DE2247425B2 - Grundmaterial für Lichtleitfasern - Google Patents
Grundmaterial für LichtleitfasernInfo
- Publication number
- DE2247425B2 DE2247425B2 DE19722247425 DE2247425A DE2247425B2 DE 2247425 B2 DE2247425 B2 DE 2247425B2 DE 19722247425 DE19722247425 DE 19722247425 DE 2247425 A DE2247425 A DE 2247425A DE 2247425 B2 DE2247425 B2 DE 2247425B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- base material
- quartz glass
- gaseous
- sicu
- optical fibers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/0128—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass
- C03B37/01291—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from pulverulent glass by progressive melting, e.g. melting glass powder during delivery to and adhering the so-formed melt to a target or preform, e.g. the Plasma Oxidation Deposition [POD] process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01265—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting entirely or partially from molten glass, e.g. by dipping a preform in a melt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01265—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting entirely or partially from molten glass, e.g. by dipping a preform in a melt
- C03B37/01277—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting entirely or partially from molten glass, e.g. by dipping a preform in a melt by projecting or spraying the melt, e.g. as droplets, on a preform
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03C2201/42—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn containing titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/40—Gas-phase processes
- C03C2203/42—Gas-phase processes using silicon halides as starting materials
- C03C2203/44—Gas-phase processes using silicon halides as starting materials chlorine containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Grundmaterial für Lichtleitfasern.
Für die optische Nachrichtentechnik mit geführten Wellen werden ummantelte Glasfasern mit geringer
Absorption benötigt In dem für die optische Kommunikation interessanten Spektralbereich beruht die Absorption
vor allem auf Verunreinigungen durch Schwermetallionen. Das für den Glasfaserziehprozeß
verwendete Grundmaterial muß deshalb von diesen Verunreinigungen weitgehend frei sein.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, aufzuzeigen, wie ein von Verunreinigungen weitgehend
freies Grundmaterial für Lichtleitfasern erreicht werden kann.
Diese Aufgabe wird durch Verwendung eines getrockneten in einem Reaktionsgefäß mit Siliziumhalogenid
oder Siliziumhalogenid und Titanhalogenid erzeugten hydrolytischen Umsetzungsproduktes als
Grundmaterial für Lichtleitfasern gelöst.
Dadurch wird auch ermöglicht, daß sowohl ein dotiertes Kernmaterial als auch undotiertes Mantelmaterial
einer Lichtleitfaser die erforderliche Reinheit aufweisen.
Vorzugsweise wird zur Herstellung feinkörnigen undotierten oder dotierten Quarzglaspulvers so vorgegangen,
daß gasförmiges SiCU bzw. SiCl4 und gasförmiges TiCU in Wasser eingeleitet wird.
Es kann dabei auch so vorgegangen werden, daß gasförmiges Siliziumhalogenid bzw. Siliziumhalogenid
und Titanhalogenid zusammen mit Kohlendioxid und Wasserstoff oder mit Wasserdampf in das Reaktionsgefäß
eingeleitet wird.
Die Erfindung wird in der nun folgenden Beschreibung näher beschrieben.
Leitet man gasförmiges SiCU in Wasser ein, so bildet
sich Kieselsäure nach folgender Reaktionsgleichung:
Die Kieselsäure fällt dabei als Gel an, das durch Trocknen und Glühen in ein feinkörniges Quarzglaspulver
überführt wird.
ίο Man kann auch das gasförmige Siliziumhalogenid in
geeignetem Mischungsverhältnis zusammen mit Kohlendioxid CO2 und Wasserstoff H2 bzw. mit Wasserdampf
in ein Reaktionsgefäß einleiten, so daß man bei Verwendung von SiCU bei etwa 100O0C Quarzglaspulver
nach folgender Reaktionsgleichung erhält:
bzw.
Hier fällt Quarzglas als feinpulvriger Niederschlag an, der noch einer gründlichen Trocknung unterworfen
werden muß.
Die für diese Herstellung von Quarzglas benötigten Gase SiCU, CO2 und H2 sind in ausreichender Reinheit
im Handel erhältlich. Das Wasser kann durch Mehrfachdestillation in der notwendigen Reinheit erhalten
werden.
Das nach diesem Verfahrensschritt hergestellte undotierte Quarzglaspulver eignet sich als Ausgangsmaterial
für die Herstellung des undotierten Mantelmaterials einer Glasfaser.
Zur Herstellung von dotiertem Quarzglaspulver als Ausgangsmaterial für das dotierte Kernmaterial einer
Glasfaser wird gasförmiges TiCU zusammen mit SiCU in Wasser eingeleitet bzw. zusammen mit CO2 und H2 oder
mit Wasserdampf in ein geeignetes Reaktionsgefäß gebracht, so daß mit Titan dotiertes feinkörniges
Quarzglaspulver erhalten wird. Das dotierte Quarzglaspulver bedarf ebenfalls noch einer gründlichen Trocknung.
Der Grad der Dotierung des Quarzglaspulvers mit Titan bestimmt die Größe des Brechungsindex des aus
diesem Material herzustellenden dotierten Glases.
Aus den nach den vorstehenden Verfahrensschritten hergestellten dotierten und undotierten Quarzglaspulvern
lassen sich beispielsweise nach dem Flammenschmelzverfahren unter Verwendung eines Induktionsplasmabrenners oder eines Knallgas-Brenners dotierte
und undotierte Quarzglasstäbe herstellen. Aus diesen Quarzglasstäben lassen sich dann zum Ziehen einer
so Lichtleitfaser erforderliche Ausgangsstäbe herstellen.
Ein solcher Ausgangsstab kann so hergestellt werden, daß ein dotierter Quarzglasstab mit reinem Quarzglas
ummantelt wird.
Claims (3)
- Patentansprüche:t. Verwendung eines getrockneten, in einem Reaktionsgefäß mit Siliziumhalogenid oder Siüziumhalogenid und Titanhalogenid erzeugten hydrolytischen Umsetzungsproduktes als Grundmaterial für Lichtleitfasern.
- 2. Verwendung nach Anspruch 1, wobei zur Erzeugung des Grundmaterials gasförmiges SiCU oder SiCU und gasförmiges TiCU in Wasser eingeleitet wird.
- 3. Verwendung nach Anspruch 1, wobei zur Erzeugung des Grundmaterials gasförmiges Siliziumhalogenid oder Siliziumhalogenid und Titanhalogenid zusammen mit Kohlendioxid und Wasserstoff oder mit Wasserdampf in das Reaktionsgefäß eingeleitet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722247425 DE2247425B2 (de) | 1972-09-27 | 1972-09-27 | Grundmaterial für Lichtleitfasern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722247425 DE2247425B2 (de) | 1972-09-27 | 1972-09-27 | Grundmaterial für Lichtleitfasern |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2247425A1 DE2247425A1 (de) | 1974-04-11 |
DE2247425B2 true DE2247425B2 (de) | 1981-07-16 |
Family
ID=5857551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722247425 Withdrawn DE2247425B2 (de) | 1972-09-27 | 1972-09-27 | Grundmaterial für Lichtleitfasern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2247425B2 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
DE3206177A1 (de) * | 1982-02-20 | 1983-08-25 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind |
DE3434598A1 (de) * | 1984-09-20 | 1986-03-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von vorformen aus glas fuer lichtleitfasern |
US20030027054A1 (en) * | 2001-08-01 | 2003-02-06 | Ball Laura J. | Method for making photomask material by plasma induction |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE438752A (de) * | 1939-04-22 | |||
CA951555A (en) * | 1970-05-11 | 1974-07-23 | Robert D. Maurer | Glass optical waveguide |
-
1972
- 1972-09-27 DE DE19722247425 patent/DE2247425B2/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2247425A1 (de) | 1974-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3887060T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Glasvorformen für optische Fasern. | |
DE2806931C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung einer durch Flammhydrolyse hergestellten porösen Glasrußvorform in einem Sinterofen | |
DE69601749T2 (de) | Verfahren zur thermischen Behandlung und zum Konsolidieren von Vorformen aus Siliciumdioxid zur Verminderung von durch Laser hervorgerufenen optischen Defekten | |
US4082420A (en) | An optical transmission fiber containing fluorine | |
DE2931092A1 (de) | Verfahren zur herstellung von synthetischem, mit fluor dotiertem siliciumdioxid | |
EP1286926B1 (de) | Verfahren für die herstellung einer optischen faser | |
US4161505A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
US4295869A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
DE3037491C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Glasvorform für optische Fasern | |
US4165152A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
DE3039823A1 (de) | Faseroptischer monomode-wellenleiter | |
DE2247425B2 (de) | Grundmaterial für Lichtleitfasern | |
EP0044526B1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Schicht aus Glas auf einer Innenfläche eines Hohlkörpers | |
DE69900295T2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer optischen Faser | |
EP0116342B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer glasigen Vorform für Lichtwellenleiter | |
DE69008461T2 (de) | Ofen zum Erhitzen der Vorform einer optischen Faser und Verfahren zur Herstellung einer Glasvorform. | |
DE2842586A1 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern niedriger daempfung und hoher numerischer apertur | |
DE2741314B2 (de) | Lichtleitfasern zur Nachrichtenübertragung mit hoher Strahlungsstabilität | |
DE10155134C1 (de) | Verfahren für die Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und Vorform für eine optische Faser | |
DE2247307C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Ausgangsstabes zum Ziehen einer aus einem dotierten Kern und einem undotierten Mantel bestehenden Lichtleitfaser | |
EP0127227A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von optischen Wellenleitern | |
EP0189224A2 (de) | Verfahren zum Entfernen von Wasserstoff aus in Siliziumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid gelösten wasserstoffhaltigen Verbindungen | |
DE3518620A1 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtwellenleitergrundmaterial auf quarzglasbasis | |
EP0175068A2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Aerosolstromes | |
DE2536457C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von synthetischem, OH-Ionen-freiem Quarzglas, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und Verwendung des synthetischen Quarzglases |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
8263 | Opposition against grant of a patent | ||
8239 | Disposal/non-payment of the annual fee |