DE1252035B - - Google Patents
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES -^S^ PATENTAMT Int. Cl.:
C23f
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
P21200VIb/48dl
14. August 1958
12. Oktober 1967
14. August 1958
12. Oktober 1967
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer mit Glas fest verbindbaren Oxydschicht
auf Nickel.
Glas-Metall-Verbindungen finden in der Elektrotechnik und verwandten Gebieten ausgedehnte An-:
.Wendung. Trotz der regen Tätigkeit auf diesem Gebiet und trotz der heute zur Verfügung stehenden
Vielzahl, geeigneter Gläser und Metalle zur Herstellung derartiger Verbindungen hat es bisher noch
kein geeignetes Verfahren zur Herstellung einer brauchbaren Glas-Nickel-Verbindung gegeben.
Es ist allgemein bekannt, daß eine Affinität zwischen bestimmten Metalldxyden und Glas besteht
und daß es unter besonderen Umständen zur Ermöglichung einer guten Haftung zwischen Glas und.
Metall notwendig ist, einen Oxydfilm auf der Oberfläche des Metalls zu bilden, welcher als Bindeglied
zwischen dem Glas- und dem Metallkörper wirkt. Während der Herstellung der Verbindung unterliegt
das Oxyd teilweise einer Lösung in dem geschmolzenen Glas und einer Erscheinung, die als Benetzen
bezeichnet wird. Frühere Versuche zur Herstellung einer luftdichten Verbindung zwischen Nickel und
Glas sind jedoch erfolglos geblieben. Der Grund für diese Fehlschläge lag in erster Linie darin, daß die
bekannten Verfahren zur Herstellung eines Nickeloxydes nicht in der Lage waren, eine genügende
Haftung des Nickeloxyds an dem Nickelgrundkörper zu gewährleisten, da das Nickeloxyd bei den üblicherweise
zur Herstellung einer Glas-Metall-Verbindung benutzten Temperaturen die Neigung hat,
sich von dem Nickelgrundkörper zu lösen. Dies wird anscheinend durch die unterschiedliche Ausdehnung
zwischen dem Oxyd und dem Grundmetall bewirkt.
Nickel schließt wegen seiner hochporösen Struktur leicht Luft ein und führt daher zu einer Einschmelzung
mit Gaseinschlüssen. Diese Schwierigkeit, welche bis zu einem gewissen Grad bei zahlreichen
Metallen auftritt, kann gewöhnlich durch Vorerhitzen des Metalls im Vakuum oder in einem Schutzgas
vermindert werden. Bei Nickel jedoch führt merkwürdigerweise eine Erhitzung bei erhöhten Temperaturen
dazu, den auf der Oberfläche des Nickelkörpers gebildeten Oxydüberzug aufzureißen. Dieser
Film ist aber für eine wirksame Verbindung zwischen Glas und Nickel unentbehrlich. .
Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer Oxydschicht auf Nickel zu schaffen,
welche mit Glas fest verbindbar ist, so daß. eine dichte und feste Glas-Nickel-Verbindung ermöglicht
wird. ^
Verfahren zur Herstellung einer mit Glas fest
verbindbären Oxydschicht auf Nickel
verbindbären Oxydschicht auf Nickel
Anmelder:
Philco-Ford Corporation,
Philadelphia, Pa. (V. St. A.)
Philadelphia, Pa. (V. St. A.)
Dipl.-Ing. C Wallach, Dipl.-Ing, G. Koch
und Dr. T. Haibach, Patentanwälte,
München 2, Kaufingerstr. 8 .
und Dr. T. Haibach, Patentanwälte,
München 2, Kaufingerstr. 8 .
Als Erfinder benannt:
Anthony Joseph Certa,
Norristown, Pa. (V. St. A.)
Anthony Joseph Certa,
Norristown, Pa. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
. V.. St. v. Amerika vom 16. August 1957
. V.. St. v. Amerika vom 16. August 1957
as eines Verfahrens zur Oxydierung von Nickel, welches einen außerordentlich fest anhaftenden Oxydftlm
auf der Oberfläche des Nickels liefert, der bei den normalerweise bei Glasherstellungsverfahren
benutzten Temperaturen nicht beeinträchtigt Tvird und außerdem durch schwer schmelzbare Gläser
oder andere Glaswerkstoffe leicht benetzt wird.
Hierzu sieht die Erfindung vor, daß der Nickelkörper in einer· oxydierenden Atmosphäre auf eine
Temperatur zwischen IOOO0C und dem Schmelzpunkt von Nickel erhitzt und zur Bildung einer Oxydschicht
gewünschter Stärke während der hierzu er-• forderlichen Zeit auf dieser Temperatur gehalten
wird, und daß er anschließend unter Verhinderung . einer weiteren äußeren Oxydation abgekühlt wird.
to Im wesentlichen besteht das erfindungsgemäße Verfahren also in einer Erhitzung des Nickelkörpers
. in einer oxydierenden Atmosphäre auf eine Temperatur, die im Bereich von ungefähr 1000° C (unterer
Grenzwert) bis zu einer unmittelbar unter dem Schmelzpunkt von Nickel liegenden Temperatur
(obere Grenze) liegt. Der Nickelkörper wird dann über eine vorbestimmte Zeitdauer, die z. B. vön der
Stärke der gewünschten Oxydschicht abhängt, auf dieser erhöhten Temperatur gehalten und dann in
der Weise abgekühlt, daß eine weitere Oxydation verhindert wird. Dies wird gegebenenfalls durch
schnelle Abkühlung, z. B. durch Flüssigkeitsab-
709 677/3S6
schreckung, erreicht. Bei einer Ausführungsform der Erfindung wird jedoch eine weitere Oxydation des
Nickels dadurch verhindert, daß man den erhitzten Nickelkörper einfach langsam in einem Schutzgas,
z. B. in Stickstoff, abkühlen läßt.
Wenn nach diesen Verfahrensschritten gearbeitet wird, haftet der auf der Nickeloberfläche gebildete
Oxydüberzug fest auf dem Grundmetall. Darüber hinaus wird das Oxyd leicht durch Keramik oder
Glaswerkstoffe benetzt und bildet ein bisher unerreichbares Bindeglied zwischen derartigen Werkstoffen
und Nickel.
Das Verfahren zur Bildung der gewünschten Form des Oxydes zwecks Herstellung einer brauchbaren
dichten Glas-Metall-Verbindung wird im folgenden an Hand der Behandlung eines Nickelteiles, z. B.
einer Transistorsockelhülse, beschrieben.
Das Nickelteil besteht zu wenigstens 98°/o aus reinem Nickel. Besteht es zu wenigstens 99 % aus
reinem Nickel, sind die maximalen Restbestandteile folgende:
Kupfer 0,2%
Eisen 0,3%
Mangan 0,35%
Silizium 0,2%
Zunächst wird das Nickelteil durch Trichloräthy-Ien oder ein anderes geeignetes Mittel oberflächengereinigt. Diesem Schritt folgt zweckmäßigerweise
ein Blanktauchen, durch welches latente Oxydfilme von den Teilen entfernt werden. Eine typische Zusammensetzung
zum Blanktauchen kann aus 1125 ml HNO3, 750 ml HgSO4 und 500 ml H2O bestehen,
welchem 6 g Natriumchlorid pro Liter Lösung hinzugefügt'sind. An Stelle des Blanktauchens können
die Teile auch in einer Wasserstoffatmosphäre bei annähernd 900° C geglüht werden, um die Entfernung
unerwünschter Oxyde zu erreichen. Jedes der bekannten Verfahren, von denen die erwähnten nur
als Beispiele angeführt sind, kann benutzt werden, um einen Nickelkörper zu erhalten, der im wesentlichen
frei ist von Oberflächen verunreinigungen. Dieser Schritt ist, obgleich er nicht unbedingt für die
Erfindung erforderlich ist, sehr erwünscht, wenn befriedigende Ergebnisse über längere Zeiträume
,,erzielt werden sollen.
Das Nickelteil wird nach der Reinigung auf irgendeine geeignete Weise, z.B. durch Einlegen in einen
Brennofen, erhitzt. Um eine Massenfabrikation zu erleichtern, können mehrere Nickelteile auf einem
geeigneten Träger in der Brennkammer des Ofens angeordnet werden. Der Ofen wird dann, z. B. durch
Einschaltung eines Widerstandselementes, auf mindestens IOOO0C erhitzt. Versuche haben ergeben,
daß es notwendig ist, die zu oxydierenden Teile wenigstens auf eine Temperatur im Bereich von
IOOO0C zu erhitzen, um einen dauernd haftenden, benetzbaren Oxydfilm zu erhalten. Vormgsweise
werden dazu Temperaturen über 1050° C benutzt. Es ist zweckmäßig, die Teile einige Minuten lang
bei dieser erhöhten Temperatur zu belassen. Die Zeit ist jedoch nicht kritisch und kann am besten durch
Versuche bestimmt werden. Es wurde gefunden, daß hervorragende Einschmelzungen mit einem Nickelteil
aus wenigstens 98% reinem Nickel von 0,38 mm Stärke und einer Länge von 2,5 mm und einem
Innendurchmesser von 3,8 mm erzielt werden können, wenn das Teil 6 Minuten bei einer Temperatur
von 1050°C oder 3 Minuten bei einer Temperatur von 1075° C geglüht wird. Gleichgute Ergebnisse
5. können jedoch durch Veränderung der Temperatur und Festlegung der Zeit auf einen geeigneten Sollwert, z. B. 10 Minuten, erzielt werden. Die Temperaturen
sollten jedoch nicht unter der obenerwähnten unteren Grenze liegen. Es ist wichtig, daß die
ίο Abkühlung des Teils in einer Weise vorgenommen wird, in der eine weitere Oxydation verhindert wird,
z. B. durch Abschrecken in Wasser, Boratlösung oder sogar durch Abschrecken in einem »Bad« aus
Kupferkügelchen. Wie bereits oben erwähnt, kann weiterhin eine unerwünschte Oxydation des Nickelteiles
dadurch verhindert werden, daß das Nickelteil in einer mit ^iickstoffgas gefüllten Brennkammer
langsam abgekühlt wird. Das nach dem letztgenannten Verfahren hergestellte Oxyd ist genauso zufriedensteilend
wie ein solches, das durch schnelle Abkühlung erzielt wird. Der obenerwähnte plötzliche
Temperaturfall kann also unter Benutzung der verschiedensten Materialien durchgeführt werden. Die
große Auswahl geeigneter Materialien beweist, daß
as die sich zuletzt ergebende Oxydform nicht das Ergebnis einer chemischen Reaktion zwischen Nickel
und anderen Bestandteilen sein kann, die in dem Abschreckmittel enthalten sind. Gleiche zufriedenstellende
Ergebnisse werden z. B. durch Benutzung von Wasser, Glycerin, Aceton, Mineralöl oder Boratlösung
erreicht. Diese Materialien sind nur Beispiele von zur Verfügung stehenden Abschreckmitteln,
jedoch ist man nicht auf diese beschränkt.
oxydiertes Nickelteil zeigt eine Oxydschicht mit einer Farbe von graugrün bis grün. Im allgemeinen oxydiert
Nickel entweder zu einem Monoxyd oder einem Dioxyd. Jedes dieser beiden Materialien kann auf
chemischem Wege analysiert werden. Das durch das beschriebene Verfahren hergestellte Oxyd reagiert
jedoch weder auf die Monoxyd- noch auf die Dioxydtests. Das gebildete Material ist möglicherweise
eine innige Mischung beider Oxydformen.
Durch Abkühlung in einer nicht oxydierenden Umgebung wird eine chemische Vereinigung mit dem in der Luft enthaltenen Sauerstoff verhindert. Während der Abkühlungsperiode in der nicht oxydierenden Atmosphäre reagiert der Nickelgrundkörper mit dem darüberliegenden Nickeloxydüberzug, wobei Teile der Dioxydlage zu Monoxyd reduziert werden. Durch diesen Vorgang der Autoreduktion, d. h. der Reduktion des Oxydes durch das darunterliegende Nickel selbst, wird eine Oxydmischung gebildet, deren genaue Zusammensetzung noch nicht bestimmt ist. Durch Verwendung dieses Verfahrens der Oxydbildung können sowohl Monoxyd- als auch Dioxydformen einheitlich erzeugt werden. Der wesentliche Schritt bei dem Verfahren ist die Abkühlung in der Weise, daß eine Oxydation durch Luft während der Abkühlungsperiode verhindert und die Reduktion des darüberliegenden Nickels durch den Nickelgrundkörper ermöglicht wird, wodurch ein einheit-
Durch Abkühlung in einer nicht oxydierenden Umgebung wird eine chemische Vereinigung mit dem in der Luft enthaltenen Sauerstoff verhindert. Während der Abkühlungsperiode in der nicht oxydierenden Atmosphäre reagiert der Nickelgrundkörper mit dem darüberliegenden Nickeloxydüberzug, wobei Teile der Dioxydlage zu Monoxyd reduziert werden. Durch diesen Vorgang der Autoreduktion, d. h. der Reduktion des Oxydes durch das darunterliegende Nickel selbst, wird eine Oxydmischung gebildet, deren genaue Zusammensetzung noch nicht bestimmt ist. Durch Verwendung dieses Verfahrens der Oxydbildung können sowohl Monoxyd- als auch Dioxydformen einheitlich erzeugt werden. Der wesentliche Schritt bei dem Verfahren ist die Abkühlung in der Weise, daß eine Oxydation durch Luft während der Abkühlungsperiode verhindert und die Reduktion des darüberliegenden Nickels durch den Nickelgrundkörper ermöglicht wird, wodurch ein einheit-
V liches sehr stark haftendes Nickeloxyd geschaffen wird, das leiclit durch Glasmaterial benetzbar ist.
Obgleich die Glasverbindung aus einem gemäß der Erfindung oxydierten Nickelteil bei Temperaturen
hergestellt wird, die unter jener liegen, die normalerweise zu einer ausreichenden Entgasung des
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung einer mit Glas fest verbindbaren Oxydschicht auf Nickel, da-
durch gekennzeichnet, daß der Nickelkörper in einer oxydierenden Atmosphäre auf
eine Temperatur zwischen IOOO0C und dem Schmelzpunkt von Nickel erhitzt und zur Bildung
einer Oxydschicht gewünschter Stärke während der hierzu erforderlichen Zeit auf dieser Temperatur
gehalten wird und daß er anschließend unter Verhinderung einer weiteren äußeren Oxydation
abgekühlt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Nickelkörper in einer
nicht oxydierenden Atmosphäre abgekühlt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Nickelkörper abgeschreckt
wird, z. B. in einer Flüssigkeit.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Wasser enthaltende Abschreckflüssigkeit
verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US678565A US2988853A (en) | 1957-08-16 | 1957-08-16 | Glass-to-metal seal |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1252035B true DE1252035B (de) | 1967-10-12 |
Family
ID=24723331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DENDAT1252035D Pending DE1252035B (de) | 1957-08-16 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2988853A (de) |
BE (1) | BE570133A (de) |
DE (1) | DE1252035B (de) |
FR (1) | FR1207744A (de) |
GB (1) | GB895778A (de) |
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-
0
- DE DENDAT1252035D patent/DE1252035B/de active Pending
- BE BE570133D patent/BE570133A/xx unknown
-
1957
- 1957-08-16 US US678565A patent/US2988853A/en not_active Expired - Lifetime
-
1958
- 1958-07-09 FR FR1207744D patent/FR1207744A/fr not_active Expired
- 1958-08-15 GB GB26287/58A patent/GB895778A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1207744A (fr) | 1960-02-18 |
GB895778A (en) | 1962-05-09 |
BE570133A (de) | |
US2988853A (en) | 1961-06-20 |
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