DE1496950A1 - Vorrichtung zur Erzeugung von Elektrolytkupfer in Form von Platten,Baendern od.dgl. - Google Patents

Vorrichtung zur Erzeugung von Elektrolytkupfer in Form von Platten,Baendern od.dgl.

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DE1496950A1 DE19641496950 DE1496950A DE1496950A1 DE 1496950 A1 DE1496950 A1 DE 1496950A1 DE 19641496950 DE19641496950 DE 19641496950 DE 1496950 A DE1496950 A DE 1496950A DE 1496950 A1 DE1496950 A1 DE 1496950A1
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D1/00Electroforming
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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Description

"Vorrichtung zur Erzeugung von Elektrolytkupfer in Form von Platten, Bändern od.dgl,."
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Elektrolytkupfer in Fora von Platten, Bändern od.dgl..
Es ist allgemein bekannt, für die Herstellung von Eletrolytkupfer in Platten eine Einrichtung mit einer rotierenden, zylinderförmigen und teilweise in eine Wanne eingetauchte Kathode zu verwenden, die mit der Kupfersulfat enthaltenden Anode elektrisch verbunden ist." Das Elektrolytkupfer setzt sich auf dieser rotierenden zylinderförmigen Kathode ab und wird von derselben allmählich in Form eines kontinuierlichen Bandes abgezogen.
Der Nachteil bei diesen bekannten Verfahren liegt darin, ^ daß umfangreiche zusätzliche Anlagen zur Erzeugung von Kupfersulfat für die Anodenwanne und folglich kostspielige Hilfseinrichtungen für die Beschickung, Erwärmung und Förderung des verarbeiteten Materials erforderlich sind. co
Ein weiterer Nachteil ist der, daß die Produktionsleistung ^ jeder einzelnen Einrichtung in der Praxis nicht über be- «* stimmte Grenzen hinaus gesteigert werden kann, die durch
σ» die Abmessungen des Kathodenzylinders gesetzt sind, die dieser zur Erzielung hoher Produktionsleistungen haben müßte.
BAD ORIGINAL
Der Gegenstand der ^Erfindung ermöglicht *die Verwendung von lösbaren Kupferanoden, wddurch die kostspieligen zusätzlichen Einrichtungen für die Herstellung von Kupfersalzlösungen in Fortfall kommen, wobei jedoch eine Verwendung der letzeren nicht ausgeschlossen wird.
Der Hauptzweck der Erfindung liegt darin, die Nachteile der vorerwähnten bekannten Verfahren zu beseitigen und eine Einrichtung zu schaffen, welche die Möglichkeit bietet, die Kathodenfläche jeder einzelnen Maschine wie gewünscht zu vergrößern, ohne damit den Stromverbrauch zu / steigern, und zwar auf ganz einfache und leicht durchzuführende Art und Weise, so daß hohe Stundenproduktionen erzielt werden können.
Ein weiterer Zwecfk der Erfindung ist der, ein Kathoden. Speisesystem zu schaffen, das eine Durchströmung großer Strommengen ermöglicht, wobei trotzdem die Stromdichte in normalen Grenzen gehalten wird.
Ein noch weiterer Zweck der Erfindung liegt darin, für den Elektrolyt ein wirksames Rührwerk vorzusehen, wodurch eine einwandfreie Verteilung des sich auf der Oberfläche der Kathode absetzenden Kupfers und damit eine gleichmäßige Stärke der erzeugten Kupferplatte erzielt wird, wodurch diese Produktion, ausgehend von Kupferanoden, ermöglicht
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BAD ORiGSNAL
Die Erfindung verfolgt schließlich, noch Eden Zweck, geeignet angeordnete Mittel für ein vorteilhaftes Erhärten der erzeugten Kupferplatte vorzusehen-r
Diese und andere Zwecke werden durch die erfindungsgemäße Vorrichtung für die Herstellung von Elektrolytkupfer in Platten erreicht, die daddurch gekennzeichnet ist, daß diese eine Kathode aufweist, die im wesentlichen aus einem endlosen, über ein Antriebsaggregat angetriebenes umlaufendes zumindest teilweise aus stromleitfähigem Material hergestelltes förderband besteht, wobei das Förderband mit Mittel für den elektrischen Kontakt und für die Stromdurchfuhr über die Kathode in Verbindung steht, und dadurch gekennzeichnet, daS das unten liegende Trum des !Förderbandes in einer mit Elektroljt gefüllten und mit zumindestens einer Anode versehenen Wanne eingetaucht ist, wobei das förderband seitlich angeordnete Schutzmittel auftfeist9 um die Innenfläche desselben gegen eine Berührung mit dem Elektrolyten zu schützen und letztlich dadurch gekennzeichnet, daß in der Wanne ein mit dem förderband in Zusammenarbeit stehendes Rührwerk angeordnet ist.
Die Antriebsmittel sind für das Förderband in Porm von Laufrollen ausgebildet, wobei zumindest eine der Laufrollen mit einem Antriebsaggregat in Verbindung steht.
Weiterhin bestehen die Mittel für den elektrischen Kontakt
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mit der Kathode zumindest aus einem Teil aus stromleitendem Material, wobei dieses Teil mit der Innenfläche des Förderbandes in Berührung steht und mit einer Quers.chiene verbunden ist.
Das aus stromleitendem Material bestehende Teil steht vorzugsweise unter Federkraft, um einen ständigen Kontakt zwischen dem Teil und dem Förderband zu erzeugen.
Entsprechend der Länge des Förderbandes und der durchzuleitenden Strommenge ist eine Vielzahl von aus stromleitendem Material bestehenden Teilen angeordnet.
Ferner weist das Förderband seitlich nach innen zum Rand hin gerichtete Schutzmittel auf, derart, daß die Innenfläche des Förderbandes mit dem Elektrolyten nicht in Berührung kommt, wobei der äußere Teil der Schutzmittel die Bandränder, um ein Loslösen der Kupferplatte vom Förderband zu erleichtern, beidseitig Überlappt.
Das Rührwerk besteht aus einem im wesentlichen leiterförmig ausgebildeten Teil, welcher unten in der Wanne zwischen der Anoden- und Kathodenfläche angeordnet ist, und ist in an den Seitenwänden der Wanne befestigten Führungen hin- und herbewegbar.
Das aus einem Gestänge bestehende Rührwerk ist zwecks Be· 909833/1007
BAD ORIGINAL
wegung des Elektrolyten in der Wanne zwischen der Kathoden- und Anodenfläche mit im wesentlichen beweglichen Schaufeln im Innen der Wanne angeordnet.
Im oberen Teil der Vorrichtung ist zumindestens ein Querschlitten, versehen mit einer Bürste zum Heinigen der Kupferplatte, angeordnet, wobei der Schlitten an der Außenfläche der erzeugten Kupferplatte hin- und herbewegbar ist«
Mir die Einstellung der Geschwindigkeit und des Druckes des Schlittens sind entsprechende Mittel vorgesehen.
Zumindestens eine im wesentlichen zylinderförmige Bürste ist zum Heinigen der Kupferplatte mit spiralförmig angeordneten Borsten angeordnet, "die sich im oberen Seil der Vorrichtung an der äußeren Fläche der erzeugten Kupferplatte bewegt.
Die Vorrichtung führt weiterhin aus, daß ein Aggregat zum Erhärten der erzeugten Kupferplatte, bestehend aus in Längsrichtung kammförmig angeordneten und nebeneinanderliegenden Elementen, welche durch unabhängige jedermittel gegen die Außenfläche der erzeugten Kupferplatte gepreßt sind, vorgesehen ist»
Die Mittel für das Hin- und Herbewegen des Aggregates sind in Vorschubrichtung des Förderbandes angeordnete
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rotierenden Mittel bestehend aus zwei überanderangeordneten.mit waagerechten Achsen in einer im wesentlichen senkrechten Ebene liegenden Zylindern, wobei zwischen dem Förderband, dessen Innenfläche mit dielektrischem Material, z.B. Plastik od.dgl., ausgekleidet ist, und der das Förderband teilweise umschließenden Wanne Rührmittel zur Bewegung des Elektrolyten angeordnet sind.
Yfeitere Merkmale und Vorteile der"Erfindung gehen aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten, jedoch nicht ausschließlichen Ausführungsbeispiels einer Einrichtung für die Herstellung von Elektrolyten in Platten ixnä aus den Zeichnungen hervor, es zeigen:
!ig. 1 eine Querschnitt durch die erfindungsgemäße Torrichtung,
fig. 2 einen Längsschnitt durch die Yorrichtung laß Pig. 1,
Pig. 3 ein Teilstück des Bandes mit seitl. Schutzmitteln im Schnitt,
Fig. 4 eine Einzelheit des Rührwerks im Grundriß,
α> Fig. 5 einen Querschnitt durch die ¥orriehtung gemäß
to Fig. 1 mit einem anders ausgebildeten Eühr-
ω werk,
-» Fig. 6 einen lotrechten Schnitt durch ein weiteres
o, Ausführungsbeispiel-mit übereinanderliegenden
BAD ORIGINAL
— 2 -»
Gemäß den Pig. 1 bis 4 besitzt die erfindungsgemäße ?orrochtung ein endloses Förderband 1 aus rostfreiem Stahl, das um zwei Walzen 2 und 3 läuft, won denen zumindest eine mit einem Antriebsaggregat, welches das Förderband 1 in Umlauf setzt, verbunden ist. Das untere Trum des Förderbandes 1 läuft dabei durch die mit Elektrolyt gefüllte Wanne 4, wobei die untere äußere Oberfläche des unteren Irumes mit dem Elektrolyt in Berührung kommt, während, um ein Absetzen von Kupfer auch an der Innenfläche des Förderbandes 1 zu vermeiden, zwei lippenartige Borde 5 aus vulkanisiertem Gummi, Plastik od.dgl. Material, vorgesehen sind, die an den Seiten des Förderbandes 1 angebracht werden. Falls dieses nicht erfolgt, wäre man gezwungen, die Innenfläche des Förderbandes vollständig mit Isolationsmaterial zu'verkleiden.
Die zuletzt genannte Maßnahme kann vorteilhaft bei Einrichtungen für Produktionen angewandt werden, die keine zu hohe Stromstärke bedingen, wie man aus einer weiter unten beschriebene Variante der Erfindung ersehen wird. Die lippenartigen Borde bzw. Ränder 5 besitzten gegenüber der Innenseite des Förderbandes 1 eine genügend große Höhe, so daß der, Elektrolyt nicht auf. die Innenfläche des Förderbandes 1 gelangen kann (vgl. Fig. 3).
Die Länge des Förderbandes 1, zusammen mit den lippenartigen Borden 5, die eine volle Ausnutzung der Innenfläche
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des Förderbandes 1 als Berührungsgrundfläche ermöglichen, kann beliebig groß sein, mit dem Vorteil, auf eine ausgedehnte Fläche große Strommengen verteilen zu können, wobei die Stromdichte in normalen Grenzen gehalten wird. Dadurch ist es möglich, die Leistung jeder Maschine erheblich zu steigern und damit auch die Produktion, bei gleichzeitiger Vermindung der Einrichtungskosten sowie Arbeitskräfte
Die Kathodenspeisung erfolgt über Schleifkontakte 6, die aus einer auf eine rohrartigen Stütze ans biegsamen Stahl aufgewickelten Kupferblechrolle bestehen und an metallischen Querstangen 7 befestigt sind, wobei die Querstangen mit dem negativen Pol der Stromquelle verbunden sind. Diese Schleifkontakte 6 werden auf Grund der Elastizität der tragenden Stahlrohrstützen ständig an die Innenfläche des Förderbandes 1 angedrückt und sind in Übereinstimmung mit dem unteren Trum des Förderbandes 1 angeordnet. Wie bereits erwähnt, wird auf Grund der vorgesehenen Schutzmittel 5 die Innenfläche des Förderbandes 1 vor einer Berührung mit dem Elektrolyt geschützt. Die Anzahl der Kontakte 6 und der Schienen 7 ist naturgemäß verschieden und wird im Verhältnis zur Länge des Förderbandes 1 und des durchgeleiteten Stromes festgelegt. In diesem Zusammenhang sei darauf hingewiesen, daß auf Grund der erfindungsgemäßen Anordnung der Bestandteile der Erfindung eine große Fläche für den Kontakt der Schleifleiter zur Verfügung steht, so
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daß diese in großer Stückzahl angeordnet werden können und damit die Möglichkeit geboten ist, die Stromdichte leicht unter entsprechende Grenzen zu ahlten.
Die Wanne 4 ist innen mit Blei verkleidet, so daß sie als unlösbliehe Anode und auch als Leiter für die Stromgabe an die Kupferschienen S, die am Boden der Wanne 4 angeordnet sind (siehe Fig. 6), dienen kann. Im ersten Pail, d.h.,, wenn der Wannenboden als unlösfeliehe Anode arbeitet ist nach einer Variante eine Hilfseinrichtung für die Erzeugung von in die Wanne 4 abzufüllendes Kupfersulfat angeordnet.
Längs der Wannenschenkel stehen nach innen gerichtete Längsführungen 9 aus Plastik bzw. aus einem anderen Isolationsmaterial für die führung der Ränder des Förderbandes 1 und für eine entsprechende begrenzung des unteren Teiles der Wanne 4 vor, so daß sich die eventuell über diese Längsführungen hinaus filtrierende Flüssigkeit ruhig verhält» &ine weitere Aufgabe der Längsführungen 9 besteht darin, die Stärke der Kupferplatte an den Händern zu regeln, da sich normalerweise an den Rändern der Kathode mehr Kupfer absetzt, Da die nach innen vorstehenden Längsführungen 9 derart breit ausgelegt sindy daß sie etwas über den Rand 4er Platte reichen, wird es erreicht, daß dieser Rand nicht direkt der Anode gegenüber stellt, wodurch eine Platte mit nahezu gleichmäßiger Dicke erzielt wird.
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Oberhalb der Längsführungen 9 sind an den Wänden der Wanne 4 weitere Längsführungen 9a angeordnet, die mit ihrem äußeren Ende an den am Förderband 1 befestigten Schutzvorrichtungen 5 anliegen. Die Aufgabe der Längsführungen 9a besteht darin, die Ränder des Förderbandes 1 zu führen und um zu verhindern, daß das Förderband· 1 infolge des vom Elektrolyt am Förderband 1 nach oben ausgeübten Druckes dasselbe 1 nach oben.hin eine krumme Lage einnimmt. Da das Förderband 1 von den Schutzmitteln 5 eingefaßt ist, neigt es dazu, auf der Flüssigkeit zu schwimmen.
Im unteren Teil der Wanne 4 ist ein Rührwerk angeordnet, das aus einem beweglichen, leiterförmigen Teil 10, 11 (wie in Fig. 4 gezeigt)besteht, der in Längsrichtung τβί— laufend gelagert ist. Dieser Teil, besteht aus einem SatiS Schaufeln 10, welches von zwei Längsholmen 11 gehalten werden, die sich in Längsrichtung in den durch die Längsführungen 9 und Vprsprünge 12 gebildeten Führungen bewegen.
Das Rührwerk wird durch eine nicht dargestellte Antriebsvorrichtung angetrieben, wobei die Holme 11 derart hin- und herbwegt werden, daß die in der Wanne 4 enthaltene Flüssigkeit dauernd vermischt wird.
Im Oberteil der Einrichtung, bei der Rolle 2, ist ein Aggregat zur Oberflächenbearbeitung der sich an der Kathode angesetzten Kupferplatte angeordnet.
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Dieses Aggregat besteht aus zwei beweglichen Querschlitten 15 und 14, die sich parallel zur Rollenachse der Rolle 2 bei einstellbaren Druck und einstellbarer Geschwindigkeit Mn- und herbewegen. Der Schlitten 13 ist ZSX mit zumindest einer Bürste aus hartem· Material, z.B. aus Stahlborsten od.dgl., zum Reinigen der Platte von eventuell auf der Außenfläche verbleibenen Ablagerungen. Der zu. sammen mit dem Schlitten 13 bewegliche Schlitten 14 beseitzt eine Bürste aus weichem Material, um das von der Bürste des Schlittens 13 gelöste Material an die Ränder zu bürsten und so eine weitere Reinigung und Polierung der Platte zu erzielen.
Die mit Bürsten versehenen Schlitten 13 und 14 werden mit Hilfe einer pneumatischen bzw. mechanischen nicht dargestellten Antriebsvorrichtung angetrieben und weisen Mittel für die Druckeinstellung der Bürsten auf die Platte auf,
Es ist außerdem eine Variante für dieses Aggregat zur Oberflächenbearbeitung der Kupferplatte vorgesehen, wonach anstelle der Schlitten 13, 14 zylinderförmige, rotierende Bürsten angeordnet sind, die horizontal gelagert sind und spiralförmige Borsten besitzen, um Kratzer auf der Kupferplatte zu vermeiden.
Am Ende der Torrichtung ist ein weiteres Aggregat 15 an-90983 3/1_0^ BAD ORIGINAL
geordnet, um der erzeugten Kupferplatte eine entsprechende ^ Härte zu verleihen* Dieses Aggregat 15 besteht aus einem Safe am Punkt 17 befestigter'Prismehkörper 16, die kammartig nebeneinander angeordnet sind und über auf das äußere Ende derselben wirkende Federn 18 gegen die Außenfläche der erzeugten Kupferplatte gedrückt werden.
Bas Aggregat 15 wird außerdem hin- und herbewegt, wodurch ™ die prismatischen Körper 16 im wesentlichen in Richtung des Vorschubes des Bandes 1 wechselweise verschoben werden.
An das Aggregat 15 schließt sich das Aggregat 19 mit rotierenden Messern od.dgl. zum Entfernen des seitlichen Grats von der erzeugten Kupferplatte an.
Außerdem sind an sich bekannte Wickelvorrichtungen 20 zum Aufwickeln des «erzeugten Kupferbandes vorgesehen.
Nach obigen Ausführungen ist die Arbeitsweise der Vorrichtung augenschi|enlich so, daß sich weitere Erläuterungen ' erübrigen.
Die Kupferschienen 8, weisen vorteilhafter Weise an der oberen Fläche eine Längsrille zur Bildung von dreieckigen Vorsprüngen zwecks Erleichterung eines gleichmäßigen Lösens des Kupfers auf und sind am Boden der Wanne 4 angeordnet, wobei eine Verstellung der letzteren, d.h. der Wanne 4, nach
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unten vorgesehen ist, um dieselbe von den Zylindern 2 und 3 zu entfernen und eine periodische -beschickung zu gewährleisten.
Es ist klar, daß auch andere praktische Ausführungsformen durchgeführt werden können, z.B. kann als Rührwerk eine zum Boden der Wanne 4 hin bewegliche Kette mit Streben angeordnet werden, die über einen Motor kontinuierlich in Drehbewegung versetzt wird.
In J1Xg. 5 ist nach einer weiteren Variante ein ^uhrwerk ge-r zeigt, das aus seitlichen, unten in der Wanne 4 zwischen der Anode und Kathode angeordneten Schaufeln 2Vbesteht, die über lotrechte Stäbe 22, Arme 23 und kinematische Mittel, welche diese Arme-23 mit einem Motoraggregat für die Erteilung einer weehselweisen Bewegung verbirifen, in eine um die Achse der Stäbe 22 schwingende Bewegung versetzt werden.
Eine weitere Ausführungsform der Vorrichtung ist in Fig. 6 schematisch dargestellt. Bei dieser Ausführungsform sind die Zylinder 24 und 25 zum Halten und Antreiben des Bandes 26 in horizontaler Achse in derselben lotrechten Ebene angeordnet^: sp daß die Trume des Bandes 26 lotrecht liegen. Bei diesem Band 26 ist die Innenfläche mit einem dielektrischen Überzug, z.B. aus Plastikmaterial versehen, so daß sie mit dem Elektrolyt in Berührung kommt. Der Elektrolyt
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ist in einer der Höhe nach entwickelten Wanne 27 enthalten, die den Zylinder 25 und teilweise auch den Zylinder aufnehmen kann. Dadurch kommt der 'Veil des Bandes 26, welcher den Zylinder 24 abdeckt, mit dem Bad nicht in Berührung, so daß die Kupferplatine 28 losgelöst und an die Sammelstelle geleitet werden kann.
Die freie Außenfläche des gekrümnten Seiles 29» der den £ .oberen Zylinder 24 umgibt, ermöglicht den Kontakt mit einem Satz ähnlicher, wie in Fig. 1 und 2 dargestellten Schleifleitern.
Bei der Vorrichtung gemäß Pig. 6 wird vorzugsweise eine unlösliche Anode verwendet, bestehend aus der Bleiverklei- dung der Wanne 27, wobei man in diese Wanne 27 einen Elektrolyt auf der GrütLlage von Kupfersalzen füllt.
Das ^uhrwerk in der Wanne 27 besteht aus zwei geraden, im wesentlichen steifen Teilen 30, die aus Längs- und Querstraben gebildet sind und über ein biegsames Zwischenstück 31 im unteren Teil der Wanne 27 verbunden werden. Die Vorrichtung läuft auf entsprechenden seitlichen Fun- , rungen und ist mit nicht dargestelltem Mechanismus verbunden, der den Teilen 30 und 31 eine Hin- und Herbewegung erteilt.
Die Erfindung kann;iaab,lreiche Abänderungen und Varianten
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erfahren, die alle unter den Erfindungsgedänfceil fallen«
Do können ζ·Β> die geraden Trume dee Bandes mit einer "beliebigen Zwischenneigung zwischen der in Pig* 2 und in Pig, 6 gezeigten Neigung angeordnet werden*
Weiterhin ist es möglich, das Stahlband um einen einzigen Zylinder herum, der mit einem Motor verbünden ist, anzuordnen«
Außerdem kann auch beliebig ein üblicher Elektrolyt mit löslichen Anoden bzw. ein Jälektrolyt mit Kupfefsä'lz und unlöslichen Anoden für jede der oben beschriebenen Einrichtungen verwendet werden.
In der Praxis kann das verwendete Material und die Größe der Vorrichtung nach den gegebenen Erfordernissen beliebig gewählt und sämtliche Bestandteile durch technische gleichwertige ersetzt werden.
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Claims (14)

1.) Vorrichtung zur Erzeugung von Elektrolytkupfer in Form von Platten, Bändern od.dgl., dadurch gekennzeichnet, daß diese eine Kathode aufweist, die im wesentlichen aus einem endlosen, über ein Antriebsaggregat angetriebenes umlaufendes zu-r mindest teilweise aus stromleitfähigem Material hergestelltes Förderband (1 bzw. 26) besteht, wobei das Förderband (1, 26) mit Mittel (6, 7) für den elektrischen Kontakt und für die Strumdurchfuhr über die Kathode in Verbindung steht, und dadurch gekennzeichnet, daß das unten liegende Trum des Förderbandes (1, 26) in einer mit Elektrolyt gefüllten und mit zumindestens einer Anode versehenen Wanne (4, 27) eingetaucht ist, wobei das Förderband (1, 26) seitlich angeordnete Schutzmittel (5) aufweist, um die Innenfläche desselben (1, 26) gegen eine Berührung mit dem Elektrolyten zu schützen und letztlich dadurch gekennzeichnet, daß in der Wanne (4, 27) ein mit dem Förderband (1, 26) in Zusammenarbeit stehendes Rührwerk (1Ou. 11, 21 bis 23 und 30, 35) angeordnet ist.
2.) Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch g e kennzei chne t, daß die Antriebsmittel für das Förderband (1, 26) in Form von Laufrollen (2, 3 bzw. 24, 25) ausgebildet sind, wobei zumindest eine
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der Laufrollen (2, 3 "bzw. 24, 25) mit einem Antriebsaggregat in Verbindung steht.
3.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzei chnet, daß die Mittel (6) für den elektrischen Kontakt mit der Kathode zumindest aus einem Teil aus stromleitendem Material bestehen, wobei dieses Teil (6) mit der Innenfläche des Förderbandes (1, 26) in Berührung steht und mit einer Quer— schiene (7) verbunden ist.
4.) Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das aus stromleitendem Material bestehende Teil (6) vorzugsweise unter Federkraft, um einen ständigen Kontakt zwischen dem Teil (6) und dem Förderband (1) zu erzeugen, steht.
5.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 3 und 4, dadurch gekennzei chnet, daß entsprechend der Länge des Förderbandes (1) und der durchzuleitenden Strommenge eine Vielzahl von aus stromleitendem Material bestehenden Teilen (6) angeordnet ist.
6.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Förderband (1) seitlich nach innen zum Rand hin gerichtete Schutzmittel (5) aufweist, derart, daß die Innenfläche des 909833/1067
Förderbandes (1) mit dem Elektrolyten nicht in Berührung kommt, wobei der äußere Teil der Schutzmittel (5) die Bandränder (1), um ein Loslösen der Kupferplatte vom Förderband (1 ) zu erleichtern., beidseitig überlappt.
7.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch _ gekennzeichnet, daß das Rührwerk aus
einem im wesentlichen leiterförmig ausgebildeten Teil (10, 11), welcher unten in der Wanne (4) zwischen der Anoden- und Kathodenfläche angeordnet ist, besteht und in an den Seitenwänden der Wanne (4) befestigten Führungen (9t 12) hin- und herbewegbar ist.
8.) Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 bzw. 7, dadurch gekennzeichnet, daß das aus einem Gestänge (22) bestehende Rührwerk zwecks P Bewegung des Elektrolaten in der Wanne (4) zwischen der Kathoden- und Anodenfläche mit im wesentlichen beweglichen Schaufeln (21) im Innern der Wanne (4) angeordnet ist.
9.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekenn ζ ei chnet, daß im oberen Teil der Vorrichtung zumindestene ein Querschlitten (13, 14), versehen mit einer Bürste zum Reinigen der Kupferplatte, angeordnet ist, wobei der Schlitten (13, 14) 909833/1087
an der Außenfläche der erzeugten Kupferplatte hin- und herbewegbar ist.
10.) Vorrichtung nach dem Anspruch 9»dadurch gekennzeichnet, daß für die Einstellung der Geschwindigkeit und des Druckes des Schlittens (13,. 14) entsprechende Mittel vorgesehen sind.
11.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß zumindestens eine im wesentlichen zylinderförmige Bürste zum Reinigen der Kupferplatte mit spiralförmig angeordneten Borsten, die sich im oberen Teil der Vorrichtung an der äußeren Fläche der erzeugten Kupferplatte bewegt, angeordnet ist,
12.) Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aggregat (15) zum Erhärten der erzeugten Kupferplatte, bestehend aus in Längsrichtung kammförmig angeordneten und nebeneinanderliegenden Elementen (16), welche durch unabhängige Federmittel (18) gegen die Außenfläche der erzeugten Kupferplatte gepreßt sind, vorgesehen ist.
13.) Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel für das Hin- und Herbewegen des Aggregates (15) in Vorschubrich-909833/1067
U96950 AO
tung des Förderbandes (1) angeordnet sind.
14.) Vorrichtung nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß die rotierenden Mittel aus zwei Uberander angeordneten mit waagerechten Achsen in einer im wesentlichen senkrechten Ebene liegenden Zylindern (24t 25) bestehen, wobei zwischen dem Förderband (26), dessen Innenfläche mit dielektrischem Material, z.B. Plastik od.dgl., auegekleidet ist, und der das Förderband (26) teilweise umschließenden Wanne (27) Rührmittel (50, 31) zur Bewegung des Elektrolyten angeordnet sind.
Dr. Heinz Nidi eis Patentanwalt
COPY 909833/1067
DE19641496950 1963-03-29 1964-03-28 Vorrichtung zur kontinuierlichen Erzeugung von Elektrolytkupfer in Form von Bändern Expired DE1496950C3 (de)

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