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Entladevorrichtung zum Entfernen von granulatförmigem
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Gasbehandlungsmaterial aus einem Filtergehäuse sowie eine damit ausgestattete
Filtervorrichtung Die Erfindung betrifft eine Entladevorrichtung zum Entfernen von
granulatförmigem Gasbehandlungsmaterial aus dem Innenraum eines Filtergehäuses sowie
eine damit ausgestattete Filtervorrichtung. Die Erfindung bezieht sich damit allgemein
auf das Gebiet der Gasabscheidung und insbesondere auf Gasabscheidungsvorrichtungen
unter Verwendung von einem Feststoffsorbens für eine dampf- oder gasförmige Komponente.
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Bei Gasabscheidungsvorrichtungen, insbesondere bei denjenigen, die
auf dem kerntechnischen Gebiet zur Entfernung radioaktiver Bestandteile aus einem
Gasstrom verwendet werden, muss von Zeit zu Zeit das radioaktive sorbierende Feststoffmaterial
aus der Vorrichtung vor erneuter Bestückung derselben mit frischem nicht verunreinigtem
Feststoffsorbens entfernt werden. Dabei ist es nicht nur wichtig, dass das gesamte
radioaktive sorbierende Feststoffmaterial beseitigt wird, sondern auch dass die
Beseitigung ohne Verunreinigung der Umgebung oder der nahestehenden Anlagen und
des Personals erfolgt. Ein weiterer Gesichtspunkt ist der, dass das verunreinigte
radioaktive Sorbens rasch entfernt werden muss, um die kostspielige Stillstandszeit
der Gasabscheidungsvorrichtung kurz zu halten.
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Die erfindungsgemässe Entladevorrichtung zum Entfernen von granulatförmigem
sorbierenden Feststoffmaterial für die Gasbehandlung aus dem Innenraum von einem
Filtergehäuse erfüllt diese Anforderungen und ist dabei unkompliziert sowie preisgünstig
in der Herstellung als auch im Unterhalt.
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Die erfindungsgemässe Vorrichtung ist gekennzeichnet durch: eine Einrichtung,
die einen Förderkanal für das Gasbehandlungsmaterial bildet, der in dem Filtergehäuse
nahe dessen Boden angeordnet ist und sich längs des Filtergehäuses erstreckt, wobei
der Innenraum des Kanals zum Innenraum des Gehäuses längs der longitudinalen Seiten
der kanalbildenden Einrichtung offen ist; eine Einrichtung, die eine Fördergas-Einlassöffnung
in einer Wand des Filtergehäuses zum Innenraum der kanalbildenden Einrichtung an
einem Ende derselben bildet; und eine Einrichtung, die eine Auslassöffnung für das
Gasbehandlungsmaterial und Fördergas aus dem Innenraum der kanalbildenden Einrichtung
in der Filtergehäusewand am anderen Ende der kanalbildenden Einrichtung vorsieht,
wobei die Auslassöffnung eine grössere Fläche als die Einlassöffnung hat.
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Weiter wird durch die Erfindung eine Filtervorrichtung geschaffen,
die sich durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 11 auszeichnet.
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Die Entladevorrichtung zum Entfernen von granulatförmigem Filtermaterial
aus einem Filtergehäuse weist somit einen Förderkanal für das Gasbehandlungsmaterial
auf, der in einem Filtergehäuse angeordnet ist und sich längs der Gehäuses nahe
dessen Boden erstreckt. Die gegenüberliegenden Enden des Kanals sind an den gegenüberliegenden
Wänden des Filtergehäuses befestigt, und der Kanalinnenraum ist zum Innenraum des
Filtergehäuses nur längs seiner longitudinalen Seiten offen. Eine Einlassöffnung
für ein Fördergas ist in einer Gehäusewand ausgebildet und öffnet sich in den Innenraum
des Kanals an dessen einen Ende. Eine Auslassöffnung für das Gasbehandlungsmaterial
und Fördergas ist in der gegenüberliegenden Gehäusewand ausgebildet und öffnet sich
ebenfalls in den Innenraum des Kanals an dessen anderen Ende.
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Die Filtervorrichtung weist ein Filtergehäuse mit einem Umhüllungsbereich
für die Gasbehandlung und einem Trichterbereich auf, der unterhalb des Umhüllungsbereiches
angeordnet ist und sich zu diesem hin öffnet. Der Umhüllungsbereich umschliesst
eine Vielzahl von beabstandeten Filterzellen, die mit granuliertem Gasbehandlungsmaterial
gefüllt werden. Die Filterzellen sind zum Trichterbereich hin offen. Ein Förderkanal
für das Gasbehandlungsmaterial ist im Trichterbereich des Gehäuses nahe dessen Boden
angeordnet und erstreckt sich längs des Trichterbereiches. Der Innenraum des Kanals
steht mit dem Innenraum des Trichterbereiches nur längs der longitudinalen Kanalseiten
in Verbindung. Ferner ist eine Fördergas-Einlassöffnung in einer Wand des Trichterbereiches
ausgebildet und mündet in den Innenraum des Kanals an dessen einen Ende, während
eine Auslassöffnung für das Gasbehandlungsmaterial und Fördergas in der gegenüberliegenden
Wand des Trichterbereiches vorgesehen ist und ebenfalls in den Innenraum des Kanals
an dessen anderen Ende einmündet.
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Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der Zeichnung nachfolgend
näher erläutert , wobei in der Zeichnung gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen
versehen sind. Es zeigen: Fig. 1 eine isometrische teilweise geschnittene Ansicht
von einer die Erfindung enthaltenen Filtervorrichtung, Fig. 2 eine quergeschnittene
Ansicht längs der Linie 2-2 in Fig. 1, Fig. 3 ' eine horizontal geschnittene Ansicht
längs der Linie 3-3 in Fig. 1, Fig. 4 eine vergrösserte Teilendansicht längs der
Linie 4-4 in Fig. 1, Fig. 5 eine vergrösserte Teilendansicht längs der Linie 5-5
in Fig. 1, Fig. 6 eine isometrische teilweise geschnittene Ansicht von einer anderen
die Erfindung aufweisenden Filtervorrichtung, Fig. 7 eine quergeschnittene Ansicht
längs der Linie 7-7 in Fig. 6, Fig. 8 eine vergrösserte Teilendansicht längs der
Linie 8-8 in Fig. 6, Fig. 9 eine vergrösserte Teilendansicht längs der Linie 9-9
in Fig. 6, Fig. 10 eine längsgeschnittene Ansicht längs der Linie 10-10 in Fig.
1 und 10-10 in Fig. 6,
Fig. 11 eine vergrösserte isometrische fragmentarische
Ansicht der Erfindung, und Fig. 12 eine schematische Darstellung von einem die Erfindung
aufweisenden Filtergehäuse in Verbindung mit einem pneumatischen Fördersystem.
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Fig. 1 zeigt eine aufladbare Gasfiltervorrichtung 10, die sich insbesondere
zur Entfernung von radioaktiven Bestandteilen aus einem Gasstrom in der Kerntechnik
eignet. Die Filtervorrichtung 10 umfasst ein Gehäuse 11 mit einem oberen Umhüllungsbereich
12 für die Gasbehandlung und einem unteren trichterförmigen Bereich 14, der zum
Umhüllungsbereich 12 offen ist.
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Eine Vielzahl von in Abstand voneinander liegenden Filterzellen 16
ist in dem oberen Umhüllungsbereich 12 für die Gasbehandlung angeordnet. Jede Filterzelle
16 weist eine ebene vordere und hintere Wand 18 bzw. 20 auf, die mit kleinen öffnungen
versehen sind und parallel in Abstand zueinander liegen1 sowie eine offene obere
Fläche 22, geschlossene Endflächen 24 und 26 und eine offene Bodenfläche 28. Die
Filterzellen 16 sind vertikal in dem Umhüllungsbereich 14 für die Gasbehandlung
angeordnet, wobei die durchlöcherten-Wände 18, 20 von jeder Filterzelle parallel
in Abstand zu benachbarten Filterzellen liegen und die offenen unteren Flächen 28
von jeder Filterzelle zum Trichterbereich 14 der Filtervorrichtung weisen und dahin
offen sind. Eine Vielzahl von abwechselnden Einlasspassagen 30 für verschmutztes
Gas und Auslasspassagen 32 für reines Gas wird zwischen den beabstandeten Filterzellen
16 gebildet.
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Der Umhüllungsbereich 12 der Gasfiltervorrichtung umfasst eine Vielzahl
von Schmutzgaseinlassöffnungen 34, die in ihrer aufstromseitigen Wand 36 ausgebildet
sind, wobei jeweils eine Einlassöffnung 34 mit einer Schmutzgaseinlasspassagen 30
in Verbindung steht. Ebenfalls ist in der abstromseitigen Wand 40 des Umhüllungsbereiches
12 eine Vielzahl von Reingasauslassöffnungen 38 ausgebildet, die ebenfalls jeweils
mit
einer Reingasauslasspassagen 32 in Verbindung stehen.
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Die Einrichtung zur Füllung der Filterzellen 16 mit nicht verschmutztem
sorbierenden Feststoffmaterial für die Gasbehandlung, insbesondere granulierte Holzkohle
oder Aktivkohle, kann in dem Umhüllungsbereich 12 der Filtervorrichtung 10 angeordnet
sein. Eine solche Auffülleinrichtung ist in den Figuren beispielsweise in Form einer
Vielzahl von öffnungen 42 in der Oberwand 44 des Gasbehandlungsbereiches 12 wiedergegeben.
Jede öffnung 42 kann durch einen Deckel 45 verschlossen werden, der sich praktisch
durch jede beliebige konventionelle Einrichtung an seiner Anordnungsstelle fixieren
lässt. Ferner kann jede beliebige Auf fülleinrichtung für das feste Sorbens verwendet
werden. Da die Auffülleinrichtung jedoch nicht Teil der Erfindung ist, wird sie
nachfolgend nicht näher erläutert.
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Weiter hat gemäss Fig. 1 und 2 der Trichterbereich 14 der Filtervorrichtung
10 wenigstens zwei einander zugewandte Wände 16 und 18, die sich nach unten aufeinander
zu neigen und an ihren nach unten weisenden Kanten einander schneiden, wie dies
bei 50 angedeutet ist, so dass im Querschnitt eine V-förmige Konfiguration vorliegt.
Der V-förmige Trichterbereich 14 ist symmetrisch in Bezug auf den Umhüllungsbereich
12 angeordnet.
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Vorzugsweise handelt es sich bei der geneigten Wand 46 um diejenige
Wand des#Trichterbereiches 14, die der aufstromseitigen Wand 36 des Umhüllungsbereiches
12 benachbart ist und bei der geneigten Wand 48 des Trichterbereiches 14 um diejenige,
die der abstromseitigen Wand 40 des Umhüllungsbereiches 12 benachbart ist, so dass
der Schnittpunkt der geneigten Wände 46 und 48 quer zu den ebenen die Vorder- und
Hinterseite bildenden durchlöcherten Wänden 18 und 20 der Filterzellen 16 ausgerichtet
ist.
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Nach Fig. 1 und 2 befindet sich eine Einrichtung z.B. in Form einer
länglichen Leitplatte 52 im Trichterbereich 14, die mit den geneigten Wänden 46,
48 des Trichterbereiches 10 dergestalt zusammenwirkt, dass ein Förderkanal für das
Gasbehandlungsmaterial
gebildet wird. Die längliche Leitplatte
52 liegt in Abstand oberhalb des Schnittpunktes 50 der geneigten Wände 46, 48 des
Trichterbereiches 14. Die Leitplatte 52 hat vorzugsweise eine winkelförmige Querschnittsgestalt,
wobei der Scheitelpunkt des Winkels auf gleicher Ebene wie der Schnittpunkt 50 der
geneigten Wände 46, 48, jedoch von diesem nach oben weg weisend liegt. Der von der
winkelförmigen Leitplatte eingeschlossene Win]el beträgt vorteilhafterweise
etwa 900. Die Leitplatte 52 erstreckt sich vollständig über den Trichterbereich
14 und ist mit ihrem einen Ende 56 an einer Seitenwand 58 des Gehäuses 11 und mit
ihrem anderen Ende 60 an der gegenüberliegenden Seitenwand 62 des Gehäuses 11 befestigt.
Die Leitplatte 52 besitzt zwei im wesentlichen parallele Längskanten 64 und 66.
Die Längskante 64 der Leitplatte 52 liegt in Abstand nahe der geneigten Wand 48.
Daher werden zwei zueinander parallele Längsschlitze 68 und 70 gebildet, wobei der
Schlitz 68 zwischen der Längskante 64 der Leitplatte und der geneigten Trichterwand
46 und der Schlitz zwischen der Längskante 66 der Leitplatte und der geneigten Trichterwand
48 ausgebildet ist. Diese länglichen Schlitze 68 und 70 liegen parallel zum Schnittpunkt
50 der geneigten Trichterwände 46 und 48. Der Innenraum 72 des Förderkanals für
das Gasbehandlungsmaterial steht daher mit dem Innenraum des Trichterbereiches 12
nur über die länglichen Schlitze 68 und 70 in Verbindung.
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Nach Fig. 1, 4 und 5 ist in der Seitenwand des Filtergehäuses eine
Einlassöffnung 74 für das Fördergas ausgebildet, die sich in den Innenraum 72 des
Kanals an einem seiner Enden öffnet. Ebenfalls ist ein Auslass für das Gasbehandlungsmaterial
und das Fördergas in der gegenüberliegenden Seitenwand 62 des Filtergehäuses ausgebildet,
der sich in den Innenraum 72 des Kanals an seinem anderen der Einlassöffnung 74
gegenüberliegenden Ende öffnet. Die Auslassöffnung 76 für das Gasbehandlungsmaterial
und Fördergas hat eine grössere Fläche als die Einlassöffnung 74 für das-Fördergas,
so dass im Kanalinnenraum
72 nahe dem Einlass 74 ein grösserer
Unterdruck als am anderen Ende des Kanalinnenraumes 72 nahe dem Auslass 76 erzeugt
wird. Die Einlassöffnung 74 hat eine vorzugsweise rechteckförmige Umfangsgestalt,
während die Umfangsgestalt der Auslassöffnung 76 oval ist; jedoch können auch andere
Formgebungen vorgesehen werden. Vorzugsweise ist der Fördergaseinlass 74 so angeordnet,
dass wenigstens 50 % seiner Fläche in dem Bereich am Ende des Kanals liegt, der
von einer imaginären Querlinie A-A (vgl. Fig. 4),die durch die beiden Längskanten
64, 66 der winkelförmigen Leitplatte 56 geht, den geneigten Flächen der winkelförmigen
Leitplatte und der Spitze der winkelförmigen Leitplatte 52 begrenzt wird.
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Ebenfalls ist die Auslassöffnung 76 für das Gasbehandlungsmaterial
und das Fördergas so angeordnet, dass wenigstens 50 % ihrer Fläche in dem Bereich
am anderen Ende des Kanals liegt, der durch eine imaginäre Querlinie B-B (vgl. Fig.
5),die die beidenLängskanten 64, 66 der winkelförmigen Leitplatte 52 schneidet,
den geneigten Flächen der Leitplatte 52 und der Spitze der Leitplatte 52 begrenzt
wird. Vorzugsweise sollte ferner der Schnittpunkt 50 der geneigten Trichterwände
46 und 48 so liegen, dass sich diese praktisch tangential zur Auslassöffnung 76
erstrecken.
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Nach Fig. 10 und 11 weist die Fördergas-Einlassöffnung 74 eine sich
verjüngende Düse 78 auf, wobei die öffnung 74 die Auslassöffnung der Düse 78 ist.
Die sich verjüngende Düse 78 sitzt in einer geeigneten öffnung in der Gehäuseseitenwand
58 und ist an der Seitenwand 58 z.B. durch Auschweissen befestigt.
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Nach Fig. 10 kann ein Kragen 80 längs des Umfanges der Gasbehandlungs-
und Fördergas-auslassöffnung 76 befestigt sein, so dass damit ein pneumatischer
Schlauch verbunden werden kann.
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Fig. 6 und 7 zeigen eine weitere vorteilhafte Filtervorrichtung 110,
die ebenfalls auf dem kerntechnischen Gebiet zur Entfernung von radioaktiven Bestandteilen
aus einem Gasstrom geeignet ist Die Filtervorrichtung 110- umfasst ein Gehäuse 111
mit einem oberen Umhüllungsbereich 112 für die Gasbehandlung und einem unteren Trichterbereich
114, der sich zum Umhüllungsbereich 112 öffnet.
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Eine Vielzahl von Filterzellen 16 ist in dem oberen Umhüllungsbereich
112 wie bei dem vorbeschriebenen Filtergehäuse 11 angeordnet. Diese Filterzellen
bilden ebenfalls zwischen sich eine Vielzahl von aufeinander abwechselnden Schmutzgas-Einlasspassagen
30 und Reingas-Auslasspassagen 32.
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Der Umhüllungsbereich 112 für die Gasbehandlung der Filtervorrichtung
110 weist eine Vielzahl von Schmutzgas-Einlassöffnungen 134 auf, die in ihrer aufstromseitigen
Wand 136 ausgebildet sind, wobei jede Schmutzgas-Einlassöffnung 134 mit einer der
Schmutzgas-Einlasspassagen 30 in Verbindung steht. Ebenfalls ist eine Vielzahl von
Reingas-Auslassöffnungen 138 in der abstromseitigen Wand 140 des Umhüllung-sbereiches
112 ausgebildet, wobei jede Reingas-Auslassöffnung 138 mit einer der Reingas-Auslasspassagen
32 in Verbindung steht.
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Wie die Filtervorrichtung 10 hat auch die Filtervorrichtung 110 eine
Einrichtung zum Bestücken oder Füllen der Filterzellen 16 mit frischem oder nicht
verunreinigtem sorbierenden Feststoffmaterial. Die Bestückungseinrichtung ist hier
beispielsweise in Form einer Vielzahl von Öffnungen 42 in der oberen Wand 114 des
Gasbehandlungsbereiches 112 wiedergegeben. Jede öffnung 42 kann mit einem Deckel
45 verschlossen werden. Da die Bestückungseinrichtung nicht Teil der Erfindung darstellt
und da eine Vielzahl von derartigen Einrichtungen zum Eingeben eines Feststoffsorbens
vorgesehen werden kann, erübrigt sich eine weitere Diskussion.
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Wie in den Fig. 6 und 7 gezeigt, besitzt der Trichterbereich 114 der
Filtervorrichtung 110 wenigstens zwei einander zuweisende Wände 146 und 148, die
sich nach unten in Richtung aufeinander zu von ihren Befestigungsstellen an der
aufstromseitigen Wand 136 bzw. abstromseitigen Wand 140 am Umhüllungsbereich 112
neigen. Die geneigten Wände 146 und 148 enden jeweils an distalen Enden 147 bzw.
149. Eine längliche wannenförmige Einrichtung 151 mit einem im wesentlichen rechteckförmigen
Querschnitt ist zwischen den distalen Enden 147 und 149 der geneigten Wände 146
und 148 angeordnet und mit diesen Enden verbunden oder daran integral angeformt,
Die längliche Wanneneinrichtung 151 ist zum Innenraum des Trichterbereiches 114
offen und erstreckt sich vollständig längs des Trichterbereiches von einer Seitenwand
158 des Filtergehäuses 111 bis zu dessen anderen Seitenwand 152, wobei die Längsachse
der länglichen Wanne 151 quer zu den ebenen durchlöcherten Flächen 18 und 20 der
im oberen Umhüllungsbereich 112 für die Gasbehandlung angeordneten Filterzellen
16 liegt.
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Wie weiter Fig. 6 und 7 zeigen, ist eine Einrichtung z.B.
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in Form einer länglichen Leitplatte 52 in der Wanne 151 angeordnet,
die zusammen mit den Wänden der Wanne 151 einen Förderkanal für das Gasbehandlungsmaterial
bildet. Die längliche Leitplatte 52 hat vorzugsweise eine winkelförmige Querschnittsgestalt,
wobei der Winkelscheitelpunkt nach oben aus der Wanne 151 in Richtung auf die darüber
im Umhüllungsbereich 112 angeordneten Filterzellen 16 ragt. Die Leitplatte 52 erstreckt
sich vollständig längs des Trichterbereiches 114 und damit über die volle Länge
der Wanne 151 und ist mit ihrem einen Ende 56 an einer Seitenwand 158 des Gehäuses
111 und mit ihrem anderen Ende 60 an der gegenüberliegenden Gehäuseseitenwand 162
befestigt. Die Längskante 64 der Leitplatte 52 steht in Abstand von der benachbarten
Wand der Wanne 151 ebenso wie die andere Längskante 66 der länglichen Leitplatte
52. Dadurch werden zwei zueinander parallele längliche Schlitze 68 und 70 gebildet,
wobei der Schlitz 68 zwischen der longitudinalen Leitplattenkante 64 und der
benachbarten
Wand der Wanne 151 und der Schlitz 70 zwischen der longitudinalen Leitplattenkante
66 und der benachbarten Wand der Wanne 151 vorliegt. Der Innenraum 72 des Förderkanals
ist somit zum Innenraum des Trichterbereiches 112 nur über die länglichen Schlitze
68 und 70 offen bzw. verbunden.
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Nach Fig. 6, 8 und 9 ist in der Seitenwand 158 des Filtergehäuses
eine Fördergas-Einlassöffnung 74 ausgebildet, die sich in den Innenraum 72 des Kanals
an einem Kanalende öffnet.
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Ebenfalls ist in der gegenüberliegenden Seitenwand 162 des Filtergehäuses
ein Auslass 76 für das Gasbehandlungsmaterial und das Fördergas ausgebildet, der
sich in den Innenraum 72 des Kanals gegenüber dem Einlass 74 öffnet. Die Auslassöffnung
76 hat eine grössere Fläche als die Einlassöffnung 74, so dass im Kanalinnenraum
72 nahe der Einlassöffnung 74 ein grösserer Unterdruck als an dem anderen der Auslassöffnung
76 zugewandten Ende des Kanalinnenraumes 72 hervorgerufen wird.
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Die Einlassöffnung 74 für das Fördergas hat vorzugsweise eine rechteckförmige
Umfangsgestalt, während die Auslassöffnung 76 einen ovalen Umfang besitzt; jedoch
können auch andere Formgebungen vorgesehen werden. Vorzugsweise ist die Einlassöffnung
74 so angeordnet, dass wenigstens 50 % ihrer Querschnittsfläche in dem Bereich am
Ende des Kanals liegt, der von einer imaginären Querlinie C-C (vgl. Fig. 8), die
durch die longitudinalen Kanten 64 und 66 der winkelförmigen Leitplatte 52 geht,
den geneigten Flächen der Leitplatte 52 und dem Scheitelpunkt der Leitplatte umschlossen
wird. Ebenfalls ist die Auslassöffnung 76 für das Gasbehandlungsmaterial und Fördergas
so angeordnet, dass wenigstens 50 % ihrer Querschnittsfläche in dem Bereich am anderen
Ende des Kanales liegt, der von einer imaginären Querlinie D-D (vgl. Fig. 9), die
durch die beiden longitudinalen Kanten 64, 66 der winkelförmigen Leitplatte 52 geht,
den geneigten Flächen der Leitplatte 52 und dem Scheitelpunkt der Leitplatte 52
umschlossen ist. Weiter befindet sich die Bodenwand der Wanne 151 vorzugsweise möglichst
nahe an der Auslassöffnung 76, so dass sie sich tangential zur Auslassöffnung 76
erstreckt.
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Nach Fig. 10 und 11 ist, wie bei der Filtervorrichtung 10, die Einlassöffnung
74 der Filtervorrichtung 110 mit der sich verjüngenden Düse 78 versehen, wobei die
Einlassöffnung 74 die Auslassöffnung der Düse 78 ist. Die sich verjüngende Düse
78 ist in einer geeigneten öffnung in der Gehäuseseitenwand 158 eingesetzt und an
der Seitenwand 158 z.B. durch Verschweissen befestigt.
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Nach Fig. 10 kann längs des Umfanges der Auslassöffnung 76 für das
Gasbehandlungsmaterial und Fördergas ein Kragen 80 befestigt sein, so dass sich
damit ein pneumatischer Schlauch verbinden lässt.
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InFig.l2betrifft das allgemeine Bezugszeichen 210 ein pneumatisches
System zur Entfernung des Gasbehandlungsmaterials in Form einer geschlossenen Schleife,
das entweder die Gasfiltervorrichtung 10 oder 110 umfasst. Das System 210 weist
ein Gebläse 213 auf, dessen Auslass oder Druckseite 215 wirkungsmässig mit der Einlassöffnung
74 für das Fördergas bzw. mit dem Innenraum 72 des Förderkanals der Filtervorrichtung
10, 110 über z.B. eine Fördergasleitung 217 verbunden ist. Die Einlass- oder Ansaugseite
219 des Gebläses 213 ist wirkungsmässig mit dem Auslass 76 für das Gasbehandlungsmaterial
und Fördergas des Innenraumes 72 des Förderkanals der Filtervorrichtung 10, 110
über z.B. eine Fördergasleitung 221 verbunden. Zwischen dem Gebläseeinlass 219 und
dem Auslass 76 ist an der Fördergasleitung 221 eine behälterförmige Vorrichtung
223 zum Abscheiden des verunreinigten Gasbehandlungsmaterials und wenigstens eine
hochleistungsfähige Gasfiltervorrichtung 225 angeordnet.
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Die Fördergasleitung 221 besteht aus drei Abschnitten. 227, 229 und
231. Der erste Abschnitt 227 verbindet die Auslassöffnung 76 mit der Abscheidungs-
und Sammelvorrichtung 223.
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Das Ende 231 der Leitung 221 das mit der Abscheidungs- und Sammelvorrichtung
223 verbunden ist, erstreckt sich durch
die Oberseite 233 der Vorrichtung
223 um eine kurze Wegstrecke nach unten in deren Innenraum. Der zweite Leitungsabschnitt
229 verbindet die Vorrichtung 223 mit der Gasfiltervorrichtung 225. Das mit der
Vorrichtung 223 verbundene Ende 235 des Filterabschnittes 229 ragt ebenfalls durch
die Oberseite 223 hindurch und um eine kurze Wegstrecke nach unten inden Vorrichtungsinnenraum
hinein. Das andere Ende 237 des zweiten Leitungsabschnittes 229 endet an der-Auf
stromseite 239 der Gasfiltervorrichtung 225. Der dritte Leitungsabschnitt 231 verbindet
die Abstromseite 241 der Filtervorrichtung 225 mit dem Niederdruckeinlass 219 des
Gebläses 213.
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Um beim Betrieb verunreinigtes sorbierendes Feststoffmaterial für
die Gasbehandlung (in der Zeichnung punktiert angedeutet) aus dem Filtergehäuse
11, 111 herauszunehmen 6der zu entfernen, wird das Gebläse 213 eingeschaltet, um
eine Strömung von einem Hochdruckfördergas,z#B. Luft,zu erhalten. Diese Hochdruck
strömung wird durch die Einlassöffnung 74 für das Fördergas in den Innenraum 72
des Förderkanals für das Gasbehandlungsmaterial geleitet. Wenn der Fördergasstrom
durch die Förderdüse 79 und in den Innenraum 72 des Kanals gelangt, wird er beschleunigt.
Bei der Strömung des Fördergasstromes längs des Kanalinnenraumes zur Auslassöffnung
76 saugt er das sorbierende Feststoffmaterial für die Gasbehandlung in den Trichterabschnitt
14, 114 über die longitudinalen Schlitze 68, 70 in den Innenraum 72 des Förderkanals
zunächst an dem der Ein#lassöffnung 74 zugewandten Kanalende und dann fortschreitend
längs der gesamten Kanallänge an. Der beschleunigte Fördergasstrom bewirkt in dem
nahe der Einlassöffnung 74 befindlichen Kanalinnenraum, dass ein Teil des statischen
Gasdruckes an dieser Stelle in einen dynamischen Druck umgewandelt wird, wodurch
der statische Unterdruck zunimmt.
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Daher befindet sich im Kanalinnenraum 72 nahe der Einlassöffnung 74
ein grösserer statischer Unterdruck als in Richtung auf das andere der Auslassöffnung
76 zugewandte Ende des Kanalinnenraumes
72,und dies bewirkt, dass
der Trichter von dem der Einlassöffnung 74 benachbarten Ende aus zunächst entleert
wird. Würde der statische Unterdruck im Kanalinnenraum 72 längs seiner Länge konstant
oder nahe der Auslassöffnung 76 grösser als nahe der Einlassöffnung 74 sein, so
würde das sorbierende Feststoffmaterial für die Gasbehandlung in den Kanalinnenraum
72 zunächst nahe der Auslassöffnung 76 eingesaugt werden, doch fände kein progressives
Ansaugen in den Kanalinnenraum 72 längs der longitudinalen Schlitze 68, 70 in Richtung
auf die Einlassöffnung 74 statt und würde das Gebläse 213 stattdessen lediglich
Luft ansaugen. Das Gasbehandlungsmaterial im Kanalinnenraum 72 wird durch den Fördergasstrom
aus dem Kanalinnenraum 72 durch die Auslassöffnung 76 infolge der Saugwirkung in
der Fördergasleitung 221 herausgetragen, da die Fördergasleitung 221 mit der Ansaugseite
des Gebläses 215 verbunden ist. Das von dem Fördergas mitgerissene Gasbehandlungsmaterial
strömt durch den ersten Leitangsabschnitt 227 zur Abscheider- und Sammelvorrichtung
223.
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Das Gas mit dem darin befindlichen Gasbehandlungsmaterial verlässt
den ersten Leitungsabschnitt 227 an dessen nach unten ragendem offenen Ende 231
und gelangt in den Innenraum der Abscheider-und Sammelvorrichtung 223. Da das offene
Ende 235 des zweiten Leitungsabschnittes 229 mit einem nicht gezeigten Material
zum Abscheiden teilchenförmiger Materie bedeckt ist, wird im wesentlichen das gesamte
feste sorbierende Gasbehandlungsmaterial aus dem Fördergasstrom abgeschieden. Der
nunmehr relat frei von festem sorbierenden Gasbehandlungsmaterial befindliche Fördergasstrom
läuft durch den zweiten Leitungsabschnitt 229 zur Auf stromseite 230 der Gasfiltervorrichtung
225 und gelangt von der Aufstromseite 239 durch die Gasfiltervorrichtung 225 zu
deren Abstromseite 241, so dass irgendwelches verbleibendes Gasbehandlungsmateria#l
aus dem Fördergasstrom abgeschieden wird. Nach Austritt an der Abstromseite 241
der Filtervorrichtung 239 gelangt der Fördergasstrom in den dritten Leitungsabschnitt
231 und strömt längs dieses Abschnittes zur Einlass-oder Ansaugseite 219 des Gebläses
213, von wo aus er durch das pneumatische Fördersystem 210 erneut geführt wird.
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Wenn die Abscheider- und Sammelvorrichtung 223 für das Gasbehandlungsmaterial
mit diesem gefüllt ist, wird das Gebläse 213 vorübergehend abgeschaltet. Die Oberseite
233 wird von dem Abscheiderbehälter 223 entfernt und diese dann von dem pneumatischen
Fördersystem 210 weggenommen. Eine leere Abscheider- und Sammelvorrichtung 223 wird
anstelle der entfernten angeordnet und die Oberseite 233 auf die leere Abscheider-
und Sammelvorrichtung 223 gesetzt. Danach wird das Gebläse wieder eingeschaltet
und der vorbeschriebene Prozess weiter durchgeführt.