DE2527151C2 - Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen - Google Patents

Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen

Info

Publication number
DE2527151C2
DE2527151C2 DE19752527151 DE2527151A DE2527151C2 DE 2527151 C2 DE2527151 C2 DE 2527151C2 DE 19752527151 DE19752527151 DE 19752527151 DE 2527151 A DE2527151 A DE 2527151A DE 2527151 C2 DE2527151 C2 DE 2527151C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
chlorine
salts
metals
baths
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19752527151
Other languages
English (en)
Other versions
DE2527151A1 (de
Inventor
Michael 5042 Erftstadt Ahlgrim
Gerhard Dipl.-Chem. Dr. 5032 Efferen Mietens
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE19752527151 priority Critical patent/DE2527151C2/de
Priority to SE7602713A priority patent/SE7602713L/xx
Priority to CH603676A priority patent/CH611652A5/xx
Priority to GB20264/76A priority patent/GB1507256A/en
Priority to IT49972/76A priority patent/IT1061691B/it
Priority to NL7606577A priority patent/NL7606577A/xx
Priority to FR7618676A priority patent/FR2316357A2/fr
Priority to BE168060A priority patent/BE843113R/xx
Publication of DE2527151A1 publication Critical patent/DE2527151A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2527151C2 publication Critical patent/DE2527151C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F5/00Electrolytic stripping of metallic layers or coatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

30
35
Vorliegende Erfindung betrifft ein Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen wie Nickel. Chrom. Zink. Zinn. Kupfer. Cadmium oder Silber von Stahl, das in wäßriger Lösung Salpetersäure und/oder deren Salze mit anorganischen und/oder organischen Basen, ferner organische Säuren undfoder deren Salze sowie ein lösliche- Iodid enthält.
Das Ablösen eines galvanisch aufgebrachten Metallüberzuges von Stahl wird z. B. dann erforderlich, wenn er fehlerhaft aufgebracht wurde oder selektiv wieder entfernt werden soll. Em weiteres Anwendungsgebiet solcher Bäder ist die Instandhaltung und Säuberung von Galvanisiergestellen. Bedingt durch den galvanischen Metallabscheidungsprozeß entstehen an den Kontaktierungshaken Aufwachsungen verschiedener Metallschichten, die in regelmäßigen Zeitabständen mechanisch entfernt werden müssen, um den einwandfreien Stromübergang zum Werkstück zu erhalten.
Für diesen Verwendungszweck sind bereits Bäder verschiedener Zusammensetzung bekannt So wird in der DE-OS 19 63 415 ein elektronisches Entmetallisierungsbad beschrieben, das Amine. Nitrate, organische +5 Säuren und wasserlösliche Chlorverbindungen enthält.
Fernet ist aus der DFOS 2146 828 ein Elektrolyt bekannt, der im wesentlichen aus Aminen. Nitraten, organischen Säuren und wasserlöslichen Bromverbindungen besteht Diese bekannten Bäder können Amine oder Aminoalkohole, insbesondere solche mit bis zu IOC-Atomen, enthalten, wobei es sich um primäre, sekundäre oder tertiäre Amine handeln kann, wie z. B. Tritiie'.hylamin. Diäthyl und Triäthylamine. Äthylendiamine. Mono·. Di- und Triäthanolamine. Vorzugsweise wird das Neutralisationsprodukt von Triäthynolamin und Salpetersäure eingesetzt.
Als organische Säuren sind in den genannten Bädern Ameisen-. Essig . Propion-. Oxal-. Malon-. Milch- und Zitronensäure beschrieben, bzw. die Alkali- und/oder Ammoniumsalze dieser Säuren.
Außerdem sind in diesen Bädern noch sehr leicht in Wasser lösliche Chlor- b/.w. Bromverbindtingen enthalten, wie Ammoniumchlorid b/w. Bromide, Hypobromilc und Bromatc der Alkalimetalle oder des Ammoniums.
Diese Chlor- bzw. Bromverbindungen werden als Beschleunige! benötigt, um in einer angemessenen Zeit
SO
55 die Metallschichten, insbesondere Halbglanznickel, zu entfernen. Durch Verwendung dieser Aktivatoren erhöht sich der Grundmaterialgriff erheblich. Eine völlige Ausschaltung des Angriffes auf das Basismaterial ist jedoch kaum möglich, da es sich bei dem Ablösevorgang um einen anodischen-elektrolytischen Prozeß handelt
Erstrebenswert ist es aber, diesen Angriff auf das Grundmaterial auf ein Minimum zu beschränken. Um diesem Ziel näher zu kommen, wurde daher schon versucht die als Beschleuniger wirkenden Verbindungen in nur sehr geringen Mengen zu verwenden und die Chlor- durch Bromverbindungen zu ersetzen.
Diese Maßnahmen führten zwar zu einer gewissen Verminderung des Angriffs der Bäder auf das Grundmaterial, doch war die damit erzielte Verbesserung keineswegs befriedigend, zumal es sich auch als schwierig erwies, diese geringen Mengen an Chlor- und Bromverbindungen während des Ablösevorganges laufend zu kontrollieren und zu regeln.
Einen erheblich geringeren Angriff auf das Grundmaterial üben dagegen die eingangs genannten Bäder aus. die ein Jodid als Halogenverbindung enthalten. Diese Bäder haben auch — insbesondere dann, wenn sie die Jodverbindung in schwerlöslicher Fonn, wie z. B. als CuJ enthalten — den weiteren Vorteil, daß sie sich bezüglich ihrer Zusammensetzung leichter einstellen und kontrollieren lassen, doch sind in manchen Fällen die in diesen Bädern erzielbaren Ablösegeschwindigkeiten der Metallschichten nicht ganz ausreichend.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß sich die Ablösegeschwindigkeiten in den eingangs genannten Bädern steigern lassen, wenn diese Bäder zusätzlich eine weitere Halogenverbindung in Form einer löslichen Chlorverbindung enthalten. In vorteilhafter Weise zeichnen sich solche Bäder aus. die 0,1 bis 5 g/1 Chlor, vorzugsweise 0.5 bis 1.0g/l Chlor als Chlorid gelöst enthalten. Als Chlorverbindung sind insbesondere Alkali- oder Ammoniumchlorid geeignet.
Ferner enthalten die erfindungsgemäßen Bäder in bekannter Weise Salpetersäure und/oder deren Salze mit einem Alkalihydroxid oder mit Ammoniumhydroxid oder mit einem aliphatischen Amin oder mit einem Aminoalkohol oder Gemische aus diesen Salzen, vorzugsweise in Mengen von 15 bis 60 g/l. sowie organische Säuren, wie Ameisen-, Essig-, Propion-. Oxal-. Malon-. Milch- oder Zitronensäure bzw. Gemische dieser Säuren, deren Salze oder Gemische dieser Salze in Mengen von vorzugsweise 10 bis 40 g/l.
Es empfiehlt sich, einen pH-Wert von 6,5 bis 7,5 in den Bädern einzustellen.
Beispiel Zu einem Elektrolyten aus
80 g/l Triäthanolamin
48g/IHNO,(63%)
20 g/l Ammonacetat
wurden als Aktivieren I g/l NH1CI und I g/l Cu) gegeben und nach einer Elektrolysezeit von 10 min bei
einer Stromdichte von 15 A/dm2 und 50"C die abgelöste Menge einer Mattnickelschicht von einem Grundmetallkörpcr aus Edelstahl (Werkstoff Nr. 1.4301) sowie der Angriff auf das Grundmetall bestimmt. Die abgetragene Menge Mattnickel betrug 2.5143 mg. die des Edelstahls 8.5 mg.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen, wie Nickel, Chrom, Zink, Zinn. Kupfer, Cadmium oder Silber von Stahl, das in wäßriger Losung Salpetersäure und/oder deren Salze mit anorganischen und/oder organischen Basen, ferner organische Säuren und/oder deren Salze sowie ein wasserlösliches Jodid enthält, gemäß Patent 2363352, dadurch gekennzeichnet, daß ία das Bad zusätzlich eine weitere Halogenverbindung in Form einer löslichen Chlorverbindung enthält
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,1 bis 5 g/l Chlor als Chlorid gelöst enthält
3. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,5 bis 1,0 g/l Chlor als Chlorid gelöst enthält
4. Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet daß es als Chlorverbindung ein Alkali- oder Ammoniumchlorid enthält
20
DE19752527151 1975-06-18 1975-06-18 Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen Expired DE2527151C2 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752527151 DE2527151C2 (de) 1975-06-18 1975-06-18 Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen
SE7602713A SE7602713L (sv) 1975-06-18 1976-02-27 Bad for elektrolytisk franskiljning av metaller
CH603676A CH611652A5 (en) 1975-06-18 1976-05-13 Bath for the electrolytic removal of metals
GB20264/76A GB1507256A (en) 1975-06-18 1976-05-17 Electrolytic bath for removing metals
IT49972/76A IT1061691B (it) 1975-06-18 1976-06-16 Bagno per il distacco elettrolitico di metalli
NL7606577A NL7606577A (nl) 1975-06-18 1976-06-17 Bad voor het elektrolytisch losmaken van metalen.
FR7618676A FR2316357A2 (fr) 1975-06-18 1976-06-18 Bain electrolytique destine a l'elimination de metaux
BE168060A BE843113R (fr) 1975-06-18 1976-06-18 Bain electrolytique destine a l'elimination de metaux

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752527151 DE2527151C2 (de) 1975-06-18 1975-06-18 Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2527151A1 DE2527151A1 (de) 1977-05-12
DE2527151C2 true DE2527151C2 (de) 1983-01-05

Family

ID=5949362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19752527151 Expired DE2527151C2 (de) 1975-06-18 1975-06-18 Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen

Country Status (2)

Country Link
BE (1) BE843113R (de)
DE (1) DE2527151C2 (de)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NICHTS-ERMITTELT

Also Published As

Publication number Publication date
DE2527151A1 (de) 1977-05-12
BE843113R (fr) 1976-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2941997C2 (de) Verfahren zur Vorbehandlung von Kunststoffsubstraten für die stromlose Metallisierung
DE2363352C3 (de) Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen
EP0064790A1 (de) Verfahren zur Phosphatierung von Metallen sowie dessen Anwendung zur Vorbehandlung für die Elektrotauchlackierung
CH647269A5 (de) Plattierungsloesung fuer die ablagerung einer palladium/nickel-legierung.
DE1908625A1 (de) Bad zum elektrolytischen Abloesen von Metallueberzuegen von Grundkoerpern aus rostfreien Staehlen und gehaerteten und nitrierten Staehlen
DE1496917A1 (de) Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege
CH500293A (de) Konzentrat, das nach Verdünnung mit Wasser und Ansäuern eine zur chemischen Auflösung von Metallen geeignete Wasserstoffperoxydlösung liefert
DE860300C (de) Kupfer- und Zinnsalze enthaltender Elektrolyt zur Erzeugung von Kupfer-Zinn-Legierungsueberzuegen und Verfahren zum Erzeugen dieser UEberzuege
DE2319197B2 (de) Waessriges bad und verfahren zur galvanischen abscheidung eines duktilen, festhaftenden zinkueberzugs
DE3033961C2 (de) Wäßriges Bad zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen von einem davon verschiedenen Grundmetall sowie ein Verfahren zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen unter Verwendung dieses Bades
DE2527151C2 (de) Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen
DE1959907A1 (de) Rutheniumkomplex und seine Verwendung bei der Elektroplattierung
DE1239159B (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Palladiumueberzuegen
DE2249037A1 (de) Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium
DE2527152C2 (de) Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen
DE2414650C3 (de) Stromlos arbeitendes wässriges Verkupferungsbad
CH660883A5 (de) Thallium enthaltendes mittel zum abloesen von palladium.
DE2360834C3 (de) Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Palladiumschichten
EP0108345A2 (de) Mittel zur Herabsetzung von Flüssigkeitshaftmengen an metallischen Oberflächen
DE3008115C2 (de) Bad zum elektrolytischen Abziehen von Nickel- und Kobaltüberzügen von eisen- oder kupferhaltigen Grundkörpern
DE2537500B2 (de) Verfahren zur Verbesserung der Schwefel- und Oxidationsbeständigkeit von Weißblech
DE2150080A1 (de) Verfahren zur Regelung der Chlordkonzentration in Eintauch-Kupfer-UEberzugsloesungen
DE2146828C3 (de) Bad zum elektrolytischen Ablösen von Metallen
DE2442016C3 (de) Wässrige Lösung für die Aktivierung von Oberflächen vor der stromlosen Metallabscheidung
DE2111602C2 (de) Cyanidfreies wäßriges galvanisches Glanzzinkbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Glanzzink unter Verwendung dieses Bades

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
AF Is addition to no.

Ref country code: DE

Ref document number: 2363352

Format of ref document f/p: P

D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8330 Complete disclaimer