DE2820678C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2820678C2 DE2820678C2 DE2820678A DE2820678A DE2820678C2 DE 2820678 C2 DE2820678 C2 DE 2820678C2 DE 2820678 A DE2820678 A DE 2820678A DE 2820678 A DE2820678 A DE 2820678A DE 2820678 C2 DE2820678 C2 DE 2820678C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- glass
- silicon
- glasses
- metal oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 55
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 15
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3482—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising silicon, hydrogenated silicon or a silicide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Wärmestrahlung reflektierendes
Glas gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Seit einigen Jahren hat sich der Einsatz von Wärmestrahlung
reflektierenden Gläsern als Verglasungen im wesentlichen
Umfang durchgesetzt, weil mit derartigen Gläsern ein wirtschaftliches
Beheizen und Kühlen von Gebäuden und Fahrzeugen
ermöglicht wird und im Inneren der Gebäude und Fahrzeuge
eine angenehme Umgebung gewährleistet wird. Ferner wird
der durch derartige Verglasungen erzeugte Spiegeleffekt in
der architektonischen Gestaltung ausgenutzt.
Konventionelle Gläser mit diesen Eigenschaften sind im allgemeinen
mit einem Metallfilm aus Chrom, Aluminium, Nickel,
Kupfer, Silber, Gold überzogen oder es werden gefärbte
Gläser verwendet, die mit einem Metalloxidfilm (Fe, Co, Cr,
Ni, Ti, Sn) überzogen sind. Um mit derartigen Gläsern
eine angenehme Innenraumatmosphäre zu erhalten, ist es erforderlich,
daß der Transmissionsfaktor für sichtbare Strahlung
oberhalb 25% liegt. Diese Bedingung läßt sich bei den
konventionellen Gläsern in befriedigender Weise nur mit
einer Gold- oder Kupferschicht erreichen. Allerdings besitzen
diese Schichten eine geringe Widerstandsfähigkeit gegenüber
mechanischen und chemischen Einwirkungen. Somit sind beim
Einsatz derartiger Gläser besondere Schutzvorkehrungen zu
treffen. Hierzu verwendet man häufig zusätzliche Scheiben,
welche unmittelbar vor der Metallschicht angeordnet werden
und somit diese gegenüber Abrieb und witterungsbedingten
Einflüssen schützen.
Schließlich ist es bekannt (DE-OS 25 26 209), Gläser mit
einem Überzug zu versehen, der aus elementarem Silicium
besteht. Damit erhält man einen dauerhaften Überzug, mit
dem die Sonnenstrahlung bzw. deren Durchlässigkeit beeinflußt
werden kann. Hierbei handelt es sich allerdings nicht
um ein sog. Wärmeglas, welches mit einer Metalloxidschicht
versehen ist.
Schließlich sind Gläser mit mehreren Schichten bekannt
(US-PS 39 78 272), bei denen auf dem Glassubstrat eine
Schicht aus Silber und darauf eine weitere Schicht aus
einem Metalloxid aufgebracht wird. Nach der DE-OS 26 02 256
wird eine Glasoberfläche derart behandelt, daß ein darauf
aufgebrachtes Metall in die kontaktierte Glasoberfläche
wandert. Als Metall wird hierfür eine Legierung auf Zinnbasis
verwendet, wobei eine Legierungskomponente gegebenenfalls
Silizium sein kann. Auch hierbei handelt es sich somit
um ein mit einer Metalloxidschicht belegtes Glas der bereits
oben geschilderten Art.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Wärmestrahlung reflektierendes
Glas zu schaffen, welches einen Transmissionsfaktor
für sichtbare Strahlung von über 25%, einen Reflexionsfaktor
für sichtbare Strahlung von über 40% sowie eine ausreichend
hohe chemische und mechanische Widerstandsfähigkeit
der aufgebrachten Schichten aufweist, so daß das Glas als
Einfachverglasung verwendet werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden
Teil des Patentanspruches 1 enthaltenen Merkmale gelöst.
Zweckmäßige Weiterbildungen der Erfindung sind durch
die in den Unteransprüchen enthaltenen Merkmale gekennzeichnet.
Durch die Verwendung der beiden erfindungsgemäß gekennzeichneten
Schichten miteinander ergibt sich ein Glas mit den
gewünschten Eigenschaften mit Hinsicht auf den Transmissions-
und Reflexionsfaktor für sichtbare Strahlung, welches zudem
eine ausreichend hohe chemische und mechanische Widerstandsfähigkeit
der aufgebrachten Schichten aufweist. Somit entfällt
das Erfordernis, vor diesen Schichten zusätzliche
Scheiben zum Schutze dieser Schichten zu verwenden. Überraschend
hat es sich hierbei gezeigt, daß das mit der Verwendung
der beiden erfindungsgemäßen Schichten erzielte
Ergebnis sich von den einzelnen Eigenschaften der einzelnen
Schichten abhebt bzw. unterscheidet, mithin das Gesamtergebnis
nicht eine bloße Addition von Eigenschaften der an sich
bekannten einzelnen Schichten darstellt.
Die erfindungsgemäß hergestellten Gläser zeigen eine höhere
Widerstandsfähigkeit als Gläser mit einer unmittelbar aufgebrachten
Metalloxidschicht auf. Dies beruht offenbar darauf,
daß die zwischen dem Glas und der Metalloxidschicht angeordnete
Schicht aus elementarem Silicium die Metalloxidschicht
vor dem Angriff der im Glas befindlichen Natriumionen
schützt. Zugleich wird die Siliciumschicht von der ausgezeichnete
optische Eigenschaften aufweisenden Metalloxidschicht
geschützt.
Vorteilhafte optische Eigenschaften und eine hohe chemische
und mechanische Widerstandsfähigkeit wird dadurch begünstigt,
wenn die zweite Schicht ein Oxidfilm von Titan, Aluminium,
Silicium oder Zinn ist. In diesem Sinne wirkt sich auch die
Maßnahme aus, daß die zweite Schicht ferner eine geringe
Menge Mangan-, Chrom- oder Eisenoxid enthält.
Für die optischen Eigenschaften ist es vorteilhaft, wenn die
zweite Schicht eine Dicke von 30 bis 50 nm aufweist.
Zwar ist es bei der Herstellung von Kaltlichtspiegeln bekannt,
eine unmittelbar auf der Glasoberfläche aufgebrachte
reflektierende Schicht aus reinstem Silicium zu verwenden,
wobei auf diese Schicht mehrere darauf aufgedampfte Dielektrikumsschichten
aus abwechselnd höher- und niedrigbrechenden
Substanzen vorgesehen sind. Damit lassen sich für
Kinoprojektoren angestrebte Reflexionsgrade von über 90%
erreichen, wobei jedoch die Herstellung derartiger Gläser
mit einem derartigen Aufwand verbunden ist, der für die
Herstellung von Gläsern, die als Verglasungen verwendet werden
sollen, nicht mehr tragbar ist. Abgesehen davon würde
die Vielzahl solcher Schichten zu besonderen Problemen mit
Hinsicht auf die Alltagstauglichkeit von Verglasungen führen.
Mithin ergeben sich daraus keine Hinweise zur Herstellung
einer dauerhaften Beschichtung für eine Einfachverglasung.
Schließlich ist es bekannt (DE-AS 26 46 513), zwischen der
Glasoberfläche und einer Metalloxidschicht eine Siliciumoxidschicht
(Si₂O₃) zu verwenden, jedoch ergibt sich daraus
kein Hinweis auf eine Schicht aus elementarem Silicium.
Für die Herstellung der erfindungsgemäßen Gläser ist es
zweckmäßig, wenn die erste Schicht aus elementarem Silicium
auf der Oberfläche eines Tafelglases in einer sauerstofffreien
Atmosphäre nach der Vakuumabscheidungsmethode oder
der Dampfphasenabscheidungsmethode aufgebracht wird. Danach
wird die zweite Schicht aufgebracht und zwar zweckmäßigerweise
in oxidierender Atmosphäre durch Aufbringen einer Lösung, die
eine zu dem vorgesehenen Metalloxid thermisch zersetzbare
Metallverbindung enthält, wobei beim Aufbringen der Lösung das
Glas auf einer Temperatur von 400 bis 640 Grad Celsius gehalten
wird.
Nachfolgend werden unter Bezugnahme auf die Figuren einige
erfindungsgemäße Beispiele beschrieben. Die Figuren zeigen
in
Fig. 1 eine Schnittansicht einer Anlage zur Herstellung von
Wärmestrahlung reflektierenden Gläsern in schematischer
Darstellung,
Fig. 2 eine Darstellung eines Wärmestrahlung reflektierenden
Glases und
Fig. 3 die optischen Eigenschaften, den Koeffizienten der
Transmission (T) und des Reflexionsvermögens (R)
der Wärmestrahlung reflektierenden Gläser im Vergleich
mit dem herkömmlichen Erzeugnis.
Aus einem Glasschmelzofen 1 fließt schmelzflüssiges Glas in
einen Behälter 3, der ein Bad von geschmolzenem Zinn 4 enthält.
In dem Behälter 3 herrscht eine Atmosphäre wasserstoffhaltigen
Stickstoffs. Das Glas wird auf dem geschmolzenen Zinn 4
von etwa 1000 auf etwa 600 Grad C abgekühlt und in ein Glasband
2 überführt.
Dann bewegt sich dieses Band, ganz von einer Ausziehwalze und
einem Walzenförderer 6 getragen, gegen einen Rollenkühlofen 7.
Dort, wo die Temperatur des Glasbandes 2 auf dem Weg durch den
Behälter 3 auf 640 bis 620 Grad C sinkt, bläst man über die
ganze Oberfläche dieses Glasbandes aus einer Leitung 8, deren
Austrittsöffnung die gesamte Breite überdeckt, ein erhitztes,
Silandämpfe enthaltendes Inertgas. Durch Zersetzung des Silans
scheidet sich ein Film 15 elementaren Siliciums auf
der Oberfläche des Glasbandes ab.
Die noch nicht zersetzten Dämpfe und die verbrauchten, aus
der Zersetzung stammenden Gase werden aus dem Metallschmelzbadbehälter
3 mit Hilfe einer Absaugleitung 9 abgesaugt.
Die Innenwand der Leitung 8 wird durch Wasserkühlung bei
etwa 50 Grad C gehalten, so daß die Silandämpfe sich dort
nicht zersetzen.
Die Leitung 8 und die Leitung 9 sind auf einem Träger 10
angebracht, der in Richtung der Breite des Glasbandes in
einstellbarer Höhe getragen wird, um den Abstand zwischen
der Austrittsöffnung der Leitung und der Glasoberfläche so
zu regeln, daß eine filmartige Schicht 15 elementaren
Siliciums vorgesehener Dicke erhalten wird.
Das mit der Siliciumschicht überzogene Glasband 2 wird
aus dem Behälter 3 abgezogen, und zu einer Station 11 zur
Abscheidung einer filmartigen Metalloxidschicht geführt.
Letztere besteht aus einer Abzugshaube 12, einer Pistole
13, die eine waagerechte alternierende Bewegung quer zur
Bewegungsrichtung des Glases ausführt, und einem Paar
Abgasleitungen 14, 14′, die an beiden Seiten der Bahn
der Pistole 13 angebracht ist.
Mit Hilfe der Pistole 13 sprüht man eine Lösung, die sich
durch thermische Zersetzung in ein Metalloxid umwandelt,
auf die Oberfläche des Glasbandes 2, das bereits mit Silicium
überzogen ist und den Abschnitt 11 mit einer Temperatur
von 640 bis 580 Grad C erreicht. So scheidet sich
eine Metalloxidschicht 16 ab. Noch unzersetzte Metallverbindungen
und Abgase werden aus dem Abscheidungsabschnitt
mit Hilfe von Abgasleitungen 14, 14′ und der
Abzugshaube 12 evakuiert.
Dann erreicht das mit der Siliciumschicht 15 und der
Metalloxidschicht 16 bedeckte Glasband 2 den Rollenkühlofen
7 und wird wie ein gewöhnliches Scheibenglas gekühlt
bzw. entspannt. Dann wird es in Wärmestrahlung
reflektierende Glasscheiben, wie in Fig. 2 angegeben,
geschnitten.
Die Leitung 8 wurde zum Beispiel dort angebracht, wo die
Oberflächentemperatur des Glasbandes 2 von 6 mm Dicke,
mit einer Geschwindigkeit von 5,5 m/min über das Zinnschmelzebad
4 gezogen, 620 Grad C betrug und sie wurde
mit wasserstoffhaltigem, mit 3,5 Volumenprozent Monosilan
SiH₄ beladenem Stickstoff bei einem Durchsatz von
120 l/min versorgt. Es wurde eine Siliciumschicht von
34 nm Dicke erhalten.
Dann wurde in der Station 11 für die Abscheidung des Metalloxidfilms,
während die Glastemperatur auf 560 Grad C
fiel, eine Xylol-Lösung zerstäubt, die 30 Volumenprozent
Titanacetylacetonat enthielt, und zwar bei einem Durchsatz
von 650 cm³/min, und es wurde unter Bedeckung der
Siliciumschicht eine Titanoxidschicht von 31 nm Dicke
erhalten. So wurde eine erfindungsgemäße Probe I erhalten.
Ebenso wurde unter Erhöhung der Zerstäubungsdosis der
Xylol-Lösung mit Titanacetylacetonat eine erfindungsgemäße
Probe II erhalten, in der der Titanoxidfilm eine
Dicke von 51 nm besaß.
Fig. 3 zeigt jeweils die Koeffizienten der Transmission,
T₁, T₂, T₃ und des Reflexionsvermögens R₁, R₂, R₃ der
Proben I und II und einer Probe eines herkömmlichen
Erzeugnisses, bei welchem Glas mit einer Siliciumschicht
durch Aufdampfen beschichtet wird. Als Gas für das Aufbringen
der Schicht auf das Glas wurde ein Gemisch aus
SiH₄ und Stickstoff verwendet.
Die optischen Eigenschaften und die Widerstandsfähigkeit
der Proben I und II und der herkömmlichen Probe finden
sich in der folgenden Tabelle:
Aus der Tabelle ist abzuleiten, daß im Vergleich mit dem
herkömmlichen Erzeugnis die Alkalibeständigkeit der Proben
I und II stark verbessert wurde. Ebenso ist aus ihr und
der Fig. 3 abzuleiten, daß die Proben I und II eine beträchtliche
Schwächung des dominierenden Brauns und eine
Erhöhung der Helligkeitstransmission mit einem Gesamt-
Transmissionsfaktor der Sonnenstrahlung, der von dem des
herkömmlichen Produktes nicht mehr so sehr verschieden
ist, aufweisen. Das reflektierte Licht ist leicht gelber,
aber das Reflexionsvermögen sinkt nur um 2 bis 3% gegenüber
dem des herkömmlichen Erzeugnisses.
Ferner unterscheidet sich der Wärmeisolationskoeffizient
der Proben I und II, der die Wärmeisolierfunktion repräsentiert,
nicht von dem des herkömmlichen Erzeugnisses, obgleich
er einen TiO₂-Film aufweist. Diese Proben zeigen
gute Leistungsfähigkeit als Wärmestrahlung reflektierendes
Glas.
Claims (4)
1. Wärmestrahlung reflektierendes Glas mit einem Gesamtreflexionsfaktor
für sichtbare Strahlung von über 40%,
einem Gesamttransmissionsfaktor für sichtbare Strahlung
von über 25% und einer ausreichend hohen chemischen und
mechanischen Widerstandsfähigkeit der aufgebrachten Schichten,
dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Schicht aus elementarem Silicium in einer
Filmdicke von 30 bis 40 nm besteht und die zweite Schicht
aus wenigstens einem der Oxide des Titan, Aluminium, Silicium,
Zinn, Wismut, Indium, Cer und Zirkonium in einer
Filmdicke von 15 bis 100 nm gebildet ist.
2. Glas nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Schicht ein Oxidfilm des Titan, Aluminium,
Silicium oder Zinn ist.
3. Glas nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Schicht außerdem eine geringe Menge Mangan-,
Chrom- oder Eisenoxid enthält.
4. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Schicht eine Dicke von 30 bis 50 nm aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5719177A JPS53141318A (en) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | Heat radiation reflecive glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2820678A1 DE2820678A1 (de) | 1978-11-30 |
DE2820678C2 true DE2820678C2 (de) | 1988-06-30 |
Family
ID=13048588
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782820678 Granted DE2820678A1 (de) | 1977-05-17 | 1978-05-11 | Waermestrahlung reflektierendes glas |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS53141318A (de) |
BE (1) | BE867126A (de) |
BR (1) | BR7803091A (de) |
DE (1) | DE2820678A1 (de) |
ES (1) | ES469931A1 (de) |
FR (1) | FR2391173A1 (de) |
IT (1) | IT1095021B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0608457A1 (de) * | 1993-01-29 | 1994-08-03 | Schott Glaswerke | Scheibenaufbau für eine Brandschutzverglasung |
CN108430943A (zh) * | 2015-12-31 | 2018-08-21 | 皮尔金顿集团有限公司 | 高强度玻璃容器 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3211753C2 (de) * | 1982-03-30 | 1985-03-28 | Interpane Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG, 3471 Lauenförde | Hochtransparenter, in Durch- als auch Außenansicht neutral wirkender und wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material sowie Verwendung des Belages |
JPS6042823A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-07 | Toshiba Corp | 薄膜形成方法 |
US4661381A (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article |
US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
DK0583871T3 (da) * | 1992-07-11 | 1997-04-21 | Pilkington Uk Ltd | Fremgangsmåde til fremstilling af reflekterende belægninger på glas og spejle fremstillet derved |
US5580364A (en) * | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
US5691838A (en) * | 1994-06-16 | 1997-11-25 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Infrared-blocking optical fiber |
EP0890556B1 (de) * | 1996-12-25 | 2002-04-24 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Dünnschicht für optik, zusammensetzung zu deren herstellung und damit hergestelltes uv-absorbierendes und wärmereflektierendes glas |
DE69935678T2 (de) * | 1998-12-22 | 2007-12-27 | Glaverbel | Schutzschicht für beschichtetes substrat |
JP2008210972A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 高周波誘導加熱用変成器 |
CN114316630B (zh) * | 2022-01-06 | 2024-03-22 | 广西七色珠光材料股份有限公司 | 一种黑色珠光颜料及其制备方法和用途 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH468014A (de) * | 1968-07-25 | 1969-01-31 | Balzers Patent Beteilig Ag | Kaltlichtspiegel |
US3846152A (en) * | 1972-05-12 | 1974-11-05 | Ppg Industries Inc | Selective reflecting metal/metal oxide coatings |
US3978272A (en) * | 1974-03-13 | 1976-08-31 | Ppg Industries, Inc. | Coated article for solar control and process for its production |
GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
CA1062969A (en) * | 1975-01-27 | 1979-09-25 | Harold E. Donley | Coating glass |
US4022947A (en) * | 1975-11-06 | 1977-05-10 | Airco, Inc. | Transparent panel having high reflectivity for solar radiation and a method for preparing same |
DE2646513C2 (de) * | 1976-10-15 | 1984-10-04 | Bfg Glassgroup, Paris | Verfahren zur Herstellung einer wärmereflektierenden Natron-Kalk-Silikatglasscheibe |
US4100330A (en) * | 1977-03-28 | 1978-07-11 | Ppg Industries, Inc. | Method for coating glass with silicon and a metal oxide and resulting product |
-
1977
- 1977-05-17 JP JP5719177A patent/JPS53141318A/ja active Pending
-
1978
- 1978-05-09 IT IT23180/78A patent/IT1095021B/it active
- 1978-05-11 DE DE19782820678 patent/DE2820678A1/de active Granted
- 1978-05-12 FR FR7814144A patent/FR2391173A1/fr active Granted
- 1978-05-16 BE BE187742A patent/BE867126A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 BR BR787803091A patent/BR7803091A/pt unknown
- 1978-05-17 ES ES469931A patent/ES469931A1/es not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0608457A1 (de) * | 1993-01-29 | 1994-08-03 | Schott Glaswerke | Scheibenaufbau für eine Brandschutzverglasung |
CN108430943A (zh) * | 2015-12-31 | 2018-08-21 | 皮尔金顿集团有限公司 | 高强度玻璃容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2820678A1 (de) | 1978-11-30 |
ES469931A1 (es) | 1979-01-16 |
IT7823180A0 (it) | 1978-05-09 |
FR2391173B1 (de) | 1982-03-26 |
FR2391173A1 (fr) | 1978-12-15 |
BE867126A (fr) | 1978-11-16 |
IT1095021B (it) | 1985-08-10 |
BR7803091A (pt) | 1979-02-20 |
JPS53141318A (en) | 1978-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2820678C2 (de) | ||
DE69813648T2 (de) | Transparentes Substrat mit mindestens einer dünner Schicht aus Siliciumnitrid oder Oxynitrid und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69210860T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen Schicht auf Metalloxidbasis auf Glas | |
DE69432827T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Glas, Verbindungen und Zusammensetzungen zum Beschichten von Glas und beschichtete Glassubstrate | |
DE60223375T2 (de) | Photoaktive lichtempfindliche beschichtungen, beschichteter gegenstand und verfahren zu dessen herstellung | |
DE69516551T2 (de) | Beschichtungen auf Glas | |
DE69305936T3 (de) | Verfahren zur Herstellung von reflektierenden Schichten auf Glas | |
EP0120408B2 (de) | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates | |
DE69910322T2 (de) | Sonnenschutzbeschichtetes Glas | |
DE69809385T2 (de) | Durchsichtiges substrat beschichtet mit mindestens einer dünnschicht | |
DE69531281T2 (de) | Glasssubstrate beschichtet mit einem Dünnschichtaufbau mit reflektierenden Eigenschaften für Infrarot- und/oder Sonnenstrahlung | |
DE60036817T2 (de) | Gegenstand aus glas mit sonnenschutzbeschichtung | |
DE602004012968T2 (de) | Verglasungsscheibe, die einen beschichtungsstapel trägt | |
DE69604132T2 (de) | Beschichtetes Substrat | |
DE69735886T2 (de) | Hitzebeständiger transparenter beschichteter glasgegenstand | |
DE69220901T3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases | |
DE68915042T2 (de) | Film mit geringerer Emission für Hochtemperaturbehandlung. | |
DE69419224T2 (de) | Glasscheibe mit einer leitenden punktionsschicht und/oder mit einer beschichtung mit niedrigem starhlungsvermögen | |
DE69222079T2 (de) | Anbringen von pyrolysierten Schichten mit verbesserter Leistung und Glasscheibe, versehen mit so einer Schicht | |
DE69422369T2 (de) | Transparentes Substrat beschichtet mit einem Metallnitridfilm | |
DE69315891T2 (de) | Glasscheibe mit einer Funktionsschicht | |
DE3329504A1 (de) | Waermewellen-abschirmlamellierung | |
DE2808780A1 (de) | Verfahren zum ueberziehen von glas mit einem silizium enthaltenden ueberzug und damit ueberzogenes glas | |
EP0024466B1 (de) | Wärmereflektionsscheibe und deren Verwendung als Aussenscheibe einer Mehrscheibenanordnung | |
DE68913968T2 (de) | Mit titansilicid beschichtete glasfenster. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: HERRMANN-TRENTEPOHL, W., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 4690 HERNE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |