DE19937859A1 - Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen - Google Patents
Elektrische Versorgungseinheit für PlasmaanlagenInfo
- Publication number
- DE19937859A1 DE19937859A1 DE19937859A DE19937859A DE19937859A1 DE 19937859 A1 DE19937859 A1 DE 19937859A1 DE 19937859 A DE19937859 A DE 19937859A DE 19937859 A DE19937859 A DE 19937859A DE 19937859 A1 DE19937859 A1 DE 19937859A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- supply unit
- unit according
- voltage
- electrodes
- diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32018—Glow discharge
- H01J37/32027—DC powered
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0203—Protection arrangements
- H01J2237/0206—Extinguishing, preventing or controlling unwanted discharges
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
Beschrieben wird eine elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen, wie Plasma-Bearbeitungs- bzw. Beschichtungsvorrichtungen, bei denen es zum Auftreten von Lichtbögen bzw. Durchschlägen zwischen den Elektroden kommen kann, mit DOLLAR A - einer Gleichspannungs- bzw. Gleichstromquelle, deren Ausgangsanschlüsse über wenigstens eine Induktivität und einen Leistungsschalter mit den Elektroden der Plasmaanlage verbunden sind, und DOLLAR A - einer Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen bzw. Durchschlägen, die beim Auftreten eines Lichtbogens bzw. Durchschlags den Schalter derart betätigt, daß keine elektrische Energie mehr an die Elektroden angelegt wird. DOLLAR A Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß die Induktivität(en) jeweils mit einer Freilaufdiode beschaltet ist (sind), und daß der Schalter ein Serienschalter ist.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine elektrische Versor
gungseinheit für Plasmaanlagen, wie Plasma-Bearbeitungs-
bzw. Beschichtungsvorrichtungen, bei denen es zum Auftre
ten von Lichtbögen bzw. Durchschlägen zwischen den Elek
troden kommen kann, gemäß dem Oberbegriff des Patent
anspruchs 1.
Plasmaanlagen, für die die gattungsgemäßen elektrischen
Versorgungseinheiten bestimmt sind, werden beispielsweise
zum Besputtern eingesetzt und haben eine elektrische Lei
stung in der Größenordnung von ca. einigen kW bis zu mehr
als 100 kW. Die an die Elektroden angelegte Betriebsspan
nung liegt dabei typischerweise in der Größenordnung von
400 V. Selbstverständlich sind dabei Abweichungen nach
oben oder unten möglich.
Insbesondere beim sogenannten "reaktiven" Sputtern, das
zum Beispiel zur Herstellung von Oxid- oder Nitrid-Filmen
verwendet wird, ergeben sich Probleme durch das Auftreten
von Durchschlägen und/oder die Bildung isolierender
Schichten auf dem leitenden Target, durch die sich para
sitäre Kondensatoren ausbilden können.
Es sind die verschiedensten passiven und aktiven Schal
tungen bekannt, die zum Löschen von Lichtbögen dienen,
die sich aufgrund von Durchschlägen gebildet haben. Allen
diesen Schaltungen ist gemeinsam, daß für einen bestimm
ten Zeitraum die an die Elektroden angelegte Spannung ab
geschaltet wird. Nur exemplarisch wird hierzu auf die US-
PSen 5,009,764, 5,015,493 und 5,682,067 verwiesen, auf
die im übrigen zur Erläuterung aller hier nicht näher be
schrieben Einzelheiten ausdrücklich Bezug genommen wird.
Die US-PS 5,682,067 beschreibt im übrigen den Stand der
Technik, von dem bei der Formulierung des Oberbegriffs
des Patentanspruchs 1 ausgegangen worden ist.
Nachteilig bei den aus diesen Druckschriften bekannten
Schaltungen ist, daß nach dem Wiedereinschalten der Be
triebsspannung das System eine vergleichsweise lange Zeit
benötigt, um wieder mit "voller Leistung sputtern" zu
können.
Entsprechendes gilt, wenn das System in einem sogenannten
asymmetrischen Pulsbetrieb betrieben wird, um die Bildung
von isolierenden Schichten auf dem Target zu verhindern.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine elektri
sche Versorgungseinheit für Plasmaanlagen anzugeben, bei
der nach dem Wiederanlegen der Betriebsspannung an die
Elektroden das System möglichst schnell seine volle Lei
stung erreicht.
Eine erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Pa
tentanspruch 1 angegeben. Weiterbildungen der Erfindung
sind Gegenstand der Ansprüche 2 folgende.
Erfindungsgemäß wird von einer elektrischen Versorgungs
einheit ausgegangen, die eine Gleichspannungs- bzw.
Gleichstromquelle, deren Ausgangsanschlüsse über wenig
stens eine Induktivität und einen Leistungsschalter mit
den Elektroden der Plasmaanlage verbunden sind, und eine
Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen bzw. Durchschlägen
aufweist, die beim Auftreten eines Lichtbogens bzw. eines
Durchschlags den Schalter derart betätigt, daß keine
elektrische Energie mehr an die Elektroden angelegt wird.
Ausgehend von einer derartigen, bekannten Versorgungsein
heit besteht die Erfindung darin, daß die Induktivi
tät(en) jeweils mit einer Freilaufdiode beschaltet ist
(sind), und daß der Schalter ein Serienschalter ist.
Aufgrund dieser Ausbildung arbeitet die erfindungsgemäße
Versorgungseinheit wie folgt:
Der Schalter, der die an die Elektroden angelegte elek
trische Leistung schaltet, (im folgenden auch als Lei
stungsschalter bezeichnet), öffnet beim Erkennen eines
Lichtbogens den Stromfluß zwischen der Gleichspannungs
quelle und den Elektroden. Die Dioden, die bezogen auf
die normale Betriebsspannung in Sperrrichtung geschaltet
sind, verhindern beim Öffnen des Leistungsschalters, daß
die Spannungen an den Induktivitäten ansteigen und bewir
ken gleichzeitig, daß der Strom in den Induktivitäten nur
sehr langsam abnimmt. Wird der Leistungsschalter bereits
nach kurzer Zeit - typisch sind etwa einige Millisekunden
- wieder eingeschaltet, so steht der in den Induktivitä
ten gespeicherte Strom sofort zur Verfügung, so daß das
System schneller als beim Stand der Technik seine volle
Leistung erreicht. Die erfindungsgemäße Versorgungsein
heit hat damit beim Wiedereinschalten des Leistungsschal
ters eine Stromquellencharakteristik.
Damit sind bei der erfindungsgemäßen elektrischen Versor
gungseinheit die Einbußen in der Leistung aufgrund des
Abschaltens der Betriebsspannung zur Löschung von Licht
bögen wesentlich geringer als beim Stand der Technik.
Diese erfindungsgemäße - im Anspruch 1 angegebene -
Grundschaltung kann unter verschiedenen Aspekten, die
auch miteinander kombiniert werden können, erweitert wer
den:
Insbesondere ist es möglich, in jeder Leitung, die einen
Anschluß der Gleichspannungs- bzw. Gleichstromquelle mit
der jeweils zugeordneten Elektrode verbindet, eine Induk
tivität mit einer zugeordneten Freilaufdiode vorzusehen.
Hierdurch erhält man einen besonders symmetrischen Schal
tungsaufbau. Es ist jedoch möglich, nur eine Induktivität
zu verwenden; in diesem Falle ist auch nur eine Freilauf
diode erforderlich.
Als Schalter können selbstverständlich die unterschied
lichsten Leistungsschalter verwendet werden. Im Hinblick
auf die hohe Leistung ist es jedoch bevorzugt, wenn der
Schalter ein IGBT ist.
Auch als Netzteil können die unterschiedlichsten Netztei
le eingesetzt werden, ebenfalls im Hinblick auf die hohe
Leistung ist es jedoch bevorzugt, wenn die Gleichspan
nungsquelle ein Schaltregler-Netzteil ist.
In diese Falle ist es von Vorteil, wenn zwischen die An
schlüsse der Gleichspannung- bzw. Gleichstromquelle ein
Kondensator geschaltet ist. Dieser Kondensator dient zur
Vermeidung von Spannungsspitzen, die durch die Zulei
tungsinduktivitäten in der Versorgungseinheit auftreten
können. Weiterhin wird dieser Kondensator in der Zeit, in
der der Leistungsschalter abgeschaltet ist, auf die volle
Leerlaufspannung aufgeladen, so daß beim Durchschalten
des Leistungsschalters die volle Spannungen zum Zünden
des Plasmas zur Verfügung steht.
Die erfindungsgemäße Versorgungseinheit läßt sich für die
verschiedensten Plasmaanlagen einsetzen, wie beispiels
weise Plasmaanlagen, bei denen die eine Elektrode wenig
stens eine in einer Plasmakamera angeordnete Kathode auf
weist, und die andere Elektrode das Gehäuse der Plasma
kammer ist. Die erfindungsgemäße Versorgungseinheit hat
darüberhinaus den besonderen Vorteil, daß es auch für
Plasmaanlagen verwendbar ist, bei denen wenigstens zwei
voneinander getrennte Kathoden vorgesehen sind, von denen
jede über einen Serienschalter mit der mit einer Frei
laufdiode beschalteten Induktivität an dem einen Anschluß
der Gleichspannungsquelle verbunden ist.
Bei derartigen Systemen kann beispielsweise zwischen den
Kathoden alternierend umgeschaltet werden. Dies hat den
Vorteil, daß Lichtbögen, die an der einen Kathode "im
Entstehen" sind, zuverlässig in dem vergleichsweise lan
gen Zeitraum gelöscht werden, während dem auf die andere
Kathode umgeschaltet wird. Selbstverständlich ist es aber
auch möglich, gleichzeitig von mehreren Kathoden zu sput
tern.
Bei einer Weiterbildung der Erfindung ist zwischen die
Elektrodenanschlüsse bzw. die Elektrodenpaare eine Diode
geschaltet. Die Funktion dieser Diode wird im folgenden
erläutert:
Beim Öffnen des Leistungsschalters polt die Spannung an
den Zuleitungsinduktivitäten zur Plasmakammer um, so daß
sich ohne weitere Schaltungsmaßnahmen Spannungsspitzen
ergeben würden. Die zwischen die Elektrodenanschlüsse ge
schaltete Diode schließt diese Spannung kurz, so daß die
in den Zuleitungsinduktivitäten gespeicherte Energie ab
gebaut wird.
Weiterhin ist es möglich, ein LC-Glied parallel zu der
Diode zu schalten, das als passives Element die Löschung
des Lichtbogens unterstützt.
Besonders bevorzugt ist es jedoch, wenn die Löschung des
Lichtbogens durch aktive Schaltungselemente unterstützt
wird:
Hierzu kann in Reihe mit der Diode ein Kondensator ge
schaltet sein. Zwischen Kathodenanschluß und den Verbin
dungspunkt Diode/Kondensator ist dann ein weiterer Seri
enschalter geschaltet. Durch diesen Schaltungsaufbau wird
die sich aus der Leitungsinduktivität und dem fließenden
Strom ergebende Energie beim Öffnen des Leistungsschal
ters als Spannung in den Kondensator umgeladen. Nach ei
ner kurzen Verzögerung wird diese Spannung über den wei
teren Serienschalter an die Elektroden angelegt, so daß
der Lichtbogen wesentlich schneller als bei einer passi
ven Schaltung gelöscht wird.
Um auch bei kleinen Leitungsinduktivitäten oder kleinen
Strömen eine entsprechend große invertierte Spannung zum
Löschen zu erhalten, kann ferner eine Inversspannungs
quelle vorgesehen werden.
Diese Inversspannungsquelle kann insbesondere eine
(Hilfs)-Gleichspannungsquelle sein, deren Minuspol mit
der Anode und deren Pluspol über eine in Vorwärtsrichtung
geschaltete Diode mit dem einen Anschluß des weiteren Se
rienschalters verbunden ist.
In jedem Falle ist es bevorzugt, wenn die Schaltung zum
Erkennen von Lichtbögen außer dem Leistungsschalter auch
den weiteren Schalter ansteuert.
Die Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen kann dabei we
nigstens eines der folgenden Kriterien auswerten:
- - Spannungseinbruch,
- - Überschreiten der Maximum-Spannungsgrenze,
- - Unterschreiten der Minimum-Spannungsgrenze
- - Schneller Stromanstieg,
- - Überschreiten der Maximum-Stromgrenze.
Weiterhin kann eine Steuereinheit, die insbesondere Be
standteil der Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen sein
kann, vorgesehen sein, die periodisch die an die Elektro
den angelegte Spannung ab- und bevorzugt umschaltet. Wird
die an die Elektroden angelegte Spannung regelmäßig für
den kurzen Moment umgepolt, so kann die Entstehung von
Lichtbögen wesentlich verringert werden bzw. können
Lichtbögen schon in der Entstehung wieder gelöscht wer
den.
Aufgrund der erfindungsgemäßen Ausbildung, die zu einem
schnellen Erreichen der Leistung führt, führt das regel
mäßige Umpolen der Spannung nur zu einer sehr geringen
Reduzierung der Sputterleistung, sofern die Zeitdauer,
während der die an die Elektroden angelegte Spannung um
geschaltet wird, wesentlich kürzer als die Zeitdauer ist,
während der ein Plasmabetrieb ausgeführt wird. Weiterhin
muß die Zeitdauer, während der die Spannung umgeschaltet
wird, natürlich auch so kurz sein, daß der Strom in dem
Kreis "Induktivität/Freilaufdiode" gespeichert wird.
Die Frequenz, mit der die Steuereinheit die an die Elek
troden angelegte Spannung ab- bzw. umschaltet, kann dabei
bis zu 100 kHz betragen.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die
Zeichnung näher beschrieben, in der zeigen:
Fig. 1 die Schaltung eines ersten Ausführungsbeispiels
der Erfindung,
Fig. 2 ein Spannungs/Zeit-Diagramm zur Erläuterung der
Funktionsweise der in Fig. 1 gezeigten Schal
tung,
Fig. 3 die Schaltung eines zweiten Ausführungsbei
spiels der Erfindung,
Fig. 4 ein Spannungs/Zeit-Diagramm zur Erläuterung der
Funktionsweise der in Fig. 3 gezeigten Schal
tung,
Fig. 5 ein Spannungs/Zeit-Diagramm zur Erläuterung der
Funktionsweise einer Modifikation der in Fig. 3
gezeigten Schaltung,
Fig. 6 die Schaltung eines dritten Ausführungsbei
spiels der Erfindung, und
Fig. 7 ein Spannungs/Zeit-Diagramm zur Erläuterung der
Funktionsweise des dritten Ausführungsbei
spiels.
Fig. 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfin
dung. Die Energieversorgungseinheit weist ein Schaltreg
ler-Netzteil 1 auf, das beispielsweise (d. h. ohne Be
schränkung der Allgemeinheit) eine Gleichspannung von ca.
400 V liefert. Der negative Ausgangsanschluß A- des Netz
teils 1 ist über eine Induktivität L1 und einen als Seri
enschalter ausgebildeten Leistungsschalter V3 mit einer
Kathode K in einer Plasmakammer 2 verbunden, deren Gehäu
se geerdet ist. Der Serienschalter 1 ist bei dem gezeig
ten Ausführungsbeispiel ein IGBT. Der positive Ausgangs
anschluß A+ des Netzteils 1 ist über eine Induktivität L2
mit dem Gehäuse der Plasmakammer 2 verbunden. Dies ist
symbolisch mit GND bezeichnet.
Parallel zu den Induktivitäten L1 und L2 sind erfindungs
gemäß Dioden V1 bzw. V2 geschaltet, die derart gepolt
sind, daß sie beim Plasmabetrieb sperren.
Ferner ist zwischen die Ausgangsanschlüsse A- und A+ ein
Kondensator C1 geschaltet. Zwischen den Kathodenanschluß
und GND ist eine Diode V4 geschaltet, die beim Plasmabe
trieb in Sperrrichtung gepolt ist.
Weiterhin ist eine Schaltung 3 zum Erkennen von Lichtbö
gen bzw. Durchschlägen vorgesehen, die den Serienschalter
V3 über den Ausgangsanschluß "Gate" steuert. Um einen
Lichtbogen - auch als Arc bezeichnet - zu erkennen, mißt
die Schaltung 3 den fließenden Strom I und die Spannung U
und wertet die gemessenen Größen nach folgenden Kriterien
aus:
- - Spannungseinbruch,
- - Überschreiten der Maximum-Spannungsgrenze,
- - Unterschreiten der Minimum-Spannungsgrenze
- - Schneller Stromanstieg,
- - Überschreiten der Maximum-Stromgrenze.
Beim Erkennen eines Lichtbogens wird der Leistungsschal
ter V3 von der Schaltung 3 geöffnet, so daß der Stromfluß
zwischen dem Netzteil 1 und den Elektroden der Plasmakam
mer 2 unterbrochen wird. Beim Öffnen des Leistungsschal
ters polt die Spannung an den Zuleitungsinduktivitäten
zur Plasmakammer 2 um; um zu vermeiden, daß dies zu Span
nungsspitzen führt, werden die Elektroden über die Diode
V4 kurzgeschlossen und die in den Zuleitungsinduktivitä
ten gespeicherte Energie abgebaut. Die Dioden V1 und V2
verhindern zum einen, daß die Spannungen an den Indukti
vitäten L1 und L2 beim Öffnen des Leistungsschalters an
steigen und bewirken gleichzeitig, daß der Strom in den
Induktivitäten nur sehr langsam abnimmt. Die Induktivitä
ten L1 und L2 können auch magnetisch gekoppelt sein. Der
Kondensator C1 dient zur Vermeidung von Spannungsspitzen,
die durch die Zuleitungsinduktivitäten auftreten können.
Im folgenden soll die Funktionsweise der in Fig. 1 ge
zeigten elektrischen Versorgungseinheit unter Bezugnahme
auf Fig. 2, in der ein Spannungs/Zeit-Diagramm darge
stellt ist, näher beschrieben werden:
Zum Zeitpunkt T1 bricht die Spannung U aufgrund eines
Lichtbogens auf die für einen Lichtbogen bzw. Durchschlag
typische Spannung UARC ein. Nach der einstellbaren Verzö
gerungszeit T1-T2 wird der Schalter V3 geöffnet und die
Energiezufuhr unterbrochen. Nach der einstellbaren Licht
bogen-Pause T2-T3 wird der Schalter V3 wieder geschlos
sen, die Spannung steigt bis auf die Zündspannung UZÜND an
und bricht wieder auf die Brennspannung UPLASMA zurück.
Durch die erfindungsgemäß vorgesehenen Freilaufdioden V1
und V2 wird der Generator-Ausgangsstrom zum Zeitpunkt des
Abschaltens gespeichert, so daß beim Wiedereinschalten
der ursprüngliche Betriebszustand sehr schnell wieder er
reicht wird.
Fig. 3 zeigt eine Modifikation des in Fig. 1 gezeigten
Ausführungsbeispiels. Dabei sind gleiche Teile wie in
Fig. 1 mit den selben Bezugszeichen versehen, so daß auf
eine erneute Vorstellung verzichtet wird.
Bei diesem Ausführungsbeispiel ist in Reihe mit der Diode
V4 ein Kondensator C2 geschaltet. Zwischen den Anschluß
der Kathode K und den Verbindungspunkt Diode V4/Kon
densator C2 ist ein weiterer Serienschalter V5 geschal
tet, der ebenfalls von der Schaltung 3 über den Ausgangs
anschluß Gate2 angesteuert wird.
Weiterhin kann optional eine Inversspannungsquelle vorge
sehen sein, die eine (Hilfs)-Gleichspannungsquelle U1
aufweist, die typischerweise eine Spannung von etwa 30 V
liefert. Der Minuspol der Gleichspannungsquelle U1 ist
mit der Anode verbunden, während der Pluspol der Gleich
spannungsquelle U1 über eine im Vorwärtsrichtung geschal
tete Diode V6 mit dem einen Anschluß des weiteren Serien
schalters V5 verbunden ist.
Im folgenden wird die Funktionsweise des in Fig. 3 ge
zeigten zweiten Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf
Fig. 4 näher erläutert, die ein Spannungs/Zeit-Diagramm
zeigt.
Beim Auftreten eines Lichtbogens (Zeitpunkt T1) bricht
die Spannung von der Plasma-Spannung UPlasma auf die
Lichtbogen-Spannung UArc zusammen. Daraufhin öffnet die
Schaltung 3 den Leistungsschalter V3. Durch den mit der
Diode V4 in Reihe geschalteten Kondensator C2 wird die
sich aus der Leitungsinduktivität und dem Strom ergebende
Energie als Spannung in den Kondensator C2 umgeladen. Zum
Zeitpunkt T2 wird diese Spannungen als Inversspannung an
die Elektroden der Plasmakammer 2 angelegt, so daß der
Lichtbogen wesentlich schneller als ohne aktive Löschung
gelöscht wird. Durch die optionale Spannungsquelle U1
kann die angelegte Inversspannung erhöht werden.
Versieht man die Schaltung 3 mit einem zusätzlichen Puls
generator, so kann die an die Plasmakammer angelegte
Spannung regelmäßig für den kurzen Moment umgepolt wer
den. Hierdurch kann die Wahrscheinlichkeit für die Ent
stehung von Lichtbögen wesentlich verringert werden bzw.
Lichtbögen können schon in der Entstehung wieder gelöscht
werden.
Zusätzlich wird verhindert, daß sich beim reaktiven Sput
tern Oxidschichten auf dem Target bilden; weiterhin kön
nen oxidierte Targets freigesputtert werden.
Fig. 5 zeigt schematisch den Spannungsverlauf für diese
Modifikation des in Fig. 3 gezeigten Ausführungsbei
spiels. Die Pulsfrequenzen können je nach verwendetem
Leistungsschalter bis zu 100 kHz betragen.
Fig. 6 zeigt die Schaltung eines dritten Ausführungsbei
spiels der Erfindung, bei der in der Plasmakammer 2 zwei
Kathoden K1 und K2 angeordnet sind, denen jeweils eigene
Leistungsschalter V3 und V5 und Dioden V4 und V6 zugeord
net sind.
Durch gleichzeitiges Einschalten der Leistungsschalter V3
und V5 arbeiten die beiden Kathoden im Parallelbetrieb.
Werden die beiden Schalter abwechselnd eingeschaltet,
kann durch Variationen der Einschaltzeiten die effektive
Leistung der Kathoden geregelt werden. Es sind Umschalt
frequenzen bis zu mehreren kHz möglich.
Fig. 7 zeigt ein Spannungs/Zeit-Diagramm, indem das al
ternierende Einschalten der beiden Schalter schematisch
dargestellt ist. Selbstverständlich können auch mehr als
zwei Kathoden eingesetzt werden.
Die Erfindung ist vorstehend anhand von Ausführungsbei
spielen ohne Beschränkung der Allgemeinheit beschrieben
worden. Insbesondere können die verschiedenen Eigenschaf
ten der Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert wer
den:
So ist es möglich, den Pulsbetrieb, die aktive Löschung
von Lichtbögen und das Umschalten zwischen zwei oder mehr
Kathoden miteinander zu kombinieren.
Claims (18)
1. Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen,
wie Plasma-Bearbeitungs- bzw. Beschichtungsvorrich
tungen, bei denen es zum Auftreten von Lichtbögen
bzw. Durchschlägen zwischen den Elektroden kommen
kann, mit
daß der Schalter ein Serienschalter (V3) ist.
- - einer Gleichspannungs- bzw. Gleichstromquelle, deren Ausgangsanschlüsse über wenigstens eine Induktivität und einen Leistungsschalter mit den Elektroden der Plasmaanlage verbunden sind, und
- - einer Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen bzw. Durchschlägen, die beim Auftreten eines Lichtbogens bzw. Durchschlags den Schalter der art betätigt, daß keine elektrische Energie mehr an die Elektroden angelegt wird,
daß der Schalter ein Serienschalter (V3) ist.
2. Versorgungseinheit nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß in jeder Leitung, die
einen Anschluß der Gleichspannungs- bzw. Gleich
stromquelle (1) mit der jeweils zugeordneten Elek
trode (Kathode, GND) verbindet, eine Induktivität
(L1, L2) mit einer zugeordneten Freilaufdiode (V1,
V2) vorgesehen ist.
3. Versorgungseinheit nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schalter (V3) ein
IGBT ist.
4. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gleichspannungsquel
le ein Schaltregler-Netzteil (1) ist.
5. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen die Anschlüsse
(A-, A+) der Gleichspannung- bzw. Gleichstromquelle
(1) ein Kondensator (C1) geschaltet ist.
6. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die eine Elektrode we
nigstens eine in einer Plasmakamera angeordnete Ka
thode aufweist, und die andere Elektrode das Gehäuse
der Plasmakammer (GND) ist.
7. Versorgungseinheit nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens zwei vonein
ander getrennte Kathoden (Kathode 1, Kathode 2) vor
gesehen sind, von denen jede über einen Serienschal
ter (V3, V5) mit der mit einer Freilaufdiode be
schalteten Induktivität (L1) verbunden ist.
8. Versorgungseinheit nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Kathoden
alternierend umgeschaltet wird.
9. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen die Elektroden
anschlüsse eine Diode (V4) geschaltet ist.
10. Versorgungseinheit nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß in Reihe mit der Diode
(V4) ein Kondensator (C2) geschaltet ist, und
daß zwischen Kathodenanschluß und den Verbindungs
punkt Diode (V4)/Kondensator (C2) ein weiterer Seri
enschalter (V5) geschaltet ist.
11. Versorgungseinheit nach Anspruch 9 oder 10,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Inversspannungs
quelle vorgesehen ist.
12. Versorgungseinheit nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Inversspannungsquel
le eine (Hilfs)-Gleichspannungsquelle (U1), deren
Minuspol mit der Anode und deren Pluspol über eine
im Vorwärtsrichtung geschaltete Diode (V6) mit dem
einen Anschluß des weiteren Serienschalters (V5)
verbunden ist.
13. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis
12,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schaltung (3) zum
Erkennen von Lichtbögen außer dem Leistungsschalter
(V3) auch den weiteren Schalter (V5) ansteuert.
14. Versorgungseinheit nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schaltung zum Erken
nen von Lichtbögen wenigstens eines der folgenden
Kriterien auswertet:
- - Spannungseinbruch,
- - Überschreiten der Maximum-Spannungsgrenze,
- - Unterschreiten der Minimum-Spannungsgrenze
- - Schneller Stromanstieg,
- - Überschreiten der Maximum-Stromgrenze.
15. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 1 bis
14,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Steuereinheit vor
gesehen ist, die periodisch die an die Elektroden
angelegte Spannung ab- und bevorzugt umschaltet.
16. Versorgungseinheit nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz, mit der
die Steuereinheit die an die Elektroden angelegte
Spannung ab- bzw. umschaltet, bis zu 100 kHz be
trägt.
17. Versorgungseinheit nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Zeitdauer, während
der die an die Elektroden angelegte Spannung umge
schaltet wird, wesentlich kürzer als die Zeitdauer
ist, während der ein Plasmabetrieb ausgeführt wird.
18. Versorgungseinheit nach einem der Ansprüche 15 bis
17,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuereinheit Be
standteil der Schaltung zum Erkennen von Lichtbögen
ist.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19937859A DE19937859C2 (de) | 1999-08-13 | 1999-08-13 | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
AT00965751T ATE421764T1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
US09/807,303 US6621674B1 (en) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Electric supply unit for plasma installations |
EP08170189.8A EP2026376B1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
EP00965751A EP1121705B1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
EP08170182.3A EP2026375B1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
PCT/DE2000/002741 WO2001013402A1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
DE50015528T DE50015528D1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19937859A DE19937859C2 (de) | 1999-08-13 | 1999-08-13 | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19937859A1 true DE19937859A1 (de) | 2001-03-15 |
DE19937859C2 DE19937859C2 (de) | 2003-06-18 |
Family
ID=7917929
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19937859A Expired - Lifetime DE19937859C2 (de) | 1999-08-13 | 1999-08-13 | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
DE50015528T Expired - Lifetime DE50015528D1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE50015528T Expired - Lifetime DE50015528D1 (de) | 1999-08-13 | 2000-08-13 | Elektrische versorgungseinheit für plasmaanlagen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6621674B1 (de) |
EP (3) | EP2026376B1 (de) |
AT (1) | ATE421764T1 (de) |
DE (2) | DE19937859C2 (de) |
WO (1) | WO2001013402A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1720195A1 (de) * | 2005-05-06 | 2006-11-08 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Arcunterdrückungsanordnung |
DE102006043900A1 (de) * | 2006-09-19 | 2008-04-10 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Plasmaanlage |
DE102006043898A1 (de) * | 2006-09-19 | 2008-04-17 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Plasmaanlage |
DE102010038605A1 (de) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Zündschaltung zum Zünden eines mit Wechselleistung gespeisten Plasmas |
Families Citing this family (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7981257B2 (en) * | 2002-04-12 | 2011-07-19 | Schneider Electric USA, Inc. | Current-based method and apparatus for detecting and classifying arcs |
US7988833B2 (en) * | 2002-04-12 | 2011-08-02 | Schneider Electric USA, Inc. | System and method for detecting non-cathode arcing in a plasma generation apparatus |
US7147759B2 (en) * | 2002-09-30 | 2006-12-12 | Zond, Inc. | High-power pulsed magnetron sputtering |
DE10341717A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-05-25 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Anordnung für n Verbraucher elektrischer Energie, von denen m Verbraucher gleichzeitig mit Energie versorgt werden |
US9771648B2 (en) | 2004-08-13 | 2017-09-26 | Zond, Inc. | Method of ionized physical vapor deposition sputter coating high aspect-ratio structures |
US7095179B2 (en) * | 2004-02-22 | 2006-08-22 | Zond, Inc. | Methods and apparatus for generating strongly-ionized plasmas with ionizational instabilities |
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
US6943317B1 (en) | 2004-07-02 | 2005-09-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus and method for fast arc extinction with early shunting of arc current in plasma |
US7081598B2 (en) * | 2004-08-24 | 2006-07-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | DC-DC converter with over-voltage protection circuit |
US7305311B2 (en) * | 2005-04-22 | 2007-12-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc detection and handling in radio frequency power applications |
EP1801946B1 (de) * | 2005-12-22 | 2009-01-21 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess |
WO2008100318A1 (en) * | 2006-03-17 | 2008-08-21 | Schneider Automation Inc. | Current-based method and apparatus for detecting and classifying arcs |
US7514935B2 (en) * | 2006-09-13 | 2009-04-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | System and method for managing power supplied to a plasma chamber |
ATE448562T1 (de) | 2006-11-23 | 2009-11-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum erkennen einer bogenentladung in einem plasmaprozess und bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
EP1928009B1 (de) * | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
DE502006009308D1 (de) | 2006-12-14 | 2011-05-26 | Huettinger Elektronik Gmbh | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
US8217299B2 (en) * | 2007-02-22 | 2012-07-10 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc recovery without over-voltage for plasma chamber power supplies using a shunt switch |
EP1978542B1 (de) | 2007-03-08 | 2010-12-29 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zum Unterdrücken von Bogenentladungen beim Betreiben eines Plasmaprozesses |
EP1995818A1 (de) * | 2007-05-12 | 2008-11-26 | Huettinger Electronic Sp. z o. o | Schaltung und Verfahren zur Reduzierung der in einer Zuleitungsinduktivität gespeicherten elektrischen Energie zur schnellen Plasmalichtbogenlöschung |
ATE547804T1 (de) * | 2007-12-24 | 2012-03-15 | Huettinger Electronic Sp Z O O | Stromänderungsbegrenzungsvorrichtung |
US20090308734A1 (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-17 | Schneider Automation Inc. | Apparatus and Method for Wafer Level Arc Detection |
US9613784B2 (en) | 2008-07-17 | 2017-04-04 | Mks Instruments, Inc. | Sputtering system and method including an arc detection |
US8044594B2 (en) | 2008-07-31 | 2011-10-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | Power supply ignition system and method |
US8395078B2 (en) * | 2008-12-05 | 2013-03-12 | Advanced Energy Industries, Inc | Arc recovery with over-voltage protection for plasma-chamber power supplies |
EP2790205B1 (de) * | 2009-02-17 | 2018-04-04 | Solvix GmbH | Stromversorgungsvorrichtung zur Plasmabearbeitung |
DE202010001497U1 (de) * | 2010-01-29 | 2010-04-22 | Hauzer Techno-Coating B.V. | Beschichtungsvorrichtung mit einer HIPIMS-Leistungsquelle |
DE102010031568B4 (de) | 2010-07-20 | 2014-12-11 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Arclöschanordnung und Verfahren zum Löschen von Arcs |
US8552665B2 (en) | 2010-08-20 | 2013-10-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Proactive arc management of a plasma load |
US9279722B2 (en) | 2012-04-30 | 2016-03-08 | Agilent Technologies, Inc. | Optical emission system including dichroic beam combiner |
DE102013202428A1 (de) * | 2013-02-14 | 2014-08-14 | Trumpf Huettinger Sp. Z O. O. | Leistungsversorgungsanordnung zur Versorgung industrieller Prozesse mit Leistung |
EP3035365A1 (de) | 2014-12-19 | 2016-06-22 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Verfahren zur Erfassung eines Lichtbogens während der Energieversorgung eines Plasmaverfahrens, Steuereinheit für eine Plasma-Energieversorgung und Plasma-Energieversorgung |
EP3054472A1 (de) | 2015-02-03 | 2016-08-10 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Lichtbogenbehandlungsvorrichtung und Verfahren dazu |
CN106253256B (zh) * | 2016-08-04 | 2018-12-04 | 浙江大学 | 一种高压脉冲电场液态食品灭菌的处理室击穿消弧电路 |
CN106646199B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-08-09 | 西安科技大学 | 电感电路分断电弧放电时间检测电路及方法 |
CN106771940B (zh) * | 2017-03-01 | 2019-06-18 | 西安科技大学 | 采用信号分相检测电感分断电弧维持时间的电路及方法 |
CN106707005B (zh) * | 2017-03-01 | 2019-10-08 | 西安科技大学 | 感性电路断开电弧起止时刻检测电路及方法 |
WO2019099925A1 (en) | 2017-11-17 | 2019-05-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing |
JP7235761B2 (ja) | 2017-11-17 | 2023-03-08 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | プラズマ処理源および基板バイアスの同期パルス化 |
US10555412B2 (en) | 2018-05-10 | 2020-02-04 | Applied Materials, Inc. | Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage |
US11476145B2 (en) | 2018-11-20 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias |
KR20210107716A (ko) | 2019-01-22 | 2021-09-01 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 펄스 전압 파형을 제어하기 위한 피드백 루프 |
US11508554B2 (en) | 2019-01-24 | 2022-11-22 | Applied Materials, Inc. | High voltage filter assembly |
JP2022541004A (ja) * | 2019-07-12 | 2022-09-21 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | 単一制御型スイッチを伴うバイアス供給装置 |
US11462389B2 (en) | 2020-07-31 | 2022-10-04 | Applied Materials, Inc. | Pulsed-voltage hardware assembly for use in a plasma processing system |
US11901157B2 (en) | 2020-11-16 | 2024-02-13 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for controlling ion energy distribution |
US11798790B2 (en) | 2020-11-16 | 2023-10-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for controlling ion energy distribution |
US11495470B1 (en) | 2021-04-16 | 2022-11-08 | Applied Materials, Inc. | Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma |
US11791138B2 (en) | 2021-05-12 | 2023-10-17 | Applied Materials, Inc. | Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing |
US11948780B2 (en) | 2021-05-12 | 2024-04-02 | Applied Materials, Inc. | Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing |
US11967483B2 (en) | 2021-06-02 | 2024-04-23 | Applied Materials, Inc. | Plasma excitation with ion energy control |
US20220399185A1 (en) | 2021-06-09 | 2022-12-15 | Applied Materials, Inc. | Plasma chamber and chamber component cleaning methods |
US11810760B2 (en) | 2021-06-16 | 2023-11-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method of ion current compensation |
US11569066B2 (en) | 2021-06-23 | 2023-01-31 | Applied Materials, Inc. | Pulsed voltage source for plasma processing applications |
US11776788B2 (en) | 2021-06-28 | 2023-10-03 | Applied Materials, Inc. | Pulsed voltage boost for substrate processing |
US11476090B1 (en) | 2021-08-24 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Voltage pulse time-domain multiplexing |
US11694876B2 (en) | 2021-12-08 | 2023-07-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing |
US11670487B1 (en) | 2022-01-26 | 2023-06-06 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply control and data processing |
US11942309B2 (en) | 2022-01-26 | 2024-03-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Bias supply with resonant switching |
US12046448B2 (en) | 2022-01-26 | 2024-07-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Active switch on time control for bias supply |
US11972924B2 (en) | 2022-06-08 | 2024-04-30 | Applied Materials, Inc. | Pulsed voltage source for plasma processing applications |
US11978613B2 (en) | 2022-09-01 | 2024-05-07 | Advanced Energy Industries, Inc. | Transition control in a bias supply |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3700633C2 (de) * | 1987-01-12 | 1997-02-20 | Reinar Dr Gruen | Verfahren und Vorrichtung zum schonenden Beschichten elektrisch leitender Gegenstände mittels Plasma |
DE3942560C2 (de) * | 1989-12-22 | 1996-05-02 | Dressler Hochfrequenztechnik G | Hochfrequenz-Generator für einen Plasma erzeugenden Verbraucher |
US5009765A (en) * | 1990-05-17 | 1991-04-23 | Tosoh Smd, Inc. | Sputter target design |
DE9109503U1 (de) | 1991-07-31 | 1991-10-17 | Magtron Magneto Elektronische Geraete Gmbh, 7583 Ottersweier | Schaltungsanordnung für ein Stromversorgungsgerät für Geräte und Anlagen der Plasma- und Oberflächentechnik |
DE4127505C2 (de) * | 1991-08-20 | 2003-05-08 | Unaxis Deutschland Holding | Einrichtung zur Unterdrückung von Lichtbögen in Gasentladungsvorrichtungen |
DE4230779C2 (de) * | 1992-09-15 | 1996-05-30 | Leybold Ag | Anordnung zur Verhinderung von Lichtbögen in einer Vakuum-Beschichtungsanlage |
US5347571A (en) * | 1992-10-06 | 1994-09-13 | Picker International, Inc. | X-ray tube arc suppressor |
DE4239218C2 (de) * | 1992-11-21 | 2000-08-10 | Leybold Ag | Anordnung zum Verhindern von Überschlägen in einem Plasma-Prozeßraum |
DE4339218C2 (de) | 1993-11-18 | 1996-07-18 | Freudenberg Carl Fa | Planetengetriebe für den Antrieb von Nebenaggregaten |
DE4438463C1 (de) * | 1994-10-27 | 1996-02-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Schaltung zur bipolaren pulsförmigen Energieeinspeisung in Niederdruckplasmen |
US5584974A (en) * | 1995-10-20 | 1996-12-17 | Eni | Arc control and switching element protection for pulsed dc cathode sputtering power supply |
US5882492A (en) * | 1996-06-21 | 1999-03-16 | Sierra Applied Sciences, Inc. | A.C. plasma processing system |
US5682067A (en) * | 1996-06-21 | 1997-10-28 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Circuit for reversing polarity on electrodes |
DE69841671D1 (de) * | 1997-02-20 | 2010-07-01 | Shibaura Mechatronics Corp | Stromversorgungseinheit für sputtervorrichtung |
US5889391A (en) * | 1997-11-07 | 1999-03-30 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Power supply having combined regulator and pulsing circuits |
US6195273B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-02-27 | Switch Power, Inc. | Converter with continuous current flowing through secondary windings |
-
1999
- 1999-08-13 DE DE19937859A patent/DE19937859C2/de not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-13 AT AT00965751T patent/ATE421764T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-08-13 EP EP08170189.8A patent/EP2026376B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-13 WO PCT/DE2000/002741 patent/WO2001013402A1/de active Application Filing
- 2000-08-13 EP EP00965751A patent/EP1121705B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-13 EP EP08170182.3A patent/EP2026375B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-13 US US09/807,303 patent/US6621674B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-13 DE DE50015528T patent/DE50015528D1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1720195A1 (de) * | 2005-05-06 | 2006-11-08 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Arcunterdrückungsanordnung |
DE102006043900A1 (de) * | 2006-09-19 | 2008-04-10 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Plasmaanlage |
DE102006043898A1 (de) * | 2006-09-19 | 2008-04-17 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Plasmaanlage |
DE102006043900B4 (de) * | 2006-09-19 | 2008-09-18 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Plasmaanlage |
DE102010038605A1 (de) * | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Zündschaltung zum Zünden eines mit Wechselleistung gespeisten Plasmas |
DE102010038605B4 (de) * | 2010-07-29 | 2012-06-14 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Zündschaltung zum Zünden eines mit Wechselleistung gespeisten Plasmas |
US8890413B2 (en) | 2010-07-29 | 2014-11-18 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Ignition circuit for igniting a plasma fed with alternating power |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2026376B1 (de) | 2013-10-16 |
DE50015528D1 (de) | 2009-03-12 |
US6621674B1 (en) | 2003-09-16 |
EP2026375A2 (de) | 2009-02-18 |
DE19937859C2 (de) | 2003-06-18 |
EP2026376A2 (de) | 2009-02-18 |
EP1121705A1 (de) | 2001-08-08 |
EP2026375A3 (de) | 2009-11-04 |
EP1121705B1 (de) | 2009-01-21 |
ATE421764T1 (de) | 2009-02-15 |
EP2026375B1 (de) | 2014-06-11 |
EP2026376A3 (de) | 2009-11-11 |
WO2001013402A1 (de) | 2001-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19937859C2 (de) | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen | |
DE4438463C1 (de) | Verfahren und Schaltung zur bipolaren pulsförmigen Energieeinspeisung in Niederdruckplasmen | |
DE69629422T2 (de) | Hochspannungsimpulsgenerator | |
WO2015192924A1 (de) | Trennschalter zur gleichstromunterbrechung | |
DE3403619C2 (de) | ||
DE2310448A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum schutz eines elektronischen schalters | |
DE2208431A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Zünden einer Schaltrohre mit gekreuzten Feldern | |
DE4302406C2 (de) | Stromversorgungseinheit zur funkenerosiven Bearbeitung | |
DE69510717T2 (de) | Überstromschutzvorrichtung | |
DE1922768A1 (de) | Stromversorgungseinrichtung fuer das Funkenerodieren von elektrisch leitenden Werkstuecken | |
EP3915127A1 (de) | Gleichstrom-schutzschaltgerät | |
CH700002B1 (de) | Verfahren und Anordnung zum redundanten Anoden-Sputtern mit einer Dual-Anoden-Anordnung. | |
DE2816338A1 (de) | Steuerschaltung fuer einen elektromagnetischen kontaktgeber | |
EP1366502B1 (de) | Elektrische schaltung zur vermeidung eines lichtbogens über einem elektrischen kontakt | |
EP3453042B1 (de) | Schaltvorrichtung zum führen und trennen von elektrischen strömen | |
DE19515335A1 (de) | Bremseinrichtung für einen Reihenschluß-Kommutatormotor | |
EP1480241B1 (de) | Verfahren zur Abschaltung von Gleichströmen und Gleichstrom-Schnellschalteinrichtung für Bahnstromversorgungen | |
DE69602348T2 (de) | Leistungsversorgungseinrichtung mit verbessertem wirkungsgrad | |
DE1913548A1 (de) | Gleichstrom-Hochspannungsunterbrecher | |
EP1553686B1 (de) | Hochspannungs-Gleichstromversorgung sowie Verfahren zum Betrieb einer solchen Hochspannungs-Gleichstromversorgung | |
DE69606143T2 (de) | Elektrische Stromversorgungsvorrichtung für eine Anordnung von Elektronenröhren | |
DE10218806B4 (de) | Gleichstrom-Schnellschalteinrichtung für Bahnstromversorgungen und Verfahren zur Abschaltung von Gleichströmen | |
DE69809632T2 (de) | Schneller, als Anordnung elementarer Thyristoren realisierter Schalter mit hoher Gleichspannungs- und Gleichstromfestigkeit | |
DE10215095C1 (de) | Excimer-Laser mit Energierückgewinnungsvorrichtung | |
DE102023102236A1 (de) | Schaltgerät zum elektrischen Ein- und Ausschalten einer mit einer Gleichspannungs-Versorgungseinrichtung verbindbaren elektrischen Last |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8304 | Grant after examination procedure | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: TRUMPF HUETTINGER GMBH + CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG, 79111 FREIBURG, DE Effective date: 20130801 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: LOHR, GEORG, DIPL.-ING.UNIV. DR.-ING., DE Effective date: 20130801 |
|
R071 | Expiry of right |