DE1219451B - Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen

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DE1219451B
DE1219451B DES81217A DES0081217A DE1219451B DE 1219451 B DE1219451 B DE 1219451B DE S81217 A DES81217 A DE S81217A DE S0081217 A DES0081217 A DE S0081217A DE 1219451 B DE1219451 B DE 1219451B
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DE
Germany
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semiconductor body
crystal
seed
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flat
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DES81217A
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English (en)
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Dr Theodor Rummel
Dr Heinz Henker
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Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von flachen dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von flachen, dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen durch Zonenschmelzen eines langgestreckten Halbleiterkörpers, an dessen senkrecht zu seiner Längsachse orientierter Endfläche ein Keimkristall desselben Halbleitermaterials angesetzt ist, unter Ausnutzung der auf Grund des Peltier-Effekts auftretenden Erwärmung bzw. Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eines durch Kristall und Schmelze fließenden elektrischen Gleichstromes, wobei vom übergang des Keims zum Halbleiterkörper ausgehend zonengeschmolzen wird.
  • Das Verfahren besteht erfindungsgemäß darin, daß ein flacher Halbleiterkörper und ein Keimkristall, der in seinem Innern mindestens zwei: der Längsachse des Halbleiterkörpers parallele Zwillingsebene besitzt, die sich alle bis zu der mit dem Halbleiterkörper in Verbindung stehenden Fläche erstrecken, verwendet werden, daß beim Zonenschmelzen der den Peltier-Effekt erzeugende Gleichstrom zunächst so geschaltet wird, daß an der Verbindungsstelle des Keims mit dem Halbleiterkörper eine Erwärmung auftritt, und daß nach erfolgter Aufschmelzung der Verbindungsstelle der Strom in der umgekehrten Richtung durch den Keim und den Halbleiterkörper geschickt wird.
  • Zweckmäßigerweise wird der flache Halbleiterkörper, insbesondere wenn er aus Silicium oder Germanium besteht, dadurch gewonnen, daß zunächst in an sich bekannter Weise ein dünner Kristallstab des Halbleitermaterials hergestellt wird und der Kristallstab dann, wie bereits vorgeschlagen, durch Erhitzen in den duktilen Zustand übergeführt und in diesem Zustand durch Walzen oder Pressen zu einem langgestreckten, flachen Körper geformt wird.
  • Bekanntlich tritt bei Gleichstromdurchgang eine von der Stromstärke abhängige Erwärmung bzw. Abkühlung auf Grund des Peltier-Effekts, in Abhängigkeit von der Stromrichtung, nicht nur an der Grenzfläche zwischen verschiedenen Kontaktmaterialien auf, sondern auch an der Grenzfläche zwischen der festen und flüssigen Phase desselben Leitungsmaterials, insbesondere Halbleitermaterials. Beispielsweise besitzen bekanntlich Silicium und Germanium positiven Peltier-Effekt, , d. h., an der Grenzfläche zwischen fester und flüssiger, Phase dieser Materialien wird Wärme absorbiert, wenn die feste Phase an den positiven, die flüssige Phase an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt wird. Bei umgekehrter Polung tritt an der Grenzfläche dagegen ein mit Erwärmung verbundener Peltier-Effekt auf. Infolgedessen wird beim Zonenschmelzen, beispielsweise eines Germaniumkörpers, bei dem die Schmelze zwischen zwei festen Kristallstücken gehaltert wird, an der Grenzfläche des einen Kristallstütcks zur Schmelze bei positiver Polung des Kristallstücks Abkühlung, an der anderen Grenzfläche bei negativer Polung des Kristallstücks dagegen Erwärmung auftreten, sofern zwischen den beiden Kristallstücken ein elektrischer Gleichstrom fließt.
  • Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird also zum Verbinden des Keimkristalls mit dem Halbleiterkörper zunächst der Keimkristall an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt; anschließend wird der Strom umgepolt, d. h., der Keimkristall, von dem aus das Dendritenwachstum erfolgen soll, wird an den positiven Pol, das an das andere Ende der geschmolzenen Zone angrenzende feste Kristallstück (der flache Halbleiterkörper) an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle gelegt. Die Joulsche Wärme hird am Übergang des positiv gepolten Kristallstücks (Keimkristall bzw. bereits gezogener Kristall) zur Schmelze durch die auf Grund des Peltier-Effekts auftretende Abkühlung überkompensiert, so daß hier eine Abkühlung auftritt und Dendritenbildung erfolgen kann. An der Grenzfläche der geschmolzenen Zone zu dem an negativer Spannung liegenden Kristallstück tritt Erwärmung auf.
  • Im einzelnen verfährt man bei der Durchführung des durch die Erfindung vorgesehenen Verfahrens so, daß zunächst auf eine senkrecht zu seiner Längsachse orientierte Endfläche eines flachen-Halbleiterkörpers ein dendritischer Keimkristall, d. h. ein flächig oder bandförmig ausgebildeter Einkristall mit mindestens zwei zur Längsachse des -Halbleiterkör-
    pers parallelen Zwillingsebenen angesetzt wird,--und
    zwar vorzugsweise -- in einer' kristaliogräphischen
    [211]-Richtung orientiert. Die Zwillingsebenen des
    Keimkristalls verlaufen durch den ganzen Kristall,
    so daß sie sich bis zu der mit dem Halbleiterkörper
    in Verbindung gebrachten Fläche erstrecken. '
    Es gibt zwar- 'äueh derldritische'I£n"sta'ird;- deren
    Zwillingsebenen dm Innern des:Kristalls# endeng doch
    sind diese nicht als .Keimkristall für--die- Dendriten-
    herstellung geeignet; -denn wenn die Zwillingsebenen
    sich nicht bis zu der mit dem flachen Halbleiterkör-
    per in Verbindung gebrachten Fläche erstrecken, ver-
    hält sich der Keim so, als wären keine Zwillingsebe-
    Zweckmäßig ist es, Keimkristalle zu verwenden,
    die parallel zu,Aer mit dem
    Ver-
    bindung gebrachten Fläche- in einer. [111]-Riclitung und senkrecht dazu; d.. h. zu-@ seiner- Längsachse;--in _ äindr- - [211]=Richtung
    orientiert sind.
    ---Die -Herstellung--der- -Keimkristalle -wird im -allge=
    meinen in an sich bekannter Weise .durch.. Unter-
    kühlen einer Schmelze des Halbleitermaterials vcirge-
    nommen. Bei@eiriem bestimmten Unterkühlungsgrad
    erstarrt ein Teil der Schmelze_zu.dendritischen Kri-
    stallen mit einer ,Viehzahl--von-parallelen, eng: beiein-
    anderlie2enden,_inneren Zwüllingsebenen.@Diese-kön-
    neu aus der Schmelze herausgenommen _und-parallel
    zu den Zwillingsebenen in mehrere Kennkristalle mit
    jeweils zwei oder drei Zwillingsebenen -zerschnitten
    werden. Meist entstehen. dahe.zwar:keine .äußerlich
    einwandfreien. Kristalle;-sie können jedoch.- als Keim-
    kristalle verwendet werden, wenn man ihre Zwillings-
    ebenen durch Zerschneiden der Kristalle bloßlegt.
    :Da: fiü die:: Bildung der dendritischen Kristalle: be-
    kanutlich eine :iinterkühlte_S.chmelze:..er-forderlichsist,
    weil- ihre@Bildung:nur_-durch. eine, große:
    sationsgeschwndigkeit-_erzwungen,-::werden.,kann, ist
    es :notwendig":äuch-:bei. der-Verschmelzung: des Keim=
    kristalls.:mit::dem-Halbleiterkörper mit einez--unxer-
    klihlten=Schmelze !zu; arbeiten,-@damit. der .Halbleiter=
    körpex;;aie_ndxitisch :änd -dm, Keimkristall-- anwächst.
    Hierbei tritt jedoch dia.Sahwierigkeit,auf,:da -unter=
    kühlte: Schmelzen#bei_Berührungz#init- .festem Halb-
    leitermaterial sofort :schlagartig :erstarren; i wobei-ein
    unkontmllierbares Wachstum: von: Kristallen--beginnt;
    Uni,- diesv :Schw_ierigkeitei#"-..zu :überwinden,- tvird der
    Keimkristall, mit-. den sich? bis - an_; die Oberfläche er-
    streckenden:_Zwillingsebanenamit:einem.solchen.IIalb-
    leiterkörper- in : Verbindung: "gebracht,. der. -an-,'dem,
    Ende; -an.dem°die Verschmelzung mit; dem dendrit-'.
    schen:Keimkristall 1ergestellt. werdet<'-. soll;-.einige
    Grad-:über4den Scchm@elzpunkt<:erhitzt=worden-.ist.-3?ä-
    bei
    einem. Merkmal,der :Erfindung -der
    denPeltier--Effekt;iierzeugende: _Gleichstrom::'s'o--ge'
    schaltet,-.däß :an: :der;Verbindungsstelie:des .-Keiins-.mit
    dem -Halbleiterkörper;seine -Erwärmung=auf Grund
    des:Peltier-Effekts aüftütt. Dabei-wird zwischen dem
    Keimkristall-vndder:Sehmelze ein.Gleichgewicht.ein-
    gestellt,:=in:@dem -kein!:-Material desi,Keimsiaufgelöst
    wird und-äuch@ikein--Maferial-f'.der=#Sclühelzzone :äm
    Keim: '-ank@istallisieit#z Dann:"-wird'--der` .Gleichstrom
    umgepolt;: dsh4t==es-eird .der#,#unnüttelban::äri' den
    Keimkriställ,@.a:ffgrehzende =BUreich'= der@-Schmelzzoüe
    mit-Hilfe:dei.@uf-:Cirutid -de`svPeltier-Effäkts=beieüt-sprechender. Polurig<ides- deniWPeltieri_Effekt=erzetl$en-
    den . Gleichstroms,#@auftretendeti"--Abkühleüter-
    küWt-r:Däbe..bildet'=sich.-ein.Temperaturgradient in
    der°Schmblzzon'ey äus#ESQbald.,die Tenipeiätür -der'
    Schmelze in der Umgehung-, Keimkristalls unter
    die Schmelztemperatur absinkt, setzt das dendritische
    Anwachsen _des flachen! Halbleiterkörpers.. an den
    dendritischenf Keimkristall ein.
    ----Der `mt=deiri °deridritisclieri Keimkfistall-vergehene
    flache Halbleiterkörper wird dann durch Zonen-
    s@hmeizen 'meinen :einkristallinen, langgestreckten,
    Rächen -Dendriten übergeführt, wobei die geschmol-
    zene Zone, die in Richtung der Längsachse am Halb-
    leiterkörper entlanggeführt wird, von der Verbin-
    dungsstelle des Keimkristalls mit dem Halbleiterkör-
    per ausgehend, jeweils schmal gehalten wird, damit
    -nicht -auf* Grund-der-Oberflächenspäiinuiig"die'liäbhe;
    dendritische Struktur des Körpers verlorengeht oder
    die geschmolzene Zone.abtropft, die nur auf Grund
    dei# Oberfiächenspannung---des -geschmolzenen 1VIate.-
    rials zusammengehalten wird:-Mit Hilfe des -Peltier-
    Effekt ist 'es@ bei dein erfindühgsgemäßen Verfahren
    möglich;" in,besonders einfacher Weise -die Forderung
    rlaeh*-sehmälenZonen zu- erfüllen. '--' ' -. °-
    'Bekaiintlichwird -das dendritische-Wachstuindurch
    eine`-große Xristallisatipnsges-chwindigkeit-erzwurigen.
    Da:-aber-bei -derKristallisätion-die Erstarrungswärrhe
    frei-,wird, die -7iotwendigexweiW- eine-Texrili'eratilr=
    erhöhung#bedingt-,. muß-- diese Wärme allgeführt wer-
    den, _daiiiit-sich--die -für- das- dendritische."Wachstum
    erforderlichen-Fempera-turverhältnisse -einstellen kön-
    nen. Bei der bekannteuffersfejlüng.vdrl dendritischen
    Kristallen, werden unterkühlte,- in TiegOn -gehalterte
    Schmelzen- verwendet:- Dabei'.kann -die--frei werdende
    Wärmenicht--nux-über-del-festen; gezogenen-Kristall,
    sondern :auch über die"S:chinelze-hbftießen: Unter=
    kühlte-=Schmelzen-sind-aber -sehr schwierig zu hand-
    haben.-Bei--Anwesenheit eines Kriställisaübnskeims
    (2: -B: -Verunreinigung; -die-von der Tiegelwan.'aus-
    geht)--erstarren sie schlagartig; was -zu einem unkon-
    ti'ollierbaren--Kris`tallwach9tum -führt: -:-Aus diesem
    Gründeist e$ erwünscht; iiit-einer nur auf- die un-
    mittelbare Nähe:- den- Kristullisationsgreiizfläche ge-
    richteten Unterkühlung- zuarbeiten: -Bei =der' gemäß
    der- Erfindung- vorgeselienen'--A-nsnutzung -der auf
    Grund des Peltier-Effekts bei einer AnderungAer
    Stromrichtung eines@durch Kristall und- Schiieizzone
    fließenden! elektrischen-Gleichstromes°auftretenden;
    vön- der Stromsträke «abhängigen Erwärnmng- bzav:
    Abkühlung- aä°°den. Phasengrenzen(- erzielt man` den
    Vortdil=-einet 'ziemlich gennuen-Temperäturregelung
    an--den-Grenzflächen-zwischen -gdschniolzenei--Zoäe
    und, festem--Körper, sö-°däß-. die für @däs'-Dendriten-
    wächgtum 'nötwendigenTenzperatuiverhähnisse°leicht
    eingestellt°werdeii°-könneh.- f°-°@°_@° "- ---_ .
    v---Zusäizliehv-zü ri@eser@@'erripexätizrtegel@ing°ka@`ge-
    gebenenfalls-`e'ine "an sich -übliche- Temperatürände=
    rungdurch-Regelüng^ der-des Snhmelze`ii bewirkenden
    Wgrmequeile@- angewendeti#Wexden:,-Vorzugsweise-" er-
    folgt°,di& -Heizung- induktiv; -mit, Hilfe°,@einer Hoch=
    frequenzspule:-,'«.... -
    -Dürch°#di& Ausnutzung.,der:Erwärmung,oder Ab=
    kühliing; =je -nach-Palung; ; die -auf Grund ,des Peltier=
    Effekts-bei-Änderung der Richtung. eines durch einen
    eirie-;=-Selmelzzbne° aüfweiisenden--,-lahggestredkten
    Halbleiterkörpers fließendeüGldichstrorizs°anftritt, ist
    es@ bei-=deiri-tVerfahren,gemäß -der Erfindung möglich;
    beim@-Zonenschiüelzen die- Kristallisatioiiswätme=döri.
    abzuführen - bzw. @Wärme--äüAer Stelle zuzuführen,
    wo eine--Abkühhung-#bzw..-°eine-Erwärmung für das
    Dendritenwächstüm--erföi7derhbh-ist:<Bdi @dem'#erfin-
    dungsgemäßen Verfahren werden also nur die Teile der Schmelzzone, die unmittelbar an den Keim angrenzen, unterkühlt, während die an den Halbleiterflachkörper angrenzenden Teile der Schmelze auf einer oberhalb des Schmelzunktes des Halbleitermaterials liegenden Temperatur gehalten werden. Dadurch wird ein dendritisches Wachstum des Keims gewährleistet und ein von der anderen Phasengrenze ausgehendes schlagartiges Erstarren der Schmelzzone auf jeden Fall vermieden, insbesondere auch deshalb, weil hier noch zusätzlich Peltierwärme erzeugt wird.

Claims (2)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von flachen, dendritischen, aus Halbleitermaterial bestehenden, langgestreckten Einkristallen durch Zonenschmelzen eines langgestreckten Halbleiterkörpers, an dessen senkrecht zu seiner Längsachse orientierter Endfläche ein Keimkristall desselben Halbleitermaterials angesetzt ist, unter Ausnutzung der auf Grund des Peltier-Effekts auftretenden Erwärmung bzw. Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eines durch Kristall und Schmelze fließenden elektrischen Gleichstroms, wobei vom Übergang des Keims zum Halbleiterkörper ausgehend zonengeschmolzen wird, d a -durch gekennzeichnet, daß ein flacher Halbleiterkörper und ein Keimkristall, der in seinem Innern mindestens zwei der Längsachse des Halbleiterkörpers parallele Zwillingsebenen besitzt, die sich alle bis zu der mit dein Halbleiterkörper in Verbindung stehenden Fläche erstrekken, verwendet werden, daß beim Zonenschmelzen der den Peltier-Effekt erzeugende Gleichstrom zunächst so geschaltet wird, daß an der Verbindungsstelle des Keims mit dem Halbleiterkörper eine Erwärmung auftritt, und daß nach erfolgter Aufschmelzung der Verbindungsstelle der Strom in der umgekehrten Richtung durch den Keim und den Halbleiterkörper geschickt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich zu der auf Grund des Peltier-Effekts, von Stromstärke und Stromrichtung abhängigen, auftretenden Erwärmung oder Abkühlung bei einer Änderung der Stromrichtung eine an sich bekannte Temperaturänderung durch Regelung der das Schmelzen bewirkenden Wärmequelle entsprechend angewandt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1106 732; französische Patentschrift Nr. 77 774; W. G. Pfann, »Zone Melting«, 1958, Kap. 7, S. 161 bis 164.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1106732B (de) * 1957-05-01 1961-05-18 Sylvania Electric Prod Verfahren zur Zonenreinigung von polykristallinen schmelzbaren Halbleitern
FR77774E (fr) * 1958-08-28 1962-04-20 Westinghouse Electric Corp Procédé de fabrication de cristaux semi-conducteurs

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1106732B (de) * 1957-05-01 1961-05-18 Sylvania Electric Prod Verfahren zur Zonenreinigung von polykristallinen schmelzbaren Halbleitern
FR77774E (fr) * 1958-08-28 1962-04-20 Westinghouse Electric Corp Procédé de fabrication de cristaux semi-conducteurs

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