DE2247425B2 - Grundmaterial für Lichtleitfasern - Google Patents

Grundmaterial für Lichtleitfasern

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Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Grundmaterial für Lichtleitfasern.
Für die optische Nachrichtentechnik mit geführten Wellen werden ummantelte Glasfasern mit geringer Absorption benötigt In dem für die optische Kommunikation interessanten Spektralbereich beruht die Absorption vor allem auf Verunreinigungen durch Schwermetallionen. Das für den Glasfaserziehprozeß verwendete Grundmaterial muß deshalb von diesen Verunreinigungen weitgehend frei sein.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, aufzuzeigen, wie ein von Verunreinigungen weitgehend freies Grundmaterial für Lichtleitfasern erreicht werden kann.
Diese Aufgabe wird durch Verwendung eines getrockneten in einem Reaktionsgefäß mit Siliziumhalogenid oder Siliziumhalogenid und Titanhalogenid erzeugten hydrolytischen Umsetzungsproduktes als Grundmaterial für Lichtleitfasern gelöst.
Dadurch wird auch ermöglicht, daß sowohl ein dotiertes Kernmaterial als auch undotiertes Mantelmaterial einer Lichtleitfaser die erforderliche Reinheit aufweisen.
Vorzugsweise wird zur Herstellung feinkörnigen undotierten oder dotierten Quarzglaspulvers so vorgegangen, daß gasförmiges SiCU bzw. SiCl4 und gasförmiges TiCU in Wasser eingeleitet wird.
Es kann dabei auch so vorgegangen werden, daß gasförmiges Siliziumhalogenid bzw. Siliziumhalogenid und Titanhalogenid zusammen mit Kohlendioxid und Wasserstoff oder mit Wasserdampf in das Reaktionsgefäß eingeleitet wird.
Die Erfindung wird in der nun folgenden Beschreibung näher beschrieben.
Leitet man gasförmiges SiCU in Wasser ein, so bildet sich Kieselsäure nach folgender Reaktionsgleichung:
SiCU + XH2O - SiO2 - XH2O + 4 HCl
Die Kieselsäure fällt dabei als Gel an, das durch Trocknen und Glühen in ein feinkörniges Quarzglaspulver überführt wird.
ίο Man kann auch das gasförmige Siliziumhalogenid in geeignetem Mischungsverhältnis zusammen mit Kohlendioxid CO2 und Wasserstoff H2 bzw. mit Wasserdampf in ein Reaktionsgefäß einleiten, so daß man bei Verwendung von SiCU bei etwa 100O0C Quarzglaspulver nach folgender Reaktionsgleichung erhält:
bzw.
SiCU + 2 CO2 + 2 H2-SiO2 + 4 HCl + 2 CO SiCU + 2 H2O -> SiO2 + 4 HCl
Hier fällt Quarzglas als feinpulvriger Niederschlag an, der noch einer gründlichen Trocknung unterworfen werden muß.
Die für diese Herstellung von Quarzglas benötigten Gase SiCU, CO2 und H2 sind in ausreichender Reinheit im Handel erhältlich. Das Wasser kann durch Mehrfachdestillation in der notwendigen Reinheit erhalten werden.
Das nach diesem Verfahrensschritt hergestellte undotierte Quarzglaspulver eignet sich als Ausgangsmaterial für die Herstellung des undotierten Mantelmaterials einer Glasfaser.
Zur Herstellung von dotiertem Quarzglaspulver als Ausgangsmaterial für das dotierte Kernmaterial einer Glasfaser wird gasförmiges TiCU zusammen mit SiCU in Wasser eingeleitet bzw. zusammen mit CO2 und H2 oder mit Wasserdampf in ein geeignetes Reaktionsgefäß gebracht, so daß mit Titan dotiertes feinkörniges Quarzglaspulver erhalten wird. Das dotierte Quarzglaspulver bedarf ebenfalls noch einer gründlichen Trocknung. Der Grad der Dotierung des Quarzglaspulvers mit Titan bestimmt die Größe des Brechungsindex des aus diesem Material herzustellenden dotierten Glases.
Aus den nach den vorstehenden Verfahrensschritten hergestellten dotierten und undotierten Quarzglaspulvern lassen sich beispielsweise nach dem Flammenschmelzverfahren unter Verwendung eines Induktionsplasmabrenners oder eines Knallgas-Brenners dotierte und undotierte Quarzglasstäbe herstellen. Aus diesen Quarzglasstäben lassen sich dann zum Ziehen einer
so Lichtleitfaser erforderliche Ausgangsstäbe herstellen.
Ein solcher Ausgangsstab kann so hergestellt werden, daß ein dotierter Quarzglasstab mit reinem Quarzglas ummantelt wird.

Claims (3)

  1. Patentansprüche:
    t. Verwendung eines getrockneten, in einem Reaktionsgefäß mit Siliziumhalogenid oder Siüziumhalogenid und Titanhalogenid erzeugten hydrolytischen Umsetzungsproduktes als Grundmaterial für Lichtleitfasern.
  2. 2. Verwendung nach Anspruch 1, wobei zur Erzeugung des Grundmaterials gasförmiges SiCU oder SiCU und gasförmiges TiCU in Wasser eingeleitet wird.
  3. 3. Verwendung nach Anspruch 1, wobei zur Erzeugung des Grundmaterials gasförmiges Siliziumhalogenid oder Siliziumhalogenid und Titanhalogenid zusammen mit Kohlendioxid und Wasserstoff oder mit Wasserdampf in das Reaktionsgefäß eingeleitet wird.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS55100231A (en) * 1979-01-19 1980-07-31 Hitachi Ltd Production of optical fiber base material
DE3206177A1 (de) * 1982-02-20 1983-08-25 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind
DE3434598A1 (de) * 1984-09-20 1986-03-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung von vorformen aus glas fuer lichtleitfasern
US20030027054A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Ball Laura J. Method for making photomask material by plasma induction

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE438752A (de) * 1939-04-22
CA951555A (en) * 1970-05-11 1974-07-23 Robert D. Maurer Glass optical waveguide

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