DE1219451B - Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten EinkristallenInfo
- Publication number
- DE1219451B DE1219451B DES81217A DES0081217A DE1219451B DE 1219451 B DE1219451 B DE 1219451B DE S81217 A DES81217 A DE S81217A DE S0081217 A DES0081217 A DE S0081217A DE 1219451 B DE1219451 B DE 1219451B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor body
- crystal
- seed
- current
- flat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von flachen, dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen durch Zonenschmelzen eines langgestreckten Halbleiterkörpers, an dessen senkrecht zu seiner Längsachse orientierter Endfläche ein Keimkristall desselben Halbleitermaterials angesetzt ist, unter Ausnutzung der auf Grund des Peltier-Effekts auftretenden Erwärmung bzw. Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eines durch Kristall und Schmelze fließenden elektrischen Gleichstromes, wobei vom übergang des Keims zum Halbleiterkörper ausgehend zonengeschmolzen wird.
- Das Verfahren besteht erfindungsgemäß darin, daß ein flacher Halbleiterkörper und ein Keimkristall, der in seinem Innern mindestens zwei: der Längsachse des Halbleiterkörpers parallele Zwillingsebene besitzt, die sich alle bis zu der mit dem Halbleiterkörper in Verbindung stehenden Fläche erstrecken, verwendet werden, daß beim Zonenschmelzen der den Peltier-Effekt erzeugende Gleichstrom zunächst so geschaltet wird, daß an der Verbindungsstelle des Keims mit dem Halbleiterkörper eine Erwärmung auftritt, und daß nach erfolgter Aufschmelzung der Verbindungsstelle der Strom in der umgekehrten Richtung durch den Keim und den Halbleiterkörper geschickt wird.
- Zweckmäßigerweise wird der flache Halbleiterkörper, insbesondere wenn er aus Silicium oder Germanium besteht, dadurch gewonnen, daß zunächst in an sich bekannter Weise ein dünner Kristallstab des Halbleitermaterials hergestellt wird und der Kristallstab dann, wie bereits vorgeschlagen, durch Erhitzen in den duktilen Zustand übergeführt und in diesem Zustand durch Walzen oder Pressen zu einem langgestreckten, flachen Körper geformt wird.
- Bekanntlich tritt bei Gleichstromdurchgang eine von der Stromstärke abhängige Erwärmung bzw. Abkühlung auf Grund des Peltier-Effekts, in Abhängigkeit von der Stromrichtung, nicht nur an der Grenzfläche zwischen verschiedenen Kontaktmaterialien auf, sondern auch an der Grenzfläche zwischen der festen und flüssigen Phase desselben Leitungsmaterials, insbesondere Halbleitermaterials. Beispielsweise besitzen bekanntlich Silicium und Germanium positiven Peltier-Effekt, , d. h., an der Grenzfläche zwischen fester und flüssiger, Phase dieser Materialien wird Wärme absorbiert, wenn die feste Phase an den positiven, die flüssige Phase an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt wird. Bei umgekehrter Polung tritt an der Grenzfläche dagegen ein mit Erwärmung verbundener Peltier-Effekt auf. Infolgedessen wird beim Zonenschmelzen, beispielsweise eines Germaniumkörpers, bei dem die Schmelze zwischen zwei festen Kristallstücken gehaltert wird, an der Grenzfläche des einen Kristallstütcks zur Schmelze bei positiver Polung des Kristallstücks Abkühlung, an der anderen Grenzfläche bei negativer Polung des Kristallstücks dagegen Erwärmung auftreten, sofern zwischen den beiden Kristallstücken ein elektrischer Gleichstrom fließt.
- Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird also zum Verbinden des Keimkristalls mit dem Halbleiterkörper zunächst der Keimkristall an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt; anschließend wird der Strom umgepolt, d. h., der Keimkristall, von dem aus das Dendritenwachstum erfolgen soll, wird an den positiven Pol, das an das andere Ende der geschmolzenen Zone angrenzende feste Kristallstück (der flache Halbleiterkörper) an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt. Die Joulsche Wärme hird am Übergang des positiv gepolten Kristallstücks (Keimkristall bzw. bereits gezogener Kristall) zur Schmelze durch die auf Grund des Peltier-Effekts auftretende Abkühlung überkompensiert, so daß hier eine Abkühlung auftritt und Dendritenbildung erfolgen kann. An der Grenzfläche der geschmolzenen Zone zu dem an negativer Spannung liegenden Kristallstück tritt Erwärmung auf.
- Im einzelnen verfährt man bei der Durchführung des durch die Erfindung vorgesehenen Verfahrens so, daß zunächst auf eine senkrecht zu seiner Längsachse orientierte Endfläche eines flachen-Halbleiterkörpers ein dendritischer Keimkristall, d. h. ein flächig oder bandförmig ausgebildeter Einkristall mit mindestens zwei zur Längsachse des -Halbleiterkör-
pers parallelen Zwillingsebenen angesetzt wird,--und zwar vorzugsweise -- in einer' kristaliogräphischen [211]-Richtung orientiert. Die Zwillingsebenen des Keimkristalls verlaufen durch den ganzen Kristall, so daß sie sich bis zu der mit dem Halbleiterkörper in Verbindung gebrachten Fläche erstrecken. ' Es gibt zwar- 'äueh derldritische'I£n"sta'ird;- deren Zwillingsebenen dm Innern des:Kristalls# endeng doch sind diese nicht als .Keimkristall für--die- Dendriten- herstellung geeignet; -denn wenn die Zwillingsebenen sich nicht bis zu der mit dem flachen Halbleiterkör- per in Verbindung gebrachten Fläche erstrecken, ver- hält sich der Keim so, als wären keine Zwillingsebe- Zweckmäßig ist es, Keimkristalle zu verwenden, die parallel zu,Aer mit dem Ver- bindung gebrachten Fläche- in einer. [111]-Riclitung und senkrecht dazu; d.. h. zu-@ seiner- Längsachse;--in _ äindr- - [211]=Richtung orientiert sind. ---Die -Herstellung--der- -Keimkristalle -wird im -allge= meinen in an sich bekannter Weise .durch.. Unter- kühlen einer Schmelze des Halbleitermaterials vcirge- nommen. Bei@eiriem bestimmten Unterkühlungsgrad erstarrt ein Teil der Schmelze_zu.dendritischen Kri- stallen mit einer ,Viehzahl--von-parallelen, eng: beiein- anderlie2enden,_inneren Zwüllingsebenen.@Diese-kön- neu aus der Schmelze herausgenommen _und-parallel zu den Zwillingsebenen in mehrere Kennkristalle mit jeweils zwei oder drei Zwillingsebenen -zerschnitten werden. Meist entstehen. dahe.zwar:keine .äußerlich einwandfreien. Kristalle;-sie können jedoch.- als Keim- kristalle verwendet werden, wenn man ihre Zwillings- ebenen durch Zerschneiden der Kristalle bloßlegt. :Da: fiü die:: Bildung der dendritischen Kristalle: be- kanutlich eine :iinterkühlte_S.chmelze:..er-forderlichsist, weil- ihre@Bildung:nur_-durch. eine, große: sationsgeschwndigkeit-_erzwungen,-::werden.,kann, ist es :notwendig":äuch-:bei. der-Verschmelzung: des Keim= kristalls.:mit::dem-Halbleiterkörper mit einez--unxer- klihlten=Schmelze !zu; arbeiten,-@damit. der .Halbleiter= körpex;;aie_ndxitisch :änd -dm, Keimkristall-- anwächst. Hierbei tritt jedoch dia.Sahwierigkeit,auf,:da -unter= kühlte: Schmelzen#bei_Berührungz#init- .festem Halb- leitermaterial sofort :schlagartig :erstarren; i wobei-ein unkontmllierbares Wachstum: von: Kristallen--beginnt; Uni,- diesv :Schw_ierigkeitei#"-..zu :überwinden,- tvird der Keimkristall, mit-. den sich? bis - an_; die Oberfläche er- streckenden:_Zwillingsebanenamit:einem.solchen.IIalb- leiterkörper- in : Verbindung: "gebracht,. der. -an-,'dem, Ende; -an.dem°die Verschmelzung mit; dem dendrit-'. schen:Keimkristall 1ergestellt. werdet<'-. soll;-.einige Grad-:über4den Scchm@elzpunkt<:erhitzt=worden-.ist.-3?ä- bei einem. Merkmal,der :Erfindung -der denPeltier--Effekt;iierzeugende: _Gleichstrom::'s'o--ge' schaltet,-.däß :an: :der;Verbindungsstelie:des .-Keiins-.mit dem -Halbleiterkörper;seine -Erwärmung=auf Grund des:Peltier-Effekts aüftütt. Dabei-wird zwischen dem Keimkristall-vndder:Sehmelze ein.Gleichgewicht.ein- gestellt,:=in:@dem -kein!:-Material desi,Keimsiaufgelöst wird und-äuch@ikein--Maferial-f'.der=#Sclühelzzone :äm Keim: '-ank@istallisieit#z Dann:"-wird'--der` .Gleichstrom umgepolt;: dsh4t==es-eird .der#,#unnüttelban::äri' den Keimkriställ,@.a:ffgrehzende =BUreich'= der@-Schmelzzoüe mit-Hilfe:dei.@uf-:Cirutid -de`svPeltier-Effäkts=beieüt-sprechender. Polurig<ides- deniWPeltieri_Effekt=erzetl$en- den . Gleichstroms,#@auftretendeti"--Abkühleüter- küWt-r:Däbe..bildet'=sich.-ein.Temperaturgradient in der°Schmblzzon'ey äus#ESQbald.,die Tenipeiätür -der' Schmelze in der Umgehung-, Keimkristalls unter die Schmelztemperatur absinkt, setzt das dendritische Anwachsen _des flachen! Halbleiterkörpers.. an den dendritischenf Keimkristall ein. ----Der `mt=deiri °deridritisclieri Keimkfistall-vergehene flache Halbleiterkörper wird dann durch Zonen- s@hmeizen 'meinen :einkristallinen, langgestreckten, Rächen -Dendriten übergeführt, wobei die geschmol- zene Zone, die in Richtung der Längsachse am Halb- leiterkörper entlanggeführt wird, von der Verbin- dungsstelle des Keimkristalls mit dem Halbleiterkör- per ausgehend, jeweils schmal gehalten wird, damit -nicht -auf* Grund-der-Oberflächenspäiinuiig"die'liäbhe; dendritische Struktur des Körpers verlorengeht oder die geschmolzene Zone.abtropft, die nur auf Grund dei# Oberfiächenspannung---des -geschmolzenen 1VIate.- rials zusammengehalten wird:-Mit Hilfe des -Peltier- Effekt ist 'es@ bei dein erfindühgsgemäßen Verfahren möglich;" in,besonders einfacher Weise -die Forderung rlaeh*-sehmälenZonen zu- erfüllen. '--' ' -. °- 'Bekaiintlichwird -das dendritische-Wachstuindurch eine`-große Xristallisatipnsges-chwindigkeit-erzwurigen. Da:-aber-bei -derKristallisätion-die Erstarrungswärrhe frei-,wird, die -7iotwendigexweiW- eine-Texrili'eratilr= erhöhung#bedingt-,. muß-- diese Wärme allgeführt wer- den, _daiiiit-sich--die -für- das- dendritische."Wachstum erforderlichen-Fempera-turverhältnisse -einstellen kön- nen. Bei der bekannteuffersfejlüng.vdrl dendritischen Kristallen, werden unterkühlte,- in TiegOn -gehalterte Schmelzen- verwendet:- Dabei'.kann -die--frei werdende Wärmenicht--nux-über-del-festen; gezogenen-Kristall, sondern :auch über die"S:chinelze-hbftießen: Unter= kühlte-=Schmelzen-sind-aber -sehr schwierig zu hand- haben.-Bei--Anwesenheit eines Kriställisaübnskeims (2: -B: -Verunreinigung; -die-von der Tiegelwan.'aus- geht)--erstarren sie schlagartig; was -zu einem unkon- ti'ollierbaren--Kris`tallwach9tum -führt: -:-Aus diesem Gründeist e$ erwünscht; iiit-einer nur auf- die un- mittelbare Nähe:- den- Kristullisationsgreiizfläche ge- richteten Unterkühlung- zuarbeiten: -Bei =der' gemäß der- Erfindung- vorgeselienen'--A-nsnutzung -der auf Grund des Peltier-Effekts bei einer AnderungAer Stromrichtung eines@durch Kristall und- Schiieizzone fließenden! elektrischen-Gleichstromes°auftretenden; vön- der Stromsträke «abhängigen Erwärnmng- bzav: Abkühlung- aä°°den. Phasengrenzen(- erzielt man` den Vortdil=-einet 'ziemlich gennuen-Temperäturregelung an--den-Grenzflächen-zwischen -gdschniolzenei--Zoäe und, festem--Körper, sö-°däß-. die für @däs'-Dendriten- wächgtum 'nötwendigenTenzperatuiverhähnisse°leicht eingestellt°werdeii°-könneh.- f°-°@°_@° "- ---_ . v---Zusäizliehv-zü ri@eser@@'erripexätizrtegel@ing°ka@`ge- gebenenfalls-`e'ine "an sich -übliche- Temperatürände= rungdurch-Regelüng^ der-des Snhmelze`ii bewirkenden Wgrmequeile@- angewendeti#Wexden:,-Vorzugsweise-" er- folgt°,di& -Heizung- induktiv; -mit, Hilfe°,@einer Hoch= frequenzspule:-,'«.... - -Dürch°#di& Ausnutzung.,der:Erwärmung,oder Ab= kühliing; =je -nach-Palung; ; die -auf Grund ,des Peltier= Effekts-bei-Änderung der Richtung. eines durch einen eirie-;=-Selmelzzbne° aüfweiisenden--,-lahggestredkten Halbleiterkörpers fließendeüGldichstrorizs°anftritt, ist es@ bei-=deiri-tVerfahren,gemäß -der Erfindung möglich; beim@-Zonenschiüelzen die- Kristallisatioiiswätme=döri. abzuführen - bzw. @Wärme--äüAer Stelle zuzuführen, wo eine--Abkühhung-#bzw..-°eine-Erwärmung für das Dendritenwächstüm--erföi7derhbh-ist:<Bdi @dem'#erfin-
Claims (2)
- Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von flachen, dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen durch Zonenschmelzen eines langgestreckten Halbleiterkörpers, an dessen senkrecht zu seiner Längsachse orientierter Endfläche ein Keimkristall desselben Halbleitermaterials angesetzt ist, unter Ausnutzung der auf Grund des Peltier-Effekts auftretenden Erwärmung bzw. Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eines durch Kristall und Schmelze fließenden elektrischen Gleichstroms, wobei vom Übergang des Keims zum Halbleiterkörper ausgehend zonengeschmolzen wird, d a -durch gekennzeichnet, daß ein flacher Halbleiterkörper und ein Keimkristall, der in seinem Innern mindestens zwei der Längsachse des Halbleiterkörpers parallele Zwillingsebenen besitzt, die sich alle bis zu der mit dein Halbleiterkörper in Verbindung stehenden Fläche erstrekken, verwendet werden, daß beim Zonenschmelzen der den Peltier-Effekt erzeugende Gleichstrom zunächst so geschaltet wird, daß an der Verbindungsstelle des Keims mit dem Halbleiterkörper eine Erwärmung auftritt, und daß nach erfolgter Aufschmelzung der Verbindungsstelle der Strom in der umgekehrten Richtung durch den Keim und den Halbleiterkörper geschickt wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich zu der auf Grund des Peltier-Effekts, von Stromstärke und Stromrichtung abhängigen, auftretenden Erwärmung oder Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eine an sich bekannte Temperaturänderung durch Regelung der das Schmelzen bewirkenden Wärmequelle entsprechend angewandt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1106 732; französische Patentschrift Nr. 77 774; W. G. Pfann, »Zone Melting«, 1958, Kap. 7, S. 161 bis 164.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES81217A DE1219451B (de) | 1962-08-31 | 1962-08-31 | Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES81217A DE1219451B (de) | 1962-08-31 | 1962-08-31 | Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1219451B true DE1219451B (de) | 1966-06-23 |
Family
ID=7509433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES81217A Pending DE1219451B (de) | 1962-08-31 | 1962-08-31 | Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1219451B (de) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1106732B (de) * | 1957-05-01 | 1961-05-18 | Sylvania Electric Prod | Verfahren zur Zonenreinigung von polykristallinen schmelzbaren Halbleitern |
FR77774E (fr) * | 1958-08-28 | 1962-04-20 | Westinghouse Electric Corp | Procédé de fabrication de cristaux semi-conducteurs |
-
1962
- 1962-08-31 DE DES81217A patent/DE1219451B/de active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1106732B (de) * | 1957-05-01 | 1961-05-18 | Sylvania Electric Prod | Verfahren zur Zonenreinigung von polykristallinen schmelzbaren Halbleitern |
FR77774E (fr) * | 1958-08-28 | 1962-04-20 | Westinghouse Electric Corp | Procédé de fabrication de cristaux semi-conducteurs |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE944209C (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkoerpern | |
DE3741421C2 (de) | Galvanoformungs-Verfahren | |
AT398582B (de) | Verfahren zur kristallzüchtung | |
DE1296747B (de) | Vorrichtung zur Zufuhr einer metallischen Schmelze aus einem Vorratsbehaelter | |
DE1458155A1 (de) | Vorrichtung zum kontinuierlichen Strangziehen von vielkristallinem Material | |
DE2609949A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines gusstuecks aus einer in einer richtung erstarrten metallegierung | |
DE1219451B (de) | Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen | |
DE3532131A1 (de) | Verfahren zur gerichteten erstarrung von metallschmelzen | |
DE1150357B (de) | Vorrichtung zum Reinigen von Kristallen, insbesondere von Halbleitereinkristallen, durch Zonenschmelzen | |
AT241538B (de) | Verfahren zur Herstellung von aus Halbleitermaterial bestehenden Kristallen, insbesondere Einkristallen | |
DE2140070A1 (de) | Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen | |
DE2632614A1 (de) | Vorrichtung zum ziehen eines einkristallinen koerpers aus einem schmelzfilm | |
DE2812279C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern des Erstarrens eines gegossenen metallischen Werkstoffstückes | |
DE1276331B (de) | Verfahren zur Herstellung eines homogenen halbleitenden Einkristalls | |
DE961763C (de) | Verfahren zur Herstellung eines einkristallinen Halbleiterkoerpers durch Ziehen aus der Schmelze mittels eines Impfkristalls | |
DE1719515C3 (de) | ||
DE967930C (de) | Halbleiter mit P-N-Schicht und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1935372C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines kristallinen Körpers vorbestimmten Querschnitts aus einer Schmelze | |
AT225237B (de) | Verfahren zum Ziehen von dünnen stabförmigen Halbleiterkristallen aus einer Halbleiterschmelze | |
DE1519894C3 (de) | Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen | |
DE1912379A1 (de) | Verfahren zum Giessen von Materialien in Einkristallformen | |
AT234148B (de) | Verfahren zum tiegellosen Ziehen von einkristallinen Halbleiterstäben | |
DE929143C (de) | Verfahren zur Verfestigung von Schweissstellen an Werkstoffen mit Curie-Punkt | |
DE2049101C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Verbundkörpern mit lamellarem Gefügeaufbau | |
AT240333B (de) | Verfahren zum thermischen Abscheiden von elementarem Silizium oder einem andern halbleitenden Element |