DE112010000466T5

DE112010000466T5 - Maskeninspektionsgerät und Bilderzeugungsverfahren

Info

Publication number: DE112010000466T5
Application number: DE112010000466T
Authority: DE
Inventors: Jun Matsumoto; Tsutomu Murakawa; Toshimichi Iwai; Takayuki Nakamura; Yoshiaki Ogiso
Original assignee: Advantest Corp
Current assignee: Advantest Corp
Priority date: 2009-02-04
Filing date: 2010-01-14
Publication date: 2012-05-24
Also published as: US20100196804A1; JP2012517022A; US8071943B2; WO2010089954A1; JP5351269B2

Abstract

Bereitgestellt wird ein Maskeninspektionsgerät (100), enthaltend: eine Emissionseinheit (10) zum Emittieren von Elektronenstrahlen (9) auf eine Probe (7), eine Elektronenerfassungseinheit (8) zum Erfassen der Menge an durch die Emission des Elektronenstrahls (9) von der Probe (7) mit darauf ausgebildeten Mustern erzeugten Elektronen, eine Bildverarbeitungseinheit (30) zum Erzeugen von Bilddaten für die Muster auf der Grundlage der Menge von Elektronen und eine Steuereinheit (20) zum Steuern der Emissionseinheit (10), der Elektronenerfassungseinheit (8) und der Bildverarbeitungseinheit (30). Die Steuereinheit (20) berechnet aus der Größe eines vorgegebenen Betrachtungsbereichs der Probe eine Teilungszahl von Teilbildern, die zusammengesetzt werden, um ein Verbundbild zu bilden, das einen gesamten vorgegebenen Betrachtungsbereich abdeckt. Die Steuereinheit (20) bestimmt Teilbereiche so, dass benachbarte Teilbilder einander teilweise überlappen. Die Steuereinheit (20) gewinnt REM-Bilder f(20) setzt die REM-Bilder der Teilbereiche auf der Grundlage von Koordinatendaten für die Teilbereiche und auf der Grundlage der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen enthaltene Muster zusammen und erzeugt dadurch ein REM-Bild mit breitem Sichtfeld, das den Betrachtungsbereich abdeckt.

Description

Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Maskeninspektionsgerät und ein Bilderzeugungsverfahren, die dazu geeignet sind, ein Bild mit breitem Sichtfeld und hoher Auflösung zu erzeugen.
Stand der Technik
Bei einem Lithographieprozess in einem Halbleiterherstellungsprozess wird unter Verwendung einer Belichtungsvorrichtung ein auf einer Photomaske ausgebildetes Muster mit Licht bestrahlt und auf einen Wafer übertragen. Wenn die auf der Photomaske ausgebildeten Muster irgendwelche Defekte oder Verformungen aufweist, können solche Defekte oder Verformungen zu einer geringeren Bestrahlungsgenauigkeit führen. Beispielsweise kann es sein, dass die Muster nicht auf eine gewünschte Position übertragen werden oder dass die Formen der Muster ungenau übertragen werden. Um die Minderung der Bestrahlungsgenauigkeit zu verhindern, wird die Photomaske inspiziert, um zu prüfen, ob sie irgendwelche Positionsfehler oder Defekte aufweist.
Ein Verfahren zur Inspektion von Photomasken nutzt REM-Maskenbilder, die mit einem Rasterelektronenmikroskop erhalten werden. Ein Rasterelektronenmikroskop emittiert auf einen Elektronenstrahlrasterbereich einer Probe einfallende Elektronen. Um die von der Probe emittierten Sekundärelektronen zu erfassen, wird ein Szintillator eingesetzt. Die Menge der erfassten Elektronen wird in Leuchtdichte umgesetzt. Dadurch werden Daten über ein REM-Bild erhalten und auf einem Bildschirm angezeigt.
Beispielsweise werden die auf einer Maske ausgebildeten Muster unter Verwendung der Strukturbreiten des Musters gemäß der folgenden Prozedur inspiziert. Zuerst wird ein vorgegebener Bereich einer auf einer Photomaske ausgebildeten Struktur auf einem Bildschirm angezeigt. Dann werden Elektronenstrahlen emittiert, mit denen auf einen innerhalb des Anzeigebereichs festgesetzten Messpunkts gezielt wird. Auf der Grundlage der vom Messpunkt reflektierten Sekundärelektronen wird die Signalform der Leuchtdichteverteilung gewonnen. Die derart ermittelte Leuchtdichteverteilungssignalform wird analysiert, um die Positionen von Strukturkanten zu identifizieren. Auf der Grundlage dieser Strukturkantenpositionen wird die Breite einer jeden Linie definiert. Um zu beurteilen, ob die Qualität der Photomaske zufrieden stellend ist, wird bestimmt, ob die Linienbreite innerhalb eines zulässigen Fehlerbereichs liegt oder nicht.
Es gibt noch ein anderes, bereits bekanntes Maskeninspektionsverfahren. Das Verfahren verwendet eine zu inspizierende Maske und ein Maskenmodell. Es wird eine Simulation der Übertragung der auf der Maske ausgebildeten Muster durchgeführt und das Ergebnis der Simulation wird mit dem Maskenmodell verglichen. Im Einzelnen wird gemäß dem Maskeninspektionsverfahren zuerst simuliert, wie die auf der Maske ausgebildeten Muster auf einen Wafer übertragen werden. Dazu wird aus dem übertragenen Licht und dem reflektierten Licht ein Bild zur Inspektion gewonnen. Das Ergebnis dieser Simulation wird mit dem Ergebnis einer anderen Simulation verglichen, die simuliert, wie auf einer ordnungsgemäßen Maske ausgebildete Muster auf einen Wafer übertragen werden. So wird geprüft, ob in den auf der zu inspizierenden Maske ausgebildeten Musten irgendwelche Defekte oder dergleichen vorhanden sind oder nicht. Das Ausführen dieser Übertragungssimulation erfordert ein Sichtfeld von 10 Mikrometer. Ob in den auf der Maske ausgebildeten Musten irgendwelche Defekte oder dergleichen vorhanden sind oder nicht, wird durch Vergleichen des Maskenmodells und des REM-Bildes geprüft. Die auf der gesamten Photomaske ausgebildeten Muster spiegeln sich in dem Maskenmodell wider, so dass das mit dem Maskenmodell zu vergleichende REM-Bild ein REM-Bild mit breitem Sichtfeld sein muss.
Das Maskeninspektionsgerät, das das oben beschriebene Rasterelektronenmikroskop und dergleichen verwendet, erfordert eine hochgenaue Messung. Daher ist es üblich, ein stark vergrößertes REM-Bild in einem beschränkten, schmalen Sichtfeld mit starker Vergrößerung zu gewonnen. Wenn ein breites Sichtfeld mit einem gewöhnlichen Kritische-Dimension-REM abgerastert wird, kommt es zudem unweigerlich zu verschiedenen Arten von Aberrationen, wie etwa Astigmatismus, Feldkrümmung und -verformung. Diese Arten von Aberrationen müssen dynamisch, simultan mit dem Abrastern korrigiert werden. Die dynamische und simultane Korrektur kann ein Maskeninspektionsgerät stark belasten oder, noch schlimmer, die Korrektur kann ungenügend erfolgen.
PTL1 offenbart eine Technik, die sich mit diesem Problem befasst. Gemäß dieser bekannten Technik wird, wenn REM-Bilder Stück für Stück unter Verwendung eines REM-Bildes gewonnen werden, die Probenbühne automatisch so gesteuert, dass unschwer eine Reihe von Photos erhalten werden, die ein breites Sichtfeld abdecken.
Nichtsdestotrotz ist die Bewegung der Probenbühne, wenn die Probenbühne so bewegt wird, dass ein Bild eines bestimmten Teilbereichs aufgenommen wird, nicht immer so präzise wie erforderlich. Daher können, gerade wenn eine Reihe von zusammenzufügenden Photos aufgenommen werden, die Photos zwangsläufig nicht erfolgreich in ein perfektes Einzelphoto mit breitem Sichtfeld zusammengesetzt werden.
Literaturliste
Patentliteratur

[PTL1] Japanische Offenlegungsschrift 2000-294183

Zusammenfassung der Erfindung
Die Erfindung wurde angesichts der oben beschriebenen Probleme der herkömmlichen Techniken gemacht. Es ist eine Aufgabe der Erfindung, ein Maskeninspektionsgerät und ein Bilderzeugungsverfahren bereitzustellen, die dazu in der Lage sind, ein hochaufgelöstes REM-Bild zu erzeugen, das ein breites Sichtfeld abdeckt, und die in der Lage sind, die Konturdaten aus dem REM-Bild zu entnehmen.
Das obige Problem wird gelöst durch ein Maskeninspektionsgerät, enthaltend: eine Emissionseinheit zum Emittieren von Elektronenstrahlen auf eine Probe, eine Elektronenerfassungseinheit zum Erfassen der Menge an durch die Emission des Elektronenstrahls von der Probe mit darauf ausgebildeten Mustern erzeugten Elektronen, eine Bildverarbeitungseinheit zum Erzeugen von Bilddaten für die Muster auf der Grundlage der Menge von Elektronen und eine Steuereinheit zum Steuern der Emissionseinheit, der Elektronenerfassungseinheit und der Bildverarbeitungseinheit, wobei die Steuereinheit aus der Größe eines vorgegebenen Betrachtungsbereichs der Probe eine Teilungszahl von Teilbildern berechnet, die zusammengesetzt werden, um ein Verbundbild zu bilden, das einen gesamten vorgegebenen Betrachtungsbereich abdeckt, die Steuereinheit Teilbereiche so bestimmt, dass benachbarte Teilbilder einander teilweise überlappen, die Steuereinheit REM-Bilder für die jeweiligen Teilbereiche gewinnt, die Steuereinheit die REM-Bilder der Teilbereiche auf der Grundlage von Koordinatendaten für die Teilbereiche und auf der Grundlage der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen enthaltene Muster zusammensetzt und dadurch ein REM-Bild mit breitem Sichtfeld erzeugt, das den Betrachtungsbereich abdeckt.
Das Maskeninspektionsgerät gemäß diesem Ausführungsbeispiel kann so aufgebaut sein, dass Daten über das REM-Bild eines jeden Teilbereichs Koordinatendaten für die Teilbereiche enthalten, die Steuereinheit die Koordinatendaten in Koordinatendaten für den vorgegebenen Betrachtungsbereich umwandelt und die Steuereinheit die REM-Bilder der benachbarten Teilbereiche auf der Grundlage der umgewandelten Koordinatendaten für die Teilbereiche zusammensetzt. Zudem kann das Maskeninspektionsgerät gemäß diesem Ausführungsbeispiel so aufgebaut sein, dass die Steuereinheit ein in einem Überlappungsbereich, in dem sich Teile von benachbarten Teilbereichen überlappen, enthaltene Muster erfasst und das erfasste Muster als Muster für einen Abgleichvorgang verwendet wird, die Steuereinheit eine Kante des Musters in jedem der Teilbereiche mit einer Genauigkeit von 1/100 Bildpunkten erfasst, die Steuereinheit die Koordinatendaten der Teilbereiche so korrigiert, dass der Unterschied zwischen einer Kantenposition des Musters in einem der Teilbereiche und der entsprechenden Kantenposition des Musters in einem anderen der Teilbereiche null wird.
Gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung wird ein Bilderzeugungsverfahren bereitgestellt, das in dem Maskeninspektionsgerät gemäß dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ausgeführt wird. Das Bilderzeugungsverfahren gemäß dem anderen Ausführungsbeispiel enthält die folgenden Schritte: Berechnen einer Teilungszahl von Teilbildern, die zusammengesetzt werden, um ein Verbundbild zu bilden, das einen gesamten vorgegebenen Betrachtungsbereich abdeckt, aus der Größe eines vorgegebenen Betrachtungsbereichs der Probe, Bestimmen von Teilbereichen so, dass benachbarte Teilbilder einander teilweise überlappen, Gewinnen von REM-Bildern für die jeweiligen Teilbereiche, Ausführen eines ersten Vorgangs des Abgleichs der Teilbereiche auf der Grundlage von Koordinatendaten für die Teilbereiche, Ausführen eines zweiten Vorgangs des Abgleichs der Teilbereiche auf der Grundlage der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen enthaltene Muster und Erzeugen eines REM-Bildes mit breitem Sichtfeld, das den Betrachtungsbereich abdeckt, durch Zusammensetzen der REM-Bilder der Teilbereiche.
Bei dem Bilderzeugungsverfahren gemäß diesem Ausführungsbeispiel enthält der Schritt des Ausführens des ersten Abgleichvorgangs die folgenden Schritte: Erfassen von durch Daten über das REM-Bild eines jeden Teilbereichs festgehaltenen Koordinatendaten, Umwandeln der Koordinatendaten in Koordinatendaten für den vorgegebenen Betrachtungsbereich und Zusammensetzen von REM-Bildern der benachbarten Teilbereiche auf der Grundlage der umgewandelten Koordinatendaten für die Teilbereiche. Zudem enthält der Schritt des Ausführens des zweiten Abgleichvorgangs die folgenden Schritte: Erfassen eines in einem Überlappungsbereich, in dem sich Teile von benachbarten Teilbereichen überlappen, enthaltenen Musters für den Abgleichvorgang, Erfassen einer Kante des Musters in jedem der Teilbereiche mit einer Genauigkeit von 1/100 Bildpunkten, Berechnen des Unterschieds zwischen einer Kantenposition des Musters in einem der Teilbereiche und der entsprechenden Kantenposition des Musters in einem anderen der Teilbereiche und Korrigieren der Koordinatendaten der Teilbereiche so, dass der Unterschied null wird.
Erfindungsgemäß wird ein Bild mit breitem Sichtfeld entsprechend dem vorgegebenen Betrachtungsbereich auf die folgende Weise gewonnen. Zuerst wird der vorgegebene Betrachtungsbereich der Probe in mehrere Teilbereiche unterteilt, die einander teilweise überlappen. Dann wird für jeden der Teilbereiche ein hochgenaues Bild gewonnen. Danach werden alle Teilbereiche auf der Grundlage der Koordinatendaten für jeden Teilbereich und der Kanteninformation für jedes Muster, das in jedem der Teile ausgebildet ist, in denen sich einander benachbarte Teilbereiche überlappen, zusammengesetzt. Demgemäß ist es möglich, ein hochgenaues Probenbild zu erzeugen, auch wenn das Bild ein breites Sichtfeld abdecken muss.
Kurze Beschreibung der Zeichnung
1 ist eine Skizze, die den Aufbau eines bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung verwendeten Rasterelektronenmikroskops zeigt.
Die 2-A bis 2-D sind Darstellungen zur Erläuterung eines Elektronenbildes und eines durch eine Signalverarbeitungseinheit erhaltenen Profils.
Die 3-A bis 3-C sind Darstellungen zur Erläuterung des Konzepts eines Verfahrens zur Gewinnung eines hochgenauen REM-Bildes, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
4 ist ein Ablaufdiagramm für einen Bildgewinnungsvorgang, um ein hochgenaues REM-Bild zu gewinnen, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
Die 5-A bis 5-D sind Darstellungen zur Erläuterung der Koordinatendaten für einen gewünschten Bereich und für Teilbereiche.
6 ist eine Darstellung zur Erläuterung eines Anpassvorgangs, der auf der Grundlage von Kanteninformation für ein Muster ausgeführt wird, das sich in einem Überlappungsbereich befindet (Fall 1).
Die 7-A bis 7-E sind ein Satz von Darstellungen zur Erläuterung eines Anpassvorgangs, der auf der Grundlage von Kanteninformation für ein Muster ausgeführt wird, das sich in einem Überlappungsbereich befindet (Fall 2).
Die 8-A bis 8-E sind ein Satz von Darstellungen zur Erläuterung eines Anpassvorgangs, der auf der Grundlage von Kanteninformation für ein Muster ausgeführt wird, das sich in einem Überlappungsbereich befindet (Fall 3).
Die 9-A bis 9-E sind ein Satz von Darstellungen zur Erläuterung eines Anpassvorgangs, der auf der Grundlage von Kanteninformation für ein Muster ausgeführt wird, das sich in einem Überlappungsbereich befindet (Fall 4).
Die 10-A bis 10-C sind ein Satz von Darstellungen zur Erläuterung eines Anpassvorgangs, der auf der Grundlage von Kanteninformation für ein Muster ausgeführt wird, das sich in einem Überlappungsbereich befindet (Fall 5).
11 ist eine Darstellung zur Erläuterung eines Verfahrens zum Messen von Kanten eines Musters.
12 ist ein Ablaufplan eines Vorgangs zur Ermittlung von Kantenpositionen an der Kontur eines Musters.
Die 13-A bis 13-D sind Darstellungen zur Erläuterung eines Verfahrens zur Ermittlung von Kantenpositionen an der Kontur eines Musters.
Beschreibung von Ausführungsbeispielen
Im Folgenden werden unter Bezug auf die Zeichnung Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben.
Zuerst wird der Aufbau eines Rasterelektronenmikroskops beschrieben, das als Maskeninspektionsgerät verwendet wird. Dann wird beschrieben, wie die Größe eines Musters unter Verwendung eines üblichen REM-Bildes gemessen wird. Danach wird beschrieben, wie ein hochgenaues REM-Bild gewonnen wird, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
(Aufbau eines Rasterelektronenmikroskops)
1 ist ein Schema, das den Aufbau eines Rasterelektronenmikroskops gemäß diesem Ausführungsbeispiel zeigt.
Dieses Rasterelektronenmikroskop 100 ist grob in eine Elektronenrastereinheit 10, einen Signalverarbeitungseinheit 30, eine Anzeigeeinheit 40, eine Speichereinheit 55 und eine Steuerung 20 unterteilt. Die Steuerung 20 steuert die Elektronenrastereinheit 10, die Signalverarbeitungseinheit 30, die Anzeigeeinheit 40 und die Speichereinheit 55. Die Steuerung 20 enthält eine Profilerzeugungseinheit 21, eine Ableitungsprofilerzeugungseinheit 22 und eine Kantenermittlungseinheit 23.
Die Elektronenrastereinheit 10 enthält eine Elektronenkanone 1, eine Kondensorlinse 2, eine Ablenkspule 3, eine Objektivlinse 4, eine bewegliche Bühne 5 und einen Probenhalter 6.
Die Elektronenkanone 1 emittiert Ladungsteilchen 9. Die Ladungsteilchen 9 laufen durch die Kondensorlinse 2, die Ablenkspule 3 und die Objektivlinse, bevor die Ladungsteilchen 9 auf eine auf der beweglichen Bühne 5 angeordnete Probe 7 gestrahlt werden.
Die Probe 7 wird mit den geladenen Teilchen 9 (Primärelektronenstrahl) bestrahlt, wobei sie in zwei Dimensionen abgerastert wird. Durch einen Elektronendetektor 8, der einen Szintillator oder dergleichen enthält, werden Sekundärelektronen erfasst, die von dem mit den Ladungsteilchen 9 bestrahlten Teilbereich emittiert werden. Die Menge der erfassten Sekundärelektronen wird von einem AD-Umsetzer der Signalverarbeitungseinheit 30 in eine Digitalmenge umgesetzt. Die sich ergebende Digitalmenge wird in der Speichereinheit 55 als Bilddaten gespeichert. Die Bilddaten werden in ein Leuchtdichtesignal umgesetzt, um ein Bild zu bilden, das von der Anzeigeeinheit 40 angezeigt wird. Durch Anordnen der Bilddaten in einer zweidimensionalen Matrix wird ein zweidimensionales Digitalbild erhalten, so dass die Bilddaten in einer zweidimensionalen Matrix in Übereinstimmung mit der Anordnung der mit dem Primärelektronenstrahl auf der Probe 7 gerasterten Positionen angeordnet sind. Jedes Bildelement (Bildpunkt) dieses zweidimensionalen digitalen Bildes gibt Leuchtdichtedaten mit einer Information von 8 Bit wieder.
Zudem dient die Signalverarbeitungseinheit 30 als Bildbearbeitungseinheit, um die Bilddaten zu verarbeiten, und führt den Vorgang der Vereinigung von jeweils für Teilbereiche gewonnenen REM-Bildern aus. Dieser Vorgang wird später detailliert beschrieben.
Die Steuerung 20 steuert sowohl den Elektronenablenkbetrag durch die Ablenkspule 3 als auch den Bildrasterbetrag der Anzeigeeinheit 40. Zudem speichert die Steuerung 20 Programme betreffend die Ausführung der Kantenermittlung für Muster und der Ausführung des Vorgangs der Vereinigung des REM-Bild, um ein Einzelbild zu bilden, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
Die Profilerzeugungseinheit 21 erzeugt ein Linienprofil, das ein Leuchtdichtesignal von Daten über das REM-Bild entsprechend einem vorgegeben Bereich darstellt. Das Linienprofil gibt ein der Menge der Sekundärelektronen entsprechendes Leuchtdichtesignal wider.
Die Ableitungsprofilerzeugungseinheit 22 führt am Linienprofil eine Differentiation erster Ordnung aus und erzeugt folglich ein erstes Ableitungsprofil.
Die Kantenermittlungseinheit 23 ermittelt aus dem Linienprofil und dem ersten Ableitungsprofil Kanten des Musters.
(Messung der Mustergröße unter Verwendung eines üblichen REM-Bildes)
Als nächstes wird beschrieben, wie die Mustergröße der in 2-A gezeigten Probe unter Verwendung des in 1 dargestellten Rasterelektronenmikroskops 100 gemessen wird. Die Messung der Mustergröße nutzt ein REM-Bild und beinhaltet die Kantenermittlung des Musters der in 2-A gezeigten Probe.
Wie in 2-A gezeigt, ist die als Ziel dienende Probe 7 ein Photomaskensubstrat 50 mit darauf ausgebildeter Leitungsstruktur 51. Wie in 2-A ersichtlich, weist ein Teilbereich der Probe 7 eine ebene Gestalt auf. In 2-A ist der Teilbereich, der von unterbrochenen Linien umgeben ist, ein vom Rasterelektronenmikroskop 100 zu untersuchender Zielbereich.
2-B zeigt ein REM-Bild, das durch die folgende Prozedur erhalten wird. Zuerst wird mit Elektronenstrahlen eine in 2-A gezeigte Probe abgerastert, um Sekundärelektronen zu erhalten. Durch den Elektronendetektor 8 wird die Menge der die oben beschriebenen Sekundärelektronen enthaltenen Elektronen erfasst. Die erfasste Menge an Elektronen wird in ein Leuchtdichtesignal umgesetzt. Durch einen Bildschirm (Anzeigeeinheit 40) wird ein auf der Grundlage des Leuchtdichtesignals erzeugtes Rem-Bild angezeigt, wobei die Abrasterung mit dem Elektronenstrahl mit der Abrasterung des CRT des Bildschirms synchronisiert wird.
Durch Bestimmen eines Längenmessbereichs wird aus dem in 2-B gezeigten REM-Bild ein REM-Bild entnommen. Der Längenmessbereich weist beispielsweise eine Breite H von 400 Bildpunkten und eine Länge L auf. Die Bedienperson wählt den Bereich durch eine obere Linienmarke LM1, eine untere Linienmarke LM2, eine linke Linienmarke LM3 und eine rechte Linienmarke LM4 aus.
Das entnommene REM-Bild wird in Richtung der Breite H des Längenmessbereichs unterteilt. Aus den Bildpunktdaten eines jeden Teilbereichs wird das der Leuchtdichteverteilung entsprechende Linienprofil ermittelt. Beim Ermitteln des Linienprofils ist es möglich, eine Glättung auszuführen, beispielsweise mit einer Breite von drei Bildpunkten in Richtung der Länge L. Durch die Glättung können Störkomponenten reduziert werden.
2-C ist eine Darstellung, die ein Linienprofil zeigt, das der Menge der von der Probe emittierten Sekundärelektronen entspricht, wenn Elektronenstrahlen entlang der Linie I-I von 2-A aufgestrahlt werden. Wie in 2-C gezeigt, ändert sich das Linienprofil (Kontrastprofil) an den Kantenbereichen der Struktur drastisch. Um die Positionen der drastischen Änderung zu finden, wird das Linienprofil abgeleitet, um den Maximalscheitelpunkt und den Minimalscheitelpunkt des Betrags des Differentialsignals zu ermitteln.
Wie in 2-D dargestellt, werden darüber hinaus durch Ausfüllen der Lücken zwischen Bildpunkten mit mehreren Ableitungssignalen Dx um die Scheitelpunkte herum Ableitungssignalformen C1 und C2 erhalten. Die Scheitelpunktpositionen eines ersten Scheitelpunktes P1 und eines zweiten Scheitelpunktes P2 werden mit einer Auflösung von 1/100 berechnet. Der Abstand zwischen dem ersten Scheitelpunkt P1 und dem zweiten Scheitelpunkt P2 wird als eine Linienstrukturbreite W1 erhalten.
Der oben beschriebene Arbeitsgang wird für jeden Teilbereich ausgeführt. Der Mittelwert der jeweils für alle Teilbereiche berechneten Breiten der Muster wird als Längenmesswert definiert. Auf diese Weise kann eine genauere Linienstrukturbreite W1 erhalten werden.
(Gewinnen eines hochgenauen REM-Bildes, das ein breites Sichtfeld abdeckt)
Die 3-A bis 3-C sind Darstellungen zur Erläuterung des Konzepts eines Verfahrens zur Gewinnung eines hochgenauen REM-Bildes, das ein breites Sichtfeld abdeckt. 3-A zeigt ein Beispiel, bei dem aus den auf der Probe ausgebildeten Muster ein Bereich 31 als gewünschter Bereich angegeben wild. Um ein REM-Bild zu gewinnen, das den gesamten vorgegebenen Bereich 31 abdeckt, kann für den gesamten Bereich 31 auf einmal ein REM-Bild aufgenommen werden. Alternativ kann durch Unterteilen des vorgegebenen Bereichs in mehrere Teilbereiche, dann Aufnehmen von REM-Bildern einzeln für die Teilbereiche und dann Zusammensetzen der REM-Bilder für die Teilbereiche ein Verbund-REM-Bild erhalten werden.
Wenn das Einzel-REM-Bild, das den gesamten vorgegebenen Bereich abdeckt, auf einmal gewonnen wird, kann das REM-Bild innerhalb kurzer Zeit erhalten werden. Wenn allerdings der durch das REM-Bild abzudeckende Bereich breit ist, werden die Aberrationen größer, je weiter der Abstand von der optischen Achse ist. Folglich weist das gewonnene REM-Bild eine geringere Genauigkeit auf.
Wenn ein Rasterelektronenmikroskop als Maskeninspektionsgerät verwendet wird, ist es möglich, unter Verwendung des gewonnenen REM-Bildes zu überprüfen, ob irgendein Defekt, wie etwa eine Diskontinuität in den auf einer Maske ausgebildeten Muster, aufweist oder nicht. Für das Ausführen einer hochgenauen Inspektion, wie etwa einer solchen, die den Vergleich eines Simulationsergebnisses einer Maske mit einem Mustermodell mit sich bringt, ist es erforderlich, ein hochgenaues REM-Bild zu gewinnen. Aus diesem Grund wird bei diesem Ausführungsbeispiel, um ein hochgenaues REM-Bild zu gewinnen, das ein breites Sichtfeld abdeckt, der vorgegebene Bereich zuerst in mehrere Bereiche unterteilt, die klein genug sind, um hochgenaue REM-Bilder für die Teilbereiche zu gewinnen. Für die Teilbereiche werden Teil-REM-Bilder einzeln aufgenommen und dann werden die Teil-REM-Bilder zusammengesetzt, um ein REM-Bild zu erhalten, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
3-A zeigt, dass der vorgegebene Bereich 31 in 16 Teilbereiche (31a, 31b, ...) unterteilt wird, so dass für jeden Teilbereich ein hochgenaues REM-Bild gewonnen werden kann. Man beachte, dass die Unterteilung in der Praxis, wie in 3-B gezeigt, derart vorgenommen wird, dass sich benachbarte Teilbereiche einander teilweise überlappen. Der Teil in jedem Teilbereich, der einen Teil des benachbarten Teilbereichs überlappt, wird als Überlappungsbereich bezeichnet. Für die Teilbereiche werden jeweils hochgenaue REM-Bilder gewonnen. Die hochgenauen REM-Bilder werden durch Ausführen eines Abgleichs unter Verwendung von Koordinatendaten der jeweiligen Teilbereiche und der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen existierende Muster zusammengesetzt. Auf diese Weise wird ein hochgenaues REM-Bild gewonnen, das ein breites Sichtfeld abdeckt. 3-C zeigt das derart gewonnene REM-Bild.
4 ist ein Ablaufplan eines Bildgewinnungsvorgangs zum Gewinnen eines hochgenauen REM-Bildes, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
Zuerst wird in Schritt S11 die Zahl der zu bildenden REM-Bilder ermittelt (im Folgenden wird die Zahl einfach „Teilungszahl” bezeichnet). Nachdem der Anwender einen gewünschten Bereich vorgegeben hat, wird die nötige Teilungszahl aus der Größe des vorgegebenen Bereichs und des Bereichs berechnet, der klein genug ist, um ein hochgenaues REM-Bild zu gewinnen.
Anschließend werden in Schritt S12 jeweils REM-Bilder für die Teilbereiche gewonnen, die durch Teilung des vorgegebenen Bereichs durch die in Schritt S11 errechnete Teilungszahl gebildet werden (im Folgenden werden die derart gewonnenen REM-Bilder als die Teil-REM-Bilder” bezeichnet). Man beachte, dass wenn der vorgegebene Bereich unterteilt wird, die Teilbereiche so definiert sind, dass jeder Teilbereich einen Überlappungsbereich enthält, der einen Teil des benachbarten Teilbereichs überlappt.
Anschließend werden in Schritt S13 aus den entsprechenden REM-Bildern Kanten des im jeweiligen Teilbereich enthaltenen Musters entnommen. Der Vorgang zur Entnahme der Kanten des Musters wird später detailliert beschrieben werden.
In den anschließenden Schritten S14 und S15 werden die Teil-REM-Bilder zusammengesetzt. In Schritt S14 werden die Teilbereiche über einen Abgleichvorgang zusammengesetzt, der durch Bezugnahme auf die Koordinateninformation (d. h. die Koordinatendaten) für die jeweiligen Teilbereiche ausgeführt wird. Jeder Teilbereich weist seine eigenen charakteristischen Koordinatendaten auf. Zudem weist der vorgegebene Bereich seine eigenen Koordinatendaten auf (im Folgenden werden die Koordinatendaten für den vorgegebenen Bereich als die „Referenzkoordinatendaten” bezeichnet). Die Koordinatendaten der jeweiligen Teilbereiche werden in die Referenzkoordinatendaten umgewandelt. Wenn benachbarte Teilbereiche miteinander verbunden werden, werden die Positionen derselben Koordinatendaten miteinander ausgerichtet. Auf diese Weise werden die Teil-REM-Blder zusammengesetzt.
Anschließend wird in Schritt S15 auf der Grundlage der Kanteninformation für die Muster ein weiterer Abgleichvorgang ausgeführt. Dieser Abgleichvorgang in Schritt S15 dient dem Zweck, das in Schritt S14 ausgeführte Zusammensetzen fein abzustimmen. Die in dem Abgleichvorgang in Schritt S15 verwendete Kanteninformation ist die Kanteninformation für die Muster, die sich in den Überlappungsbereichen zwischen benachbarten Teilbereichen befinden. Im Einzelnen werden die Positionen der Teilbereiche auf die Folgende Weise eingestellt. Zuerst wird ein Muster ermittelt, das sich in einem Überlappungsbereich befindet und das daher von den jeweiligen benachbarten Teilbereichen geteilt wird (beispielsweise die Teilbereiche DA11 und DA12). Dann wird die Kanteninformation (d. h. die Koordinaten der Kantenposition) für das Muster ermittelt, das bereits in Schritt S13 entnommen wurde. Die Positionen der Teilbereiche DA11 und DA12 werden so eingestellt, dass die Kantenposition des Musters, das sich im Teilbereich DA11 befindet, mit der Kantenposition des Musters zusammenfallen kann, das sich im Teilbereich DA12 befindet. Anders ausgedrückt, zuerst werden die Unterschiede zwischen Koordinatendaten für die zwei Teilbereiche berechnet. Dann, wenn die Koordinatendaten für die zwei Teilbereiche nicht miteinander übereinstimmen, werden die Positionen der Teilbereiche so eingestellt, dass die Unterschiede null werden können.
Die Operationen in den Schritten S14 und S15 werden für alle Teilbereiche ausgeführt. Auf diese Weise wird Verbund-REM-Bild mit gewonnen, bei dem die Positionen aller Teil-REM-Bilder nachgestellt worden sind. Die Daten für dieses Verbund-REM-Bild werden in der Speichereinheit 55 gespeichert.
Anschließend wird in Schritt S16 das in Schritt S15 gewonnene Verbund-REM-Bild (ein REM-Bild, das ein breites Sichtfeld abdeckt) ausgegeben.
Der oben beschriebene Vorgang zur Bildung des Verbundbildes macht es möglich, ein hochgenaues REM-Bild des vorgegebenen Bereichs der Maske auszugeben, auch wenn das REM-Bild ein breites Sichtfeld abdeckt.
Nun wird jeder der oben beschriebenen Vorgänge detailliert beschrieben. 5 zeigt Darstellungen zur Erläuterung von Koordinatendaten für den vorgegebenen Bereich und für die Teilbereiche.
5-A zeigt Koordinatendaten in einem Fall, bei dem ein vorgegebener Bereich in 16 Teilbereiche unterteilt ist. Jeder dieser Teilbereiche DA11 bis DA44 weist eine Fläche auf, die klein genug ist, um einem Rasterelektronenmikroskop zu ermöglichen, ein hochgenaues REM-Bild zu gewinnen.
Wie 5-A zeigt, ist als vorgegebener Bereich eine rechteckige Fläche, die den Mittelpunkt O1 (X0, Y0) besitzt, durch Verbinden der folgenden vier Punkte umgrenzt: ein Punkt A1 (X-a, Ya), ein Punkt B1 (Xa, Ya), ein Punkt C1 (Xa, Y-a), ein Punkt D1 (X-a, Y-a). Solche Koordinatendaten werden als die Koordinatendaten für den vorgegebenen Bereich (d. h. als Referenzdaten) festgehalten.
5-B entspricht dem in 5-A gezeigten Teilbereich DA11, wohingegen 5-C dem in 5-A gezeigten Teilbereich DA21 entspricht. Wie 5-B zeigt, ist der Teilbereich DA11 eine rechteckige Fläche, die einen Mittelpunkt O2 (X110, Y110) besitzt und die durch Verbinden der folgenden vier Punkte umgrenzt wird: ein Punkt A2 (X-b, Yb), ein Punkt B2 (Xb, Yb), ein Punkt C2 (Xb, Y-b), ein Punkt D2 (X-b, Y-b). Solche Koordinatendaten werden als die Koordinatendaten für den Teilbereich DA11 festgehalten.
Wie 5-C zeigt, ist zudem der Teilbereich DA21 eine rechteckige Fläche, die einen Mittelpunkt O3 (X210, Y210) besitzt und die durch Verbinden der folgenden vier Punkte umgrenzt wird: ein Punkt A3 (X-c, Yc), ein Punkt B3 (Xc, Yc), ein Punkt C3 (Xc, Y-c), ein Punkt D3 (X-c, Y-c). Solche Koordinatendaten werden als die Koordinatendaten für den Teilbereich DA21 festgehalten.
Für diese Teilbereich D11 bis DA44 werden jeweils REM-Bilder (Teil-REM-Bilder) gewonnen und dann werden die Teil-REM-Bilder zusammengesetzt. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird der Vorgang des Zusammensetzens der REM-Bilder für die Teilbereiche durch ein Abgleichverfahren ausgeführt, das zwei Stufen aufweist. Der in der ersten Stufe ausgeführte Abgleichvorgang basiert auf den Koordinatendaten für die Teilbereiche, wohingegen der in der zweiten Stufe ausgeführte Abgleichvorgang auf der Kanteninformation für die Muster basiert, die sich in Überlappungsbereichen der Teilbereiche befinden.
Zuerst wird unter Bezugnahme auf 5 der auf den Koordinatendaten für die Teilbereiche basierende Abgleichvorgang beschrieben. Wie beispielsweise in den 5-B und 5-C gezeigt, weist jeder Teilbereich seine eigenen, eindeutigen Koordinatendaten auf. Beim Gewinnen von REM-Bildern werden die Koordinatendaten in die Koordinaten des vorgegebenen Bereichs (d. h. Referenzkoordinatendaten) umgewandelt. Der Abgleichvorgang wird so ausgeführt, dass sich die Koordinatenpositionen der benachbarten Teilbereiche einander decken.
Die in 5-A gezeigten zwei Teilbereiche DA11 und DA21 sind einander in der Y-Richtung benachbart. Die Bilder für diese zwei Teilbereiche DA11 und DA21 werden so zusammengesetzt, dass die Koordinaten D2 des Teilbereichs DA11 und die Koordinaten A3 des Teilbereichs DA21 miteinander zur Deckung kommen, und so, dass die Koordinaten C2 des Teilbereichs DA11 und die Koordinaten B3 des Teilbereichs DA21 miteinander zur Deckung kommen. Zu diesem Zweck werden beispielsweise die Koordinatendaten für jeden Teilbereich auf folgende Weise in die Referenzkoordinatendaten umgewandelt. Es wird der Versatz von der Mittelpunktkoordinatenposition der Referenzkoordinate für den Betrachtungsbereich zur Mittelpunktkoordinatenposition für jeden Teilbereich berechnet und dann wird das Koordinatensystem eines jeden Teilbereichs in das Koordinatensystem der Referenzkoordinate umgewandelt.
5-D ist eine Darstellung zur Erläuterung, wie benachbarte Teilbereiche angeordnet werden. Insbesondere zeigt 5-D, wie zwei Teilbereiche angeordnet werden, die einander in der Y-Richtung benachbart sind. Wie in 5-D gezeigt, enthält jedes der zwei benachbarten Teilbereiche einen Teil, der mit einem Teil des anderen der zwei benachbarten Teilbereiche überlappt (der Überlappungsbereich wird als Überlappungsbereich OR bezeichnet). In diesem Fall werden die Bilder der zwei Teilbereiche auf die folgende Weise durch einen auf Koordinateninformation basierenden Abgleichvorgang zusammengesetzt. Die Koordinaten des Punkts, dessen Y-Koordinate durch Subtrahieren von Alpha von der Y-Koordinate des dem Teilbereich DA11 angehörenden Punkts D2 erhalten wird, wird mit den Koordinaten des dem Teilbereich DA21 angehörenden Punktes A3 zur Deckung gebracht. Zudem werden die Koordinaten des Punktes, dessen Y-Koordinate durch Subtrahieren von Alpha von der Y-Koordinate des dem Teilbereich DA11 angehörenden Punkts C2 erhalten wird, mit den Koordinaten des dem Teilbereich DA21 angehörenden Punktes B3 zur Deckung gebracht.
Nun wird unter Bezugnahme auf 6 der auf der Kanteninformation für die Muster basierende Abgleichvorgang beschrieben. Beim in 6 gezeigten Fall sind die Teilbereiche DA11 und DA21 einander in der Y-Richtung benachbart und in einem beiden Teilbereichen DA11 und DA21 angehörenden Überlappungsbereich OR befindet sich ein Muster PAO. In jedem der Teilbereiche DA11 und DA21 wird die Position des sich im Überlappungsbereich Or befindlichen Musters gemessen. Was das in einem Überlappungsbereich befindliche Muster betrifft, so deckt sich seine Position in einem der zwei Teilbereiche, die einander benachbart sind, immer mit seiner Position im anderen der zwei Teilbereiche. Demgemäß wird zuerst dasselbe, beiden der zwei Teilbereiche angehörende Muster entnommen und dann wird beim Zusammensetzen der Teil-REM-Bilder ein Abgleichvorgang so ausgeführt, dass die einzeln für die zwei Teilbereiche berechneten Koordinaten der Kantenpositionen für dasselbe Muster miteinander zur Deckung gebracht werden können.
Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 7 bis 10 ein verfahren zum Zusammensetzen von Bildern gemäß der Formen und/oder der Zahl von in einem Überlappungsbereich befindlichen Mustern beschrieben.
(1) Fall eines Musters, das beiden benachbarten Teilbereichen in Y-Richtung angehört
7-A zeigt einen exemplarischen Fall, bei dem ein Muster PT1 beiden Teilbereichen DR1 und DR2 angehört. 7-B zeigt ein für den Teilbereich DR1 gewonnenes REM-Bild, wohingegen 7-C ein für den Teilbereich DR2 gewonnenes REM-Bild zeigt. Wie in 7-B gezeigt, befindet sich ein REM-Bild PTS11 des Musters PT1 in Kontakt mit dem Grenzbereich (untere Linie) des Teilbereichs DR1. Durch Analysieren dieses REM-Bildes PTS11 werden Kantenpositionen ermittelt. Gleicherweise werden Kantenpositionen durch Analysieren eines REM-Bildes PTS12 des in 7-C gezeigten Musters ermittelt.
7-D zeigt das Ergebnis eines Vorgangs des Abgleichs dieser Teilbereiche DR1 und DR2 auf der Grundlage der Koordinateninformation. Wenn die Koordinateninformation fehlerfrei ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern desselben, beiden Teilbereichen DR1 und DR2 angehörenden Musters PT1 keinen Fehlabgleich. Wenn die Koordinateninformation fehlerbehaftet ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern des Musters PT1 einen Fehlabgleich, wie in 7-D gezeigt. Aus diesem Grund wird unter Verwendung der für jeden der zwei Teilbereiche mit hoher Genauigkeit gemessenen Kanteninformation des Musters PT1 ein genauer Abgleichvorgang ausgeführt.
Durch einen Abgleichvorgang auf der Grundlage der Koordinatendaten wird das Muster PT1 als gemeinsames, in beiden der zwei Teilbereiche enthaltenes Muster ausgewählt. Für die zwei Teilbereiche werden jeweils REM-Bilder des Musters PT1 gewonnen und die REM-Bilder werden zum Erlangen der Koordinaten der Kantenpositionen verwendet. Die Werte der Koordinaten für jeden der zwei Teilbereiche werden so korrigiert, dass die Koordinaten für die Kantenpositionen in einem der zwei Teilbereiche mit ihren entsprechenden Gegenstücken im anderen der zwei Teilbereiche zur Deckung gebracht werden. Beim in 7-D gezeigten Fall sind die zwei Teilbereiche in der X-Richtung relativ zueinander versetzt. Aus dem REM-Bild PTS11 wird die X-Koordinate einer Kantenposition E1 berechnet, die mit der Grenze zwischen den zwei Teilbereichen in Kontakt steht. Zudem wird aus dem REM-Bild PTS12 die X-Koordinate einer Kantenposition F1 berechnet, die mit der Grenze zwischen den zwei Teilbereichen in Kontakt steht. Dann wird die Differenz zwischen der X-Koordinate für die Kantenposition E1 und die X-Koordinate für die Kantenposition F1 berechnet. Die Koordinatendaten für die Teilbereiche DR1 und DR2 werden so eingestellt, dass die oben beschriebene Differenz null wird. 7-E zeigt das Ergebnis des Zusammensetzens der zwei Teilbereiche mit ihren korrigierten Koordinatendaten.
(2) Fall eines Musters, das beiden benachbarten Teilbereichen in X-Richtung angehört
8-A zeigt einen exemplarischen Fall, bei dem ein Muster PT2 beiden Teilbereichen DR3 und DR4 angehört. 8-B zeigt ein für den Teilbereich DR3 gewonnenes REM-Bild, wohingegen 8-C ein für den Teilbereich DR4 gewonnenes REM-Bild zeigt. Wie in 8-B gezeigt, befindet sich ein REM-Bild PTS21 des Musters PT2 in Kontakt mit dem Grenzbereich (rechte Linie) des Teilbereichs DR3. Durch Analysieren dieses REM-Bildes PTS11 werden Kantenpositionen ermittelt. Gleicherweise werden Kantenpositionen durch Analysieren eines REM-Bildes PTS22 des in 8-C gezeigten Musters ermittelt.
8-D zeigt das Ergebnis eines Vorgangs des Abgleichs dieser Teilbereiche DR3 und DR4 auf der Grundlage der Koordinateninformation. Wenn die Koordinateninformation fehlerfrei ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern desselben, beiden Teilbereichen DR3 und DR3 angehörenden Musters PT2 keinen Fehlabgleich. Wenn die Koordinateninformation fehlerbehaftet ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern des Musters PT2 einen Fehlabgleich, wie in 8-D gezeigt. Aus diesem Grund wird unter Verwendung der für jeden der zwei Teilbereiche mit hoher Genauigkeit gemessenen Kanteninformation des Musters PT2 ein genauer Abgleichvorgang ausgeführt.
Durch einen Abgleichvorgang auf der Grundlage der Koordinatendaten wird das Muster PT2 als gemeinsames, in beiden der zwei Teilbereiche enthaltenes Muster ausgewählt. Für die zwei Teilbereiche werden jeweils REM-Bilder des Musters PT2 gewonnen und die REM-Bilder werden zum Erlangen der Koordinaten der Kantenpositionen verwendet. Die Werte der Koordinaten für jeden der zwei Teilbereiche werden so korrigiert, dass die Koordinaten für die Kantenpositionen in einem der zwei Teilbereiche mit ihren entsprechenden Gegenstücken im anderen der zwei Teilbereiche zur Deckung gebracht werden. Beim in 8-D gezeigten Fall sind die zwei Teilbereiche in der Y-Richtung relativ zueinander versetzt. Aus dem REM-Bild PTS21 wird die Y-Koordinate einer Kantenposition G1 berechnet, die mit der Grenze zwischen den zwei Teilbereichen in Kontakt steht. Zudem wird aus dem REM-Bild PTS22 die Y-Koordinate einer Kantenposition H1 berechnet, die mit der Grenze zwischen den zwei Teilbereichen in Kontakt steht. Dann wird die Differenz zwischen der Y-Koordinate für die Kantenposition G1 und die Y-Koordinate für die Kantenposition H1 berechnet. Die Koordinatendaten für die Teilbereiche DR3 und DR4 werden so eingestellt, dass die oben beschriebene Differenz null wird. 8-E zeigt das Ergebnis des Zusammensetzens der zwei Teilbereiche mit ihren korrigierten Koordinatendaten.
(3) Fall eines Endbereichs eines in einem Überlappungsbereich zweier benachbarter Teilbereiche befindlichen Musters
9-A zeigt einen exemplarischen Fall, bei dem ein Muster PT3 beiden Teilbereichen DR5 und DR6 angehört und sich gleichzeitig ein Endbereich des Musters PT3 in einem Überlappungsbereich OR3 befindet. 9-B zeigt ein REM-Bild, das für den Teilbereich DR5 gewonnen wird, wohingegen 9-C ein REM-Bild zeigt, das für den Teilbereich DR6 gewonnen wird. Wie in 9-B gezeigt, ist im Teilbereich DR5 ein REM-Bild PTS31 des Musters PT3 enthalten. Kantenpositionen werden durch Analysieren dieses REM-Bildes PTS31 erfasst. Gleicherweise werden durch Analysieren eines REM-Bildes PTS32 des in 9-C gezeigten Musters PT3 Kantenpositionen ermittelt.
9-D zeigt das Ergebnis eines Vorgangs des Abgleichs dieser Teilbereiche DR5 und DR6 auf der Grundlage der Koordinateninformation. Wenn die Koordinateninformation fehlerfrei ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern desselben, beiden Teilbereichen DR5 und DR6 angehörenden Musters PT3 keinen Fehlabgleich. Wenn die Koordinateninformation fehlerbehaftet ist, gibt es zwischen den zwei REM-Bildern des Musters PT3 einen Fehlabgleich, wie in 9-D gezeigt. Aus diesem Grund wird unter Verwendung der für jeden der zwei Teilbereiche mit hoher Genauigkeit gemessenen Kanteninformation des Musters PT3 ein genauer Abgleichvorgang ausgeführt.
Durch einen Abgleichvorgang auf der Grundlage der Koordinatendaten wird das im Überlappungsbereich OR3 befindliche Muster PT3 als gemeinsames, in beiden der zwei Teilbereiche enthaltenes Muster ausgewählt. Für die zwei Teilbereiche werden jeweils REM-Bilder des Musters PT2 gewonnen und die REM-Bilder werden zum Erlangen der Koordinaten der Kantenpositionen verwendet. Die Werte der Koordinaten für jeden der zwei Teilbereiche werden so korrigiert, dass die Koordinaten für die Kantenpositionen in einem der zwei Teilbereiche mit ihren entsprechenden Gegenstücken im anderen der zwei Teilbereiche zur Deckung gebracht werden. Aus dem REM-Bild PTS31 werden die Werte der Koordinaten einer Kantenposition J des Musters PT3 berechnet. Zudem werden aus dem REM-Bild PTS32 die Werte der Koordinaten einer Kantenposition K des Musters PT3 berechnet. Dann werden die Differenzen zwischen den Werten der Kantenposition J und der entsprechenden Werte der Kantenposition K berechnet. Die Koordinatendaten für die Teilbereiche DR5 und DR6 werden so eingestellt, dass die oben beschriebenen Differenzen null werden. Beim in 9-D gezeigten Fall sind die zwei Teilbereiche in der X-Richtung relativ zueinander versetzt. Es ist jedoch möglich, den Fehlabgleich auf der Grundlage der Koordinaten der Kantenpositionen J und K einzustellen, auch wenn die zwei Teilbereiche DR5 und DR6 sowohl in der X-Richtung als auch in der Y-Richtung relativ zueinander versetzt sind. 9-E zeigt das Ergebnis des Zusammensetzens der zwei Teilbereiche mit ihren korrigierten Koordinatendaten.
(4) Fall von Mustern, die sich im Überlappungsbereich von vier Teilbereichen befinden
10-A zeigt einen exemplarischen Fall, bei dem in den Teilbereichen Dr7 bis DR10 ein Muster PT4 enthalten ist und sich gleichzeitig in einem Überlappungsbereich OR4 ein Endbereich des Musters PT4 befindet.
10-B zeigt das Ergebnis eines Vorgangs des Abgleichs dieser Teilbereiche DR7 bis DR10 auf der Grundlage der Koordinateninformation. Bei diesem Beispiel gibt es keine Fehler zwischen den Koordinatenpositionen der Teilbereiche DR7 und DR8. Es gibt jedoch Fehler zwischen der X-Koordinate in den Koordinatendaten für den Teilbereich DR7 und der X-Koordinate in den Koordinatendaten für den Teilbereich DR9. Zudem gibt es Fehler zwischen der X-Koordinate in den Koordinatendaten für den Teilbereich DR8 und der X-Koordinate in den Koordinatendaten für den Teilbereich DR10.
Durch einen Abgleichvorgang auf der Grundlage der Koordinatendaten wird das im Überlappungsbereich OR4 befindliche Muster PT4 als gemeinsames, in allen der vier Teilbereiche enthaltenes Muster ausgewählt. Die Werte der Koordinaten für jeden der vier Teilbereiche werden so korrigiert, dass die Koordinaten für die Kantenpositionen des Endbereichs des Musters PT4 in allen der vier Teilbereiche miteinander zur Deckung gebracht werden.
Aus dem REM-Bild PTS41 werden die Werte der Koordinaten einer Kantenposition L1 des Musters PT4 berechnet. Zudem werden aus dem REM-Bild PTS43 die Werte der Koordinaten einer Kantenposition L2 des Musters PT4 berechnet. Dann werden die Differenzen zwischen den Werten der Kantenposition L1 und der entsprechenden Werte der Kantenposition L2 berechnet. Die Koordinatendaten für die Teilbereiche DR7 und DR9 werden so eingestellt, dass die oben beschriebenen Differenzen null werden.
Gleicherweise werden aus dem REM-Bild PTS41 die Werte der Koordinaten einer Kantenposition L3 des Musters PT4 berechnet. Zudem werden aus dem REM-Bild PTS44 die Werte der Koordinaten einer Kantenposition L4 des Musters PT4 berechnet. Dann werden die Differenzen zwischen den Werten der Kantenposition L3 und der entsprechenden Werte der Kantenposition L4 berechnet. Die Koordinatendaten für die Teilbereiche DR8 und DR10 werden so eingestellt, dass die oben beschriebenen Differenzen null werden. 10-C zeigt das Ergebnis des Zusammensetzens der vier Teilbereiche mit ihren korrigierten Koordinatendaten.
Durch diese Korrektur wird der Abgleichvorgang für die vier benachbarten Teilbereiche ausgeführt. Wenn für vier benachbarte Teilbereiche wie im oben beschriebenen Beispiel ein Abgleichvorgang ausgeführt wird und wenn die Teilungszahl (n·n) ist, muss der Abgleichvorgang unter Verwendung von Kantenpositionen eines Musters zur Korrektur der Koordinatenwerte (n – 1)·(n – 1) Mal ausgeführt werden.
Bei der obigen Beschreibung wird für die vier Fälle beschrieben, wie der Abgleichvorgang auf der Grundlage der Kanteninformation ausgeführt wird, aber diese sind nicht die einzigen möglichen Fälle. Alternativ kann der Abgleichvorgang auf der Grundlage der Kanteninformation durch Erfassen der Kanten aller sich im Überlappungsbereich befindlicher Muster ausgeführt werden.
Es sei ein Fall angenommen, bei dem ein erster Teilbereich einen zweiten Teilbereich hat, der dem ersten Teilbereich in der X-Richtung benachbart ist, und einen dritten Teilbereich, der dem Teilbereich in der Y-Richtung benachbart ist. In diesem Fall kann der Abgleichvorgang auf der Grundlage der Kanteninformation für die im Überlappungsbereich befindlichen Muster auf folgende Weise ausgeführt werden. Zuerst wird die Zahl der im Überlappungsbereich in X-Richtung befindlichen Muster mit der Zahl der im Überlappungsbereich in Y-Richtung befindlichen Muster verglichen. Kanteninformation wird für die Muster gewonnen, die sich in dem Überlappungsbereich befinden, der mehr Muster aufweist. Die derart gewonnene Kanteninformation wird zum Ausführen des Abgleichvorgangs verwendet.
Zum Ausführen des oben beschriebenen Abgleichvorgangs auf der Grundlage der Kanteninformation für die Muster ist es erforderlich, die Kanten der im Überlappungsbereich befindlichen Muster mit hoher Genauigkeit zu erfassen. Die Kantenerfassung wird bei diesem Ausführungsbeispiel mit einer Genauigkeit von 1/100 Bildpunkten ausgeführt.
Im Folgenden wird unter Verwendung eines als Beispiel die in 11 gezeigte Gestalt aufweisenden Musters und auch unter Bezugnahme auf die 12 und 13 ein Vorgang zur Erfassung von Kanten an der Kontur eines Musters beschrieben. 12 ist ein Ablaufplan für einen exemplarischen Vorgang zur Erfassung von Kantenpositionen an der Kontur eines Musters. 13 zeigt Darstellungen zur Erläuterung, wie die Kanten an der Kontur eines Musters erfasst werden. Man beachte, dass die Erfassung der Kantenpositionen an der Kontur eines Musters an einer bestimmten Position beginnt (die als „Startposition ES” bezeichnet wird).
Zuerst wird in Schritt S21 von 12 die Anfangseinstellung vorgenommen. Die Kanten an der Kontur des Musters werden in vorgegebenen Intervallen erfasst, die bei dieser Anfangseinstellung vorgegeben werden (im Folgenden wird der Abstand eines jeden Intervalls als „Vorgabeschritt” bezeichnet). Der Vorgabeschritt wird beispielsweise auf einen einer vorgegebenen Zahl von Bildpunkten entsprechenden Abstand festgelegt. Zudem wird bei dieser Anfangseinstellung in Schritt S21 ein Zähler k, der die Position der momentan erfassten Kante der Kontur des Musters angibt, auf null gesetzt.
In den anschließenden Schritten S22 bis S24 wird die Kantenposition erfasst, die von der Startposition ES um einen vorgegebenen Vorgabeschritt d entfernt ist.
In Schritt S22 wird an einer Position, die von der Startposition ES um einen Abstand (Vorgabeschritt d·2) entfernt ist, eine provisorische Kante ermittelt. Um genau zu sein, wie in 13-A gezeigt, wird von der Startposition ES eine gerade Linie VL nach unten (in –Y-Richtung) gezogen und eine andere gerade Linie HL wird auf eine Weise gezogen, dass sie die Linie VL in rechtem Winkel an einer Position schneidet, die von der Startposition ES um einen Abstand (Vorgabeschritt d·2) entfernt ist. Unter Verwendung der Linie HL als Referenzlinie zum Bilden des Profils wird ein Linienprofil gebildet und dann eine Kante E₁₁ ermittelt. Man beachte, dass bei dem in 13-A gezeigten Beispiel die Kante in –Y-Richtung von der Startposition ES weg von der Startposition ES erfasst wird. Alternativ kann die Kantenerfassung, wenn es die Gestalt des Zielmusters erfordert, an einer Position erfolgen, die von der Startposition ES in den X-Richtungen entfernt ist.
Anschließend wird in Schritt S23 die in Schritt S22 ermittelte provisorisch erfasste Kante E₁₁ erneut ermittelt. Von der Startposition ES wird zur provisorisch erfassten Kantenposition E₁₁ eine gerade Linie gezogen und eine zweite gerade Linie wird so gezogen, dass sich die zwei Linien an einer Position im rechten Winkel schneiden, die von der Startposition ES um einen Abstand (Vorgabeschritt d·2) entfernt ist. Unter Verwendung dieser zweiten Linie als Referenzlinie zur Bildung des Profils wird an dieser Referenzlinie ein Linienprofil erhalten und dann wird die provisorisch ermittelte Kantenposition erneut ermittelt. Die neuerliche Ermittlung der provisorisch erfassten Kantenposition bringt den Abstand von der Startposition ES näher an einen Abstand (Vorgabeschritt d·2).
Anschließend wird in Schritt S24 eine erste Kantenposition erfasst. Eine gerade Linie IL₁ wird so gezogen, dass die Startposition ES mit der erneut ermittelten provisorisch erfassten Kantenposition E₁₂ verbunden wird. Eine zweite gerade Linie, die an einer Mittelposition MP₁ verläuft, auf eine Weise gezogen, dass sie die Linie IL₁ im rechten Winkel schneidet. An dieser zweiten Linie wird das Linienprofil erhalten und dann wird eine Kante EP_k (x_k, y_k) ermittelt. 13-B zeigt, dass eine Kante EP₁ als erste Kante ermittelt wird. Die derartige Ermittlung der Kante EP_k (x_k, y_k) ermöglicht es, dass die Kante an einer Linie erfasst wird, die die Kontur des Musters in einem Winkel schneidet, der einem rechten Winkel nahe kommt. Folglich kann die Kantenposition genauer ermittelt werden.
Anschließend wird in Schritt S25 die Kante EP_k (x_k, y_k) als der Startpunkt für die nächste Kantenerfassung verwendet. Bei dem in 13-C gezeigten Beispiel wird die Kante EP₁ als Startpunkt verwendet.
In den anschließenden Schritten S26 bis S28 wird für eine Kantenposition EP_k+1 (x_k+1, y_k+1), die von der Startkantenposition (d. h. der Kantenposition EP_k (x_k, y_k)) um einen Abstand des Vorgabeschritts entfernt ist.
In Schritt S26 wird eine gerade Linie IL₂ so gezogen, dass sie den Startpunkt EP₁ mit der erneut ermittelten provisorisch erfassten Kante E₁₂ verbindet. Eine zweite gerade Linie wird derart gezogen, dass sie die Linie IL₂ an einer Position in rechten Winkeln schneidet, die auf der geraden Linie IL₂ vom Startpunkt EP₁ um den Abstand (Vorgabeschritt d·2) entfernt ist. Unter Verwendung dieser zweiten Linie als Referenzlinie zur Bildung des Profils wird ein Linienprofil gebildet und dann wird eine Kante erfasst. Die derart erfasste Kante wird als „provisorisch erfasste Kante E₂₁” bezeichnet.
Im anschließenden Schritt S27 wird auf die gleiche Art und Weise wie in Schritt S24 eine erste Linie so gezogen, dass sie den Startpunkt EP₁ mit der provisorisch erfassten Kantenposition E₂₁ verbindet. Eine zweite Linie wird so gezogen, dass sich die zwei Linien einander an einer Position in rechten Winkeln schneiden, die vom Startpunkt EP₁ um den Abstand (Vorgabeschritt d·2) entfernt ist. Unter Verwendung dieser zweiten Linie zur Bildung des Profils wird das Linienprofil an dieser Referenzlinie erhalten und dann wird die provisorisch erfasste Kantenposition erneut ermittelt.
Als nächstes wird in Schritt S28 eine gerade Linie IL₃ so gezogen, dass der Startpunkt EP₁ mit der erneut ermittelten provisorisch erfassten Kantenposition E₂₂ verbunden wird. Eine zweite Linie wird derart gezogen, dass sie die Linie IL₃ an einer Mittelposition MP₂ in rechten Winkeln schneidet. An dieser zweiten Linie wird ein Linienprofil erhalten und es wird eine Kante EP_k+1 ermittelt. Bei dem in 13-D gezeigten Beispiel wird eine Kante EP₂ als zweite Kante ermittelt.
Anschließend wird in Schritt S29 bestimmt, ob bereits alle Kanten an der Kontur des Musters ermittelt wurden oder nicht. Wenn bestimmt wurde, dass bereits alle Kanten erfasst sind, wird die Prozessabfolge beendet. Wenn dagegen bestimmt wird, dass noch einige zu erfassende Kanten verbleiben, werden ein in Schritt S30 beschriebener Prozess und die anschließenden Prozesse ausgeführt.
In Schritt S30 wird der Wert des Zählers k auf k + 1 gesetzt und dann wird im anschließenden Schritt S25 die nächste Kantenposition ermittelt.
Durch oben beschriebene Folge von Prozessen werden nacheinander die Kantenpositionen EP₀, EP₁, ~ an der Kontur des Musters ermittelt, wie in 11 gezeigt.
Bei Ermittlung der Kanten an der Kontur der Muster auf diese Weise, wird zuerst eine erste gerade Linie so gezogen, dass sie die erfasste Kantenposition mit einer provisorischen Kantenposition von der erfassten Kantenposition um einen vorgegebenen Abstand entfernt verbindet. Dann wird eine zweite Linie auf eine Art und Weise gezogen, dass sie die erste Linie an der Mittelposition zwischen der erfassten Kantenposition und der provisorischen Kantenposition in rechten Winkeln schneidet. Vom an der zweiten Linie ausgebildeten Linienprofil wird die nächste Kantenposition erfasst. Diese Art der Kantenerfassung ermöglicht es, dass jede Kanten auf einer Linie erfasst wird, die die Kontur des Musters in einem Winkel schneidet, der einem rechten Winkel nahe kommt. Folglich können Kantenpositionen genauer ermittelt werden.
Wie bisher beschrieben, wird bei diesem Ausführungsbeispiel der vorgegebene Betrachtungsbereich der Probe in mehrere Teilbereiche unterteilt, so dass die benachbarten Teilbereiche einander teilweise überlappen. Dann werden für die Teilbereiche jeweils hochgenaue Bilder gewonnen. Wenn die Teilbereiche zusammengesetzt werden, wird die Operation des Abgleichs der Teilbereiche zuerst auf der Grundlage der Koordinateninformation für die Teilbereiche ausgeführt. Dann wird auf der Grundlage der Kanteninformation für die Muster, die sich in den Überlappungsbereichen der Teilbereiche befinden, die Operation des Abgleichs der Teilbereiche mit einer höheren Genauigkeit ausgeführt. Durch die Abgleichvorgänge werden die REM-Bilder der Teilbereiche zusammengesetzt. Demgemäß wird ein REM-Bild des vorgegebenen Bereichs gewonnen, so dass ein breites Sichtfeld abgedeckt wird.
Auf diese Weise wird der vorgegebene Bereich in kleinere Bereiche unterteilt und dann werden für die kleineren Teilbereiche einzeln REM-Bilder gewonnen. Demgemäß können hochgenaue REM-Bilder gewonnen werden. Zudem werden die Koordinatenpositionen nicht nur unter Verwendung der Koordinatenpositionen für die Teilbereiche, sondern auch der Kanteninformation für die Muster korrigiert, die jeweils über die benachbarten Teilbereiche existieren. Demgemäß können die REM-Bilder mit höherer Genauigkeit zusammengesetzt werden. Folglich kann ein REM-Bild mit hoher Genauigkeit gewonnen werden, das ein breites Sichtfeld abdeckt.
Man beachte, dass aus den Daten des REM-Bildes, das ein breites Sichtfeld abdeckt, allgemeine Datenstromdaten (GDS-Daten) erzeugt werden können und zu einem Maskensimulator zurückgespeist werden können, wo die Rückkopplungsdaten mit den Entwurfsdaten verglichen werden, so dass geprüft wird, ob irgendwelche defekte in den Maskenmustern vorhanden sind oder nicht.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

JP 2000-294183 [0009]

Claims

Maskeninspektionsgerät (100), enthaltend: eine Emissionseinheit (10) zum Emittieren von Elektronenstrahlen (9) auf eine Probe (7), eine Elektronenerfassungseinheit (8) zum Erfassen der Menge an durch die Emission des Elektronenstrahls (9) von der Probe (7) mit darauf ausgebildeten Mustern erzeugten Elektronen, eine Bildverarbeitungseinheit (30) zum Erzeugen von Bilddaten für die Muster auf der Grundlage der Menge von Elektronen und eine Steuereinheit (20) zum Steuern der Emissionseinheit (10), der Elektronenerfassungseinheit (8) und der Bildverarbeitungseinheit (30), wobei die Steuereinheit (20) aus der Größe eines vorgegebenen Betrachtungsbereichs der Probe eine Teilungszahl von Teilbildern berechnet, die zusammengesetzt werden, um ein Verbundbild zu bilden, das einen gesamten vorgegebenen Betrachtungsbereich abdeckt, die Steuereinheit (20) Teilbereiche so bestimmt, dass benachbarte Teilbilder einander teilweise überlappen, die Steuereinheit (20) REM-Bilder für die jeweiligen Teilbereiche gewinnt, die Steuereinheit (20) die REM-Bilder der Teilbereiche auf der Grundlage von Koordinatendaten für die Teilbereiche und auf der Grundlage der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen enthaltene Muster zusammensetzt und dadurch ein REM-Bild mit breitem Sichtfeld erzeugt, das den Betrachtungsbereich abdeckt.
Maskeninspektionsgerät (100) nach Anspruch 1, bei dem Daten über das REM-Bild eines jeden Teilbereichs Koordinatendaten für die Teilbereiche enthalten, die Steuereinheit (20) die Koordinatendaten in Koordinatendaten für den vorgegebenen Betrachtungsbereich umwandelt und die Steuereinheit (20) die REM-Bilder der benachbarten Teilbereiche auf der Grundlage der umgewandelten Koordinatendaten für die Teilbereiche zusammensetzt.
Maskeninspektionsgerät (100) nach Anspruch 2, bei dem die Steuereinheit (20) ein in einen Überlappungsbereich, in dem sich Teile von benachbarten Teilbereichen überlappen, enthaltene Muster erfasst und das erfasste Muster als Muster für einen Abgleichvorgang verwendet wird, die Steuereinheit (20) eine Kante des Musters in jedem der Teilbereiche mit einer Genauigkeit von 1/100 Bildpunkten erfasst, die Steuereinheit (20) die Koordinatendaten der Teilbereiche so korrigiert, dass der Unterschied zwischen einer Kantenposition des Musters in einem der Teilbereiche und der entsprechenden Kantenposition des Musters in einem anderen der Teilbereiche null wird.
Maskeninspektionsgerät (100) nach Anspruch 3, bei dem die Steuereinheit (20) einen ersten Überlappungsbereich eines ersten Teilbereichs mit einem zweiten Teilbereich erfasst, der dem ersten Teilbereich in einer X-Richtung benachbart ist, und einen zweiten Überlappungsbereich des ersten Teilbereichs mit einem dritten Teilbereich erfasst, der dem ersten Teilbereich in einer Y-Richtung benachbart ist, die Steuereinheit (20) im ersten Überlappungsbereich enthaltene Muster und im zweiten Überlappungsbereich enthaltene Muster erfasst und als Muster für den Abgleichvorgang Muster aus demjenigen des ersten Überlappungsbereichs und des zweiten Überlappungsbereichs auswählt, der mehr Muster aufweist.
Maskeninspektionsgerät (100) nach Anspruch 3, bei dem die Steuereinheit (20) einen Überlappungsbereich erfasst, der von vier der Teilbereiche geteilt wird, und die Steuereinheit (20) als Muster für den Abgleichvorgang ein Muster auswählt, das im Überlappungsbereich enthalten ist.
Bilderzeugungsverfahren für ein Maskeninspektionsgerät (100), enthaltend: eine Emissionseinheit (10) zum Emittieren von Elektronenstrahlen (9) auf eine Probe (7), eine Elektronenerfassungseinheit (8) zum Erfassen der Menge an durch die Emission des Elektronenstrahls (9) von der Probe (7) mit darauf ausgebildeten Mustern erzeugten Elektronen, und eine Bildverarbeitungseinheit (30) zum Erzeugen von Bilddaten für die Muster auf der Grundlage der Menge von Elektronen, wobei das Bilderzeugungsverfahren die folgenden Schritte enthält: Berechnen einer Teilungszahl von Teilbildern, die zusammengesetzt werden, um ein Verbundbild zu bilden, das einen gesamten vorgegebenen Betrachtungsbereich abdeckt, aus der Größe eines vorgegebenen Betrachtungsbereichs der Probe, Bestimmen von Teilbereichen so, dass benachbarte Teilbilder einander teilweise überlappen, Gewinnen von REM-Bildern für die jeweiligen Teilbereiche, Ausführen eines ersten Vorgangs des Abgleichs der Teilbereiche auf der Grundlage von Koordinatendaten für die Teilbereiche, Ausführen eines zweiten Vorgangs des Abgleichs der Teilbereiche auf der Grundlage der Kanteninformation für in den Überlappungsbereichen enthaltene Muster und Erzeugen eines REM-Bildes mit breitem Sichtfeld, das den Betrachtungsbereich abdeckt, durch Zusammensetzen der REM-Bilder der Teilbereiche.
Bilderzeugungsverfahren nach Anspruch 6, bei dem der Schritt des Ausführens des ersten Abgleichvorgangs die folgenden Schritte enthält: Erfassen von durch Daten über das REM-Bild eines jeden Teilbereichs festgehaltenen Koordinatendaten, Umwandeln der Koordinatendaten in Koordinatendaten für den vorgegebenen Betrachtungsbereich und Zusammensetzen von REM-Bildern der benachbarten Teilbereiche auf der Grundlage der umgewandelten Koordinatendaten für die Teilbereiche.
Bilderzeugungsverfahren nach Anspruch 6, bei dem der Schritt des Ausführens des zweiten Abgleichvorgangs die folgenden Schritte enthält: Erfassen eines in einem Überlappungsbereich, in dem sich Teile von benachbarten Teilbereichen überlappen, enthaltenen Musters für den Abgleichvorgang, Erfassen einer Kante des Musters in jedem der Teilbereiche mit einer Genauigkeit von 1/100 Bildpunkten, Berechnen des Unterschieds zwischen einer Kantenposition des Musters in einem der Teilbereiche und der entsprechenden Kantenposition des Musters in einem anderen der Teilbereiche und Korrigieren der Koordinatendaten der Teilbereiche so, dass der Unterschied null wird.
Bilderzeugungsverfahren nach Anspruch 8, bei dem der Schritt des Erfassens des Musters für den Abgleichvorgang die folgenden Schritte enthält: Erfassen eines ersten Überlappungsbereichs eines ersten Teilbereichs mit einem zweiten Teilbereich erfasst, der dem ersten Teilbereich in einer X-Richtung benachbart ist, und eines zweiten Überlappungsbereich des ersten Teilbereichs mit einem dritten Teilbereich, der dem ersten Teilbereich in einer Y-Richtung benachbart ist, und dann Erfassen von im ersten Überlappungsbereich enthaltene Muster und im zweiten Überlappungsbereich enthaltene Muster und Auswählen von Mustern als Muster für den Abgleichvorgang aus demjenigen des ersten Überlappungsbereichs und des zweiten Überlappungsbereichs, der mehr Muster aufweist.
Bilderzeugungsverfahren nach Anspruch 8, bei dem der Schritt des Erfassens der Kante für den Abgleichvorgang ein Schritt ist des Erfassens eines Überlappungsbereichs, der von vier der Teilbereiche geteilt wird, und des Auswählens eines Musters, das im Überlappungsbereich enthalten ist, als Muster für den Abgleichvorgang.