DE19723618A1 - Maske und Verfahren zum Belichten von flexographischen Platten - Google Patents
Maske und Verfahren zum Belichten von flexographischen PlattenInfo
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf den Druckbereich und insbesondere
auf das Herstellen von photopolymeren, flexographischen
Druckplatten.
Beim Herstellen flexographischer Platten unter Verwendung von
Photopolymeren werden Masken über einem Photopolymer angeordnet.
Das Photopolymer kann flüssig oder fest sein. Das Photopolymer
wird durch den Film bzw. die Maske für einige wenige Minuten
mittels eines Hochleistungs-Ultraviolett-(UV)-Lichtes belichtet.
Die freien, durchlässigen Bereiche in den Masken ermöglichen,
daß UV-Licht hindurchtritt und das Photopolymer härtet (d. h.
vernetzt). Für beste Ergebnisse sind für verschiedene Bereiche
in dem Bild verschiedene Belichtungen erforderlich. Zum Beispiel
ist ein einzelner Punkt auf dem Film, der von weiten, freien
Flächen umgeben ist, gegen eine Überbelichtung empfindlich, da
zuviel Licht den Bildpunkt aufgrund einer Lichtableitung in das
Polymer unter dem Punkt verschwinden läßt. Geschwärzte Bereiche
auf dem Film werden zu nichtdruckenden Flächen auf der Platte,
da das Polymer nicht härtet und bei der Weiterverarbeitung
weggewaschen oder entfernt wird. Das Gegenteil gilt für einen
einzelnen freien Punkt in der Mitte einer großen schwarzen
Fläche des Films. Der freie Punkt wird nicht ausreichend
belichtet. Dieses Problem ist in der Industrie bekannt und die
übliche Lösung besteht darin, kleine Teile eines undurchlässigen
Materials als Masken zu verwenden, die während des
Belichtungsprozesses wohlüberlegt dort herumbewegt werden.
Dieser Vorgang ist zeitraubend und erfordert eine erfahrene
Bedienperson, um die kleinen, lichtblockierenden Masken auf der
Oberseite der Hauptmaske anzuordnen und diese zum geeigneten
Punkt bei der Belichtung zu entfernen.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine verbesserte Maske
zu schaffen, um in der Lage zu sein, die ganze flexographische
Platte mit einer einzigen Belichtungsvorgang zu belichten.
Ferner soll eine flexographische Druckplatte mit einer höheren
Auflösung als derzeit möglich geschaffen werden.
Diese Aufgabe wird durch eine Maske bzw. ein Verfahren zum
Herstellen einer Maske gemäß den Merkmalen der Ansprüche 1
bzw. 28 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand von
Unteransprüchen.
Insbesondere wird hierbei eine Maske mit durchlässigen und
undurchsichtigen Bereichen und Lichtmodifiziermitteln relativ zu
diesen durchsichtigen und undurchsichtigen Bereichen für eine
Anwendung beim Belichten (mit einer abbildenden Strahlung) einer
flexographischen Druckplatte mit Photopolymer geschaffen. Die
Lichtmodifiziermittel modifizieren die Lichtbahn bzw. die
Lichtmenge zum Photopolymer auf der flexographischen Platte, um
Verzerrungseffekte zu kompensieren. Die Verzerrungs- bzw.
Verformungseffekte können eine Folge kleiner Strukturelemente
bei Trennungs- oder Annäherungseffekten sein.
Derartige Verzerrungen aufgrund von eng benachbarten
Strukturelementen können nunmehr durch das Erzeugen einer
Belichtungsmodifizierung in der Maske, insbesondere in Form
einer verformten Randzone korrigiert werden.
Verzerrungen aufgrund von isoliert liegenden Strukturelementen
können durch das Erzeugen einer Belichtungsmodifizierung in Form
eines Rings um das Strukturelement herum insofern korrigiert
werden, als daß der Ring neben dem Strukturelement eine höhere
optische Dichte aufweist und zum Rand des Rings hin eine
geringere optische Dichte aufweist.
Man kann auch Korrekturen derartiger Verzerrungen in Nähe der
isolierten Strukturelemente unter Verwendung von Anpassungen bei
der Maske erzeugen, die ausreichend klein sind, um jenseits der
Auflösung des Photopolymers zu liegen, so daß eine allgemeine
Dämpfung des abbildenden Lichtes erzielt wird.
Die Maske kann ein integrales Teil der Platte sein, oder die
Maske kann von der Platte getrennt ausgebildet werden. Die Maske
kann wärmeaktivierbar sein, und die Wärme kann mittels
Infrarot-Laserenergie bereitgestellt werden.
Die Belichtungsmodifizierung kann durch eine lichtdämpfende
Einrichtung erfolgen, die hinsichtlich der Undurchlässigkeit
zwischen freien und undurchlässigen Bereichen liegt. Die Stärke
der Dämpfung kann proportional zur bereitgestellten Wärmemenge
sein.
Hinsichtlich des Verfahrens wird insbesondere das Maskieren
einer flexographischen Platte mit einem Photopolymer vorgesehen,
das das Bestimmen der Bereiche, für die eine
Verzerrungskorrektur erforderlich ist, und der Lichtmenge
aufweist, für die eine Dämpfung oder Verstärkung benötigt wird.
Lichtmodifizierer werden in Bereichen der Maske zum Korrigieren
der Verzerrung vorgesehen, und dann wird die flexographische
Platte durch die Maske mit abbiidendem Licht belichtet.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand der
Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 einen Querschnitt einer Maske des Standes der Technik
beim Belichten von Photopolymer-Flexographie-Platten;
Fig. 2 einen Querschnitt durch den Aufbau einer
erfindungsgemäßen Maske;
Fig. 3a eine Draufsicht der Maske, die eine
Annäherungskorrektur darstellt;
Fig. 3b eine Platte nach der Annäherungskorrektur mit der in
Fig. 3a dargestellten Maske; und
Fig. 4 eine Draufsicht der Maske, die Pixelpunkte darstellt,
die zum Bewirken einer Lichtdämpfung verwendet werden.
Wie aus dem Vergleich der Fig. 1 und 2 ersichtlich, besteht eine
flexographische Druckplatte im wesentlichen aus einer
Photopolymerschicht 1, sowie ggf. einer elastomeren Schicht 2
(die die gleiche Zusammensetzung wie die Schicht 1 aufweisen
kann) und einer Trägerschicht 3 für eine erhöhte Formstabilität.
Die Schicht 3 ist typischerweise ein Polymermaterial, könnte
aber auch eine Metallschicht sein. Die Platte 1 wird durch den
Film oder eine Maske 5 unter Verwendung parallelgerichteten
UV-Lichtes 7 belichtet. Bei einigen Anwendungen wird nicht
parallelgerichtetes Licht verwendet, jedoch ist für eine
hochqualitative Halbtonarbeit parallelgerichtetes Licht
erforderlich. Für beste Leistung hinsichtlich verschiedener
Bereiche in dem Bild (z. B. Hervorhebungen bzw. helle Bereiche
und Schatten) sind verschiedene Belichtungsmengen erforderlich.
Traditionell wurde dieses durch Verdunkeln bzw. Abdecken der
Bereiche, für die weniger Licht erforderlich ist, für einen Teil
der Belichtungszeit unter Verwendung eines undurchsichtigen
Gegenstands (Bezugszeichen 6 in Fig. 1) durchgeführt. Für die
Anordnung und die Bestimmung der Auflagedauer des
undurchsichtigen Gegenstands 6 ist jedoch eine beträchtliche
Erfahrung erforderlich.
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist ein
Lichtmodifizierer 9, der in diesem Fall ein
Lichtdämpfungselement oder ein Licht teilweise absorbierendes
Element ist, unmittelbar in der Maskenschicht 5 ausgebildet bzw.
erzeugt. Die Anordnung und die Dichte dieses
Modifizierungselements 9 wird vorausberechnet, wenn der Film
bzw. die Schicht erzeugt wird. Die allgemeine Regel lautet, daß
klare bzw. durchsichtige Bereiche um kleine isolierte
Strukturmerkmale auf der Maske herum eine Dämpfung erforderlich
machen. Daher ist für einen hochbelichteten Bereich auf der
gedruckten Seite um ein isoliertes Strukturmerkmal herum (ein
hochbelichteter Bereich entspricht einem Bereich der Platte
unter einer freien Fläche auf der Maske) weniger Licht
erforderlich als in einem anderswo liegenden hochbelichteten
Bereich. Sogar eine sehr vereinfachte Regel, beispielsweise das
Herabsetzen der die Maske 5 durchstrahlenden Belichtungsmenge um
30%-50% in hochbelichteten Bereichen, erzielt eine große
Verbesserung. Für eine genauere Berechnung der Lage und Dichte
der Lichtmodifizierungselemente 9 kann eine genaue Modellierung
der Photopolymerisierung verwendet werden. Zum Beispiel kann ein
kommerziell verfügbares Programm, das als PROLITH 3D (TM)
bekannt ist, für diesen Zweck verwendet werden. Da die Dämpfung
bzw. Belichtungsmodifizierung zuvor berechnet und in die Schicht
eingebaut ist, ist zum Optimieren der Belichtung keine weitere
Arbeit oder Entscheidung mehr erforderlich. Damit wird das
"Zustecken" kleiner, nichtdruckender Bereiche 8 vermieden, und
eine höhere Abschirmungs- bzw. Abdeckungslinierung kann
verwendet werden.
Wenn der Maskenfilm 5 konventionell hergestellt ist
(Silberhalid), ist es schwierig, eine hohe Schärfe, wie sie bei
Halbtonarbeit erforderlich ist, zusammen mit einer
veränderlichen Dämpfung (Grauskalierung) zu erzielen, wodurch
die Erfindung etwas schwierig auf die Praxis zu übertragen ist.
Die technische Umsetzung steht jedoch gerade bevor, wenn
thermische Schichten verwendet werden. Thermische Schichten sind
Schichten, die eher durch Wärme als durch Licht aktiviert
werden. Einige der verfügbaren thermischen Schichten und
insbesondere Produkte, die durch die Kodak Co. (Rochester, NY)
und Imation (früher 3M, St. Paul, USA) hergestellt werden,
bieten eine große Schärfe und eine variable Dämpfung. Das
Produkt von Kodak wird unter dem Namen Direct Digital Thermal
Film verkauft, und die Produkte von Imation (3M) sind als Dry
Silver Thermal Film bekannt. Bei beiden von diesen Produkten
kann die optische Dichte (Lichtdurchlässigkeit) der Schicht
durch Ändern der thermischen Energie während der Belichtung
eingestellt werden. Die thermische Energie kann durch einen
Laser bereitgestellt werden, der eine Infrarotstrahlung
emittieren kann. Dies ermöglicht nicht nur eine gleichförmige
Dämpfung von sichtbarem Licht oder UV-Strahlung, die zum
Belichten der Photopolymerschicht auf der flexographischen
Platte über ausgewählten Bereichen erforderlich ist, sondern
auch eine variable Dämpfung, die für eine optimale Belichtung um
jedes Bildelement herum genau berechnet werden kann, um auf der
Platte reproduziert zu werden.
Zum Beispiel kann bei dem Dry Silver Thermal Film von Imation
die optische Dichte der Schicht in einem bestimmten Bereich
abhängig von der thermischen Energie, die für diesen
vorgegebenen Bereich bereitgestellt wird, stufenlos in dem
Bereich von 0 bis 3 liegen. Eine optische Dichte von 0
entspricht einer Lichtdämpfung von 0%. Während die optische
Dichte zunimmt bzw. erhöht wird, nimmt die Lichtdämpfung ebenso
zu, bis die optische Dichte sich einem Wert von 3 annähert, was
einer Lichtdämpfung von 99,9% entspricht. Die rein ablativen
bzw. wärmeisolierenden thermischen Schichten, wie beispielsweise
Lasermark (von Graphics Technologies, South Hadely, MASS)
funktionieren nicht so gut, da sie für Grauskalierungen nicht
geeignet sind.
Bei einem Ausführungsbeispiel kann die Maskenschicht 5
hinsichtlich der Platte 1 in konventioneller Art und Weise
(unter Verwendung von Unterdruck bzw. Vakuum) gehalten werden.
Bei einem anderen Ausführungsbeispiel kann die Schicht 5 ein
integrales bzw. einstückiges Teil der Platte 1 ausbilden und
zwar dadurch, daß sie direkt auf deren Photopolymerschicht
geschichtet wird, wie dies im US-Patent 5,262,275 offenbart ist.
Der Belichtungsablauf ist jedoch in beiden Fällen identisch:
parallelgerichtetes oder nicht-parallelgerichtetes Licht 7 wird
durch undurchlässige Bereiche 8 der Maske 5 blockiert und kann
ein Photopolymer 1 in Bereichen belichten, wo die Maske klar
bzw. durchlässig ist. Das Photopolymer 1, das dem Licht 7
ausgesetzt ist, vernetzt oder polymerisiert. Der belichtete
photopolymerisierte Bereich sollte über die ganze Strecke die
elastomere Ebene 2 erreichen. Durch das Erzeugen des in Fig. 2
in der Maskenschicht 5 punktiert gezeigten Lichtmodifizierers 9,
der eine variable Lichtdämpfung bietet, wird eine übermäßige
Belichtung kleiner Schattenbereiche vermieden, wodurch
Drucksiebe bzw. -platten mit einer höheren Auflösung erzeugt
werden können.
Eine andere Art der Belichtungskorrektur, die in der Maske 5
aufgenommen ist und die insbesondere wirksam ist, wenn eine
Kombination mit dem Lichtmodifizierer 9 der Maske 5 vorgenommen
wird, ist als Annäherungskorrektur bekannt. Diese Art der
Korrektur für eine Aberration, die beim Belichten von
Photopolymeren auftritt, ist im Bereich der Halbleiter bekannt.
Jedoch wurde eine solche Technik nie auf Druckplatten
angewendet. Ein Artikel, der die Annäherungskorrektur für die
Halbleiterherstellung beschreibt, ist in "Microlithography
World", Frühjahr 1996, erschienen. Diese Effekte können durch
ein öffentlich verfügbares Software-Programm modelliert werden,
das als PROLITH bekannt ist. Insbesondere die neueste Version
dieses Programms, PROLITH 3D, ist für die Berechnung von
Annäherungseffekten bei flexographischen Platten nützlich.
Ein Beispiel für eine einfache Annäherungskorrektur ist in Fig.
3a und 3b dargestellt. In Fig. 3a sind Strukturelemente 10 und
11 an der Maske 5 absichtlich verformt, um einer Kompensation
für Annäherungseffekte beim Belichtungsprozeß zu dienen. Dort,
wo eine Linie 11 nahe einer anderen Linie 10 liegt, ist die
Breite der Linie 11 verringert, um einer Kompensation
hinsichtlich einer erhöhten Belichtung des Plattenpolymers
aufgrund von Lichtableitung von dem benachbarten Strukturelement
zu dienen. Ecken in der Linie 11 sind zu schärferen Ecken
verformt, um eine Kompensierung für eine Eckenrundung zu bieten,
die ansonsten durch Lichtstreuung und Lichtableitung verursacht
wird. In Fig. 3b erscheinen die Strukturelemente 10, 11 auf dem
Photopolymer 1 korrekt in gleichmäßiger Linienbreite, obwohl die
zugehörige Maske 5 in Fig. 3a verformt erscheint. Würde die
Maske 5 in Fig. 3a keine solche Annäherungskorrektur aufweisen,
würden die Strukturelemente 10, 11 auf der Platte 1 verformt
erscheinen. Zum Beispiel würden die Ecken in der Linie 11 dann
gerundet erscheinen.
Bei einem anderen Ausführungsbeispiel, das in Fig. 4 dargestellt
ist, werden sehr feine Bereichsänderungen bzw.
Bereichsanpassungen jenseits der Auflösung des
Photopolymerprozesses verwendet, um die Belichtung zu dämpfen
bzw. zu modifizieren, wenn eine kontinuierliche Grauskala nicht
gewünscht oder nicht möglich ist. Zum Beispiel bewirkt eine
Pseudo-Zufallsstreuung einzelner Pixelpunkte 14 auf den Masken,
die einen isolierten freien Bereich 12 umgeben, eine
Gesamtlichtdämpfung, ohne die einzelnen Punkte 14 jedoch
wiederzugeben. Dieses Verfahren ist zwar weniger wünschenswert,
da die Punkte sehr klein sein müssen, typischerweise unter 10
Mikrometer liegen müssen, und nur sehr hochauflösend abbildende
Einrichtungen verwendet werden können. Dieses Verfahren wird
jedoch verwendet, wenn die Schicht 5 für eine Grauskala nicht
geeignet ist, z. B. thermische Schichten, wie Lasermark oder
Polaroid′s Helios (von Polaroid Graphic Imaging, Waltham).
Dieser Lichtmodifizierer 9 in Form der Pünktchen 14 um den Punkt
12 herum wird in der Schicht 5 durch das Ändern der optischen
Dichte der Maske 5 entweder direkt auf der flexographischen
Platte oder getrennt durch Einstellen der Laserenergie während
der Belichtung bei verschiedenen Zufallsstellen in der Form von
Pixelpunkten 14 oder einem ähnlichen Strukturelement auf der
Maskenschicht 5 erzeugt.
Die Bilderzeugung bei einer Photopolymer-Flexographie-Platte auf
einer konventionellen Lithographie-Druckpresse mit einem
externen Trommelrekorder weist als ersten Schritt das Herstellen
der Maske 5 auf. Die Korrekturen für die verschiedenen
Verzerrungen bzw. Störungen, die in dem Bild erwartet werden,
werden entweder per Hand oder mit lithographischer
Simulationssoftware modelliert. Das Bild mit den Korrekturen für
die Verzerrungen wird in digitale Information übertragen, und
die digitale Information wird bei einem konventionellen
Plattensetzer verwendet, um die Belichtung mittels Laserdioden,
die die Maske abbilden, zu positionieren und zu regulieren. Die
Schicht kann entweder getrennt ausgebildet werden oder auf die
Oberseite der Photopolymerschicht 1 mittels eines externen, sich
drehenden Abbildungszylinders einer Vordruckmaschine unter
Verwendung einer Sprüheinrichtung oder einer Plasmaabscheidung
aufgeschichtet werden. Der Laserabbildungskopf weist eine Bank
aus Abtast-Infrarot-Lasern auf, die die Maske entsprechend den
modellierten Bilddaten durch das Zuführen bestimmter
Wärmeenergiemengen an bestimmten Stellen abbilden. Nachdem das
Abbilden der Maske abgeschlossen ist, besteht der nächste
Schritt im Entfernen der Maske oder der Maske und des
Photopolymers von dem Zylinder und im Belichten der
Photopolymerschicht mit parallelgerichteter oder
nicht-parallelgerichteter UV-Strahlung durch die Maske 5. Nach diesem
Schritt wird die flexographische Platte z. B. in einer
lithographischen Druckpresse verwendet.
Eine Photopolymer-Flexographie-Platte des Cyrel-PLS-Typs,
beziehbar von DuPont de Nemours and Company (Wilmington) wurde
mit einer UV-Strahlung über acht Minuten unter einer
5kW-Quecksilber-Kurzbogenlampe unter Verwendung eines
parallelrichtenden Parabolreflektors belichtet. Die Cyrel-Platte
wurde mit einer Direct-Digital-Thermal-Film-Schicht von Kodak
(der Typ, der informationshalber als "Volcano Film" bekannt ist)
abgedeckt. Die Schicht wurde vorhergehend auf einem
Trendsetter 3244T (von Creo Products Inc., Burnaby, B.C.,
Kanada) mit 3200 dpi und 830 nm belichtet. In dem Trendsetter
wurden alle freien Flächen auf dem Maskenfilm mit 500 mJ/cm²
belichtet. Um die isolierten, feinen Strukturmerkmale (z. B.
Bezugzeichen 12 in Fig. 4) in dem geschwärzten Bereich (d. h. um
die schmalen dunklen Bereiche auf der Schicht, die die
nichtdruckenden Bereiche auf der Platte ausbilden) wurde ein
Ring mit einer reduzierten optischen Dichte belassen, und zwar
durch das Belassen eines Rings mit einer Breite von etwa 1 mm
und einer UV-Dichte von etwa 0,2, die zum Rand des Rings hin
auf 0,1 abnimmt. Dies wurde durch das Belichten der Schicht
mit 400 mJ/cm² bis zum Rand des Rings auf 500 mJ/cm² ansteigend
erzielt (auf dieser Schicht gilt, je höher die Belichtung, desto
geringer die Dichte). Bilder, die Text, Linien und Raster bis zu
150 dpi enthalten, wurden unter Verwendung dieses Verfahrens
erzeugt. Die Platte 1 wurde in einer konventionellen Art und
Weise entwickelt. Die Auflösung überschritt somit das, was ohne
den Lichtmodifizierer 9 bzw. 14 erzielt wurde.
Es wurde dem gleichen Verfahren und Vorgehen wie beim Beispiel 1
gefolgt, und zusätzlich wurde die Linienbreite für eine
Annäherung an andere Linien durch Verengen der Linie um einen
Bildpunkt in allen Fällen korrigiert, wo der Abstand zwischen
den Linien unter 1 mm lag. Die Verbreiterung von Linien an
Stellen, wo sie nahe zu anderen belichteten Strukturelementen
10, 11 verliefen, wurde somit in hohem Maße verringert.
Claims (33)
1. Maske mit lichtdurchlässigen und undurchlässigen Bereichen
für eine Anwendung beim Belichten eines Bildbereiches auf
einer flexographischen Druckplatte mit abbildendem Licht,
wobei die Platte zum Ausbilden belichteter Bereiche ein auf
abbildendes Licht ansprechendes Photopolymer aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Maske (5) einen Lichtmodifizierer (9) aufweist, der
relativ zu durchlässigen und undurchlässigen Bereichen zur
Belichtungsmodifizierung und Kompensierung von
Verzerrungseffekten angeordnet ist.
2. Maske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Lichtmodifizierer (9) auf der Maske (5) im Bereich kleiner,
voneinander getrennter Strukturmerkmale (10, 11, 12)
angeordnet ist.
3. Maske nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
der Lichtmodifizierer (9) ein verformtes Randteil ist, das
zwischen freien und undurchlässigen Bereichen zum
Kompensieren einer Verzerrung aufgrund von
Annäherungseffekten und/oder im Bereich von Ecken zum
Erzeugen eines unverformten Bildes nach dem Belichten mit
abbildendem Licht positionierbar ist.
4. Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Lichtmodifizierer (9) ein
angepaßter Bereich zum Dämpfen von abbildendem Licht ist
und Anpassungen aufweist, die ausreichend klein sind, um
jenseits der Auflösung des Photopolymers auf der Platte (1)
zu liegen.
5. Maske nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der
angepaßte Bereich eine Verteilung einzelner Pixelpunkte
(14) ist.
6. Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Maske (5) auf der Platte (1)
einstückig ausgebildet ist.
7. Maske nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Maske (5) wärmeaktivierbar ist.
8. Maske nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Wärme durch Infrarot-Laserenergie bereitgestellt ist.
9. Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Maske (5) einstückig an einer
Schicht getrennt von der Platte (1) ausgebildet ist.
10. Maske nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schicht wärmeaktivierbar ist.
11. Maske nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die
Wärme durch Infrarot-Laserenergie bereitgestellt ist.
12. Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß das abbildende Licht im
Ultraviolettbereich liegt.
13. Maske nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß der Lichtmodifizierer (9) ein
lichtdämpfendes Mittel ist, das hinsichtlich der
Undurchlässigkeit zwischen den durchlässigen und
undurchlässigen Bereichen liegt, und in ausgewählten
Bereichen der Maske (5) zum Kompensieren von
Verzerrungseffekten und zum Erzeugen eines nicht verformten
Bildes nach dem Belichten mit abbildendem Licht
positioniert ist.
14. Maske nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der
Lichtmodifizierer (9) eine Verzerrungswirkung aufgrund der
Nähe von einem ersten Strukturelement (10) nahe einem
zweiten Strukturelement (11) kompensiert.
15. Maske nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der
Lichtmodifizierer (9) ein verformtes Randteil ist, das
zwischen durchlässigen und undurchlässigen Bereichen zum
Kompensieren einer Verzerrung aufgrund von
Annäherungseffekten und Ecken positionierbar ist, so daß
ein nicht verformtes Bild nach dem Aussetzen unter
abbildendem Licht erzeugt wird.
16. Maske nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die
Maske (5) integral an der Platte (1) ausgebildet ist.
17. Maske nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die
Maske (5) wärmeaktivierbar ist.
18. Maske nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die
Wärme durch Infrarot-Laserenergie bereitgestellt ist.
19. Maske nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dämpfung des abbildenden Lichtes abhängig von der
bereitgestellten Wärme variabel ist.
20. Maske nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die
Maske (5) integral an einer von der Platte (1) getrennten
Schicht ausgebildet ist.
21. Maske nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schicht wärmeaktivierbar ist.
22. Maske nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die
Wärme durch Infrarot-Laserenergie bereitgestellt ist.
23. Maske nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dämpfung des abbildenden Lichtes abhängig von der
bereitgestellten Wärme variabel ist.
24. Maske nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die
Maske (5) eine Verzerrungswirkung aufgrund von kleinen
isolierten Strukturelementen (12) kompensiert.
25. Maske nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß der
Lichtmodifizierer (9) ein Ring um das isolierte
Strukturelement (12) ist, wobei der Ring eine
Ultraviolettdichte von etwa 0,2 neben dem Strukturelement
(12) aufweist, die zum Rand des Rings auf 0,1 abnimmt.
26. Maske nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die
Breite des Rings etwa 1 mm beträgt.
27. Maske nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schicht eine Silberhalidschicht
ist.
28. Verfahren zum Ausbilden einer Maske für eine
photoempfindliche flexographische Platte mit einem
Photopolymer zum Korrigieren von Verzerrungen, aufweisend:
- (a) Bestimmen von Strukturelementen (10, 11, 12), die eine Korrektur für eine Verzerrung oder Isolierung erforderlich machen;
- (b) Ausbilden von Lichtmodifizierern (9) an der Maske (5), die für die Korrektur erforderlich sind; und
- (c) Belichten der Maske (5) mit einer Maskenabbildungsstrahlung (7).
29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß als
Lichtmodifizierer (9) modifizierte Randteile, die zwischen
durchlässigen und undurchlässigen Bereichen der Maske (5)
angeordnet sind, zum Kompensieren einer Verzerrung aufgrund
von Annäherungseffekten und Ecken vorgesehen sind.
30. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtmodifizierer (9) variable Dämpfungsmittel
aufweisen, die um isolierte Strukturelemente (12) herum
angeordnet sind und zum Korrigieren einer Verzerrung
dienen.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 30, dadurch
gekennzeichnet, daß als Lichtmodifizierer (9) eine
Verteilung von Pixelpunkten (14) um isolierte
Strukturelemente (12) herum vorgesehen wird, für die eine
Korrektur hinsichtlich einer Verzerrung erforderlich ist,
wobei die Pixelpunkte (14) ausreichend klein sind, um auf
der photoempfindlichen flexographischen Platte (1) jenseits
der Auflösung des Photopolymers zu liegen.
32. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 31, wobei die
Maske (5) integral mit der flexographischen Platte (1)
ausgebildet wird.
33. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 31, dadurch
gekennzeichnet, daß die Maske (5) auf einer Schicht
getrennt von der Platte (1) ausgebildet wird.
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