DE1762578C3

DE1762578C3 - Elektronenstrahlerzeugersystem für eine Elektronenstrahlröhre zum Erzeugen mehrerer in einer Ebene liegender Elektronenstrahlen

Info

Publication number: DE1762578C3
Application number: DE19681762578
Authority: DE
Inventors: Piet Gerard Joseph Eindhoven Barten (Niederlande)
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1967-07-18
Filing date: 1968-07-11
Publication date: 1978-11-23
Also published as: GB1228809A; DE1764596B2; DE1762578A1; BE718132A; GB1230109A; CH489899A; NL6709978A; NL156857B; FR1572072A; FR1572071A; BE718131A; NL6809258A; CH483721A; DE1764596C3; JPS521267B1; DE1762578B2; DE1764596A1

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Elektronen-Strahlerzeugersystem für eine Elektronenstrahlröhre zum Erzeugen mehrerer in einer Ebene liegender Elektronenstrahlen mit den im Oberbegriff des Patentanspruches 1 aufgeführten Merkmalen. Ein solches Elektronenstrahlerzeugersystem ist aus der US-PS 2957106 bekannt.

In einer Elektronenstrahlröhre, in der die verschiedenen Elektronenstrahlen von nur einem Elektronenstrahlerzeugungssystem erzeugt werden, tritt gegenüber einer Elektronenstrahlröhre, in der für jeden Elektronenstrahl ein besonderes Elektronenstrahlerzeugungssystem vorhanden ist, der Vorteil auf, daß die Anordnung des Elektronenstrahlerzeugungssystems gedrängter wird und somit ein kleinerer Abstand zwischen den Strahlen möglich ist. Um öffnungsfehler in den gemeinsamen Elektronenlinsen zu vermeiden, muß einerseits der Achsenabstand der Elektronenstrahlen möglichst klein gehalten werden. Andererseits bestimmt dieser Achsenabstand die Möglichkeit, die Elektronenstrahlen zu unterscheiden, also in einer Farbbildröhre den Farbwahlwinkel, und er soll daher ein gewisses Mindestmaß nicht unterschreiten.

Es ist die Aufgabe der Erfindung, eine neue Ausgestaltung einer derartigen Elektronenstrahlröhre anzugeben, in der bis zu einem maximalen Achsenabstand der Elektronenstrahlen elektronenoptische Aberrationen weitgehend vermieden werden.

Zur Lösung der obengenannten Aufgabe werden bei einem Elektronenstrahlerzeugungssystem der eingangs genannten Art nach der Erfindung Maßnahmen ergriffen, die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruches 1 im einzelnen angegeben sind. In weiterer Ausgestaltung der Erfindung können Maßnahmen ergriffen werden, wie sie im kennzeichnenden Teil des Patentanspruches 2 im einzelnen beschrieben sind.

Die Erfindung wird an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 einen Schnitt durch eine Elektronenstrahlröhre und

Fig. 2 bestimmte Teile des Schnitts nach Fig. 1 in vergrößertem Maßstab.

Die Elektronenstrahlröhre 1 ist eine Farbbildröhre des Lochmaskentyps und enthält ein schematisch dargestelltes Elektronensfrahlerzeugungssystem 2, das drei Elektronenstrahlen erzeugt, deren Mittelachsen in einer durch die Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems gehenden Ebene liegen, wobei die Achse des mittleren Elektronenstrahles mit der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems 2 zusammenfällt. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 2 konvergiert die drei Elektronenstrahlen auf die Lochmaske 3, worauf jeder Elektronenstrahl auf bestimmte Teile des Leuchtschirmes 4 auf trifft. Die Abtastung des Schirmes erfolgt durch die schematisch dargestellte- Ablenkvorrichtung 5.

In Fi g. 2 ist der Halsteil der Röhre in einem Schnitt durch die Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems dargestellt. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 2 enthält drei Katoden 6,7 und 8, ein gemeinsames erstes Gitter 9, das für die von den Katoden 6, 7 und 8 herrührenden Elektronenstrahlen mit öffnungen 10,11 und 12 versehen ist, ein gemeinsames zweites Gitter 13, das mit öffnungen 14,15 und 16 versehen ist, und ein gemeinsames drittes Gitter 17, das öffnungen 18, 19 und 20 aufweist. Die Mitten der öffnungen 11, 15 und 19 liegen auf der Achse 21 des Elektronensrrahlerzeugungssystems 2, während die Mitten der öffnungen 10,14 und 18 auf einer zur Achse 21 parallelen Linie 22 und die Mitten der öffnungen 12, 16 und 20 auf einer gleichfalls zur Achse 21 parallelen Linie 23 liegen. In diesem Fall fällt die Linie 22 mit der Achse der Katode 6, die Achse 21 mit der Achse der Katode 7 und die Linie

23 mit der Achse der Katode 8 zusammen. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 2 enthält weiterhin ein gemeinsames viertes Gitter 24 und ein gemeinsames kreiszylinderförmiges fünftes Gitter 25. Das vierte Gitter besteht aus zwei miteinander verbundenen kreiszylinderförmigen Teilen 26 und 27. Das plattenförmige dritte Gitter 17 ist an der dem vierten Gitter

24 zugekehrten Seite mit einer ringförmigen Erhöhung 28 versehen.

In einem bestimmten Fall beträgt der Abstand zwischen den Katoden 6, 7 und 8 und dem ersten Gitter 9:0,09 mm; zwischen dem ersten Gitter 9 und dem zweiten Gitter 13: 1,0 mm und zwischen dem zweiten Gitter 13 und dem dritten Gitter 17: 1,5 mm. Das erste Gitter 9 hat eine Stärke von 0,20 mm, das zweite Gitter 13 eine Stärke von 0,50 mm und das dritte Gitter 17 gleichfalls eine Stärke von 0,50 mm. Die kreisförmigen öffnungen 10,11 und 12 im ersten Gitter 9 haben einen Durchmesser von 0,75 mm, die kreisförmigen öffnungen 14, 15 und 16 im zweiten Gitter 13 einen Durchmesser von 0,75 mm und die kreisförmigen öffnungen 18,19 und 20 im dritten Gitter 17

einen Durchmesser von 2,0 mm. Der Abstand zwischen der durch die Mitten der öffnungen 12,16 und 20 gehenden Linie 22 und der Achse 21 des Elektronenstrahlerzeugcngssystems 2 beträgt 3,5 mm. Der Innendurchmesser der Teile 26 und 27 des vierten Gitters 24 beträgt 14 mm bzw. 20 mm. Der Durchmesser der ringförmigen Erhöhung 28 betragt 14 mm und ist somit gleich dem Innendurchmesser des dem dritten Gitter 17 zugekehrten Teiles 26 des vierten Gitters 24. Der Innendurchmesser des fünften Gitters 25 beträgt 20 mm. Die Abmessung der Erhöhung 28 in Richtung der Achse 21 beträgt 1,5 mm, die des Teiles 26 in dieser Richtung 7 ram, die des Teiles 27 in dieser Richtung 18 mm und die des fünften Gitters

25 in dieser Richtung 10 mm. Der Abstand zwischen der Erhöhung 28 und dem Teil 26 beträgt 2 mm und zwischen dem Teil 27 und dem fünften Gitter 25 gleichfalls 2 mm. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 2 kann mit folgenden Spannungen betrieben werden:

Katode zwischen 0 V und 140 V

erstes Gitter 0 V

zweites Gitter 1 700 V

drittes Gitter 350 V

viertes Gitter 4 300 V

fünftes Gitter 25 000 V.

Die veränderliche Spannung an der Katode dient zur Steuerung der Elektronenstrahlen.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Elektronenstrahlerzeugersystem für eine Elektronenstrahlröhre zum Erzeugen mehrerer in einer Ebene liegender Elektronenstrahlen, das für jeden Elektronenstrahl eine getrennte Katode sowie fünf für alle Elektronenstrahlen gemeinsame Gitter enthält, wobei der wirksame Teil des ersten, zweiten und dritten Gitters praktisch plattenför- ι ο mig ist und für jeden Elektronenstrahl eine einzelne öfnnung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das vierte und fünfte Gitter als für alle Elektronenstrahlen gemeinsame rohrförmige Elektroden ausgebildet sind, daß der Abstand zwischen den Mitten benachbarter öffnungen in dem dritten Gitter weniger als 7 mm beträgt und daß die Abmessung des dritten Gitters an der Stelle der öffnungen in Richtung der Achse des Elektronenstrahlerzeugersystems höchstens

gleich 4 mm ist.

2. Elektronenstrahlerzeugersystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das dritte Gitter an der dem vierten Gitter zugekehrten Seite mit einer ringförmigen Erhöhung versehen ist, die die öffnungen in dem dritten Gitter umringt und dessen Durchmesser höchstens gleich dem Durchmesser des dem dritten Gitter zugekehrten Teiles des vierten Gitters ist und der Durchmesser des vierten Gitters an der Seite des dritten Gitters kleiner als an der gegenüberliegenden Seite ist, wobei das vierte Gitter aus wenigstens zwei miteinander verbundenen zylindrischen Teilen besteht.

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