtsystem 22 durch den Halbspiegel
24 hindurchtritt, gelangen Lichtstrahlen durch die Maske MK hindurch und beleuchten den Wafer WF mit
Hilfe des katoprischen Systems, während an dem Wafer WF gestreutes Licht wieder durch das katoprische
System an der Maska MK abgebildet wird, so daß das Bild der Maske MK mit dem Bild des Wafers WF
überlagert ist; sobald das optische Beobachtungssystem auf die Maske MK scharf eingestellt ist, können die
Maske MK und der Wafer WF betrachtet werden.
Der Wafer WF ist mit Photolack beschichtet; während der Betrachtung wird Licht mit einer Wellenlänge verwendet,
bei der keine Sensibilisierung des Photolacks auftritt, wogegen bei der Aufzeichnung Licht mit einer
Wellenlänge verwendet wird, bei der' der Photolack sensibilisiert wird. Daher wird das Filter F gemäß
Fig. 5a eingefügt {das Licht mit einer Wellenlänge durchläßt, bei der keine Sensibilisierung auftritt,
und Licht mit einer Wellenlänge sperrt, bei der eine Sensibilisierung auftritt) und das optische Beobachtungssystem
gemäß der Darstellung in Fig. 6 angeordnet; dann wird zum Ausrichten der Maske MK in eine
vorbestimmte Lage in bezug auf den Wafer WF eine (nicht gezeigte) bewegbare Ausfluchtungsvorrichtung
bewegt, die den Halter für die Maske MK oder den Halter für den Wafer WF bewegt. Danach kann das Drucken
bzw. Aufzeichnen erfolgen, jedoch wird zuvor das optische Beobachtungssystem entfernt, um einen Lichtverlust
durch den Halbspiegel 24 zu vermeiden; die Maske MK und der Wafer WF werden als eine Einheit zu
einer Seite hin bewegt, wonach der Filter F entfernt
^ wird. Das Drucken erfolgt unter Bewegen der Maske MK
und des Wafers WF als eine Einheit mit gleicher Ge-
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schwindigkeit. Diese Geschwindigkeit kann entsprechend
der Ausleuchtung der Maske MK, der radialen Breite der bogenförmigen Schlitzöffnung und der Empfindlichkeit
des Photolacks verändert werden. Dieses Gerät ist besonders für das Drucken bzw. Aufzeichnen von
feinen Mustern brauchbar.
Bei dem bisher beschriebenen optischen System wurden 1 bis 3 sphärische Spiegel verwendet; es ist
ersichtlich, daß zwei, drei oder mehr sphärische Spiegel verwendet werden können. Die Krümmungsradien
der sphärischen Spiegel brauchen nicht immer einander gleich sein. Beispielsweise kann der Radius des
Kreisbogens dadurch verändert werden, daß der Radius des Spiegels R- i-n Fig. 5a verändert wird.
Mit der Erfindung ist ein optisches System zur Abbildung eines Punktobjekts oder eines Bogenobjekts
als bogenförmiges Bild bzw. Punkt-Bild geschaffen. Dieses optische System hat einen bandförmigen
sphärischen Spiegel, der durch Abschneiden eines konkaven sphärischen bzw. Kugelspiegels gebildet ist.
Mittels des bandförmigen sphärischen Spiegels kann ein Punktobjekt, das an einer vom Krümmungsmittelpunkt
verschiedenen Stelle der RotationsSymmetrieachse
angeordnet ist, in Bogenform an einer bestimmten, zur RotationsSymmetrieachse senkrechten Fläche abgebildet werden. Umgekehrt kann ein bogenförmiges
Objekt an der bestimmten Fläche als Punkt-Bild an
ou der Stelle abgebildet werden, an der das Punktobjekt
angeordnet war.
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Claims (4)
- Patentansprüche( 1. Optisches Abbildungssystem, bei dem ein konkaver sphärischer Spiegel verwendet wird, gekennzeichnet durch einen bandförmigen sphärischen Spiegel (2), der durch optisches Äbteilen des konkaven sphärischen Spiegels (1) gebildet ist und der Meridional-Lichtstrahlen von einem Punktobjekt (5) an einem von dem Krümmungsmittelpunkt (4) der sphärischen Fläche des sphärischen Spiegels verschiedenen Punkt der Rotations-Symmetrieachse (3) an einer vorbestimmten, zur Rotationssymmetrieachse senkrechten Fläche (10) abbildet, während Sagittal-Lichtstrahlen nicht abgebildet werden, so daß an der vorbestimmten Fläche ein bogenförmiges Bild (6) mit dem Mittelpunkt an der Rotationssymmetrieachse25 erzielbar ist.
- 2. Optisches Abbildungssystem, bei dem ein konkaver sphärischer Spiegel verwendet wird, gekennzeichnet durch einen bandförmigen sphärischen Spiegel (2), der durch optisches Abteilen des konkaven sphärischen Spiegels (1) gebildet ist und der die Hauptstrahlen von jeweiligen Punkten an einem vorbestimmten bogenförmigen Objekt (6), dessen Mittelpunkt auf der Rotationssymmetrieachse (3) liegt, an einer zur Rotationssymmetrieachse senkrechten vorbestimmten Fläche an einem vom909839/685S2 2310280 Bι Krümmungsmittelpunkt (4) der sphärischen Fläche des sphärischen Spiegels verschiedenen Punkt (5) an der Rotationssymmetrieachse sammelt, so daß die Meridional-Lichtstrahlen von dem bogenförmigen Objekt an dem Punkt an der RotationsSymmetrieachse abgebildet werden.
- 3. Optisches Abbildungssystem zum Umwandeln einer Punktlichtquelle in ein Bogenlichtquellen-Bild, gekennzeichnet durch eine Punktlichtquelle (5, 11; 15), einen bandförmigen sphärischen Spiegel (12; R.), der durch optisches Abteilen eines konkaven sphärischen Spiegels gebildet ist, wobei die Punktlichtquelle im wesentlichen an einen vom Krümmungsmittelpunkt verschiedenen Punkt an der RotationsSymmetrieachse des bandförmigen sphärisehen Spiegels angeordnet ist, und eine Beleuchtungsfläche (13; S.), die im wesentlichen senkrecht zur Rotationssymmetrieachse steht.
- 4. Aufzeichnungsvorrichtung mit einem optischen Abbildungssystem nach Anspruch 3, gekennzeichnet durcheinen Halter für eine Maske (MK), einen Halter für einen Wafer (WF), ein optisches Projektionssystem (16) zur Abbildung der Maske auf dem Wafer, eine Vorrichtung zum Bewegen der Maske und des Wafers als '-·* eine Einheit in bezug auf das Projektionssystem und eine Masken-Ausleuchteinrichtung (22) mit einer Punktlichtquelle und einer Vorrichtung zum Umwandeln der Punktlichtquelle in ein Bogenlichtquellen-Bild.909839/0855
Applications Claiming Priority (2)
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