DE1797518C3 - Lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung. Ausscheidung aus: 1447920 - Google Patents

Lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung. Ausscheidung aus: 1447920

Info

Publication number
DE1797518C3
DE1797518C3 DE1797518A DE1797518A DE1797518C3 DE 1797518 C3 DE1797518 C3 DE 1797518C3 DE 1797518 A DE1797518 A DE 1797518A DE 1797518 A DE1797518 A DE 1797518A DE 1797518 C3 DE1797518 C3 DE 1797518C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
light
weight
parts
sensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1797518A
Other languages
English (en)
Other versions
DE1797518A1 (de
DE1797518B2 (de
Inventor
Julius Leonhard Sommerset N.J. Silver (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Union Carbide Corp
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Publication of DE1797518A1 publication Critical patent/DE1797518A1/de
Publication of DE1797518B2 publication Critical patent/DE1797518B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1797518C3 publication Critical patent/DE1797518C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0381Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using a combination of a phenolic resin and a polyoxyethylene resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L61/00Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L61/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08L61/06Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/02Polyalkylene oxides
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

mat, Kaliumchromat, Kaliumbichromat, und ferner solche lichtempfindlichen Stoffe, welche Halogen abspalten, wie z. B. die Wasserstoffhalogenide und haloeenierte Paraffine.
Die Wahl eines geeigneten Sensibilisators hängt von seiner Verwendung ab. Wenn man z. B. den Sensibilisator in die Masse einarbeiten will, so wird man im allgemeinen einen Stoff mit einer geringen Flüchtigkeit verwenden. Obwohl diese Eigenschaft nicht kritisch
gemisches auf etwa 90 bis 1000C steigt; das erhaltene Produkt ist eine gelartige Masse. Dieses Material wird dann bei etwa 1000C auf einem Zweiwalzenstuhl bearbeitet, bis so viel Wasser entfernt ist, daß ein 5 kautschukähnliches Gebilde entsteht. Dann walzt man weiter unter Zugabe einer wäßrigen Lösung des sauren Bestandteils und des lichtempfindlichen Bestandteils. Das Walzen wird fortgesetzt, bis das Material recht trocken ist und bis ein dünnes FeU von dem Walzen
ist, so treten beim Pressen in der Wärme doch Verluste io stuhl abgezogen werden kann, an flüchtigen Sensibilisatoren auf. Wenn man aber den Das zweite Verfahren ist im allgemeinen vorzu-
Sensibilisator in Form einer Lösung aufträgt, so ist ziehen, da es die Verwendung von vorher hergestelltem ausschlaggebend seine Löslichkeit in einem bestimm- Phenolharz erlaubt und da es außerdem eine bessere ten Lösungsmittel. Für dieses letztere Verfahren sind Regelung des Mengenverhältnisses von polymerem halogcnierte Paraffine als Sensibilisatoren besonders 15 Äthylenoxyd zum Phenolharz ermöglicht. Wenn man empfehlenswert. eine lichtempfindliche Druckplatte herstellen will, so
Bevorzugte Verbindungen dieser Art von Sensibili- mischt man das polymere Äthylenoxyd, den lichtsatoren sind Alkyljodide und Alkylenjodide. Die sen- empfindlichen Bestandteil und den sauren Bestandteil stilisierende Wirkung der verschiedenen Jodide ist mit so viel Wasser, daß eine Paste entsteht. Diese Paste eine Funktion der Quantenausbeute, die ihrerseits ab- ao wird dann in einen Zweiwalzenstuhl gebracht, in hängig ist von der chemischen Struktur der ent- welchem eine Walze etwa 100° C und die andere etwa sprechenden Jodide. Die Quantenausbeute gibt die 90° C warm ist. Wenn aus der Mischung fellähnliche Zahl der Moleküle an, die ehemisch durch Adsorption Gebilde entstehen, gibt man das Resolharz langsam zu. eines Lichtphotons reagieren. Die Quantenausbeute Durch die Wärme und das Walzen wird der größte wächst im allgemeinen mit der Zahl der Jodatome in 35 Teil des Wassers ausgetrieben, so daß ein zähes und den Verbindungen und mit der Länge der Kohlen- biegsames Fell entsteht.
wasserstoffkette. Die Quanvenausbeute ist auch höher, Die nach jedem dieser Verfahren erhaltenen Ge-
wenn die Jodatome mit c.nem tertiären Kohlenstoff mische können leicht zu glatten Schichten jeder geverbunden sind und nicht mit einem primären oder wünschten Dicke gepreßt werden. Ein geeignetes Preßsekundären Kohlenstoffatom. So steigt ;:. B. die Sen- 30 verfahren verwendet ζ. B. Preßplatten bei einer Tempesibilisierungsfähigkeit der verschiedenen Jodide von ratur von 130° C und einem Druck von etwa 20 kg/cm ,
wobei man etwa 3 Minuten lang preßt.
Man kann die Mischung auch kalandern, v.obei flache Felle entstehen, die sich leicht pressen lassen. 35 Das Kalandern wird zweckmäßigerweise so durchgeführt, daß die Temperatur der Kalanderwalzen in der Richtung des Durchganges von Walze zu Walze abnimmt. Das Kalandern hat den Vorteil, daß das Material in seiner Dicke gleichmäßig ist, was ein kür-
polymer und die nicht oxydierende Säure mit einem in 40 zercs Pressen ermöglicht. Wasser oder einem organischen Lösungsmittel lös- Durch das Pressen wird die Oberfläche geglättet und
liehen, schmelzbaren, vernetzbaren oder aushärtbaren so verändert, daß die Klebrigkeit beseitigt wird. Die Phenolaldehydharz oder den Ausgangsstoffen zu Preßtemperatur kann zwischen etwa 110 und etwa dessen Bildung vermengt, in der Wärme zu einer 190°C liegen. .
Schicht verarbeitet und den lichtsensibilisierenden 45 Man kann den lichtsensibiliserenden Bestandteil in Stoff während des Mischens und Verarbeitens oder das Material einarbeiten, wie es oben beschrieben ist. anschließend daran zugibt. Man kann aber auch aus den übrigen Bestandtei en
Die so hergestellte Schicht kann dann auf einen erst die Schicht bilden oder die Druckplatte herstellen Träger, vorzugsweise auf ein Glasfasergewebe, auf- und dann den lichtsensibilisierenden Bestandteil in eeDreßt werden. 50 Form einer Lösung auf die Oberfläche der Platte auf
tragen. Hierzu verwendet man eine Lösung des Sensibilisators in einem Lösungsmittel wie Benzol, Kohlenstoffdisulfid, Diäthyläther, Äthylazetat, Methanol,
^c, ailB.lllw..v ........... _...._. ..... 6 Äthanol, Aceton u. dgl. Die Dicke des Oberzugs hängt
der lichtempfindlichen Schicht verwendet werden. Bei 55 von der Konzentration des Sensibilisators in dem dem ersten Verfahren wird das polymere Äthylenoxyd Lösungsmittel ab. Die Dicke der Sensibilisierungsmit den Ausgangsstoffen für das Phenolharz, d. h. mit schicht beeinflußt auch die Zeit, wahrend welcher die dem Phenol und Aldehyd, gemischt. Bei dem zweiten Platte dem Licht ausgesetzt werden muß. hine bevor-Verfahren wird das Phenolharz gesondert hergestellt zugte Überzugslösung enthält zwischen etwa 1 una und dann mit dem polymeren Äthylenoxyd gemischt, 60 etwa zwischen 10% Jodoform in Aceton Man kann z. B. auf einem Zweiwalzenstuhl oder in einem Ban- die Lösung aufpinseln, mit einem Tuch auftragen oaer burymischer in Gegenwart von etwas Wasser. aufsprühen. . . ,
Bei dem ersteren Verfahren gibt man das polyme.e Die so behandelte Platte kann ohne weitere Zwischen-
Äthylenoxyd zu einer wäßrigen Lösung zu, welche stufen dem Licht ausgesetzt, durch Berührung nm Phenol, Aldehyd und den Katalysator in einem Reak- 65 Wasser entwickelt und zum Drucken verwendet tionsgefäß enthält. Nach einer Reaktionszeit von etwa werden. In vielen Fällen ist es angebracht, die ncni-V2 bis etwa 3 Stunden destilliert man die flüchtigen empfindliche Schicht auf einen Schichtträger aulzuBestandteile ab, bis die Temperatur des Umsetzungs- kleben oder mit ihm zu verbinden. Dieses ^Urbinden
CH3J über CH3CH2J und CH3(CH2U CH3(CH2)3J, (CHj)3CJ bis zu CH2Ja und schließlich CHJ3. Jodoform ist bei Massen gemäß der Erfindung ein besonders guter Sensibilisator.
Die Erfindung betrifft femer ein Verfahren zur Herstellung der beschriebenen lichtempfindlichen Flachdruckplatten. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man das Homopolymer oder das Co-
gepreßt
Die so verarbeiteten löslichen Phenolaldehydharze können zu den bekannten Typen der Resolharze und der Novolakeharze gehören.
Zwei allgemeine Verfahren können zur Herstellung
kann direkt durch Wärme und Druck auf Gewebe, sam zu. Dieses Phenolharz war hergestellt durch ErPapier, körniges Zink und andere Schichtträger für hitzen von 150 Teilen einer 37%igen Formaldehyd-Flachdruckplatten durchgeführt werden. Besonders lösung, 100 Teilen Phenol und 3 Teilen Natriumbefriedigend ist das Verbinden von zwei lichtempfind- hydroxyd bei einem Vakuum von etwa 50 cm unter liehen Schichten beiderseitig auf eine Schicht aus Glas- 5 Rückfluß während I1I2 Stunden. Darauf gab man eine fasergewebe. Wegen der Zwischenräume zwischen den wäßrige Aufschlämmung von 1,3 Teilen Borsäure zu. Glasfasern haften diese Stoffe fest aneinander. Der Schließlich entwässerte man das Reaktionsgemisch Vorteil solcher Platten besteht darin, daß beide Seiten '"jrch Destillation unter einem Vakuum von etwa zum Bedrucken verwendet werden können. öO cm, bis die Temperatur der Mischung auf 95; C
Erfadungsgemäße Flachdruckplatten ermöglichen io gestiegen war. Nach der Zugabe des Phenolharzes ein einfaches Herstellen und eine sehr gute Wiedergabe wurde das Walzen fortgesetzt, bis das Material homoauch im Halbton. Der Gehalt an der nicht oxydieren- gen und ziemlich trocken war. Es konnte von der den Säure bringt den Vorteil mit sich, daß die licht- Walze in Form eines zusammenhängenden Felles abempfindlichen Schichten beim Auswalzen oder Formen gezogen werden.
nicht klebrig sind und daß sie beim Verarbeiten in der 15 Das abgezogene Fell wurde in Berührung gebracht Wärme gut aushärten. mit Kraftpapier, das seinerseits auf ein Blatt aus Poly
äthylen aufgepreßt war. Die Stoffe wurden 3 Minuten
Beispiel 1 'anS bei einem Druck von 20 kg/cm3 bei einer Tempe
ratur von 150°C zusammengepreßt. Es entstand ein
Ein Resolharz wurde hergestellt durch Erhitzen 20 geschichteter Körper von guter Widerstandsfähigkeit einer Mischung von 100 g m-Kresol, 90 g einer gegen Kreppen. Diese Platte wurde auf einer Druck-37 /„igen Forma'.dehydlösung, 6 g Hexamethylen- presse verwendet. Die Kunststoffschicht wurde sensitetramin und 50 g Wasser unter Rückfluß während bilisiert durch Aufsprühen einer 5%igen Lösung von 35 Minuten unter vermindertem Druck. Dann destil- Jodoform in Aceton. Dann belichtete man die Platte lierte man die Mischung im Vakuum, bis die Tempe- 25 durch ein Halbtonnegativ 5 Minuten lang aus einer ratur auf 95°C gestiegen war. Das Umsetzungsprodiikt Entfernung von etwa 60 cm mit einer Kohlenbogenwurde aus dem Reaktionsgefäß entfernt und nach dem lampe von 15 Ampere. Die so behandelte Platte gab Abkühlen pulverisiert. ausgezeichnete Abzüge.
Eine Paste aus 30 g Polyäthylenoxyd *nit einem Gleiche Ergebnisse wurden erhalten, wenn man ein
Molekulargewicht zwischen etwa 4 000 000 und 30 Rasternegativ verwendet.
8 000 000 und 100 g Wasser wurde auf einem Zwei- .
walzenstuhl bearbeitet, wobei die eine Walze auf B e 1 s ρ 1 e 1 3
10O0C, die andere auf 900C gehalten wurde. Nach 30 g Polyäthylenoxyd mit einem Molekulargewicht
Bildung eines Felles gab man 35 g des gepulverten von etwa 3 000 000 bis 4 000 000 wurden mit 100 g Resolharzes zu und setzte das Walzen fort, bis das 35 Wasser und 5 g Oxalsäure zu einer Paste verarbeitet. Produkt homogenisiert war. Dann gab man 15 g Oxal- Die Paste wurde dann auf einem Zweiwalzenstuhl gesäure in Form einer wäßrigen Aufschlämmung zu und walzt, bei welchem die eine Walze auf 1000C und die setzte das Walzen fort, bis das Fell wieder homogen andere auf 9O0C gehalten wurde, bis ein homogenes war. Schließlich setzte man 2 g Jodoform in Aceton Fell entstand. Dann gab man 20 g eines gepulverten gelöst zu und setzte das Walzen wieder fort- bis das 40 Phenolharzes langsam zu. Das Phenolharz war so her-FeIl homogen war. Dann entfernte man das Fell aus gestellt, wie im Beispiel 2 beschrieben. Man setzte das der Walze und preßte 1 Minute lang bei einer Tempe- Walzen fort, bis das Material homogen und ziemlich ratur von 1300C und einem Druck von 35 kg/cm2 trocken war. In Form eines zusammenhängenden auf ein Blatt aus Papier, das vie! Ton enthielt. Felles wurde es dem Walzenstuhl entnommen.
Die lichtempfindliche Schicht wurde mit einem 45
photographischen kontinuierlich abgetönten Negativ Beispiel 4
bedeckt und 5 Minuten lang aus einer Entfernung von
etwa 60 cm mit einer Kohlenbogenlampe von 15 Am- Ein Kunststoffblatt, ähnlich dem im Beispiel 3 be-
pere belichtet. Bei Verwendung auf einer Druckpresse schriebenen, wurde auf ein Blatt aus Kraftpapier aufwurden, ausgezeichnete Abzüge erhalten. Dieselben 50 gelegt, das seinerseits mit einem Blatt aus Polyäthylen Ergebnisse wurden erhalten, wenn man ein Halbton- zusammengepreßt war. Man preßte das Ganze 3 Minegativ für die Belichtung verwendete. nuten lang bei einem Druck von 20 kg/cm2 und bei
Ähnliche Ergebnisse wurden erhalten, wenn man einer Temperatur von 1500C zusammen. Das entan Stelle von Oxalsäure Zinnchlorid, Succinsäure, standene Produkt bestand aus gut zusammenhängen-Phosphorsäure oder Chlorwasserstoff verwendete. 55 den Schichten von gutem Widerstand gegen Kreppen.
Bei Verwendung von Bromoform, Methyljodid und Die Platte wurde sensibilisiert durch Aufsprühen
anderen halogenabspaltenden Halogenwasserstoffen einer Lösung eines Sensibilisators. Nach dem Trockwurden ebenfalls gleiche Ergebnisse erhalten. nen wurde die Platte mit einem gerasterten photo
graphischen Negativ bedeckt und 5 Minuten lang aus
B e i s ρ i e 1 2 einer Entfernung von etwa 60 cm mit einer Kohlen
bogenlampe von 15 Ampere belichtet·.
30 g Polyäthylenoxyd mit einem Molekulargewicht
von etwa 3 000 000 bis 4 000 000 wurden mit 100 g B e i s ρ i e 1 5
Wasser und 5 g Oxalsäure zu einer Paste verarbeitet.
Man walzte die Paste auf einem Zweiwalzenstuhl, bei 65 Das Material für eine Druckplatte wurde so hcrwelchem die eine Walze auf 1000C, die andere auf gestellt, wie es im Beispiel 3 beschrieben ist. Das Ma-900C gehalten wurde, biseinhomogenes Fell entstand. terial wurde zu Folien von etwa 0,2 mm Dicke aus-Dann gab man 20 g von gepulvertem Phenolharz lang- gewalzt. Eine Folie, die so hergestellt war. wurde in
Berührung gebracht mit einem Blatt von Kraftpapier, sammengepreßt. Die erhaltene Platte wurde sensibilidas seinerseits auf einem Blatt aus Polyäthylen von siert mit einer 5 %igen Lösung von 4,4'-Diazidostilbenetwa 0,25 mm Dicke lag. Das Ganze wurde zwischen 2,2'-disulfonsaurem Natrium in Wasser durch Auf-Stahlplatten 2 Minuten lang bei einem Druck von sprühen der Lösung. Bei der Verwendung dieser Platte 20kg/cma und bei einer Temperatur von 140° C zu- S wurden ausgezeichnete Ergebnisse erhalten.

Claims (5)

gegebenenfalls zusätzlich einen oxydierenden Stoff Patentansprüche: ^Difkrfindung beruht auf der Erkenntnis, daß die Eigenschaften solcher Druckplatten verbessert werden,
1. Lichtempfindliche Flachdruckplatte, die eine = wenn sie zusätzlich eine nicht oxydierende Säure entlichtempfindliche Schicht enthält, die als wesent halten.
lichtempfindliche Schicht enthält, die als wesent- Die erfindungsgemäße Flachdruckplatte ist dadurch
polymer von Äthylenoxyd oder ein vorwiegend gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht zu-Äthylenoxydreste enthaltendes Copolymer mit sätzlich auf je 100 Gewichtsteile des Phenolaldehydeinem mittleren Molekulargewicht zwischen 50 000 io harzes bis 50 Gewichtsteile einer nicht oxydierenden und 10 000 000, ein vernetztes oder ausgehärtetes Säure enthält
Phenolaldehydharz und einen lichtsensibilisieren- Die lichtempfindlichen Schichten enthalten vor-
den Stoff enthält, wobei die lichtempfindliche zugsweise ein Homopolymer des Äthylenoxyds. Es Schicht auf je 100 Gewichtsteile des Phenol- können aber auch Copolymere von Athylenoxyd mit aldehydharzes 20 bis 300 Gewichtsteile des Homo- 15 anderen Olefinoxyden, wie Propylenoxyd, Butylenpolymers oder des Copolymers und 8 bis 20 Ge- oxyd, Styroloxyd u. dgl. enthalten sein,
wichtsteile des lichtsecsibilisierenden Stoffes ent- Die erfindungsgemäß in der lichtempfindlichen
hält, dadurch gekennzeichnet, daß Schicht enthaltene Säure soll nicht oxydierend sein die lichtempfindliche Schicht zusätzlich auf je und mit Wasser einen pH-Wert von weniger als 7, 100 Gcwichtsteile des Phenolaldehydharzes 2 bis ao vorzugsweise von weniger als 6, ergeben. Zu den 50 Gswichtsteile einer nicht oxidierenden Säure brauchbaren Stoffen gehören schwache Säuren und enthält. stärkere Säuren. Zu den verwendbaren anorganischen
2. Lichtempfindliche: Flachdruckplatte nach An- Säuren gehören beispielsweise Schwefelsäure, Phosspruchl, dadurch gelkennzeichnet, daß die licht- phcrsäure, Borsäure, Jodwasserstoff säure, Chlorwasseremplindliche Schicht als Säure eine Carboxylsäure, »5 stoifsäure, Bromwasserstoffsäure und Fluorwassarvorzugsweise Oxalsäure, enthält stoffsäure. Verwendbare organische Säuren sind bä-
3. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfind- spielsweise Carboxyüsäuren wie Ameisensäure, Essiglichen Flachdruckplatte nach Anspruch 1 oder 2, säure, Bromessigsäiire, Toluolsulfonsäurc, Trichlordadurch gekennzeichnet, daß das Homopolymer essigsäure, Oxalsäure, Malonsäure, Succinsäure, Adi- oder das Copolymer und die nicht oxidierende 30 pinsäure, Weinsäure, Milchsäure, Zitronensäure, 1,2, Säure mit eiuem in Wasser oder einem organischen 4-Butantricarboxylsäure, Glyoxalsäure, Acetessigsäure, Lösungsmittel löslichen, schmelzbaren, vernetz- Lävulinsäure, Benzoesäure, Phthalsäure, Terephthalbaren oder aushärtbaren Phenolaldehydiharz oder säure, Salicylsäure, p-Methoxybenzoesäure, Benzolden Ausgangsstoffen zu dessen Bildung vermengt, hexacarboxylskure, Glycin, Abietinsäure und PoIyin der Wärme zu einer Schicht verarbeitet und der 35 acrylsäure.
lichtsensibilisierende Stoff während des Mischens Mehrwertige Carbonsäuren, insbesondere Oxalsäure,
und Verarbeitens oder anschließend daran zu- sind besonders gut geeignet. Polymere Polycarbongegeben wird. säuren wie Polyacrylsäure haben den Vorteil, daß sie
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekenn- dem Gemisch wegen ihrer harzartigen Beschaffenheit zeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht auf 40 gute Eigenschaften verleihen.
einen Schichtträger gepreßt wird. Lichtsensibilisierende Stoffe im Sinne der Erfindung
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekenn- sind solche, die bei Raumtemperatur durch Lichtzeichnet, daß ein Schichtträger verwendet wird, der energie aktiviert werden und in dieser aktivierten Form aus einem Glasfasergewebe besteht. sich umsetzen können mit den Harzbestandteilen der
45 Druckplatte, wohei diese letzteren dann auf den belichteten Stellen gehärtet werden.
Beispiele für lichtempfindliche Stoffe sind Diazoverbindungen und Diazoniumverbindungen, A2:ide
und wasserlösliche Verbindungen des sechswerti.gen
50 Chroms. Im nachstehenden werden mit der Bezeichnung »Diazoverbindungen« auch Diazonium- und Azidoverbindungen bezeichnet. Hierzu gehören Abkömmlinge von Diazonaphthol- und Diazophenol-
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Flach- sulfonamide^ o-Chinondiazide, Kondensationsprodruckplatte, die eine lichtempfindliche Schicht enthält, 55 diukte von Diazo-diarylaminen und Formaldehyd, die als wesentliche Bestandteile ein in Wasser lösliches Salze der4,4'-Diazidostilben-2,2'-disulfonsäure, Azido-Homopolymer von Athylenoxyd oder ein vorwiegend styrylketone, wie sie in der französischen Patentschrift Äthylenoxydreste enthaltendes Copolymer mit einem 886 716 beschrieben sind, z. B. 4-Azidobenzalacet:onmittleren Molekulargewicht zwischen 50 000 und 2-sulfonsaure Salze, Salze der 1,5-Diazido-naphthiilin-000 000, ein vernetztes oder ausgehärtetes Phenol- 60 3,7-disulfonsäure, Salze der 4-Azidonaphthalin-l,fi-dialdehydharz und einen lichtsensibilisierenden Stoff carboxylsäure, Salze der 4,4'-Diazido-diphenylmethanenthält, wobei die lichtempfindliche Schicht auf je 3,5-dtcarboxylsäure, Salze der 2-Diazo-l-hydroxy-Gewichtsteüe des Phenolaldehydharzes 20 bis naphthalin-5-sulfonsäure, p-Diazodialkyl-anilin, p-Di-Gewichtsteüe des Homopolymers oder des Co- azophenylmorpholin, ρ - Diäthylaminobenzoldipoiymers und 8 bis 20 Gewichtsteüe des lichtsensibili- 65 azoniumfluoborat, 2-Methylbenzoldiazoniumfluobosierenden Stoffes enthält. rat, p-Fluorphenyldiazoniumfiuoborat, 1,5-N'aphtha-
In der französischen Patentschrift 1 292 577 ist eine lintetrazoniumfluoborat, Ammoniumchromat, Amsolche lichtempfindliche Druckplatte beschrieben, die moniumbichromat, Nairiumchromat, Natriumbichro-
DE1797518A 1963-12-09 1964-12-09 Lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung. Ausscheidung aus: 1447920 Expired DE1797518C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US32924763A 1963-12-09 1963-12-09

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1797518A1 DE1797518A1 (de) 1971-11-04
DE1797518B2 DE1797518B2 (de) 1974-01-10
DE1797518C3 true DE1797518C3 (de) 1974-08-15

Family

ID=23284526

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19641447920 Pending DE1447920B2 (de) 1963-12-09 1964-12-09 Mischung zur herstellung einer zu sensibilisierenden schicht fuer druckplatten
DE19641772274 Pending DE1772274B1 (de) 1963-12-09 1964-12-09 Lichtempfindliches Gemisch
DE1797518A Expired DE1797518C3 (de) 1963-12-09 1964-12-09 Lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung. Ausscheidung aus: 1447920

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19641447920 Pending DE1447920B2 (de) 1963-12-09 1964-12-09 Mischung zur herstellung einer zu sensibilisierenden schicht fuer druckplatten
DE19641772274 Pending DE1772274B1 (de) 1963-12-09 1964-12-09 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3615532A (de)
BE (1) BE656799A (de)
DE (3) DE1447920B2 (de)
NL (1) NL6414317A (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7109179A (de) * 1970-07-13 1972-01-17
JPS4833905A (de) * 1971-09-02 1973-05-15
GB1375461A (de) * 1972-05-05 1974-11-27
US3793033A (en) * 1972-09-05 1974-02-19 Minnesota Mining & Mfg Development-free printing plate
US3899332A (en) * 1972-09-11 1975-08-12 Lith Kem Corp Printing plate and method of making the same
US3836366A (en) * 1972-09-11 1974-09-17 Lith Kem Corp Planographic printing plates and method for their preparation
US3837858A (en) * 1972-09-11 1974-09-24 Lith Kem Corp Printing plate and method of making the same
US4036644A (en) * 1973-03-16 1977-07-19 International Business Machines Corporation Photoresist process and photosensitive O-quinone diazide article with aliphatic carboxylic acid as adhesion promotor
US4123279A (en) * 1974-03-25 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive o-quinonediazide containing planographic printing plate
US4259430A (en) * 1974-05-01 1981-03-31 International Business Machines Corporation Photoresist O-quinone diazide containing composition and resist mask formation process
US4009033A (en) * 1975-09-22 1977-02-22 International Business Machines Corporation High speed positive photoresist composition
DE2626419C2 (de) * 1976-06-12 1982-10-21 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Lichtempfindliches Gemisch
JPS533216A (en) * 1976-06-28 1978-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Diazo photosensitive composition
US4284706A (en) * 1979-12-03 1981-08-18 International Business Machines Corporation Lithographic resist composition for a lift-off process
WO1983002339A1 (en) * 1981-12-21 1983-07-07 Molodnyakov, Sergey, Petrovich Photo- and electron resist

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1292577A (fr) * 1960-07-06 1962-05-04 Union Carbide Corp Compositions photosensibles pour clichés

Also Published As

Publication number Publication date
DE1447920B2 (de) 1971-09-23
BE656799A (de) 1965-04-01
DE1797518A1 (de) 1971-11-04
US3615532A (en) 1971-10-26
DE1447920A1 (de) 1969-04-24
DE1772274B1 (de) 1971-10-28
NL6414317A (de) 1965-06-10
DE1797518B2 (de) 1974-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1797518C3 (de) Lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung. Ausscheidung aus: 1447920
DE954127C (de) Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten
DE975629C (de) Verfahren zur Herstellung fotografischer Filme
DE2362005C2 (de) Verfahren zum Wasserfestmachen von photopolymeren Druckformen
DE1447916A1 (de) Feuchtigkeitsfeste Flachdruckplatten
DE1015313B (de) Verfahren zur direkten Herstellung von Positiven mit Hilfe der gerbenden Entwicklung
DE2618757C3 (de) Elektrisch leitender Schichtträger
DE908377C (de) Flachdruckfolie und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3889415T2 (de) Photoschablone für Siebdruck.
DE2363092A1 (de) Positiv wirkende elektronenreserve
DE1447002C3 (de) Kopiermaterial für die photomechanische Herstellung von Flach- und Offsetdruckformen
DE2533156A1 (de) Verfahren zur herstellung von lichtempfindlichen druckplatten
DE1917917B2 (de) Photopoylmerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE2510873C3 (de) Photographisches Aufzeichnungsverfahren
DE1235958B (de) Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Flachdruckplatte
DE4203608A1 (de) Verfahren zur photochemischen oder mechanischen herstellung flexibler druckformen
DE1216895B (de) Verfahren zum Herstellen von sensibilisierten lithographischen Flachdruckfolien
DE1300025B (de) Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Flachdruckplatte
DE1297469B (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2207503A1 (de) Verfahren zum Aufbringen einer Zwi sehen bzw Haftschicht auf einen photo graphischen Film
DE2311896A1 (de) Lichtempfindliche polymermassen und ihre verwendung zur herstellung von druckformen
DE1447977C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht für Flachdruckplatten und hierfür verwendbare Beschichtungslösung
DE1570305B1 (de) Verfahren zur herstellung von modifizierten phenolformalde hydharzen und ihre verwendung zum antistatischmaschen von kunststoffen
DE2057934A1 (de) Fotografisches Material zur Herstellung lithografischer Druckformen und Verfahren zur Herstellung solcher Druckfomen
DE1958578A1 (de) Litografische Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)