DE2343600C3 - Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von Musterstrukturen - Google Patents
Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von MusterstrukturenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf das Geb;et der
Mikroelektronik, insbesondere auf Ausrüstungen zur Herstellung von genauen Musterstrukturen, wobei eine
solche Ausrüstung eine photographische Platte, die in ihrer Ebene in zwei zueinander senkrechten Richtungen
verschiebbar ist, ein Projektionsobjektiv, ein Beleuchtungsgerät sowie eine Vorrichtung zur Herstellung
einer Abbildung in der Gegenstandsebene des Projektionsobjektives enthält, die auf der photographischen
Platte belichtet wird.
Es sind Mikrophoto-Setzgeräte (Abbildungsgeneratoren) zur Herstellung von genauen Masken bekannt,
die folgende Bestandteile enthalten: einen Präzisionskoordinatentisch, auf dem eine photographische Platte
längs Koordinatenachsen in einer Ebene verschiebbar ist, die auf der optischen Achse des Projektionsobjektivs
senkrecht steht. Die Lagekontrolle des Koordinatentisches erfolgt durch Weggeber, die die Verschiebung
längs jeder Koordinate erfassen; eine Einstcllungsblende, die zwischen dem Beleuchtungsgerät und dem
Projektionsobjektiv in der Gegenstandsebene des letzteren angeordnet ist und eine rechtwinklige Öffnung
bildet, durch die der Lichtstrahl vom Beleuchungsgerät in die Eintrittspupille des Projektionsobjektivs gelangt.
Die rechtwinklige Öffnung wird von Rändern von vier beweglichen (oder zwei beweglichen und zwei unbeweglichen)
Vorhängen gebildet und ändert ihre Form in Abhängigkeit von der Lage der Vorhänge. Die Ränder
der rechtwinkligen Öffnung liegen parallel zu den Koordinatenachsen. Deshalb ist zur Belichtung von
geneigten Elementen und Linien in einigen Setzgeräten die Einstellungsblende innerhalb eines Winkels von bis
180° mit einem Schritt von 1° schwenkbar. Die Verschiebung der Vorhänge und die Schwenkung der
Blende wird von Schrittmotoren oder Gleichstrommotoren mi; Gebern bewerkstelligt, die den Drehwinkel
des Elektromotors fixieren, und von einem Steuerungssystem kontrolliert; ein Projektionsobjektiv mit hohem
Auflösungsvermögen, das die Abbildung der rechtwinkligen Öffnung der Einstellungsblende in die Ebene der
lichtempfindlichen Schicht der photographischen Platte mit einer gewissen Verkleinerung zur Erhöhung der
Genauigkeit der Maße zu projizierender Elemente projiziert; ein optisches System von hoher Qualität mit
einer leistungsfähigen Lichtquelle; ein Steuerungssystem, das einen automatischen Betrieb nach Programmen
gewährleistet, die von Magnetbändern oder Lochstreifen bzw. Lochkarten eingegeben werden,
sowie nach Programmen, die in einem Speicher vorhanden sind.
Die bekannten Mikrophoto-Setzgeräte arbeiten folgendermaßen. Der Koordinatentisch mit der photographischen
Platte wird von Hand in die Ausgangsstellung gebracht. In das Steuerungssystem wird ein Programm
eingegeben, das Informationen über die Maße der auf die Platte zu projizierenden Musterstruktur und die
Anordnung derselben enthält. Zu Beginn der Arbeit stellt das Steuerungssystem die Zähler der Weggeber
des Tisches auf Null und liest die Daten aus dem Programm über eine oder mehrere aufeinanderfolgende
Belichtungen ab.
Der Koordinatentisch wird in die erforderliche Stellung verschoben, während die Einstellungsblende
die notwendigen Abmessungen der rechtwinkligen Öffnung wählt. Die Belichtung erfolgt durch Einschaltung
einer Blitzlampe oder des Verschlusses, wenn eine Dauerlichtquelle benutzt wird.
Hiernach wird der Koordinatentisch in die nächstfolgende Stellung verschoben. Es werden, wenn nötig, neue
Abmessungen der rechtwinkligen Öffnung der Einstellungsblende eingestellt, und es erfolgt eine nächste
Belichtung. Der Prozeß wiederholt sich schrittweise so lange, bis auf der photographischen Platte das ganze
lopologische Muster der zu erzeugenden Photoschablonc vollständig exponiert ist.
Nachteilig ist an diesen Geräten, daß die Belichtung des topologischen Maskenmusters der Masken nur von
jeweils einem die Muslerstruktur bildenden Element vorgenommen wird. Diese Talsache bedingt eine lange
Arbeitszeit des Geräts bei der Herstellung von Masken von integrierten Großschaltungen, was den Preis einer
Maske erhöht und ihre Genauigkeit herabsetzt, da sich bei langer Herstellungsdauer einer Maske die Umweltbedingungen
ändern können. So kann sich beispielsweise die Temperatur in dem Raum ändern, in dem das
Gerät aufgestellt ist.
Es können ferner der Größe nach unterschiedliche zeitliche Änderungen der Temperatur der Bestandteile
des Gerätes eintreten, die durch die Wärmeentwicklung von Lichtquellen, Elektromotoren, Reibkupplungen u. a.
während des Betriebs hervorgerufen werden.
Außerdem ist es bei den bekannten Mikrophoto-Setzgeräten nur schwer möglich, Elemente mit anderer,
nichtrechtwinkliger Form sowie einzelne Fragmente eines topologischen Musters von Zwischenmasken
genau einzudrucken, da keine Ausrichiungsmechanismen
und -geber für die Zwischenmasken zur Orientierung der Schablone in bezug auf die Achse des
Projektionsobjektivs und die Koordinatenachsen des Tisches vorhanden sind.
Es ist auch bekannt, im optischen Projektionssystem zwei nach Koordinaten einstellbare Vorlagen für die
Masken zu verwenden, deren eine die Einstellblende enthält und deren andere verschiedene die Musterstrukturen
bildende Maskenmuster enthält, wobei jedoch desgleichen jeweils ein die Muste~struktur bildendes
Maskenmuster belichtet wird.
Das Ziel der vorliegenden Erfindung ist die Beseitigung der erwähnten Nachteile.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von photographischen
Musterstrukturen bildenden Masken zu schaffen, dessen Verrichtung zur Formierung der
Abbildung auf der photographischen Platte es gestattet, das Sortiment der Konfigurationen der topologischen
Musterstrukturen von Masken zu erweitern und die Herstellungszeit derselben beträchtlich zu vermindern.
Die gestellte Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Vorrichtung zur Herstellung der Abbildung in der
Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs zwei Masken mi! jeweils verschiedenen Maskenmustern enthält,
die zwischen dem Projektionsobjektiv und dem Beleuchtungsgerät gegeneinander verschiebbar angeordnet
sind, wobei ihre Abbildungen in der Bildebene des Projektionsobjektivs zur Deckung kommen, wodurch
auf die pholographische Platte die Abbildung einer Musterstruktur projiziert wird, die durch des
Aufeinanderlegens der Abbildungen der beiden Maskenmuster der Masken erzeugt wird.
Das erfindungsgemäße Mikrophoto-Setzgerät gestattet
ef, die Herslellungszeit von die MusterstrulUur
als Maskenmuster bildenden Masken wesentlich zu s vermindern, ihre Genauigkeit zu erhöhen und das
Sortiment der topologischen Maskenmuster der Wlasken
zu erweitern.
Zweckmäßigerweise wird das Gerät mit einem Steuerungssystem versehen, das mit Antrieben verbun-
ΐύ den ist, die die Masken gegeneinander verschieben.
Das Steuerungssystem des beschriebenen Geräts gewährleistet seine hohe Zuverlässigkeit und ermöglicht
die Herstellung von beliebig komplizierten Masken.
is Eine weitere Ausführungsvariante der Erfindung
besieht darin, daß die Vorrichtung zur Herstellung der Abbildung einer Musterstruktur in der Gegenstaindsebene
des Projektionsobjektivs ein Objektiv enthält, das zwischen zwei Masken angebracht ist, deren eine in der
to Gegenstaudsebene des Projektionsobjektivs, und deren
andere in der Gegenstandsebene des Objektivs der Vorrichtung angeordnet ist, derart, dai>
die Abbildung der Maskenmuster der zweiten Maske durch dieses Objektiv in die Abbildungsebene der ersten Maske
übertragen wird.
Die Anwendung des Objektivs in der erwähnten Vorrichtung gestattet es, die zwei Abbildungen von
Maskenmustern von zwei Masken in der Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs genau zur Deckung zu
bringen, was eine hohe Qualität der hergestellten Masken gewährleistet.
Gemäß einer der Ausführungsvarianten können zur Belichtung von Gruppen von Musterstrukturen einander
gleicher Elemente auf der photographischen Platte
.'5 auf den beiden Masken ein Maskenmuster in Form eines Rasters aus gleichen lichtdurchlässigen Vieleckfiguren
aufweisen, deren Lage auch die Lage sich periodisch wiederholender Elemente der herzustellenden Masken
bestimmt.
to Die Anwendung von Maskenmustern der Masken in
Form von Rastern gestattet es. Gruppen von Muslerstrukturen auf der photographischen Platte zu belichten,
was die Herstellungszeit der Masken erheblich verringert.
In dem vorgeschlagenen Verfahren zur Belichtung von gebogenen und zur Verschiebungsrichtung der
Platte geneigten Linien auf einer photographischen Platte unter Anwendung des erwähnten Mikrophato-Setzgeräts
werden erfindungsgemäß Masken verwendet, die ein Maskenmuster in Form von lichtdurchlässigen
Kreisen aufweisen, wobei die erwähnten Masken auf solche Weise zur Deckung gebracht werden, daß cuf
die photographische Platte ein Spalt projiziert wird, der "on :>egmenten zweier Kreise gebildet ist und dessen
Breite die Dicke der zu belichtenden Linie best:mmt, und wobei die Masken und die photographische Platte
ununterbrochen auf solche Weise verschoben werden, daß die große Symmetrieachse des Spaltes in jedem
Zeitaugenblick mit der Verschiebungsrichtung der
<<o photographischen Platte zusammenfällt.
Die Anwendung von Masken mit runden Fenstern gestattet es, auf bequeme Weise Musterr.trukturen von
krummlinigen Formen zu belichten. Die Belichtung krummliniger Elemente bietet zusätzliche Möglichkei-
(<5 ten bei der Entwick'Mng von integrierten Schaltungen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann gemäß einer der Ausführungsvarianten zur Durchführung der
Photomontage zwei Masken enthalten, von denen die
eine einen Satz von topologischen .Standardmustern
enthält, während die andere ein rechtwinkliges lichtdurchlässiges Fenster aufweist, das es gestattet, ein
beliebiges Standardmuster auf der photographischen Platte zu belichten.
Die Anwendung von /wei Masken mit je einem Satz
verschiedener Maskenmustcr verringert die Hcrstellungs/eit
der Musterstruktur erheblich.
Anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels wird die F.rfindung näher erläutert. Fs
zeigt
F'ig. I den Längsschnitt eines Mikrophoto-Sct/geräts.
F i g. 2 die gegenseitige Lage der zwei Masken /um gruppenweisen Photoset/en.
F'i g. 3. 4 und 5 die schematische Darstellung der
Bildung von Musterstruktuien eines Rasters mit Flementen mit geneigten Seiten,
Fig. 6 die schematischc Darstellung der Wahl eines
der topologischen Fragmente der Maskenmustcr beim Aufeinanderlegen von Masken und
F i g. 7 die Bildung einer gebogenen Linie mittels der Masken.
Das erfindungsgemäße Mikrophoto-Setzgerät unterscheidet
sich von den bekannten Geräten dadurch, daß anstatt der Einstellungsblende mit auseinanderschiebbaren
Vorhängen eine Vorrichtung verwendet ist. die /wei Wagen und auf jedem tier Wagen angeordnete Masken
enthält, die in zwei zueinander senkrechten Richtungen in den Ebenen verschiebbar sind, die parallel /ur
Verschiebungsebene der photographisehen Platte und in einem bestimmten Abstand voneinander liegen,
/.wischen ihnen ist ein Objektiv angebracht, das die
Abbildung des Maskenmusters der einen Maske mit dem Maskenmuster der anderen Maske /ur Deckung
bringt, die in der Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs befindlich ist. Auf diese Weise wird in der F.bene
der photographisehen Platte die Abbildung des Maskenmusters formiert, das durch Aufeinanderlegen
der Maskenmuster der zwei Masken gebildet ist. Die Kontrolle der VerschiebungsgröQe jedes Wagens
erfolgt durch Geber linearer Verschiebungen. Zur Erzielung einer genauen Ausgangsorientierung der
Masken in bezug auf die Achse des Projektionsobjektivs und auf die Koordinatenachsen des Tisches besitzen die
Masken Ausrichtungszeichen, und auf den Wagen sind je zwei Antriebe angeordnet, die die Masken winkelmäßig
sowie in der Richtung orientieren, die zur Verschiebungsrichtung des jeweiligen Wagens senkrecht
ist. welche Verschiebung auf Signale des Ausrichtungsgebers hin erfolgt, der auf der Grundplatte
des Koordinatentisches in der unmittelbaren Nähe des Projektionsobjektivs unbeweglich angeordnet ist.
Zur Formierung von Gruppen von einander gleichen Elementen der Musterstruktur sind die Maskenmuster
der Masken in Gestalt von Rastern einander gleicher Vieleckfiguren (bzw. Rechteckfiguren) ausgeführt.
Zum Eindrucken von Elementen der Musterstruktur von nichtrechtwinkligen Formen oder zur Photomontage
besitzt die Maske eines der Wagen einen Satz von Elementen oder Fragmenten topologischer Maskenmuster,
während die Maske des zweiten Wagens eine öffnung aufweist, deren Ränder eines der Fragmente
begrenzt Beim Belichten von geneigten krummen Linien werden Masken angewandt, die runde lichtdurchlässige
Fenster besitzen.
Das Mikrophoto-Setzgerät (Fig. 1) enthält einen Präzisionskoordinatentisch 1 mit einem Sitz zur
Anordnung einer photographisehen Platte 2 sowie zwei
Wagen 3 und 4 mit auswechselbaren Masken 5. die sich /wischen einem Beleuchtungsgerät 6 und einem
Projektionsobjektiv 7 befinden. Die Maske 5 des Wagens 3 befindet sich in der Gegensiandscbcnc des
Projektionsobjektivs 7. F.in Objektiv 8 überführt die Abbildung der Maske 5 des Wagens 4 in dieselbe F.bene.
Auf diese Weise erzeugt das Projektionsobjektiv in der F.bene der photographisehen Platte 2 die Abbildung des
von den zwei Masken gebildeten Musters.
Die beweglichen Wagen 3 und 4 enthalten je einen Prä/isionsantricb 9 mit einem Geber IO für lineare
Verschiebungen auf Diffraktionsgittern sowie einen Antrieb Il /ur Winkel-Orientierung der auswechsclbarcn
Masken 5 und zur Orientierung in der zur Bewegungsrichtung des Wagens senkrechten Richtung.
Zur Kontrolle der Basisstellung der auswechselbaren Masken 5 in bezug auf die optische Achse des
Projektionsobjektiv«, 7 uiiii auf die VtiiciiieuiiiigMii-ii-Hingen
des Koordinatentisches t ist ein photoelcktrischcr Geber 12 /ur Orientierung der Masken nach den
auf sie aufgetragenen Zeichen unbeweglich befestigt.
Das Gerät wird von einem Steuerungssystem gesteuert, das eine elektrische Rechenmaschine enthüll.
Das Gerät arbeitet folgendermaßen:
Beim normalen F.inzclsctzen haben die auswechselbaren Masken 5 der beiden Wagen 3,4 je eine rechteckige
oder vielcoiige Figur. Die Abmessungen dieser Figuren
können, wenn nötig, eine beträchtliche Größe erreichen,
die den Abmessungen des Arbeitsfeldes des Objektivs 7 in der Gegcnstandsebene gleich ist, weil die Verschiebungsgröße
der Wagen 3 und 4 die Abmessungen des Arbeitsfeldes des Objektivs 7 in der Gegenstandsebene
etwas übersteigt. Die erforderliche Verschiebungsgenaiiigkeit
wird von den Gebern 10 für lineare Verschiebungen auf dem ganzen Arbeitslauf der Wagen
3, 4 gewährleistet. Durch die Verschiebung des Wagens 3 längs der einen Koordinate und des Wagens 4 längs
der anderen werden die erforderlichen Abmessungen des der Musterstruktiir zu setzenden Elementes
bestimmt. Durch die Verschiebung des Koordinatentisches 1 in bezug auf die optische Achse des
Projektionsobjektivs 7 wird der erforderliche Abschnitt der photographisehen Platte 2 eingestellt. Darauf wird
belichtet.
Bei der Herstellung von komplizierten Musterstrukturen integrierter Großschaltungen werden in den
Wagen 3 und 4 Masken 5 mit als Rastern dienenden Maskenmustern vieleckiger Figuren (Fig. 2) angeordnet.
Die vieleckigen Maskenmuster werden in den Masken 5 mit einem Schritt angebracht, der gleich oom
Produkt aus dem Schritt periodisch wiederholter Elemente der herzustellenden Musterstrukturen und
dem Verkleinerungsfaktor des Projektionsobjektivs 7 ist oder dieses Produkt um ein Mehrfaches übersteigt,
wenn ein und dieselben Maskenmuster zur Herstellung von Musterstrukturen mit einem unterschiedlichen
Schritt der wiederholten Elemente der Maskenmuster verwendet werden, der ein Vielfaches des minimalen
Schrittes derselben darstellt. In diesem Fall ergibt sich der minimale Schritt der herzustellenden Masken durcli
Verschiebungen des Koordinatentisches 1 und zusätzliche Belichtungen. Wenn beispielsweise mit Hilfe des au;
Maskenmustern bestehenden Rasters auf der Maske Elemente der Musterstruktur erzeugt werden können
die längs einer Koordinate mit einem Schritt vor 100 μπι liegen, so können durch Verschiebung de«
Tisches 1 längs derselben Koordinate um 50 μπι unc
Belichtung neuer Abschnitte der photographischen Platte 2 Llemenie erzeugt werden, deren Schriitabstand
W (im beträgt.
Durch Verschiebung der Wagen 3, 4 jeweils längs der entsprechenden Koordinate werden innerhalb eines
Kasterschritles lies Maskenmustcrs Abmessungen »,ι«
und »/'« 1I ig. 4) jedes l-inzelelementes der Muslerstriiklur
gewählt. Durch Verschiebung der Wagen 3, 4 um einen Betrag der einem oder mehreren Raslerschrittcn
gleicht, werden die Grenzen des Abschninvs. der auf
der photographischen Platte belichtet wird, mit Abmessungen ></;i« und »n« (I'ig. 2) gewählt, die die
Anzahl der /u belichtenden Finzelclemente auf jeder
Koordinate bestimmen.
Auf diese Weise werden Gruppen von !{lementen der
Miislcrslruktiir belichtet.
/in Durchführung der Photomontage wiril im Wagen
3 eine Maske 5 nut Fragmenten lonologischer Muster
(I ig. b) und im Wagen 4 die Maske 5 mit einem
(lichtdurchlässigen) rechtwinkligen Wälilfenstcr solcher Abmessungen angeordnet, dall seine Ränder nur ein
ein/iges Fragment begrenzen. Durch Anordnung der Fragmente der Maske 5 bilden sich auf ihr vertikale und
horizontale Reihen, während das rechtwinklige Wühl· fenster der anderen Maske 5 in der Fcke des
Arbeitsabschnittes liegt. Durch Verschiebung eines der Wagen 3, 4 wird die horizontale und durch Verschiebung
des alitieren die vertikale Reihe gewählt, in denen il.is zur Belichtung bestimmte Fragment befindlich ist.
Der koordiniitcniisch I wird hierbei in die Stellung
gebracht, bei tier tlie Abbildung ties Fragmentes mit
dem vorgegebenen Abschnitt der photographischen Platte 2 zusammenfällt.
/in" Belichtung von Linien unter einem Winkel zu ilen
Verschichungsrichiungcn ties Koordinateiilisches I
werden in den Wagen 3 und 4 Masken 5 mn als
MaskenmiiMcr dienenden runden lichtdurchlässigen
I enslem (I ig. 7) ungeordnet. Die Wagen 3, 4 selbst werden auf liefehle ties Steucrungssystems so eingestellt,
daß die große Symmetrieachse des gebildeten Spaltes in der Veischiebiingsrichtung des Koordinaten
lisches I zu liegen kommt, wobei die Große »r« die
Breite der /u belichtenden Linien bestimmt. Die
Belichtung erfolgt bei ununterbrochener Verschiebung ties Koortlinalentisches I längs einer vorgegebenen
Bahn.
Bei tier Belichtung von krummlinigen Figuren führen tier Koortlinalei'tiscli 1 und die Wagen 3 und 4
abgestimmte Verschiebungen aus. derart, daß tlie Lage des Koortlinatentisches I in jedem Zeilpunkt tlie Bahn
der zu belichtenden Linie bestimmt, während tlie Wagen 3 und 4 so liegen, tlaß die große Symmetrieachse des
Spaltes mit der Verschiebungsriehtiing des lisches 1
zusammenfällt.
Der Halbmesser tier runden Fenster bestimmt den minimalen Abriindungshalbmcsser der zu belichtenden
Linien sow ic deren maximale Breite.
Hierzu 2 Blatt Zeicliminucn
Claims (6)
1. Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von
Musterstrukturen, das eine photographische Platte, die in ihrer Ebene in zwei zueinander senkrechten
Richtungen verschiebbar ist, ein Projektionsobjektiv, ein Beleuchtungsgerät sowie eine Vorrichtung
zur Herstellung einer Abbildung in der Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs enthält,
die auf der photographischen Platte belichtet wird,
dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Herstellung der Abbildung in der
Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs (7) zwei Masken (S) mit jeweils verschiedenen Maskenmustern
enthält, die zwischen dem Projektionsobjektiv (7) und dem Beleuchtungsgerät gegeneinander
verschiebbar angeordnet sind, wobei ihre Abbildungen in der Bildebene des Projektionsobjektivs (7) zur
Deckung kommen, wodurch auf die photographische Platte <2) die Abbildung einer Musterstruktur
projiziert vsiid, die durch Aufeinanderlegen der
Abbildungen der Maskenmuster der beiden Masken (5) erzeugt wird.
2. Mikrophoto-Setzgerät nach Anspruch I, gekennzeichnet durch ein mit Antrieben (9) verbundenes
Steuerungssystem, die die Masken (5) gegeneinander verschieben.
3. Mikrophoto-Setzgerät nach Anspruch I1 dadurch
gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Herstellung der Abbildung einer Musterstruktur in
der Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs (7) ein Objektiv (8) enthält, das zwischen dtn zwei
Masken (5) angebracht ist, deren eine in der
Gegenstandsebene des Projektionsobjektivs (7), und deren zweite in der Gegenstand ".ebene des Objektivs
(8) der Vorrichtung derart angeordnet ist, daß die Abbildung der Maskenmuster der zweiten
Maske vom Objektiv (8) in die Bildebene der ersten Maske übertragen wird.
4. Mikrophoto-Setzgerät nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Belichtung auf
einer photographischen Platte (2) von Gruppen von Musterstrukturen einander gleicher Elemente, die
beiden Masken (5) ein Maskenmuster in Form eines Rasters aus gleichen lichtdurchlässigen Vieleckfiguren
aufweisen, deren Lage die Lage von periodisch wiederholten Elementen der herzustellenden Musterstruktur
bestimmt.
5. Verfahren zur Belichtung von gebogenen und zur Verschiebungsrichtung der Platte geneigten
Linien auf der photographischen Platte unter Anwendung eines. Geräts nach Anspruch 1 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß Masken (5), die ein Maskenmuster in Form von lichtdurchlässigen
Kreisen aufweisen, verwendet und zur Deckung gebracht werden, daß auf die photographische Platte
(2) ein Spalt projiziert wird, der von Segmenten zweier Kreise gebildet ist, wobei die Breite
desselben die Dicke der zu belichtenden Linie bestimmt, und daß die Masken (5) und die
phötögraphisehe Platte (2) ununterbrochen so
verschoben werden, daß die große Symmetrieachse des Spaltes in jedem Zeitaugenblick mit der
Verschiebungsrichtung der Platte (2) zusammenfällt.
6. Mikrophoto-Setzgerät nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Durchführung der
Photomontage die eine Maske (5) einen Satz von topologischen Standardmaskenmustern enthält,
während die andere ein rechtwinkliges lichtdurchlässiges Fenster aufweist, das es gestattet, ein beliebiges
der Maskenmuster auf der photographischen Platte (2) zu belichten.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19732343600 DE2343600C3 (de) | 1973-08-29 | 1973-08-29 | Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von Musterstrukturen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19732343600 DE2343600C3 (de) | 1973-08-29 | 1973-08-29 | Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von Musterstrukturen |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2343600A1 DE2343600A1 (de) | 1975-03-13 |
| DE2343600B2 DE2343600B2 (de) | 1977-07-21 |
| DE2343600C3 true DE2343600C3 (de) | 1978-04-06 |
Family
ID=5891048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19732343600 Expired DE2343600C3 (de) | 1973-08-29 | 1973-08-29 | Mikrophoto-Setzgerät zur Herstellung von Musterstrukturen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2343600C3 (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4675702A (en) * | 1986-03-14 | 1987-06-23 | Gerber Scientific Inc. | Photoplotter using a light valve device and process for exposing graphics |
-
1973
- 1973-08-29 DE DE19732343600 patent/DE2343600C3/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2343600A1 (de) | 1975-03-13 |
| DE2343600B2 (de) | 1977-07-21 |
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