DE19715226A1

DE19715226A1 - Verfahren und Vorrichtung zur hochgenauen Mikropositionierung

Info

Publication number: DE19715226A1
Application number: DE1997115226
Authority: DE
Inventors: Volker Dr Herold; Steffen Dipl Ing Eckner
Original assignee: Friedrich Schiller Universtaet Jena FSU
Current assignee: Friedrich Schiller Universtaet Jena FSU
Priority date: 1997-04-11
Filing date: 1997-04-11
Publication date: 1998-10-15

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur hochgenauen Mikropositionierung, mit welcher Objekte translatorisch und/oder rotatorisch bewegt sowie hochaufgelöst positioniert werden sollen. Eine Anwendung ist insbesondere auch in den Fällen gegeben, bei denen die Objekte über größere Distanzen bewegt und dennoch hochgenau und reproduzierbar im Nanometer-Bereich positioniert werden müssen.

Spezielle Anwendungsgebiete der Erfindung ergeben sich in der Mikroprofilometrie, bei der Positionierung von Mikroskopieproben, bei der Justierung von optischen Komponenten, in der Mikrobearbeitung/ Strukturierung, in der Mikrofügetechnik, bei der Mikropositionierung von Sonden sowie bei der Manipulation in der Biologie bzw. Medizin.

Es ist allgemein bekannt, daß sich reproduzierbare translatorische Stellbewegungen im Nanometerbereich mit piezoelektrischen und magnetostriktiven Stellern bewirken lassen. Deren Verhalten ist allerdings von Hysterese, Drift, Temperaturabhängigkeit und Alterung geprägt. Ihr Stellbereich ist bauformbedingt meist nicht größer als 200 µm. Durch Hebel- oder hydraulische Wegübersetzungen sind Stellwege bis zu ca. 1 mm möglich. Allerdings werden auch die genannten unerwünschten Eigenschaften entsprechend übersetzt. Ebenso sinkt in gleichem Verhältnis die erzielbare Wegauflösung und in zumeist quadratischer Abhängigkeit die Resonanzfrequenz (S. Brand, T. Laux: "Einsatzmöglichkeiten und -bereiche von piezokeramischen Aktoren", VDI/VDE-Technologiestudie).

Eine Alternative stellen Piezomotoren nach dem sogenannten Inch-worm-Prinzip dar. (Jendritza, D.J.: Technischer Einsatz neuer Aktoren; Expert- Verlag, Renningen-Malmsheim, 1995, S. 235). Hier wird durch Aneinander reihung mehrerer kleiner Stellbewegungen (Schritte) ein nahezu beliebig großer Stellweg erreicht, bei einer für Piezosteller typischen Auflösung im Nanometerbereich. Der Bewegungsablauf ist unstetig. Nachteilig wirkt sich das funktionsbedingte Führungsspiel auf die erreichbare Genauigkeit aus, so daß die Ablaufgenauigkeit der Bewegung nicht kleiner als einige Mikrometer wird.

Im EP 0 518 262 A2 wird ein Linearaktuator beschrieben, bei dem ein Bolzen durch zwei sich gegenüberliegende Stapel von Piezoaktuatoren geklemmt und in Längsrichtung des Bolzens verschoben wird. Die Piezoaktuatorenstapel bestehen jeweils aus Elementen, die sich in Querrichtung des Bolzens ausdehnen können und aus Elementen, die eine Scherbewegung und somit Längsverschiebung des Bolzens bewirken. Jeder Aktuatorstapel besteht aus mindestens zwei Teilen, die sich unabhängig voneinander ansteuern lassen. Während die eine Stapelhälfte den Bolzen klemmt, ist die zweite Hälfte nicht in Kontakt mit dem Bolzen und dehnt sich in die entgegengesetzte Richtung längs zum Bolzen, um dann den Bolzen zu klemmen und somit seine Lage zu fixieren. Dieser Vorgang wiederholt sich mit jeweils entgegengesetzten Aktivitäten der Stapelhälften und bewirkt somit eine Bewegung des Bolzens um ein Vielfaches des Stellbereichs der Aktuatorstapel. Nach diesem Prinzip arbeiten auch die genannten Inch-worm-Antriebe. Im EP 0 518 262 A2 wird jedoch die Bewegung des Bolzens dazu genutzt, um mit einer oder mehren derartigen Vorrichtungen ein zu positionierendes Element in gleicher Art und Weise zu klemmen und zu bewegen. Die Vorteile dieser Anordnung liegen in den großen möglichen Klemm- und Haltekräften, dem reibungsfreien Bewegungsablauf und der geringen erforderlichen Maßtoleranz des zu positionierenden Objektes. Jedoch ist der Aufwand, mittels eines oder mehrerer Inch-worm-Antriebe das zu positionierende Objekt schrittweise zu bewegen, nur gerechtfertigt, wenn, wie bereits erwähnt, große Klemm- und Haltekräfte erforderlich sind oder das zu positionierende Objekt große Maßtoleranzen aufweist. Ebenfalls ist die stets eindimensionale Bewegung des Objektes nachteilig.

Darüber hinaus sind Positionierverfahren bekannt, bei denen unter Ausnutzung der Massenträgheit und der Reibung kleinste Bewegungs inkremente zu großen Stellwegen aneinandergereiht werden. Da aber die Größe des Inkrements von den Reibungsverhältnissen an der momentanen Position der Positionierelemente abhängt, sind die Stellschritte nicht definiert und nicht reproduzierbar. Außerdem verschleißen die Führungsbahnen, so daß sich eine begrenzte Lebensdauer ergibt (JP 4-221792).

Im Patent DE 43 15 628 C2 wird ein Flächenpositioniersystem beschrieben, bei dem zwei atomar ebene Kristallflächen mit gleicher Orientierung und Ausrichtung aufeinander liegen und mittels Massenträgheits-Prinzip um jeweils eine Kristall-Gitterperiode je Schritt gegeneinander verschoben werden. In einer Variante sind die beiden Kristallflächen durch eine Monolage Dipol-Moleküle getrennt. Durch ein von außen angelegtes elektrisches Wechselfeld regt man die Dipole zu einer Drehung an, wodurch sich die Kristallflächen um eine Gitterperiode je Drehung gegeneinander verschieben. Die Vorteile dieses Prinzips liegen in der direkten Kopplung der Bewegung mit einem inkrementellen Meßsystem, wobei das Kristallgitter den Maßstab darstellt. Es ist möglich, die Bewegung in zwei Achsen und über beliebige Distanzen zu vollführen, wobei sich eine hohe Ablaufgenauigkeit der Bewegung ergibt, da die Führung durch die zwei atomar ebenen Flächen gegeben ist. Nachteilig ist die bislang sehr schwierige Realisierung, da atomar ebene und fehlerfreie Kristallflächen in Dimensionen von einigen mm² weder natürlich vorkommen, noch synthetisch erzeugt werden können. Auch stellt das Verschweißen der Flächen miteinander aufgrund ihrer hohen Ebenheit und des geringen Abstandes zueinander ein großes Problem dar.

In der Schrift DE 44 17 158 ist eine Vorrichtung beschrieben, mit der hochaufgelöste rotatorische Bewegungen mittels einer piezoelektrischen Verstellvorrichtung ausgeführt werden können. Dabei ist das zu drehende Objekt - ein Drehteller - auf drei Auflagepunkte gelegt. Der Drehteller besitzt ein koaxial zur Drehachse angeordnetes und kegelstumpfförmiges Bodenteil. Ein konusförmiges Aufnahmeteil ist durch ein Antriebselement heb- und absenkbar. Das Aufnahmeteil ist mittels eines Drehgelenks, dessen Drehpunkt auf der Drehachse des Drehtellers liegt mit einer Bodenplatte verbunden. Durch Anheben des Aufnahmeteils wird eine kraftschlüssige Verbindung zum Bodenteil hergestellt und der Drehteller von den Auflagepunkten abgehoben. Ein Piezotranslator greift außerhalb des Drehpunktes tangential am Aufnahmeteil an und dreht somit den Drehteller bei Expansion um ein entsprechendes Winkelinkrement. Die erreichte Lage des Objektes wird durch Ablegen des Drehtellers auf den Auflagepunkten fixiert; der Piezotranslator kontrahiert und kann dann bei kraftschlüssiger Verbindung zwischen Bodenteil und Aufnahmeteil und aufgehobener Fixierung zum wiederholten Mal das Objekt um ein Winkelinkrement drehen. Nachteilig ist, daß mit dieser Vorrichtung alleinig Drehbewegungen um eine Achse möglich sind.

Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, auf möglichst einfache und technologisch gut handhabbare Weise eine verschleißarme Bewegung zu schaffen, die translatorische und/oder rotatorische Lageveränderungen im Millimeter- bzw. Gradbereich und größer mit definierten und reproduzierbaren Bewegungsinkrementen im Nanometer- bzw. µrad-Bereich gestattet.

Erfindungsgemäß wird das zu bewegende Objekt in einer Ruhephase der Bewegung durch Führungselemente geführt und zum Zweck seiner Bewegung durch Piezostellelemente von diesen Führungselementen abgehoben, in frei wählbarer Richtung bewegt und nach der Bewegung des Objektes sowie zum Rücksetzen der Piezostellelemente wieder auf die Führungselemente abgesenkt.

Mit der Erfindung ist es möglich, die hohe Wegauflösung von an sich bekannten Piezostellern mit der Genauigkeit von geometrisch einfachen Führungen zu verbinden. Dabei findet eine Trennung von Positionierbewegung und Führung statt, um einerseits die hohe Wegauflösung der Piezosteller zu nutzen und andererseits die bekannten nachteiligen Eigenschaften der Piezosteller (Drift, Hysterese, Temperaturgang) von der Lagepräzision des zu positionierenden Objektes zu entkoppeln. Die Bewegung kann somit reproduzierbar in definierten Bewegungsinkrementen im Nanometerbereich erfolgen, zwischen denen das Objekt jeweils unabhängig von den Stellelementen fest geführt wird.

Auf diese Weise sind nahezu beliebig große Stellwege mit der besagten hohen Präzision in beliebiger translatorischer und/oder rotatorischer Richtung realisierbar. Die Positioniervorrichtung ist durch die Einsatzmöglichkeit handelsüblicher Piezosteller und insbesondere durch geometrisch einfache Führungen, beispielsweise in Form einer Dreipunktauflage, technologisch aufwandgering herzustellen. Während des Positioniervorganges wird das Objekt von den Führungselementen entkoppelt bewegt, so daß kein mechanischer Verschleiß bei dieser Bewegung entsteht.

Die Erfindung soll nachstehend anhand eines in der Zeichnung dargestellten sechs-achsigen Mikropositioniersystems mit Piezostellern als Ausführungs beispiel näher erläutert werden.

Es zeigen:

Fig. 1 Prinzipaufbau des Mikropositioniersystems mit jeweils einer Dreipunktauflage der Führungs- und piezoelektrischen Stell elemente

Fig. 2 Prinzipdarstellung des Bewegungsablaufes eines Positionier schrittes

Fig. 3 Prinzipdarstellung einer linearen Bewegung

Fig. 4 Prinzipdarstellung einer rotatorischen Bewegung.

Das Ausführungsbeispiel beschreibt ein Mikropositioniersystem für zwei translatorische Achsen und eine rotatorische Achse mit jeweils vom Grundsatz unbegrenztem Bewegungsbereich und hoher Ablaufgenauigkeit sowie für drei weitere Achsen mit kleinem Bewegungsbereich und verminderter Genauigkeit.

Auf einer waagerechten kreisförmigen Grundplatte 1 befinden sich drei senkrecht angeordnete starre Trägersäulen 2 mit jeweils einem halbkugelförmigen Säulenkopf 3 als Dreipunktauflage für eine Platte 4 als zu positionierendes Objekt (Fig. 1). Die Platte 4 liegt mit ihrer planen Rückfläche 5 in (Bewegungs-)Ruhelage auf den Säulenköpfen 3 auf; die aus hochverschleißfester Keramik bestehen, poliert sind und eine Rauhigkeit im Nanometerbereich aufweisen. Die Säulenköpfe 3 können vorzugsweise aus je einer polierten Kugel bestehen, die jeweils in eine Vertiefung an der Stirnseite der Trägersäulen 2 eingelassen sind (nicht explizit in der Zeichnung dargestellt). Die Rückfläche 5 der Platte 4 besteht ebenfalls aus einer polierten Keramikfläche großer Härte, deren Ebenheitsabweichung kleiner 10 nm/10 mm ist.

Zur Minimierung des Temperatureinflusses auf die Genauigkeit werden alle funktionsrelevanten Bauteile aus einem Werkstoff mit extrem kleinem thermischen Ausdehnungskoeffizient (z. B. Zerodur) gefertigt.

Die Auflagepunkte dieser Dreipunktauflage der Trägersäulen 2 liegen in einer waagerechten Ebene, beschreiben vorzugsweise in dieser Ebene ein gleichseitiges Dreieck und sollten sich in möglichst großer Entfernung zueinander befinden. Somit ist die Lage der Platte 4 eindeutig und mit hoher Präzision bestimmt. Es wäre auch denkbar, die Grundplatte 1 aus drei starr gekoppelten Einzelsegmenten zu bilden (nicht in der Zeichnung dargestellt), wobei jedem Auflagepunkt der Trägersäulen 2 ein Einzelsegment zugeordnet wäre.

Bezogen auf eine geometrische Mitte M (vgl. Fig. 3 und 4) des durch die Auflagepunkte beschriebenen Dreiecks werden die Ebenheits-Abweichungen der planen Rückfläche 5 durch Hebelwirkung auf etwa 1/3 untersetzt und somit in ihrem Einfluß auf die Ablaufgenauigkeit gemindert. Die erreichbare Ablaufgenauigkeit hängt direkt von der Formgenauigkeit (Parallelität und Ebenheit) der Rückfläche 5 ab. Deren Bearbeitung stellt technologisch allerdings kein Problem dar.

Versetzt zu den Trägersäulen 2 sind drei Piezostellelemente 6 auf der Grundplatte i fest angeordnet, die aus Gründen hoher Steifigkeit und kompakter Bauform jeweils als Stapel, bestehend aus einem x-Piezotranslator 7, aus einem y-Piezotranslator 8 sowie aus einem z-Piezotranslator 9 (an sich bekannte Stapel mit je zwei Scherelementen und je einem Translator) ausgeführt sind. Die freien Enden sind mit Halbkugeln 10 aus Keramik versehen, um äquivalent zu den Trägersäulen 2 eine eindeutige Lage der Platte 4 zu gewährleisten. Jede Halbkugel 10 kann beispielsweise ebenfalls durch eine polierte Kugel realisiert werden, die in einer entsprechenden Vertiefung am Ende des jeweiligen Piezostapels ruht. Der Abstand zwischen den Halbkugeln 10 und der Platte 4 ist so bemessen, daß bei kontrahierten z-Piezotranslatoren 9 kein Kontakt zwischen den Halbkugeln 10 und der Platte 4 besteht (vgl. Fig. 2a) und bei expandierten z-Piezotranslatoren 9 die Platte 4 von den Säulenköpfen 3 aller drei Trägersäulen 2 abgehoben wird (vgl. Fig. 2b).

In ihrer Ruhelage (Ausgangsposition) ist die Gesamthöhe der Piezostellelemente 6 somit geringer als die Höhe der Trägersäulen 2, so daß die Platte 4 auf den halbkugelförmigen Säulenköpfen 3 als stabile Dreipunktauflage aufliegt (Fig. 2a). Um die Piezostellelemente 6 exakt in eine solche Höhenlage relativ zu den Trägersäulen 2 mit den Säulenköpfen 3 zujustieren, wäre eine Höhenverstellung zwischen der Grundplatte 1 und den Piezostellelementen 6 mittels eines an sich bekannten und nicht in der Zeichnung dargestellten Mikrometergewindes zweckmäßig.

Durch die besagte Expansion der z-Piezotranslatoren 9 (Fig. 2b) vergrößern sich deren Höhen und damit die Höhen der gesamten Piezostellelemente 6 bis deren Halbkugeln 10 an die Platte 4 antasten und deren Führung in einer ebenfalls definierten Dreipunktauflage auf den Halbkugeln 10 übernehmen. Damit wird die Platte 4 aus ihrer Ruhelage (Dreipunktauflage auf den Säulenköpfen 3) ausgehoben. Nun kann eine reibungs- und spielfreie laterale Bewegung der Platte 4 erfolgen, indem der x-Piezotranslator 7 und/oder der y-Piezotranslator 8 angesteuert und so in ihrer Lage verändert werden (vgl. Fig. 2c). Diese Bewegung erfolgt mit der für Piezosteller typischen Wegauflösung. Gleichermaßen kann auch durch unterschiedliche Ansteuerung der z-Piezotranslatoren 9 eine hochpräzise Verkippung/Drehung der Platte 4 bewirkt werden. Nach dem Positioniervorgang kehrt der z- Piezotranslator 9 in seine kontrahierte Ausgangsstellung zurück, so daß die Platte 4 wieder auf die Säulenköpfe 3 der Trägersäulen 2 abgesenkt wird und auf diesen wiederum mit definierter Führung lagert (vgl. Fig. 2d). Anschließend werden die übrigen Translatoren der Piezostellelemente 6 in ihre Ausgangslage zurückgestellt (vgl. Fig. 2e); und es stellt sich eine neue Ausgangslage (vgl. Fig. 2a) für einen weiteren Positionierschrift der Platte 4 ein.

Die gesamte Positionierung erfolgt in einem periodisch wiederholbaren Bewegungsvorgang (Zyklus), bestehend aus vier aufeinanderfolgenden Einzelschritten (siehe auch Fig. 2):

1. Schritt: Vergrößerung des Abstandes zwischen der Rückfläche 5 der Platte 4 und den Säulenköpfen 3 als Auflagepunkte bis zum Verlust des Kontaktes zueinander (vgl. Fig. 2b)
2. Schritt: Reibungsfreie Translation der Platte 4 relativ zu den Trägersäulen 2 in beliebiger, frei wählbarer Richtung senkrecht zur Flächennormale der Platte 4 (vgl. Fig. 2c)
3. Schritt: Verringerung des Abstandes zwischen der Rückfläche 5 der Platte 4 und den Säulenköpfen 3 als Auflagepunkte bis zum Herstellen des Kontaktes zueinander
4. Schritt: Rücksetzen der übrigen Stellelemente.

Nach Abschluß einer Bewegungsperiode ist die Lage der Platte 4 durch die Auflage auf den drei Säulenköpfen 3 wieder eindeutig bestimmt. Eine Klemmung zur Sicherung der erreichten Position ist nicht erforderlich, da die Platte 4 durch ihr Eigengewicht gehalten wird. Darüberhinaus ist eine Klemmung kraftschlüssig (beispielsweise magnetisch oder mechanisch) möglich, wenn beispielsweise die Vorrichtung zur Mikrobearbeitung eingesetzt wird und infolgedessen Kräfte auf die Platte 4 ausgeübt werden. Gegenüber der Ausgangsposition fand eine Verschiebung um den Betrag der Translation aus Schritt 2 statt. Die Auflageflächen wurden dabei nicht durch Reibungskräfte belastet. Hierdurch tritt kein Verschleiß an den Führungsflächen der Säulenköpfe 3 auf; wodurch die Bewegungsgenauigkeit stets unverändert bleibt. Desweiteren ist die Größe des Stellschrittes unabhängig von Reibungsverhältnissen an der jeweiligen Stelle der Führungsfläche und somit stets konstant und reproduzierbar. Dieser Zyklus kann beliebig oft durchlaufen werden und ist nur durch die Größe der Platte 4 begrenzt.

Stimmen Richtung und Betrag der Bewegung eines jeden der drei Piezostellelemente 6 in Schritt 2 überein, wird die Platte 4 lateral verschoben (Fig. 3). Sind die Richtung jedes Piezostellelementes 6 bei der Bewegung in Schritt 2 tangential zum Umkreis der Auflagepunkte sowie der Betrag der Bewegung aller drei Piezostellelemente 6 gleich, vollführt die Platte 4 eine definierte Drehung um ihre Flächennormale und die geometrische Mitte M des durch die Kontaktpunkte der Halbkugeln 10 beschriebenen Dreiecks (Fig. 4). Der durch Aneinanderreihung mehrerer gleichartiger Zyklen erreichbare Drehwinkel ist größer als 360°.

Es ist möglich, mittels geeigneter Sensoren oder Wegmeßsysteme die Bewegung der einzelnen Piezosteller zu erfassen und somit die Platte 4 in gesteuertem oder geregeltem Betrieb zu bewegen. Gleichermaßen kann die Platte 4 durch deren Positionserfassung in einer oder mehreren Achsen mit geeigneten Wegmeßsystemen (z. B. mit Laserinterferometern, mit inkrementellen oder absoluten Flächen- und/oder Winkel- bzw. Neigungs meßsystemen) in geregeltem Betrieb positioniert werden.

Im angehobenen Zustand kann die Platte 4 mittels aller neun Piezosteller insgesamt in sechs Freiheitsgraden mit hoher Orts- und Winkelauflösung bewegt werden. Das schließt mit ein, daß durch Variation der Auslenkung der drei anhebenden Piezosteller (z-Piezotranslatoren 9) die Neigung der Platte 4 in zwei Achsen und die Höhe der Platte 4 mit hoher Auflösung verstellt wird. Das würde auch erreicht, wenn alternativ oder zusätzlich die Trägersäulen 2 durch vorzugsweise an einen Regelkreis angeschlossene Piezosteller in ihrer Höhe verstellbar sind (nicht in der Zeichnung dargestellt). Damit wird zwar die Neigung in zwei Achsen und die Höhenlage der Platte 4 auch in ihrer Endlage einstellbar, allerdings muß in diesem Fall der bekannte nachteilige Einfluß der Piezotranslatoren (thermische Drift, Kriechen) auf die Lagegenauigkeit in Kauf genommen oder durch eine entsprechende Regelung kompensiert werden.

Bezugszeichenliste

1

Grundplatte

2

Trägersäule

3

Säulenkopf

4

Platte

5

Rückfläche

6

Piezostellelement

7

x-Piezotranslator

8

y-Piezotranslator

9

z-Piezotranslator

10

Halbkugel
M geometrische Mitte

Claims

1. Verfahren zur hochgenauen Mikropositionierung, bei dem ein Objekt translatorisch und/oder rotatorisch über vorzugsweise piezoelektrische Stellelemente bewegt sowie hochaufgelöst positioniert wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Objekt zum Zweck seiner Bewegung in einem ersten Schritt durch die Stellelemente aus einer Auflageposition, in der das Objekt während einer Ruhephase der Bewegung geführt ist, in eine Bewegungsposition abgehoben wird, in welcher das Objekt in einem zweiten Schritt durch die Stellelemente mit frei wählbarer Richtung bewegt wird, daß nach seiner Bewegung das Objekt in einem dritten Schritt wieder in die Auflageposition abgesenkt wird und daß in einem vierten Schritt die Stellelemente während der Führung des Objektes in der Auflageposition rückgesetzt werden.

2. Vorrichtung zur hochgenauen Mikropositionierung, bei dem ein Objekt translatorisch und/oder rotatorisch über vorzugsweise piezoelektrische Stellelemente bewegt sowie hochaufgelöst positioniert wird, dadurch gekennzeichnet, daß starre Führungselemente (2, 3) vorgesehen sind, auf oder an denen das Objekt (4) in einer Ruhephase der Bewegung geführt wird, und daß die vorzugsweise piezoelektrischen Stellelemente (6) so ausgebildet sind, daß sie das Objekt (4) zu dessen Bewegung und Positionierung von den Führungselementen (2, 3) abheben und nach Objektpositionierung sowie zum Zweck einer Stellelement-Rücksetzung wieder auf diese absenken.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Führungselemente (2, 3) aus einer Dreipunktauflage für das Objekt (4) bestehen.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die vorzugsweise piezoelektrischen Stellelemente (6) in einer Dreipunkt auflage für das Objekt (4) angeordnet sind.

5. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Führungselemente Trägersäulen (2) mit einem aufgesetzten halbkugelförmigen Säulenkopf (3) verwendet werden.

6. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Stellelemente (6) kompakte Piezostapel mit je einem Translator (9) und zwei Scherelementen (7, 8) vorgesehen sind, die an ihrem freien Ende eine Halbkugel (10) zur Antastung an das Objekt (4) aufweisen.

7. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Führungselemente (2, 3) durch zusätzliche und vorzugsweise geregelte Piezosteller in ihrer Lage veränderlich sind.

8. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die vorzugsweise piezoelektrischen Stellelemente (6) durch ein Mikrometer gewinde in ihrer relativen Höhenlage zu den Führungselementen (2, 3) verstellbar sind.