DE1192322C2 - Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer HalbleiteranordnungInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
Int. α.:
HOIl
Deutsche KL: 21g-11/02
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Ausgabetag:
S 66514 VIII c/21 g
24. September 1956
6. Mai 1965
13. Januar 1966
Patentschrift stimmt mit der Auslegeschrift überein
Die Erfindung bezieht sich auf ein verbessertes Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung,
bei welchem das Halbleiterelement auf dem Boden eines becherförmigen Gehäuseteiles angeordnet und
an seiner dem Boden gegenüberliegenden Oberfläche mit einem litzenförmigen Anschlußleiter versehen
wird.
Hierbei ist insbesondere gedacht an Halbleiteranordnungen, die auf der Basis eines Halbleiters aus
oder nach Art von Germanium oder Silizium ar- ίο beiten.
Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen durch Einschmelzen von Elektrodenmaterialien von
den einander gegenüberliegenden Oberflächenteilen des Halbleiterkörpers aus ist es bekannt, bei dem
Einlegierungsprozeß zugleich in Verbindung mit den Elektroden Begrenzungskörper zu benutzen, die von
den schmelzflüssig werdenden Elektrodenkörpern benetzt werden, über welche dadurch die Form bestimmt
werden soll, welche die Einlegierungsfront im Halbleiterkörper annimmt und dabei bei einer Begrenzung
der Ausbreitungsmöglichkeit des Elektrodenmaterials nur an nicht maskierten Oberflächenteilen
sich an den Halbleiterkörper nur bis zum Anschlag an die auf dem Halbleiterkörper aufliegenden
Abstandshalter in Form von Glimmerscheiben oder -ringen annähern können.
In Verbindung mit dieser Lösung ist auch der spezielle Lösungsweg bekannt, den einen der Begrenzungskörper
unmittelbar mit einer Becherform auszubilden, in deren Hohlraum die Teile des übrigen
Halbleiterbauelementeaufbaues eingesetzt werden, und dabei zwischen den Elektrodenmaterialkörpern einerseits
und den Begrenzungskörpern andererseits zur Behinderung einer Diffusion des Werkstoffes derselben
in den Halbleiterkörper, wie z. B. der Stoffe Nickel oder Kupfer, Schichten aus Gold wegen dessen
Eigenschaft, einen verhältnismäßig großen, insbesondere wesentlich größeren Atomdurchmesser als
Kupfer und Nickel und damit eine niedrige Diffusionsgeschwindigkeit zu besitzen, vorzusehen. Wenn
die Teile alle in die Becherform eingesetzt sind, wird bei dem bekannten Verfahren ein Zentrierdeckel über
den oberen Begrenzungskörper geschoben und mit einem äußeren Absatz auf den Rand der Becherform
aufgesetzt, wonach der Legierungsprozeß für die gegenseitige Verbindung der Komponenten des Halbleiterbauelementes
durchgeführt wird. Nach Beendigung des Legierungsprozesses und nach Entfernung
des genannten Zentrierdeckels ist in Aussicht genommen, den becherförmigen Begrenzungskörper in
seinem Hohlraum mit einem Kunststoff zu füllen.
Verfahren zur Herstellung einer
Halbleiteranordnung
Halbleiteranordnung
Patentiert für:
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Als Erfinder benannt:
Eduard Krüger, München
Eduard Krüger, München
Für den Aufbau von Transistoren ist es auch bekannt,
zwei becherförmige Gehäuseteile mit je einer isolierenden Durchführung in jedem Bodenteil zu
benutzen, wobei entweder innere elektrische Anschlußleiter der Durchführung unmittelbar mit deren
elektrischen Isolierkörpern verbunden werden und an ihrem inneren Ende ein federndes Kontaktstück besitzen
oder der elektrische Leiter durch einen inneren rohrförmigen Metallkörper der elektrisch isolierenden
Durchführung eingeführt wird. Das eigentliche Halbleiterelement ist mit seinem Halbleiterkörper, der an
beiden einander gegenüberliegenden Oberflächen mit den Elektroden an entsprechenden dotierten Bereichen
versehen ist, auf einem ringscheibenförmigen Körper bzw. einer Membran auf einer inneren Randzone
derselben befestigt. Dieser Membrankörper ist seinerseits mit einer äußeren Randzone entweder
zwischen gleichartigen Flanschen zweier gleichartiger Gehäuseteile eingesetzt, oder es hat der eine der Gehäuseteile
eine Becherform mit zwei axialen Teilen verschiedenen Durchmessers, so daß ein Absatz entsteht,
auf welchem der ringscheibenförmige Träger bzw. die Membran aufgelegt, dann auf deren Rand
der zweite bzw. obere Gehäuseteil mit einem Flanschteil aufgesetzt und nunmehr der axial ausladende
Rand des erstgenannten Gehäuseteils um den Rand der Ringscheibe bzw. Membran und denjenigen des
oberen Gehäuseteils herumgedrückt bzw. gebördelt wird, so daß die Gehäuseteile und der zwischen ihnen
liegende Träger des Halbleiterelementes eingespannt werden, wonach anschließend die drei Körper entweder
durch eine gegenseitige Verlötung oder eine Kaltpreßverschweißung gasdicht miteinander verbunden
werden.
Bei einem anderen bekannten Halbleiterbauelementeaufbau ist auf einem Grundplattenkörper mit
mittelbarer oder unmittelbarer Kühlung durch einen von Kühlflüssigkeit durchströmten Kühlkörper das
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Halbleiterelement mit seiner einen Oberfläche an dieser Grundplatte festgelötet und an' der anderen
Oberfläche mit einer kleineren anteiligen Stirnfläche eines becherförmigen, in der Richtung vom Halbleiterkörper
weg offenen Anschlußkörpers verbunden und in diese offene Becherform ein biegsamer Litzenleiter
eingeführt und mit ihm verlötet, der mit seinem anderen Ende in eine Becherform eingeführt ist,
welche von der Bodenplatte eines becherförmigen Gehäuseteils getragen wird, der in seiner Mantelzone
aus zwei zylindrischen Teilen aus Metall und einem Teil aus Isoliermaterial besteht, der gasdicht mit je
einem stirnseitigen Rand dieser Teile verbunden ist. Der eine dieser Zylinderringteile ist mit der genannten
metallischen Bodenplatte des becherförmigen Gehäuseteils, der zweite dieser zylindrischen Teile
über einen von seinem freien Rand gebildeten radial nach außen ausladenden Flansch gasdicht mit dem
Grundplattengehäuseteil verbunden.
Bei einer bekannten Halbleiterbauelementeausführung ist das Halbleiterelement an seiner einen
Oberfläche mit einer durchgehenden Trägerplatte versehen und mit dieser auf dem Boden einer Becherform
befestigt. Von seiner gegenüberliegenden Oberfläche führt aus dem becherförmigen Hohlraum im
Schaftende eines pilzförmigen, an seiner Außendachfläche mit dem Halbleiterkörper verbundenen Anschlußkontaktes
ein litzenförmiger Leiter zu einem scheibenförmigen Metallkörper, welcher den inneren
Einsatz einer elektrisch isolierenden Durchführung bildet, und welcher an beiden einander gegenüberliegenden
Oberflächen je eine Becherform erstens für die Aufnahme des Endes des genannten biegsamen
Innenleiters und zweitens für die Aufnahme eines äußeren elektrischen biegsamen Anschlußleiters aufweist.
Dabei ist der äußere, den Isolierkörper des Deckelgehäuseteils umschließende metallische Ring
in seinem einseitig auf die Achse bezogenen Querschnitt winkelförmig gestaltet. Der eine Schenkel der
Winkelform war dabei mit dem Isolierkörper und der andere Schenkel mit der inneren Mantelfläche
des becherförmigen Gehäuseteils verbunden, der seinerseits in eine becherförmige Aussparung eines
an seiner Außenmantelfläche in Kühlfahnen ausladenden Kühlkörpers eingesetzt ist.
Ziel der Erfindung ist, eine einfache, schnelle und sichere Montage beim Zusammenbau eines Halbleiterbauelementes
mit becherförmigem Gehäuse zu erreichen, so daß das Halbleiterelement schnell in
seiner ordnungsgemäßen Lage am Boden des becherförmigen Gehäuses und der biegsame innere Anschlußleiter
mit seiner dem Halbleiterelement benachbarten Endfläche sicher mit der Elektrode dieses
Halbleiterelementes zusammengeführt und mit dieser verlötet werden kann, ohne daß eine Benachteiligung
des übrigen Halbleiterelementes durch das Lot befürchtet zu werden braucht.
Diese Aufgabe wird bei einem Halbleiterbauelement der eingangs angeführten Art gelöst, indem
erfindungsgemäß das Halbleiterelement in eine gegenüber der Innenmantelfläche des Gehäuseteils
lagemäßig orientierte Aussparung eingesetzt wird, und indem für die Befestigung des Anschlußleiters
eine hülsenförmige Hilfsvorrichtung verwendet wird, welche mit der Innenmantelfläche des Gehäuseteils
eine Führung eingeht und sich mit ihrem unteren Ende bis nahe an die Oberfläche des Halbleiterelementes
erstreckt, sowie ihrerseits an ihrer Innenmantelfläche je eine Führung für den zu befestigenden
Anschlußleiter sowohl nahe dem Halbleiterelement als auch an einer von dieser Führungsstelle
in Längsrichtung des Anschlußleiters entfernten Stelle bildet. Hierdurch ergibt sich eine eindeutige
Ausrichtung der Endfläche des Anschlußleiters in bezug auf die Oberflächenausdehnung der Elektrode
des Halbleiterelementes mit einer möglichst großen gegenseitigen Berührungszone bei guter gleichmäßiger
Benetzung durch das Lot bei relativ geringer Lotmenge und zugleich eine vorzugsweise senkrechte
Ausrichtung der Achslage des Leiters zu jener Fläche, ohne bei der Vornahme des eigentlichen Lötprozesses
noch zusätzliche Bedienungsmaßnahmen zu erfordern. Eine solche nach dem vorliegenden Verfahren
zusammengestellte Anordnung kann dann in dem vorbereiteten Zustand, in welchem der Anschlußleiter
mit der Halbleiterzelle zusammengeführt und durch die Hilfsvorrichtung in der Becherform in
seiner Lage ausgerichtet ist, ohne weiteres in einen Ofen gebracht werden, damit dann ein solcher Lötprozeß zwischen dem Anschlußleiter und dem Halbleiterelement
an einer Vielzahl von solchen zu fertigenden Halbleitervorrichtungen gleichzeitig vorgenommen
werden kann. Die Anwendung des vorliegenden Verfahrens läßt eindeutig und sicher einen
möglichst großen Ubergangsquerschnitt zwischen der Elektrode des Halbleiterelementes und dem Anschlußleiter
erreichen, d. h. beide miteinander in Berührung kommenden Zonen von Halbleiterelement
und Anschlußleiter könnten praktisch gleich groß bemessen werden. Wegen der auf diese Weise erreichten
gegenseitigen guten lagemäßigen Orientierung der Endfläche des Anschlußleiters und der
Elektrodenoberfläche an dem Halbleiterelement kann, wie bereits angeführt, auch die Lotschicht relativ
dünn bemessen werden, denn die beiden mechanisch und elektrisch zu verbindenden Flächen werden in
einer einwandfreien Weise zur gegenseitigen Anlage über die Lotschicht kommen, so daß eine gleichmäßig
dicke Lotschicht bei der Verlötung entsteht und beim Verlötungsvorgang auch nur in Rechnung zu stellen
ist. Das wiederum hat zur Folge, daß keine Neigung des Lotes bestehen wird, an der Elektrodenfläche
über deren Rand hinauszutreten und dadurch gegebenenfalls den diese mit ihrem an die Oberfläche
des Halbleiterkörpers heraustretenden und umschließenden pn-übergang in unerwünschter Weise
zu verunreinigen bzw. zu überbrücken.
Es kann sich als zweckmäßig erweisen, mindestens an dem der Halbleiteranordnung zugewandten Ende
den Litzenleiter zunächst mittels einer besonderen Fassung zusammenzuspannen, und zwar vorzugsweise
so weit, daß ein mechanisches Ineinanderfließen der einzelnen Litzenleiter an ihren gegenseitigen Oberflächen
stattfindet, so daß dann eine glatte und praktisch einheitliche Oberfläche am Ende des Litzenleiters
erzeugt werden kann. Eine solche Fassung am Ende des Litzenleiters kann beispielsweise durch
einen mechanischen Rollprozeß aufgebracht werden, der ohne weiteres das Ineinanderfließen der Litzendrähte
bei Anwendung eines ausreichenden Druckes erreichen läßt. Diese besondere Fassung am Ende
des Litzenleiters wird dann gleichzeitig ausgenutzt, um an ihrer äußeren Mantelfläche eine gegenseitige
Passung bzw. Führung mit der in die Becherform des Gehäuseteils eingesetzten Hilfsvorrichtung einzugehen.
Es kann zur Erzielung einer eindeutigen Fassung des Litzenleiters durch die Hilfsvorrichtung an einer
von der genannten Fassung am Ende des Leiters entfernt liegenden Stelle der Litzenleiter mit einer
zweiten Hülsenform versehen werden, die dann an ihrer äußeren Mantelfläche wieder mit der inneren
Mantelfläche der Hilfsvorrichtung eine entsprechende Führung bzw. gegenseitige Passung eingeht.
Diese nach der Erfindung benutzte Hilfsvorrichtung kann entweder einteilig oder auch mehrteilig
sein, indem sie im letzteren Falle als Hohlkörper in ihrer Umfangsrichtung aus mehreren Segmenten hergestellt
wird. Bei einem solchen Aufbau der Hilfsvorrichtung kann diese dann relativ leicht wieder an der
Halbleitervorrichtung entfernt werden, wobei für das Herausheben der Hilfsvorrichtung nur relativ kurze
Wege zurückzulegen sind und der Anschlußleiter dabei keine Erschwernisse bereiten kann.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung an Hand eines Ausführungsbeispieles wird nunmehr auf die
Figur der Zeichnung Bezug genommen. In dieser bezeichnet 1 einen becherförmigen Gehäuseteil, an
dessen innerer Bodenfläche in einer Aussparung 1 a das Gleichrichterelement 2, ζ. B. ein Siliziumgleichrichter,
über die mit seinem System verbundene Trägerplatte 2 c, die z. B. eine Molybdänscheibe sein
kann, befestigt ist. Das Halbleiterelement 2 weist an seiner der Platte 2 c gegenüberliegenden Fläche eine
Elektrode 2d auf. Mit dieser wird an seiner Endfläche der Litzenleiter verbunden. Hierfür ist der
Litzenleiter dadurch vorbereitet, daß auf sein dem Halbleiterelement 2 zugewandten Ende eine Hülse 5
durch einen Rolldrückprozeß aufgebracht worden ist, und zwar in der Weise, daß dadurch, wie in der vorausgehenden
Beschreibung angegeben, die einzelnen Litzendrähte des Litzenleiters 4 mechanisch fest zusammengepreßt
werden, so daß sich praktisch ein Ineinanderfließen der Oberflächen der einzelnen
Drähte ergibt und am Ende des Litzenleiters praktisch eine einheitliche durchgehende Fläche erzeugen
läßt. In die Becherform 1 ist dann als Hilfsvorrichtung ein Körper 9 eingesetzt. Dieser ist, wie sich aus
der Darstellung ergibt, so bemessen, daß er nach dem unteren Ende zu einen zylindrischen Teil aufweist,
der eine gegenseitige Führung mit der äußeren Mantelfläche des Hülsenteils 5 eingeht. Da der
Körper 9 mit Passung in den Gehäuseteil 1 eingeführt ist und andererseits auch das Halbleiterelement 2 in
einem gegenüber der inneren Mantelfläche des Halbleiterkörpers 1 eindeutig orientierten Sitz 1 α befestigt
bzw. gelagert ist, ergibt sich auch eine eindeutige Lage der Endfläche des Litzenleiters 4 mit. seinem
Umfang gegenüber dem Umfang der Elektrode 2d des Halbleiterelementes. Damit nun auch eine eindeutige
Achslage des Litzenleiters 4 in bezug auf die Oberfläche der Elektrode 2 d und auf dieser gewährleistet
ist, geht die Innenmantelfläche der Hilfsvorrichtung 9 noch eine weitere gegenseitige Führung
an einer von dem Halbleiterkörper 2 entfernteren Stelle mit dem Litzenleiter 4 ein. Diese ist bei dem
Ausführungsbeispiel dadurch in bevorzugter Weise gesichert, daß auf den Litzenleiter an einer vom Ende
des Leiters entfernten Stelle noch ein Hülsenkörper 10 aufgebracht ist, der seinerseits dann mit seiner
äußeren Mantelfläche eine gegenseitige Führung mit der inneren Mantelfläche von 9 eingeht. Durch die
Anwendung dieser besonderen Fassung 10 wird die Biegsamkeit des Litzenleiters' nur. auf einer relativ
kurzen Strecke seiner gesamten Länge beeinflußt, wobei diese Länge aber, wie zu übersehen, relativ
kurz bemessen werden kann, so daß sie nicht zu störenden Mangelerscheinungen führt. In der Figur
ist durch die gestrichelten Linien für die Darstellung der Hilfsvorrichtung 9 bereits angedeutet, daß diese
in ihrer Umfangsrichtung aus mehreren sektor- bzw. segmentartigen Teilen bestehen kann, so daß sie sich
erstens vor der Durchführung des Lötprozesses für die gegenseitige Verbindung der Endfläche des
Litzenleiters 4 und der Elektrode 2 d des Halbleiterelementes
2 leicht einsetzen und nach Beendigung des Lötprozesses leicht wieder aus der Anordnung
entfernen läßt, wonach dann ein zweiter Gehäuseteil an der verbleibenden Anordnung mit dem Halbleiterelement
2 angebracht werden kann, um dieses in seine Kammer oder eine andersartige Kapselung einzuschließen.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung, bei welchem das Halbleiterelement
auf dem Böden eines becherförmigen Gehäuseteils angeordnet und an seiner dem Boden gegenüberliegenden
Oberfläche mit einem litzenförmigen Anschlußleiter versehen wird, dadurch
gekennzeichnet, daß das Halbleiterelement in eine gegenüber der Innenmantelfläche des Gehäuseteils
lagemäßig orientierte Aussparung eingesetzt wird und daß für die Befestigung des
Anschlußleiters eine hülsenförmige Hilfsvorrichtung verwendet wird, welche mit der Innenmantelfläche
des Gehäuseteils eine Führung eingeht und sich mit ihrem unteren Ende bis nahe an die
Oberfläche des Halbleiterelementes erstreckt sowie ihrerseits an ihrer Innenmantelfläche je eine
Führung für den zu befestigenden Anschlußleiter sowohl nahe dem Halbleiterelement als auch an
einer von dieser Führungsstelle in Längsrichtung des Anschlußleiters entfernten Stelle bildet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das an die Oberfläche des
Halbleiterkörpers bzw. dessen Anschlußelektrode herangeführte Ende des Litzenleiters mittels einer
Fassung, vorzugsweise bis zum mechanischen Ineinanderfließen der Litzenleiter, zusammengespannt
wird.
3. Hilfsvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie in ihrer Umfangsrichtung aus mehreren Sektoren bzw. Segmenten besteht, die einzeln
in das becherförmige Gehäuse eingesetzt und aus diesem entfernt werden können.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift R 13270 VIIIc/21g (bekanntgemacht am 17. 5. 1956);
USA.-Patentschrift Nr. 2 763 822;
französische Patentschrift Nr. 1119 805;
belgische Patentschrift Nr. 546 360.
Deutsche Auslegeschrift R 13270 VIIIc/21g (bekanntgemacht am 17. 5. 1956);
USA.-Patentschrift Nr. 2 763 822;
französische Patentschrift Nr. 1119 805;
belgische Patentschrift Nr. 546 360.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
509 568/301 4.65 © Bundesdruckerei Berlin
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1956S0066514 DE1192322C2 (de) | 1956-09-24 | 1956-09-24 | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1956S0066514 DE1192322C2 (de) | 1956-09-24 | 1956-09-24 | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1192322B DE1192322B (de) | 1965-05-06 |
DE1192322C2 true DE1192322C2 (de) | 1966-01-13 |
Family
ID=7498878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1956S0066514 Expired DE1192322C2 (de) | 1956-09-24 | 1956-09-24 | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1192322C2 (de) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE546360A (de) * | 1955-03-24 | |||
FR1119805A (fr) * | 1954-01-14 | 1956-06-26 | Westinghouse Electric Corp | Appareil redresseur à semi-conducteur |
US2763822A (en) * | 1955-05-10 | 1956-09-18 | Westinghouse Electric Corp | Silicon semiconductor devices |
-
1956
- 1956-09-24 DE DE1956S0066514 patent/DE1192322C2/de not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1119805A (fr) * | 1954-01-14 | 1956-06-26 | Westinghouse Electric Corp | Appareil redresseur à semi-conducteur |
BE546360A (de) * | 1955-03-24 | |||
US2763822A (en) * | 1955-05-10 | 1956-09-18 | Westinghouse Electric Corp | Silicon semiconductor devices |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1192322B (de) | 1965-05-06 |
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