DE2556144A1 - Entwicklungsverfahren und -vorrichtung fuer elektrostatische reproduktionsmaschinen - Google Patents
Entwicklungsverfahren und -vorrichtung fuer elektrostatische reproduktionsmaschinenInfo
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Description
HOFFMANN · ElTJLE & PARTNER
PATENTANWÄLTE DR. !NG. E.HOFFMANN ■ DIPL.-ING. W. EITLE · DR. RER. NAT. K. HOFFMAN N · DIPL.-ING. W. LEH N
D-8000 MÖNCHEN 81 · ARABE LLASTRASS E 4 (STERNHAUS) · TELE FON (089) 911087 · TELEX 05-29619 [PATHE)
27 52θ
2556U4
XEROX CORPORATION, Rochester N.Y. / USA
Entwicklungsverfahren und -vorrichtung für elektrostatische Reproduktionsmaschinen
Die Erfindung betrifft eine Entwicklungsvorrichtung für eine elektrostatische Reproduktionsinas chine zum Herstellen von
Kopien von einem Original mit einem fotoempfindlichen Element, auf dem latente, elektrostatische Abbildungen des Originals
geschaffen werden, und mit einer Einrichtung, um relativ trockenes, teilchenförmiges Entwicklermaterial in entwickelnde
Beziehung zum fotoempfindlichen Element zu bringen, so dass die Abbildungen auf dem fotoempfindlichen Element entwickelt
werden. Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zum Neutralisieren der Auswirkung der Umgebungsfeuchtigkeit auf die
elektrischen Eigenschaften des Entwicklers in einer elektrostatischen Reproduktionsmaschine.
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Bei einer Bauart für elektrostatische Kopier- oder Reproduktionsraaschinen
wird eine trockene, teilchenförmige Mischung als Material zur Entwicklung der elektrostatischen, latenten Abbildungen
verwendet, die während des Kopierprozesses auf dem Fotoempfänger der Maschine ausgebildet wurden. Zu diesem Zweck
werden geeignete Aufgabemittel, wie beispielsweise eine oder mehrere magnetische Bürsten, vorgesehen, um das Entwicklermaterial
in eine Wirkbeziehung zum Fotoempfänger der Maschine
zu bringen, und um die darauf befindlichen latenten, elektrostatischen Abbildungen zu entwickeln.
Das Entwicklermaterial besteht normalerweise aus relativ grossen
Trägerkörnern, die aus Metall sein können,und relativ kleineren
trockenen Färbpartikeln.
Aufgrund der tribo-elektrischen Beziehung zwischen den beiden
Bestandteilen des Entwicklermaterials haften die kleineren Färbpartikel selbsttätig an dem Träger in grosser Anzahl an. Sobald
das Entwicklermaterial in unmittelbarer Nähe zur Oberfläche des Fotoempfängers gebracht worden ist, scheiden elektrostatische
Ladungen auf dem Fotoempfänger die Färbpartikel vom Träger ab und lagern diese auf dem Fotoempfänger entsprechend dem Ladungsmuster
des latenten Bildes ab. Der ganz oder teilweise entblößte Träger kehrt zum Entwicklersumpf zurück und wird erneut
mit Färbpartikeln versehen.
Bei den hier in Rede stehenden und zuvor angedeuteten Reproduktionsmaschinen
ist das Entwicklermaterial trocken. Daher kann die Feuchtigkeit, wie sie bei Umgebungsverhältnissen mit relativ
hohem Feuchtigkeitsgehalt vorliegt, in nachteiliger.Weise das Entwicklermaterial beeinflussen und damit eine Verschlechterung
der Kopierqualität hervorrufen. Bekanntlich werden elektrostatische
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Kräfte durch die umgebenden Feuchtigkeitsverhältnisse beeinflusst,
wobei die elektrostatischen Kräfte bei einem niedrigen Feuchtigkeitsgehalt der Umgebung die grösste Wirksamkeit entfalten.
Da der Feuchtigkeitsgehalt der Umgebung eine Auswirkung auf die Feuchtigkeit des Entwicklermaterials hat, kann
eine hohe Umgebungsfeuchtigkeit die trockenen Färbpartikel so feucht machen, dass hierdurch die Übertragungsfähigkeit der
Partikel nachteilig beeinflusst wird.
Ziel der Erfindung ist es daher, eine neue und verbesserte, mit trockenem Entwicklermaterial arbeitente Vorrichtung sowie
ein diesbezügliches Verfahren zu schaffen, mit denen sich die Auswirkungen von Feuchtigkeitsänderungen auf das Entwicklungsmaterial
beseitigen oder mildern lassen.
Dieses Ziel wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass die
Vorrichtung Mittel aufweist, um die Feuchtigkeitsverhältnisse des Entwicklermaterial zu steuern, so dass trotz Änderungen im
relativen Feuchtigkeitsgehalt eine optimale Entwicklung der Abbildungen sichergestellt ist. Weiterbildungen der Erfindung
sind in den Ansprüchen 2 bis 12 aufgeführt.
Das Verfahren zum Neutralisieren der Auswirkung von Umgebungsfeuohtigkeit
auf"die elektrischen Eigenschaften eines Entwicklermaterials
in einer elektrostatischen Reproduktionsmaschine mit einem fotoempfindlichen Element, dessen latente elektrostatische
Bilder des zu reproduzierenden Originals mittels trockener Färbpartikel sichtbar gemacht werden, wobei die Partikel durch elektrostatische
Kräfte vom Entwickler auf das fotoempfindliche Element angezogen werden, zeichnet sich dadurch aus, dass man den
Entwickler zur Erwärmung und zur Verringerung seines Feuchtigkeitsgehaltes aufheizt, sobald die Temperaturen des Entwicklers
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unter ein voreingestelltes Minimum fallen, und das Aufheizen des Entwicklers beendet, sobald die Temperaturen des Entwicklers
oberhalb einer voreingestellten maximalen Entwicklertemperatur angestiegen sind.
Eine Weiterbildung des Verfahrens ist in Anspruch 14 aufgeführt.
Erfindungsgemäss weist somit die Entwicklungsvorrichtung eine Einrichtung auf, mit der sich das Entwicklermaterial erwärmen
lässt. Dies bedeutet, dass das bei auf trockenem Wege arbeitenden elektrostatischen Kopierprozessen verwendete Entwicklermaterial
nunmehr relativ unempfindlich gegenüber Schwankungen im relativen Feuchtigkeitsgehalt der Luft ist. Dies bildet die
Möglichkeit zur Erwärmung des Entwicklermaterials, wenn dieses bei Perioden hoher Luftfeuchtigkeit verwendet wird. Ausserdem
wird durch die Erfindung eine Heizeinrichtung vorgesehen, die sich während der Abschaltzeiten der Maschine zum Erwärmen des
Entwicklers einsetzen lässt.
Die Erfindung schafft somit eine Entwicklungsvorrichtung, mit
der ein Entwicklermaterial· in entwicklende Beziehung zum fotoempfindlichen
Element einer elektrostatischen Reproduktions- oder Kopiermaschine gebracht wird, um die iatenten, el·ektrostatischen Bil·-
der auf dem fotol·eitenden Element sichtbar zu machen. Diese
Vorrichtung weist in Kombination ein Gehäuse auf, das das Entwicklermaterial· zum Einsatz für das Entwickeln der Iatenten,
el·ektrostatischen Bilder, eine Einrichtung zur Erwärmung des
Gehäuses und des darin befindlichen Entwickiermateriais, so dass
die Auswirkung der Luftfeuchtigkeit auf das Entwickiermaterial· beseitigt wird, und eine Steuereinrichtung enthält, um die
Heizeinrichtung bei einer bestimmten niederen Temperatur des Entwicklermateriais oder einem bestimmten Feuchtigkeitsniveau
einzuschaiten.
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Zusammengefasst wird daher mit der Erfindung eine Entwicklungsvorrichtung
für elektrostatische Kopier- oder Reproduktionsmaschinen unter Verwendung von trockenem Toner vorgesehen, die
eine Heizeinrichtung aufweist, um das Entwicklermaterial zu erwärmen, wenn dessen Temperatur unter einen voreingestellten
minimalen Wert fällt, und/oder dessen Feuchtigkeit über ein voreingestelltes Maximum ansteigt. Hierdurch wird der Feuchtigkeitsgehalt
und die Aufnahmefähigkeit von Wasser in das Entwicklermaterial .herabgesetzt. Ein Regler betätigt die Heizeinrichtung
in Abhängigkeit von den Temperatur-und/oder Feuchtigkeitsbedingungen des Entwicklermaterials. Eine weitere Steuereinrichtung
verhindert ein überhitzen des Entwicklermaterials. Bei einem Äusführungsbeispiel wird der Betrieb der Heizeinrichtung
während des Betriebs der Reproduktionsmaschine gehemmt, und in einem anderen Ausführungsbeispiel wird die Heizeinrichtung
nach einem Uhrzeitzyklus in Betrieb gesetzt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische, geschnittene Ansicht einer elektrostatischen
Reproduktionsmaschine, in der das erfindungsgemässe Prinzip angeordnet werden kann,
Fig. 2 eine vergrösserte, teilweise weggebrochene Ansicht einer Magnetbürstenentwicklungsvorrichtung zur Verwendung
bei der in Fig. 1 gezeigten Maschine,
Fig. 3 eine teilweise geschnittene Ansicht des Magnetbürsten—
entwicklungssysterns mit der erfindungsgemässen Heizeinrichtung
für den Entwickler,
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Fig. 4 eine Ansicht von der anderen Seite des Gehäuses nach Fig. 3 mit Darstellung des Antriebsmechanismus für
die Magnetbürsten,
Fig. 5 eine schematische Darstellung eines Steuerschaltkreises
für die erfindungsgemässe Heizeinrichtung für den Entwickler,
Fig. 6 eine schematische Darstellung von einem modifizierten
Steuerschaltkreis,
Fig. 7 eine schematische Darstellung von einem zweiten modifizierten
Steuerschaltkreis, und
Fig. 8 eine schematische Darstellung von einem dritten modifizierten
Steuerschaltkreis.
Zum allgemeinen Verständnis eines elektrostatischen Behandlungssystems, in dem die Erfindung eingebaut werden kann, wird auf
Fig. 1 Bezug genommen, in der die verschiedenen Bauteile eines solchen Systems schematisch wiedergegeben sind. Wie bei allen
elektrostatischen Systemen , so auch bei der gezeigten xerografischen Maschine 1, wird das Lichtbild eines zu reproduzierenden
Originals auf die lichtempfindliche Oberfläche einer xerografisehen Platte geworfen, um auf dieser ein elektrostatisches
Bild zu erzeugen. Danach wird das latente Bild mit einem entgegengesetzt aufgeladenen Entwickler oder Entwicklungsmaterial 29 (vgl. Fig. 4) entwickelt, wobei der Entwickler aus
Trägerkörnern und kleineren Tonerpartikeln besteht, die triboelektrisch an den Trägerkörnern anhaften und bei der Entwicklung
ein xerografisches Pulverbild entsprechend dem auf der Plattenoberfläche befindlichen latenten Bild schaffen. Das
Pulverbild wird dann elektrostatisch auf eine TrägerfKlohe
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übertragen, auf der es mittels einer Aufschmelzvorrichtung
fixiert werden kann. Dadurch wird das Pulverbild dauerhaft an die Trägerfläche angehaftet.
Das elektrostatisch anziehbare Entwicklungsmaterial 29, wie es gewöhnlich in einer Magnetbürstenentwicklungsvorrichtung verwendet
wird, besteht aus einem gefärbten, harzartigen und hier als "Toner" bezeichneten Pulver und einem "Träger" aus
grösseren, granulatförmigen Körnern. Die Körner weisen Stahlkerne auf, die mit einem Material beschichtet sind, das in
der tribo-elektrischen Reihe vom Toner entfernt liegt, so dass eine tribo-elektrische Ladung zwischen dem Tonerpulver und
dem granulatförmigen Träger erzeugt wird. Der magnetisierbar Träger schafft auch eine mechanische Steuerung für die Bildung
von bürstenartigen Borsten mittels magnetischer Felder, so dass der Toner ohne weiteres gehandhabt und in Berührung mit der
belichteten xerografischen Oberfläche gebracht werden kann. Der Toner wird dann an das elektrostatische, latente Bild von den
Trägerborsten angezogen, so dass auf einer isolierenden Oberfläche ein sichtbares Pulverbild entsteht.
Bei der dargestellten Maschine wird das zu kopierende Original 5 auf eine transparente Auflageplatte 6 gelegt, die fest in
einer mit dem allgemeinen Bezugszeichen 1o versehenen Beleuchtungsanordnung
angeordnet ist. Mit dem Original auf der Auflageplatte beaufschlagt das Beleuchtungssystem das Original
mit Lichtstrahlen, so dass Bildstrahlen erzeugt werden, die den informativen Bereichen auf dem Original entsprechen. Die
Bildstrahlen werden mittels eines optischen Systems 11 zu einer Belichtungsstation 7 geworfen, wo die fotoempfindliche
Oberfläche einer sich bewegenden xerografischen Platte in Form eines flexiblen fotoleitenden Riemens 12 belichtet wird.
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Der Riemen ist gleichmässig durch eine Koronavorrichtung 13 aufgeladen, die an dem sich zwischen den Riementragwalzen 14
und 15 erstreckenden Riemenlaufweg angeordnet ist. Die Belichtungsstation
erstreckt sich zwischen der Walze 14 und einer dritten Tragwalze 16.
Die Belichtung der Riemenoberfläche mit dem Lichtbild entladet
die fotoleitende Lage in den Zonen, die vom Licht getroffen werden, wodurch auf dem Riemen 12 ein latentes, elektrostatisches
Bild in einer Konfiguration verbleibt, die dem vom Original 5 auf der Auflageplatte projizierten Lichtbild entspricht.
Bei Weiterbewegung der Riemenoberfläche gelangt das elektrostatische Bild um die Walze 16 und durch eine Entwicklungsstation
8, die an einem dritten Riemenlaufweg angeordnet ist. In der Entwicklungsstation befindet sich eine allgemein
mit 17 bezeichnete Entwicklungsvorrichtung. Nicht gezeigte, geeignete Mittel, wie beispielsweise Vakuumpanele oder spannende
Einrichtungen können verwendet werden, um den Riemen 12 in der Belichtungs-, Entwicklungs- und Reinigungsstation 7, 8 und 9 flach zu halten. Die Entwicklungsvorrichtung
17 umfasst eine Vielzahl von Magnetbürsten 31, die das Entwicklungsmaterial 29 nahe der Oberfläche des sich nach
oben bewegenden, geneigten fotoleitenden Riemens 12 bringen, um eine Entwicklung des elektrostatischen Bildes vorzunehmen
.
Wenn das Entwicklungsmaterial auf den xerografischen Riemen
aufgegeben wird, werden die Tonerpartikel im Entwicklungsmaterial elektrostatisch an die Riemenoberfläche zur Bildung
der Pulverabbildungen angezogen. Sobald sich die Tonerpulverbilder ausbilden, werden zusätzliche Tonerpartikel dem Entwicklungsmaterial
entsprechend der Tonermenge hinzugefügt, die
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während des xerografischen Prozesses auf dem Riemen abgelagert
worden sind. Zu diesem Zweck wird ein allgemein mit
18 bezeichneter Tonerdispenser verwendet, der bei Bedarf eine
genau dosierte Tonermenge dem Entwicklermaterial 29 in der Entwicklervorrichtung 17 zugibt.
Das entwickelte elektrostatische Bild wird durch den Riemen 12 zu einer Übertragungsstation 4 bewegt, die an einer tangentialen
Stelle bei Bewegung des Riemens um die Walze 15 angeordnet ist. In dieser Übertragungsstation wird ein Blatt Kopierpapier
3 mit synchroner Geschwindigkeit zum sich bewegenden Riemen zugeführt, um eine Übertragung des entwickelten Bildes
vorzunehmen. In dieser Station ist eine Übertragungswalze
19 vorgesehen, die am Rahmen 2 der Maschine so gelagert ist,
dass sie die nicht am Übertragungsvorgang teilnehmende Seite des Blattes Kopierpapier berührt, sobald dieses in übertragende
Eingriffnahme mit dem Riemen 12 kommt. Die Walze 19 ist
mit einer ausreichenden elektrischen Spannung vorgespannt, so dass das entwickelte Bild auf dem Riemen 12 elektrostatisch
auf die zugewandte Seite des Papierblattes 3 übertragen wird, sobald diese damit in Berührung kommt. Die elektrische Spannung
haftet ferner vorübergehend das Blatt an der Walze 19 an.
Des weiteren ist ein geeigneter Blatt-Transportmechanismus vorgesehen, der die Papierblätter 3 nacheinander von einem
Papierhandhabungsmechanismus 23 zum entwickelten Bild auf dem Riemen befördert, sobald dieses um die Walze 15 bewegt wird.
Eine Programmiervorrichtung ist wirkungsmässig mit dem Mechanismus
23 verbunden, und die Beleuchtungsvorrichtung zur Erzeugung eines elektrostatischen, latenten Bildes auf dem
Riemen 12 ist so ausgelegt, dass sie in der Übertragungsstation ein entwickeltes Bild in zeittaktmässiger Folge zu der Ankunft
eines Papierblattes darbietet.
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Nach Abstreifen des Blattes vom Riemen 12 wird dieses durch
das Fördersystem 22 in eine allgemein mit 24 bezeichnete Aufschmelzanordnung gebracht, in der das entwickelte und übertragene
xerografische Pulverbild auf das blattförmige Material dauerhaft fixiert wird. Nach dem Aufschmelzvorgang wird die
fertige Kopie aus der Vorrichtung an einer geeigneten Stelle abgegeben, in der es aus der Vorrichtung von aussen entnommen
werden kann. Die als Rest auf den entwickelten Bildern verbleibenden Tonerpartikel, Hintergrundpartikel und solche Partikel,
die in sonstiger Weise nicht übertragen wurden, werden durch den Riemen 12 zur Reinigungsstation 9 gebracht. In dieser
führt- eine Reinigungsvorrichtung 25 einen ReinigungsVorgang
zur Vorbereitung für einen erneuten Abbildungsvorgang durch.
Die Reinigungsvorrichtung 25 weist dabei eine sich drehende Bürste, eine Korotrone zur Neutralisierung der an den Partikeln
verbleibenden Ladungen und eine Entladungslampe auf, welche irgendwelche, auf dem Riemen 12 noch bestehende elektrostatische
Ladungen auflöst.
Wie in Fig. 2 und 3 gezeigt, weist die Entwicklungsvorrichtung ein Gehäuse 26 mit einem grundsätzlich rechteckförmigen Querschnitt
und einer dergestaltigen Länge auf, dass es sich über die Breite des Riemens 12 hinaus erstreckt. Das Gehäuse 26
ist mit Ausnahme einer nahe dem fotoleitenden Riemen 12 befindlichen Öffnung im wesentlichen geschlossen, wobei an der Öffnung
die Entwicklung des latenten Bildes vorgenommen wird. Das Gehäuse dient als Behälter und ist an seinen Enden durch
Endwände 27 und 28 verschlossen. Das Gehäuse trägt eine geneigte Bodenwand 3o, die das Entwicklungsmaterial,bestehend
aus Trägerkörnern aus magnetisierbarem Material und daran elektrostatisch anhaftenden, gefärbten elektrostatischen Tonerpartikel
enthält.
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Im Entwicklergehäuse ist drehbar eine Reihe Magnetbürsten 31 gelagert, die mit zueinander parallel sich erstreckenden
Achsen unter dem Selenriemen 12 angeordnet sind. Die Magnetbürsten 31 weisen jeweils einen äusseren Zylinder 35 aus nicht
magnetischem Material auf, der sich fast über die gesamte Länge des Gehäuses 26 zwischen den Endwänden 27, 28 erstreckt und
durch diese drehbar gehalten ist.
In jedem Zylinder 35 sind geeignete Magneten 4o angeordnet,
die sich nahezu über die gesamte Länge des Zylinders erstrecken und dort relativ zum zugehörigen Zylinder 35 drehbar gelagert
sind. Eine geeignete äussere Steuervorrichtung kann vorgesehen werden, um die Magnete zu drehen und damit die Ausrichtung
des magnetischen Feldes einzustellen.
Während der Entwicklung werden die Bürstenzylinder 35 durch eine Antriebswelle 38 gedreht, während die Magnete 4o stationär
verbleiben. Die Borsten, die durch den Einfluss des von den Magneten ausgehenden, auf die magnetisierbaren Trägerkörner
in dem Entwicklermaterial 29 wirkenden magnetischen Feldes erzeugt werden, bilden sich auf dem oberen Bereich der Zylinder
35 zwischen dem Zylinder und der Unterseite des Selenriemens 12. Als Folge davon wird eine "magnetische Decke" gebildet, die
sich kontinuierlich über sämtliche Bürsten 31 längs der gesamten Breite der Entwicklungsstation 8 erstreckt.
Des weiteren ist im Entwicklungsgehäuse 26 unterhalb der Magnetbürsten
31 ein vortreibendes Element 46 in Form eines Flügelrades mit einer Vielzahl von radial sich davon erstreckenden
Blättern angeordnet, dessen Ende drehbar in den Endwänden 27, 28 mittels einer Antriebswelle 47 gelagert sind. Während der
Entwicklung dreht sich das Flügelrad 46 in der durch den Pfeil
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in Fig. 3 gezeigten Richtung und befördert das Entwicklungsmaterial zu den Magnetbürsten 31, unabhängig davon, welche
Niveauhöhe und Menge an Trägerkörnern im System vorliegt.
Die Drehbewegung für die verschiedenen sich drehenden Bauteile der in Fig. 4 gezeigten Entwicklungsvorrichtung 17 wird von
einem Motor 44 und einem Antriebssystem aufgebracht. Das Antriebssystem umfasst eine an der Motorwelle befestigte Rolle
48, eine ebenfalls an der Welle befestigte kleinere Rolle 5o und zeittaktgebende Riemen 51, 52, die die Rollen 48 bzw. 5o
mit den sich drehenden Bauteilen verbinden. Insbesondere steht der Riemen 51 in antreibendem Eintriff mit geeigneten Rollen
53 und einer Spannrolle 55. Dabeisind die Rollen 53 auf den
Treibwellen für die einzelnen Magnetbürstenzylinder 31 angeordnet.
Auf diese Weise drehen sich die Magnetbürstenzylinder mit denselben Umfangsgeschwindigkeiten in derselben Richtung
und so, dass die "magnetische Decke", die aus magnetischen Borsten besteht, nach oben längs einer geneigten Ebene bewegt
wird. Die Ebene erstreckt sich dabei unter demselben Winkel wie die Ebene, die der Riemen 12 im Entwicklungslaufweg annimmt.
Ein taktgebender Riemen 52 verbindet die antreibende Rolle 5o mit einer Treibrolle 58, die an der Welle 47 für das Flügelrad
46 befestigt ist. Dies stellt sicher, dass das Flügelrad und die Magnetbürstenzylinder gemeinsam bewegt werden.
Geeignete Ablenkelemente 63, 64 leiten das zurückkehrende Entwicklermaterial 29 in eine an das Flügelrad 46 angrenzende
Stellung.
Wie beschrieben, besteht das Entwicklermaterial 29 aus einem relativ grossen Träger, der normalerweise aus Metall besteht
und die Form eines Kornes hat, und aus relativ kleineren Partikeln
aus Trockentinte, dem sogenannten Toner. Die Feuchtigkeit
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in der Zone, in der sich das Entwicklermaterial befindet, kann
in einem grösseren oder geringerem Ausmass die Art und Weise beeinflussen, wie das Entwicklermaterial die latenten, elektrostatischen
Bilder auf dem Riemen 12 entwickelt. Dies wiederum kann die Qualität der herzustellenden Kopien dergestalt beeinflussen,
dass die Kopien visuell entweder zu hell oder zu dunkel erscheinen. Von besonderer Bedeutung sind hohe Feuchtigkeits
zustände .
Die Wirkung von feuchtigkeit,insbesondere von hoher Feuchtigkeit,
ist am augenfälligsten unmittelbar nach in Gang setzen der Maschine, wenn zuvor eine relativ lange Abschaltzeit,z.B.
über Nacht oder nach einem Wochenende, vorgelegen hat. Wird die Maschine nachfolgend eine gewisse Zeit lang in Betrieb
genommen, so nimmt die Feuchtigkeit des Entwicklermaterials normalerweise ab, was wenigstens zum Teil auf eine innere
Maschinenerwärmung zurückzuführen ist.
Um die Feuchtigkeitszustände des Entwicklermaterials regulieren zu können, ist eine Wärmequelle, wie beispielsweise eine elektrische
Widerstandsheizeinrichtung 7o, an der Aussenseite des Entwicklergehäuses 26 in wärmeübertragender Weise befestigt.
Da die Masse des Entwicklermaterials 29 sich normalerweise im unteren Bereich oder Sumpf des Entwicklergehäuses 26 befindet,
wird die Heizeinrichtung 7o vorzugsweise nahe dem unteren Gehäusebereich angeordnet. Vorzugsweise besitzt die
Heizeinrichtung 7o eine ausreichende Abmessung, damit sie sich im wesentlichen über die gesamte Breite des Gehäuses 26 erstreckt
und damit eine gleichmässige Erwärmung des gesamten Gehäusebereiches gewährleistet ist. Die Kapazität der Heizeinrichtung
7o soll dabei ausreichen, um die Temperatur des Entwicklermaterials unter den gegebenen Umgebungstemperaturverhältnissen
auf einem bestimmten Niveau zu halten.
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In Fig. 5 ist ein Steuerschaltbild wiedergegeben. Die Heizeinrichtung
7o :ist paralell an eine geeignete elektrische Energiequelle
dargestellt durch die Leitungen L-., L3,über einen thermostatischen Steuerschalter 71 und einen Kontakt 72 von einem
geeigneten Leistungsschalter 73 angeschlossen.-..:Der thermostatische Schalter 71 ist so angeordnet, dass er auf die
Temperaturverhältnisse im Entwicklermaterial anspricht. Zu diesem Zweck steht er in wärmeübertragender Beziehung zum
Entwicklergehäuse 26 und wird auf diesem getragen. Der Schalter
71 ist so ausgelegt, dass er den Stromkreis zur Heizeinrichtung 7o bei oder unterhalb einer vorgewählten Minimaltemperatur
schliesst und vervollständigt, und andererseits sich öffnet, um den Stromkreis zur Heizeinrichtung 7o bei oder oberhalb
einer vorgewählten Maximaltemperatur zu unterbrechen. Es wurde festgestellt, dass die geeignete Temperatur bei einem Minimum
von 37°C und einem Maximum von 42°C liegt (98 bzw. 1o8°F).
Der Leistungsschalter 73 kann irgendeinen geeigneten und
handelsüblich verfügbaren Stromkreis-Grobspannungsschutz, wie beispielsweise einen Thermounterbrecher,mit einem auf den
Leitungsstrom ansprechenden Widerstandsheizelement 74 mit einem auf die Temperatur ansprechenden Leitungsschalter 27
aufweisen. Wie für den Fachmann verständlich, triggert die Wärme vom Widerstand 74 bei oder oberhalb einem voreingestellten
maximalen Leitungsstrom den Schalter 72 so, dass der Stromkreis zur Heizeinrichtung 7o unterbrochen wird. Vorzugsweise enthält
der Leistungsschalter 73 manuelle Schaltungskontakte 76, so dass der Stromkreis zur Heizeinrichtung 7o auch manuell
geöffnet werden kann.
Beim Betrieb spricht der thermostatische Schalter 71 auf die
Temperaturverhältnisse am Entwicklergehäuse 76 an und beaufschlagt die Heizeinrichtung 7o immer dann, wenn die Temperatur
des Gehäuses und des darin befindlichen Entwicklermaterials
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unterhalb von einem vorgewählten Minimum abfällt. Die Wärme von der Heizeinrichtung 7o erwärmt das Entwicklergehäuse 76
und das Entwicklermaterial, wodurch wiederum die Neigung des Entwicklermaterials, Feuchtigkeit zu absorbieren, reduziert
wird.
Sobald die Temperaturen des Entwicklergehäuses eine vorgewählte maximale Höhe erreicht haben oder bei dieser Höhe liegen, öffnet
sich der thermostatische Schalter 71, so dass der Stromkreis zur Heizeinrichtung 7o unterbrochen wird.
Es versteht sich, dass die minimale Schliesstemperatur des Thermoschalters
so gewählt werden kann, dass effektiv der Schalter 71 normalerweise geschlossen ist und sich nur öffnet, wenn
die vorgewählte maximale Temperatureinstellung erreicht ist. Bei dieser Anordnung würde die Heizeinrichtung 7o normalerweise
kontinuierlich betrieben.Dies ist der Fall bei einer Reproduktionsmaschine
mit einem nur geringen oder nicht vorhandenen inneren Wärmeaufbau.
Im Ausführungsbeispiel nach Fig. 6 sind gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen versehen. Bei diesem Ausführungsbeispiel
ist die Energiebeaufschlagung der Heizeinrichtung 7o während des Betriebs der Reproduktionsmaschine 1 vorgeschlossen.
Ein Druck-Start-Schalter 78 zur Betätigung der Reproduktionsmaschine ist vorgesehen, wobei ein Schliessen des Schalters
das Halterelais 79 triggert. Der Kontakt 8o des Relais 79,der. bei Beaufschlagung des Relais 79 geschlossen wird, errichtet
einen Halteschaltkreis um den Druck-Start-Schalter 78, so dass der Schalter 78 freigegeben werden kann. Ein geeigneter
Aus-Kontakt 81 ist ferner vorgesehen. Um eine EnergiebeaufschTagung
der Heizeinrichtung 7o während des Betriebes der Reproduktionsmaschine 1 zu unterbinden, ist ein zweiter
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Relaiskontakt 82 in dem die Heizeinrichtung beaufschlagenden
Schaltkreis angeordnet. Der Kontakt 82,der normalerweise geschlossen
sein kann, wird durch das Relais 79 immer dann geöffnet, wenn das Relais 79 beaufschlagt wird.
Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 7 ist für die Energiebeaufschlagung
der Heizeinrichtung 7o, z.B. während der Maschinenabschaltzeiten,d.h.
über Nacht, eine Zeittaktsteuerung vorgesehen. In Fig. 7 sind wiederum gleiche Teile mit gleichen
Bezugszeichen versehen, wobei eine geeignete Zeittaktvorrichtung oder Uhr 85 vorgesehen ist. Der Kontakt 86 der Uhr 85
ist im energiebeaufschlagenden Schaltkreis für die Heizeinrichtung
7o angeordnet und wird 2U vorgewählten Zeiten durch einen
geeigneten Uhrbetätigungsmechanismus, der hier schematisch durch eine Kurvenscheibe 88 angedeutet ist, geöffnet und geschlossen.
Beim Betrieb wird die Uhr 85 so voreingestellt, dass sie den Kontakt 86 bei einer vorgewählten Zeit, z.B. um 22 Uhr, schliesst
und den Kontakt 86 über eine bestimmte Zeitdauer, d.h. bis 6 Uhr geschlossen hält. Ist während dieser Zeitdauer der thermostatische
Schalter 71 ebenfalls geschlossen, so liegt eine Stromverbindung über den Kontakt 86 mit der Heizeinrichtung 7o vor,
so dass die Heizeinrichtung 7o sich in Betrieb befindet, und das Entwicklermaterial im Entwicklergehäuse 26 aufwärmt. Es
versteht sich, dass eine geeignete Schalteinrichtung vorgesehen werden kann, um die Heizeinrichtung 7o während des Betriebes
der Reproduktionsmaschine 1,gemäss Ausführungsbeispiel
nach Fig. 7, abzuschalten.
In der in Fig. 8 gezeigten Ausführungsform sind wiederum gleiche
Teile mit gleichen Bezugsziffern versehen. Bei diesem Ausführungsbeispiel
erfolgt der Betrieb der Heizeinrichtung 7o in
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Abhängigkeit von den Feuchtigkeitsverhältnissen der Luft oder
Umgebung nahe dem Entwicklergehäuse 26, wobei diese Feuchtigkeit durch einen Feuchtigkeitsregler 9o gemessen wird. Der
Feuchtigkeitsregler 9o enthält einen Schaltkontakt 91, der in Reihe zum thermostatischen Schalter 71 und Leistungsschalter
73 parallel zu den Leitungen L1, L2 angeordnet ist.
Der Feuchtigkeitsregler 9o ist dabei so ausgelegt, dass sein auf die Feuchtigkeit ansprechendes Element der Luft an einer
passenden Stelle nahe dem Entwicklergehäuse 26 ausgesetzt ist, wobei es sich beim Feuchtigkeitsregler um irgendeine geeignete
und handelsüblich verfügbare, auf Feuchtigkeit ansprechende Vorrichtung handeln kann.
Beim Betrieb der Ausführungsform nach Fig. 8 spricht der
Feuchtigkeitsregler 9o auf die Luftfeuchtigkeitsverhältnisse nahe dem Entwicklergehäuse 26 an und schliesst bei einem bestimmten
hohen relativen Feuchtigkeitsgehalt dessen Schaltkontakt 91. Wie zuvor beschrieben, schliesst sich bei einer
vorgegebenen niederen Temperatur des Entwicklergehäuses 26 der thermostatische Schalter 71 und öffnet sich bei einer vorgegebenen
hohen oder maximalen Temperatur. Wie ebenfalls zuvor beschrieben, gibt die Temperatur des Entwicklergehäuses 26
die Temperaturverhältnisse des darin befindlichen Entwicklermaterials 29 wieder. Bei sowohl geschlossenem thermostatischen
Schalter 71 als auch Schaltkontakt 91 des Feuchtigkeitsreglers wird der Heizeinrichtung 7o (vorausgesetzt auch der Leistungsschalter
73 ist geschlossen) Strom zugeführt, so dass das Entwicklergehäuse 26 und das darin befindliche Entwicklermaterial
erwärmt wird. Dieser Zustand herrscht so lange, bis sich der thermostatische Schalter 71 oder der Schaltkontakt 91 des
Feuchtigkeitsreglers 9o öffnen, d.h. die vorgegebene maximale Temperatur des Entwicklergehäuses erreicht ist, oder die relative
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Feuchtigkeit in der Umgebung des Entwicklergehäuses 26 auf ein bestimmtes Niveau abgefallen ist.
Es versteht sich, dass zusätzlich >zu der abschaltbaren Heizeinrichtung
7o weitere Schalteinrichtungen vorgesehen werden können, wann immer die Reproduktionsmaschine unabhängig von
den Temperatur-und Feuchtigkeitsverhältnissen des Entwicklers in Betrieb steht.
Die Erfindung wurde anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass sie nicht auf die erwähnten Details
beschränkt ist, sondern auch.solche Modifikationen und Abänderungen mitumfasst, die im Schutzbereich der nachfolgenden
Patentansprüche liegen.
-i9
60 9839/0888
Claims (14)
- 2556U4Patentansprüche(i.. Entwicklungsvorrichtung für eine elektrostatische Reproduktionsmaschine zum Herstellen von Kopien von einem Original und mit einem fotoempfindlichen Element,auf dem latente, elektrostatische Bilder des Originals geschaffen werden, mit einer Einrichtung, die ein re.lativ trockenes, teilchenförmiges Entwicklermaterial in entwickelnder Beziehung zum fotoempfindlichen Element bringt,um die Bilder auf diesem zu entwickeln, dadurch gekennzeichnet , dass Mittel vorgesehen sind, um die Feuchtigkeitsverhältnisse des Entwicklermaterials (29) zu steuern, so dass trotz Änderungen in der relativen Feuchtigkeit eine optimale Entwicklung der Abbildungen sichergestellt ist.
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung eine Heizeinrichtung (7o) zum Erwärmen des Entwicklermaterials (29) und eine Einrichtung (71) enthält, die die Heizeinrichtung bei einer bestimmten niederen Temperatur des Entwicklermaterials betätigt.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , dass die Betätigungseinrichtung (71) die Heizeinrichtung (7o) bei einer bestimmten hohen Temperatur des Entwicklermaterials abschaltet.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung (71) eine zeittaktgebende Einrichtung (85, 86, 88) enthält, um die Betätigung der Heizeinrichtung (7o) auf vorgewälte Zeitintervalle zu begrenzen.6 0 9 8 3 9 / Π B B 8 ~2°~- 2ο -
- 5. Vorrichtung nach Anspruch 2, mit einem Gehäuse für das Entwicklermaterial, dadurch gekennzeichnet , dass die Heizeinrichtung (7o) ein elektrisches Heizelement aufweist, das in wärmeaustauschender Beziehung zum Gehäuse (26) steht.
- 6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung (71) eine Heizeinrichtung (7o) zur Erwärmung des Entwicklermaterials (29) und eine zeittaktgebende Einrichtung (85, 86, 88) zur Betätigung der Heizeinrichtung bei vorgegebenen Zeitintervallen enthält.
- 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch eine auf Temperatur ansprechende Einrichtung, die sich bei einem voreingestellten Temperaturzustandes des Entwicklermaterials einschaltet und die Heizeinrichtung (7o) in einen unwirksamen Zustand versetzt.
- 8. Vorrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Einrichtung, die sich während des Betriebs der Maschine einschaltet und die Heizeinrichtung (7o) unwirksam macht.
- 9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung eine Heizeinrichtung (7o) zum Erwärmen des Entwicklermaterials (29) und eine die Heizeinrichtung betätigende Einrichtung (9o) enthält, um die Heizeinrichtung bei einem bestimmten hohen relativen Feuchtigkeitsgehalt der Umgebung nahe dem Entwicklermaterial in Betrieb zu setzen.
- 10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung eine Übertemperatur-Schutzeinrichtung enthält, welche sich bei einemB Π 9 8 λ 9 / Π B R B-21-25561Ubestimmten hohen Temperaturzustand des Entwicklermaterials einschaltet und die Heizeinrichtung (7o) ausser Betrieb setzt.
- 11. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass die Feuchtigkeitssteuereinrichtung eine Heizeinrichtung zum Erwärmen des Entwicklermaterials und einen Regler zur Beaufschlagung der Heizeinrichtung aufweist, wobei der Regler enthält ein erstes Steuerelement, das aufgrund eines voreingestellten minimalen Temperaturzustandes des Entwicklermaterials betätigbar ist, und ein zweites Steuerelement, das aufgrund eines voreingestellten relativen Feuchtigkeitszustands der Umgebung nahe dem Entwicklermaterial betätigbar ist, wobei der Regler auf die gemeinsame Betätigung sowohl des ersten als auch zweiten Steuerelementes anspricht, um die Heizeinrichtung zu beaufschlagen.
- 12. Entwicklungsvorrichtung mit wenigstens einem Entwicklerapplikator, um das Entwicklermaterial in entwickelnde Beziehung zu einem fotoempfindlichen Element zu bringen, das latente, elektrostatische Abbildungen von einem zu reproduzierenden Original trägt, und mit einem Entwicklervorratsgehäuse, das einen Vorrat an Entwicklermaterial enthält, das von dem Applikator verwendet wird, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (7o) zum Erwärmen des Entwicklervorratsgehäuses(26) und des darin befindlichen Entwicklungsmaterials (29), so dass die elektrischen Eigenschaften des Entwicklermaterials unabhängig von Änderungen im Feuchtigkeitsgehalt gesteuert werden und durch eine Steuereinrichtung (71) zur Betätigung der Heizeinrichtung bei einem voreingestellten niedrigen Umgebungstemperaturzustand .-22-609839/088825561U
- 13. Verfahren zum Neutralisieren der Auswirkung von Ümgebungsfeuchtigkeit auf die elektrischen Eigenschaften eines Entwicklermaterials in einer elektrostatischen Reproduktionsmaschine mit einem fotoempfindlichen Element, dessen latente, elektrostatische Bilder des zu reproduzierenden Originals mittels trockener Färbpartikel sichtbar gemacht werden, wobei die Partikel durch elektrostatische Kräfte vom Entwickler auf das fotoempfindliche Element angezogen werden, dadurch gekennzeichnet , dass man den Entwickler zur Erwärmung und zur Verringerung seines Feuchtigkeitsgehaltes aufheizt, sobald die Temperaturen des Entwicklers unter ein voreingestelltes Minimum fallen, und das Aufheizen des Entwicklers beendet, sobald die Temperaturen des Entwicklers oberhalb einer voreingestellten maximalen Entwicklertemperatur angestiegen sind.
- 14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , dass man das Erhitzen des Entwicklers in Verbindung mit dem Inbetriebsetzen der Reproduktionsmaschine beendet.609839/08 8 8
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