DE112004001388T5

DE112004001388T5 - Frontplatte für eine Plasmaanzeige und Plasmaanzeige

Info

Publication number: DE112004001388T5
Application number: DE112004001388T
Authority: DE
Inventors: Nobuo Naito; Fumihiro Arakawa; Tadahiro Masaki
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2003-07-30
Filing date: 2004-07-27
Publication date: 2006-06-29
Also published as: TWI240233B; KR20060052803A; KR101096966B1; WO2005013664A1; JPWO2005013664A1; TW200516524A; US20060154092A1

Abstract

Frontplatte für eine Plasmaanzeige, die
ein transparentes Substrat,
eine erste transparente Haftmittelschicht, die auf dem transparenten Substrat bereitgestellt ist,
eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die auf der ersten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist,
eine dritte transparente Haftmittelschicht, die auf der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereitgestellt ist, und
eine transparente Schutzschicht, die auf der dritten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, umfasst,
wobei die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen einen transparenten Substratfilm, eine Metallschicht, die einen Netzteil mit einer Mehrzahl von benachbarten Öffnungen umfasst und auf dem transparenten Substratfilm ausgebildet ist, und eine Glättungsharzschicht umfasst, die aus einem transparenten synthetischen Harz hergestellt ist und mindestens einen Teil der Räume in den Öffnungen in der Metallschicht füllt,
wobei die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige und insbesondere eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige, die an der Vorderseite eines Plasmaanzeigeelements (auch als PDP bezeichnet) montiert ist, um elektromagnetische Wellen und Nahinfrarotstrahlen abzuschirmen, die von dem Element emittiert werden, und auch um ein Bild, das auf einer Anzeige angezeigt wird (auch als Bildanzeige bezeichnet), sehr gut sichtbar zu machen.
Ein PDP ist aus einem Glassubstrat, das eine Datenelektrode und eine Fluoreszenzschicht aufweist, und einem Glassubstrat, das eine transparente Elektrode aufweist, zusammengesetzt, wobei ein Gas, wie z.B. Xenon oder Neon, in einem Raum zwischen den zwei Glassubstraten eingeschlossen ist. PDP's können verglichen mit herkömmlichen CRT-Fernsehgeräten (Kathodenstrahlröhren-Fernsehgeräten) mit einer großen Bildschirmgröße hergestellt werden und werden verbreitet verwendet. Im Betrieb erzeugt ein PDP als unerwünschte Strahlung große Mengen von elektromagnetischen Wellen, von Nahinfrarotstrahlen und von unerwünschtem Licht mit spezifischen Wellenlängen. Um diese elektromagnetischen Wellen, diese Nahinfrarotstrahlen und dieses unerwünschte Licht mit spezifischen Wellenlängen abzuschirmen oder zu vermindern, wird eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige (Verbundfilter) an der Vorderseite des PDP montiert. Ein PDP und eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige bilden eine Plasmaanzeige. Eine solche Frontplatte für eine Plasmaanzeige muss die Eigenschaft der Abschirmung von elektromagnetischen Wellen, von Nahinfrarotstrahlen und von unerwünschtem Licht mit spezifischen Wellenlängen, das von dem Emissionsspektrum eines eingebrachten Gases stammt, aufweisen. Die erforderliche Abschirmungseffizienz für elektromagnetische Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz, die von einem Anzeigeelement emittiert werden, beträgt 30 dB oder mehr. Da ferner Nahinfrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1100 nm, die von einem PDP emittiert werden, eine Fehlfunktion anderer Geräte, wie z.B. von Videorecordern, verursachen, ist es erforderlich, diese Strahlen durch eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige abzuschirmen. Ferner ist es auch erforderlich, durch die Verwendung einer Frontplatte für eine Plasmaanzeige das inhärente Emissionsspektrum eines eingebrachten Gases, das für ein PDP charakteristisch ist, zu korrigieren, oder den Farbton dieses Spektrums auf einen bevorzugten Farbton einzustellen, wodurch die Farbqualität zur Verbesserung der Bildqualität optimiert wird. Darüber hinaus muss eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige zusätzlich zu einer mäßigen Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht) und Leuchtdichte verschiedene Funktionen auf weisen, wie z.B. die Funktion, dass einer Anzeige die Eigenschaft der Verhinderung einer Reflexion von externem Licht und Antiblendeigenschaften, so dass ein Bild, das auf der Anzeige angezeigt wird, mit einer sehr guten Sichtbarkeit betrachtet werden kann, sowie eine hohe mechanische Festigkeit verliehen werden. Um diese Funktionen (verschiedene Filter) zu erhalten, wurde ein Aufbau vorgeschlagen, bei dem funktionelle Schichten, wie z.B. eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen (EMI-Abschirmungsschicht), eine Schicht zur Abschirmung von Nahinfrarotstrahlen (NIR-Abschirmungsschicht) und eine Antireflexionsschicht, auf beiden Oberflächen eines transparenten Substrats einer Frontplatte für eine Plasmaanzeige bereitgestellt sind, wie es in dem japanischen offengelegten Patent mit der Offenlegungsnummer 15533/2003 (insbesondere in den 2 und 3 und den Beispielen 2 und 9) beschrieben ist. Diese Abschirmungsschichten werden gebildet, während das transparente Substrat, wie z.B. eine Glasplatte, die eine große Fläche aufweist, schwer und zerbrechlich ist, umgedreht ist, so dass die Bildung der Abschirmungsschichten nicht einfach ist und eine Anzahl von Schritten erfordert. Darüber hinaus sind die funktionellen Schichten, die laminiert werden sollen, verschiedenartig, und es ist erforderlich, diese Schichten mit einem Haftmittel aufeinander folgend zu laminieren. Daher war die herkömmliche Frontplatte teuer. Aus diesem Grund besteht ein Bedarf für eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige, die mit niedrigen Kosten und einer geringen Anzahl von Schritten exakt und stabil hergestellt werden kann und einfach auf einer Plasmaanzeige montiert werden kann.
Um die vorstehend genannten Anforderungen zu erfüllen, wurde eine Frontplatte, die aus einer Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, einer Schicht zur Abschirmung von Nahinfrarotstrahlen, einer Antireflexionsschicht, usw., die aufeinander folgend auf nur einer Oberfläche eines transparenten Substrats laminiert sind, zusammengesetzt ist, vorgeschlagen, wie es in den japanischen offengelegten Patenten mit den Offenlegungsnummern 66854/2003 und 324431/2002 beschrieben ist. Obwohl diese Frontplatte das Problem, dass ein transparentes Substrat umgedreht werden muss, lösen kann, bleibt das Problem, dass eine Anzahl von Schritten erforderlich ist, um verschiedene Arten funktioneller Schichten zu laminieren (zur Laminierung von fünf funktionellen Schichten sind fünf Laminierungsschritte erforderlich), nach wie vor ungelöst. Das Verfahren zur Herstellung dieser Frontplatte ist deshalb kompliziert und teuer.
Eine herkömmliche Anordnung zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen (zu einer erfindungsgemäßen Frontplatte für eine Plasmaanzeige äquivalent) umfasst einen Haftmittelfilm zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen oder ein Element, bei dem ein solcher Film eingesetzt wird, der bzw. das hervorragende Abschirmungseigenschaften bezüglich elektromagnetischer Wellen und Nahinfrarotstrahlen, eine hohe Transparenz und Unsichtbarkeit zeigt, wenn er bzw. es in geeigneter Weise mit einer externen Elektrode zum Erden verbunden ist. Beispielsweise beschreiben das japanische offengelegte Patent mit der Offenlegungsnummer 15533/2003 einen Anschlussbereich zum Erden, der durch Entfernen der oberen Schichten der Anordnung zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen mit einem Laser gebildet wird, das japanische offengelegte Patent mit der Offenlegungsnummer 66854/2003 die Bildung eines Kantenteils (Anschlussbereich) durch Entfernen nur einer oberen Schicht der Anordnung zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen und das japanische offengelegte Patent mit der Offenlegungsnummer 324431/2002 die Bildung einer Elektrode (Anschlussbereich) aus einer Silberpaste oder einem leitfähigen Band. Diese Techniken sind dahingehend nachteilig, dass sie zusätzliche Schritte zur Bildung der Anschlussbereiche und auch Anlagen und Materialien zur Verwendung in den zusätzlichen Schritten erfordern, was zu einer Zunahme der Kosten führt.
Ferner sind auch Frontfiltergläser für eine Plasmaanzeige (zu einer erfindungsgemäßen Frontplatte für eine Plasmaanzeige äquivalent) bekannt, die kaum elektromagnetische Wellen oder Nahinfrarotstrahlen austreten lassen, eine hervorragende Farbe, Helligkeit und Antireflexionseigenschaften aufweisen und billig sind.
Beispielsweise umfasst ein Frontfilterglas, das in dem japanischen offengelegten Patent mit der Offenlegungsnummer 235115/2000 beschrieben ist, ein Laminat aus einem leitfähigen anorganischen Film (Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen)/einem Harzfilm/einer Hartbeschichtungsschicht/einer Antireflexionsschicht, das auf einer Oberfläche eines Substrats bereitgestellt ist. Bei diesem Frontfilterglas ist bzw. sind Nahinfrarotstrahlenabsorbierende Mittel und/oder ein Farbkompensationsfarbstoff in den Harzfilm und/oder die Hartbeschichtungsschicht einbezogen, so dass zusätzlich der separate Schritt des Einbringens des Nahinfrarotstrahlen-absorbierenden Mittels in den Harzfilm erforderlich ist. Es ist daher erforderlich, für jede Art des Frontfilterglases die Herstellung einer kleinen Charge durchzuführen.
Wie es vorstehend beschrieben worden ist, gab es bisher keine Frontplatten für eine Plasmaanzeige, die auf einem praktischen Niveau gleichzeitig Anforderungen wie z.B. hervorragende Abschirmungseigenschaften für elektromagnetische Wellen, eine gute Bildqualität, eine sehr gute Bildsichtbarkeit, eine hohe mechanische Festigkeit, eine einfache Herstellung und niedrige Kosten erfüllen.
Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die vorstehend genannten Probleme des Standes der Technik zu lösen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereit stellung einer Frontplatte für eine Plasmaanzeige, welche die Eigenschaft der Abschirmung von elektromagnetischen Wellen, von Nahinfrarotstrahlen und von unerwünschtem Licht mit spezifischen Wellenlängen, das von dem Emissionsspektrum eines eingebrachten Gases stammt, aufweist, die Farbqualität optimieren kann, um einen bevorzugten Farbton bereitzustellen, eine mäßige Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht) und Leuchtdichte sowie die Funktion aufweist, dass einer Anzeige die Eigenschaft einer Verhinderung der Reflexion von externem Licht und Antiblendeigenschaften verliehen werden, welche die Bildsichtbarkeit verbessern, die in einer geringen Anzahl von Schritten ohne die Verschwendung von Materialien exakt und stabil mit niedrigen Kosten hergestellt werden kann, und die einfach auf einem PDP montiert werden kann, sowie die Bereitstellung einer Plasmaanzeige, die mit der Frontplatte ausgestattet ist.
Die vorliegende Erfindung ist eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige, die ein transparentes Substrat, eine erste transparente Haftmittelschicht, die auf dem transparenten Substrat bereitgestellt ist, eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die auf der ersten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, eine dritte transparente Haftmittelschicht, die auf der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereitgestellt ist, und eine transparente Schutzschicht, die auf der dritten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, umfasst, wobei die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen einen transparenten Substratfilm, eine Metallschicht, die einen Netzteil bzw. Netzbereich mit einer Mehrzahl von benachbarten Öffnungen umfasst und auf dem transparenten Substratfilm ausgebildet ist, und eine Glättungsharzschicht umfasst, die aus einem transparenten synthetischen Harz hergestellt ist und mindestens einen Teil der Räume in den Öffnungen in der Metallschicht füllt, wobei die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht sowohl ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel als auch ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung zum Einstellen des Farbtons eines angezeigten Bilds auf den gewünschten Farbton enthält bzw. enthalten.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel enthält und die dritte transparente Haftmittelschicht ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung enthält.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die Metallschicht ferner einen Rahmenteil bzw. Rahmenbereich umfasst, der den Netzteil umgibt, und wobei ein Teil des Rahmenteils weder mit der Glättungsharzschicht, noch mit der dritten transparenten Haftmittelschicht noch mit der transparenten Schutzschicht bedeckt ist und somit blank ist.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen eine zweite transparente Haftmittelschicht zwischen dem transparenten Substratfilm und der Metallschicht umfasst.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der die transparente Schutzschicht einen transparenten Schutzsubstratfilm und eine Antireflexionsschicht und/oder eine Antiblendschicht umfasst, die auf dem transparenten Schutzsubstratfilm bereitgestellt ist bzw. sind.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Frontplatte für eine Plasmaanzeige, bei der eine Schwärzungsbehandlungsschicht auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht bereitgestellt ist.
Die vorliegende Erfindung ist eine Plasmaanzeige, die eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige und ein Plasmaanzeigeelement, das der Frontplatte für eine Plasmaanzeige zugewandt ist, umfasst, wobei die Frontplatte für eine Plasmaanzeige ein transparentes Substrat, eine erste transparente Haftmittelschicht, die auf dem transparenten Substrat bereitgestellt ist, eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die auf der ersten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, eine dritte transparente Haftmittelschicht, die auf der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereitgestellt ist, und eine transparente Schutzschicht, die auf der dritten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, umfasst, wobei die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen einen transparenten Substratfilm, eine Metallschicht, die einen Netzteil mit einer Mehrzahl von benachbarten Öffnun gen umfasst und auf dem transparenten Substratfilm ausgebildet ist, und eine Glättungsharzschichtumfasst, die aus einem transparenten synthetischen Harz hergestellt ist und mindestens einen Teil der Räume in den Öffnungen in der Metallschicht füllt, wobei die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ein Nahinfrarotstrahlenabsorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten, wobei das transparente Substrat der Frontplatte für eine Plasmaanzeige dem Plasmaanzeigeelement zugewandt ist, und wobei ein angezeigtes Bild von der Seite der transparenten Schutzschicht her betrachtet wird.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht sowohl ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel als auch ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung zum Einstellen des Farbtons eines angezeigten Bilds auf den gewünschten Farbton enthält bzw. enthalten.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die Glättungsharzschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel enthält und die dritte transparente Haftmittelschicht ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung enthält.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die Metallschicht ferner einen Rahmenteil umfasst, der den Netzteil umgibt, und wobei ein Teil des Rahmenteils weder mit der Glättungsharzschicht, noch mit der dritten transparenten Haftmittelschicht noch mit der transparenten Schutzschicht bedeckt ist und somit blank ist.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen eine zweite transparente Haftmittelschicht zwischen dem transparenten Substratfilm und der Metallschicht umfasst.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der die transparente Schutzschicht einen transparenten Schutzsubstratfilm und eine Antireflexions schicht und/oder eine Antiblendschicht umfasst, die auf dem transparenten Schutzsubstratfilm bereitgestellt ist bzw. sind.
Die vorliegende Erfindung ist die vorstehend beschriebene Plasmaanzeige, bei der eine Schwärzungsbehandlungsschicht auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht bereitgestellt ist.
Erfindungsgemäß werden funktionelle Schichten, wie z.B. eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen (EMI-Abschirmungsschicht), eine Schicht zur Abschirmung von Nahinfrarotstrahlen (NIR-Abschirmungsschicht), eine Farbtonkorrekturschicht und/oder eine Farbtoneinstellschicht, und eine Schutzschicht (die auch eine Antireflexionsschicht (AR-Schicht) und eine Antiblendschicht (AG-Schicht) umfasst), auf eine Oberfläche eines transparenten Substrats laminiert. Zur Erzeugung einer erfindungsgemäßen Frontplatte ist es anders als bei der Herstellung herkömmlicher Frontplatten nicht erforderlich, dass die funktionellen Schichten auf beide Oberflächen eines transparenten Substrats laminiert werden, so dass kein Erfordernis bezüglich eines Umdrehens des transparenten Substrats, das eine große Fläche aufweist, zerbrechlich ist und schlechte Handhabungseigenschaften aufweist, besteht. Daher kann die Frontplatte mit einfachen Herstellungsanlagen mit nur wenigen Rissen hergestellt werden, was zu einer verbesserten Ausbeute und einem verbesserten Durchsatz führt. Ferner kann, obwohl eine herkömmliche Frontplatte z.B. durch Laminieren von mindestens fünf im Vorhinein hergestellten funktionellen Schichten, nämlich einer EMI-Abschirmungsschicht, einer NIR-Abschirmungsschicht, einer Farbtonkorrekturschicht, einer Farbtoneinstellschicht und einer AR-Schicht, auf beide Oberflächen eines transparenten Substrats in 5 Schritten hergestellt worden ist, eine erfindungsgemäße Frontplatte durch Laminieren von zwei Schichten, wie z.B. einer Kombination aus einem EMI-Abschirmungsfilm, der eine Funktion der Abschirmung von NIR und eine Funktion der Korrektur des Farbtons aufweist, und einem AR-Film, in 2 Schritten mit einer Haftmittelschicht, die eine Funktion des Einstellens des Farbtons aufweist, erhalten werden. Die vorliegende Erfindung kann folglich die Anzahl der erforderlichen Schritte vermindern, die Ausbeute und den Durchsatz verbessern und die Kosten senken. Ferner ist der Netzteil der Metallschicht mit der Glättungsharzschicht bedeckt und die konkaven Abschnitten in dem Netzteil, insbesondere deren Ecken, sind mit der Glättungsharzschicht gefüllt. Wenn die transparente Schutzschicht mit der dritten transparenten Haftmittelschicht an dem Netzteil angebracht wird, werden daher Luftblasen nicht erzeugt. Eine herkömmliche Frontplatte umfasst keine Glättungsharzschicht und eine transparente Schutzschicht ist mit einer transparenten Haftmittelschicht direkt an einem Netzteil angebracht, so dass ein Schritt des Beaufschlagens mit Druck erforderlich ist, um Luft blasen zu entfernen, die in den konkaven Abschnitten des Netzteils an deren Ecken erzeugt werden.
Erfindungsgemäß ist es durch Einbeziehen eines Farbmittels zur Farbtoneinstellung zusätzlich zu dem Nahinfrarotstrahlen-absorbierenden Mittel und dem Farbmittel zur Farbtonkorrektur möglich, den Farbton eines angezeigten Bilds gemäß den Bedürfnissen des Kunden einzustellen.
Erfindungsgemäß ist es möglich, das Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und das Farbmittel zur Farbtonkorrektur separat in die Glättungsharzschicht bzw. in die dritte transparente Haftmittelschicht einzubeziehen, so dass es einfach ist, nur das Farbmittel zur Farbtonkorrektur, das die Einstellung der Durchlässigkeit erfordert, festzulegen.
Erfindungsgemäß wird in dem Fall, bei dem das Farbmittel zur Farbtoneinstellung in die dritte transparente Haftmittelschicht einbezogen wird, der Schritt des Einbringens dieses Farbmittels an einem Punkt nahe am Ende des gesamten Herstellungsverfahrens bewirkt, so dass es möglich ist, in den Schritten vor dem Schritt des Einbringens eine große Anzahl halb fertiggestellter Produkte gemäß den üblichen Spezifikationen zu erzeugen. Daher kann die Frontplatte mit niedrigen Kosten hergestellt werden und der Farbton eines angezeigten Bilds kann gemäß den Bedürfnissen eines Kunden einfach eingestellt werden.
Ferner ist es erfindungsgemäß möglich, die Frontplatte durch ihren Rahmenteil ohne die Bildung eines Anschlussbereichs zu erden. Da ferner die Glättungsschicht gegebenenfalls strukturweise aufgebracht wird, ist es möglich, die Materialkosten zu senken.
Erfindungsgemäß haften der transparente Substratfilm und die Metallschicht fester aneinander. Wenn ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel in die Glättungsharzschicht einbezogen wird und ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur in die dritte transparente Haftmittelschicht einbezogen wird, wird eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige bereitgestellt, bei der das Farbmittel zur Farbtonkorrektur, das eine Einstellung der Durchlässigkeit erfordert, einfach festgelegt werden kann.
Erfindungsgemäß wird eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige bereitgestellt, die eine Antireflexionsfunktion und/oder eine Antiblendfunktion aufweist.
Erfindungsgemäß kann dann, wenn eine Schwärzungsbehandlungsschicht auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht bereitgestellt wird, ein ange zeigtes Bild selbst in der Gegenwart von externem Licht mit einem hohen Kontrast betrachtet werden.
Erfindungsgemäß wird eine Plasmaanzeige bereitgestellt, die so abgeschirmt ist, dass sie elektromagnetische Wellen, Nahinfrarotstrahlen und Licht mit spezifischen Wellenlängen, das von dem Emissionsspektrum eines eingebrachten Gases stammt, nicht emittiert, die ein Bild mit einem Farbton anzeigen kann, der gemäß den Bedürfnissen des Kunden eingestellt ist, und die aufgrund der verliehenen Eigenschaft der Verhinderung einer Reflexion von externem Licht und der verliehenen Antiblendeigenschaften ein sehr gut sichtbares Bild anzeigen kann.
1A ist eine Querschnittsansicht einer erfindungsgemäßen Plasmaanzeige, bei der es sich um eine vergrößerte Ansicht von Teil A in der 1B handelt,
1B ist eine diagrammartige Ansicht der Plasmaanzeige,
1C ist eine Ansicht, die eine transparente Schutzschicht zeigt,
2 ist eine Draufsicht einer Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, und
3A und 3B sind Querschnittsansichten von Netzteilen der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen.
Erfindungsgemäße Ausführungsformen werden nachstehend detailliert unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
Gemäß den 1A bis 1C umfasst eine Plasmaanzeige 100 ein Plasmaanzeigeelement (PDP) 101 und eine Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige, die auf der Betrachtungsseite des Plasmaanzeigeelements (PDP) 101 bereitgestellt ist.
Die Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige umfasst ein transparentes Substrat 11. Ferner sind eine transparente Haftmittelschicht 21/eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30/eine dritte transparente Haftmittelschicht 41/eine transparente Schutzschicht 50 auf eine Oberfläche des transparenten Substrats 11 laminiert.
Die Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige mit dem vorstehend beschriebenen Aufbau weist alle Funktionen auf, die für eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige erforderlich sind.
Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 umfasst einen transparenten Substratfilm 31, eine optionale zweite transparente Haftmittelschicht 33, eine Metallschicht 35 und eine Glättungsharzschicht 39. Gemäß der 2 umfasst die Metallschicht 35 mindestens einen Netzteil 203.
Dieser Netzteil 203 weist eine Mehrzahl von Öffnungen 203a auf, die aneinander angrenzen. Für Erdungszwecke kann die Metallschicht 35 ferner einen Rahmenteil 201 umfassen, der den Netzteil 203 umgibt.
Auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht 35 ist gegebenenfalls eine Schwärzungsbehandlungsschicht 37 bereitgestellt. Die transparente Schutzschicht 50 umfasst einen transparenten Substratfilm 51 und eine Antireflexionsschicht 53 und/oder eine Antiblendschicht 55, die auf dem transparenten Substratfilm 51 bereitgestellt ist bzw. sind (1C).
Es wurde gefunden, dass es durch Einbeziehen der nachstehend definierten mehreren Farbmittel, nämlich „eines Nahinfrarotstrahlen-absorbierenden Mittels", „eines Farbmittels zur Farbtonkorrektur" und „eines Farbmittels zur Farbtoneinstellung", die verschiedene Funktionen und physikalische Eigenschaften aufweisen, in die angegebenen Schichten möglich ist, spezifische Effekte zu erhalten und die Anzahl der einzelnen Schichten zu verringern. Die vorliegende Erfindung beruht auf dieser Erkenntnis.
Definitionen von Farbmitteln
Da in der vorliegenden Erfindung eine Mehrzahl von Farbmitteln verwendet wird, werden sie in dieser Beschreibung wie folgt definiert, um eine Verwechslung zu vermeiden. Ein Farbmittel, das Nahinfrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1100 nm, die von einem PDP emittiert werden, abschirmt, wird als „Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel (auch als NIR-Absorptionsmittel bezeichnet)" bezeichnet. Ein Farbmittel, das den Farbton des inhärenten Emissionsspektrums eines eingebrachten Gases (wie z.B. Neon), das für ein PDP charakteristisch ist, d.h. des unerwünschten Lichts mit spezifischen Wellenlängen, korrigiert, wird als „Farbmittel zur Farbtonkorrektur (auch als Ne-Licht-absorbierendes Mittel bezeichnet, wenn das Farbmittel zum Absorbieren des Neonatomspektrums dient)" bezeichnet. Ein Farbmittel zum Einstellen des Farbtons eines Bilds auf einen bevorzugten Farbton wird als „Farbmittel zur Farbtoneinstellung" bezeichnet.
Herstellung einer Frontplatte für eine Plasmaanzeige und Materialien dafür
Der Schichtaufbau einer erfindungsgemäßen Frontplatte für eine Plasmaanzeige und ein Verfahren zur Herstellung der Frontplatte sind typischerweise wie folgt:

(1) Als erstes werden ein transparentes Substrat 11, eine erste transparente Haftmittelschicht 21 und eine dritte transparente Haftmittelschicht 41 hergestellt.
(2) Eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30, die einer Vorbehandlung unterworfen worden ist, wird separat hergestellt.
(3) Eine transparente Schutzschicht 50, die einer Vorbehandlung unterworfen worden ist, wird separat hergestellt.
(4) Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 wird mit der ersten transparenten Haftmittelschicht 21 an das transparente Substrat 11 laminiert.
(5) Anschließend wird die transparente Schutzschicht 50 mit der dritten transparenten Haftmittelschicht 41 an die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 laminiert.

Das Herstellungsverfahren und die einzusetzenden Materialien werden nachstehend beschrieben.
Transparentes Substrat
Die essentielle Anforderung für Materialien für das transparente Substrat 11 ist eine mechanische Festigkeit. Beispiele für Materialien, die hier geeignet sind, umfassen Glas, Polycarbonatharze, Polyesterharze, Celluloseharze, wie z.B. Triacetylcellulose und Diacetylcellulose, Styrolharze und Acrylharze, wie z.B. Poly(meth)acrylat und Polymethyl(meth)acrylat. Von diesen Materialien sind Glas und Acrylharze, die aus Polymethylmethacrylpolymeren bestehen, bevorzugt.
(Meth)acrylat steht hier für Acrylat oder Methacrylat.
Im Hinblick auf die Sichtbarkeit des Bilds ist es bevorzugt, dass das transparente Substrat 11 für sichtbares Licht transparent ist und eine mittlere Durchlässigkeit von nicht weniger als 50 % für sichtbares Licht mit Wellenlängen von 450 bis 650 nm aufweist. Ferner können gege benenfalls Farbmittel, Ultraviolettlichtabsorptionsmittel, Antioxidationsmittel, Antistatikmittel, Flammverzögerungsmittel und dergleichen in das transparente Substrat einbezogen werden, so lange sie die Funktionen des Substrats nicht beeinträchtigen. Obwohl das transparente Substrat jedwede Dicke aufweisen kann, beträgt die Dicke üblicherweise etwa 1 bis 10 mm, vorzugsweise 2 bis 6 mm. Ein transparentes Substrat mit einer Dicke unterhalb des vorstehend genannten Bereichs weist eine unzureichende mechanische Festigkeit auf, während ein transparentes Substrat mit einer Dicke über dem vorstehend genannten Bereich eine übermäßig hohe mechanische Festigkeit aufweist und nicht praxisgerecht ist, da ein solches Substrat schwer ist.
Erste und dritte transparente Haftmittelschicht
Die erste transparente Haftmittelschicht 21 und die dritte transparente Haftmittelschicht 41 können aus ähnlichen Materialien hergestellt werden und für diese Schichten können herkömmliche Haftmittel oder so genannte druckempfindliche Haftmittel verwendet werden.
Haftmittel
Als Haftmittel können diejenigen verwendet werden, die durch ionisierende Strahlung, wie z.B. Ultraviolettstrahlen (UV) oder Elektronenstrahlen (EB), oder durch Wärme härten. Spezielle Beispiele für wärmehärtbare Harze, die hier verwendet werden können, umfassen Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel (z.B. Polyesterurethanhaftmittel, Polyetherurethanhaftmittel, usw.), Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Polyamidhaftmittel, Polyvinylacetathaftmittel, Epoxyhaftmittel und Kautschukhaftmittel. Von diesen Haftmitteln sind Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel bevorzugt.
Beispiele für durch ionisierende Strahlung härtende Harze, die hier geeignet sind, umfassen (Meth)acrylat-Vorpolymere, wie z.B. Urethan(meth)acrylat und Polyester(meth)acrylat, (Meth)acrylatmonomere, wie z.B. Trimethylolpropan(meth)acrylat und Dipentaerythrithexa(meth)acrylat, und Epoxyharze ((Meth)acrylat bedeutet hier Acrylat oder Methacrylat).
Druckempfindliche Haftmittel
Als druckempfindliche Haftmittel können jedwede herkömmliche druckempfindliche Haftmittel verwendet werden. Beispiele für druckempfindliche Haftmittel, die hier geeignet sind, umfassen Naturkautschuk, synthetische Kautschukharze, wie z.B. Butylkautschuk, Polyisopren, Polyisobutylen, Polychloropren und Styrol-Butadien-Copolymerharze, Vinylacetatharze, wie z.B. Polyvinylacetat und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Alkylphenolharze und Kolophoniumharze, wie z.B. Kolophonium, Kolophoniumtriglycerid und hydriertes Kolophonium, Acrylharze und Urethanharze.
Vorverarbeitung der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen
Die 2 ist eine Draufsicht der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung und die 3 ist eine Querschnittsansicht dieser Schicht. Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 ist aus einem transparenten Substratfilm 31/einer optionalen zweiten transparenten Haftmittelschicht 33/einer Metallschicht 35/einer Glättungsharzschicht 39 zusammengesetzt. Die Metallschicht 35, die auf dem transparenten Substratfilm 31 bereitgestellt ist, umfasst einen Netzteil 203, bei dem es sich um einen Netzwerkbereich handelt, und einen Rahmenteil 201, der den Netzteil 203 umgibt und gegebenenfalls zum Zweck einer Erdung der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 bereitgestellt ist. Der Netzteil 203 weist Öffnungen 203a und Linienteile 203b auf, welche die Metallschicht 35 bilden, wobei die Öffnungen 203a von den Linienteilen 203b umgeben sind. Der Netzteil 203 wird mit einem herkömmlichen photolithographischen Verfahren (1) oder Plattierungsverfahren (2) ausgebildet.
Photolithographisches Verfahren
Zuerst wird das photolithographische Verfahren (1) erläutert. Eine Metallschicht 35, die vollständig aus einem Metall hergestellt ist, das keine Netzstruktur aufweist, wird durch Trockenlaminieren mittels der zweiten transparenten Haftmittelschicht 33 auf eine Oberfläche des transparenten Substratfilms 31 laminiert. Danach wird ein Netzteil 203 photolithographisch in der Metallschicht 35 ausgebildet. Vorzugsweise wird mindestens die Seite der transparenten Schutzschicht 50 der Oberfläche der Metallschicht 35 einer Schwärzungsbehandlung unterworfen, wodurch auf dieser Oberfläche eine Schwärzungsbehandlungsschicht 37 ausgebildet wird. Diese Schwärzungsbehandlungsschicht 37 kann entweder vor oder nach dem Laminieren der Metallschicht 35 an den transparenten Substratfilm 31 gebildet werden. Ferner kann nach der Bildung des Netzteils die Schwärzungsbehandlungsschicht 37 auf der Oberfläche der Metallschicht 35 bereitgestellt werden, die auf die transparente Schutzschicht 50 gerichtet ist. In diesem Fall bedeckt die Schwärzungsbehandlungsschicht 37 auch die Seitenflächen der Linienteile 203b, so dass selbst in der Gegenwart von externem Licht ein höherer Bildkontrast erhalten werden kann.
Bildung der Metallschicht durch Plattieren
Das Plattierungsverfahren (2) zur Bildung einer Metallschicht in der Form einer Netzstruktur wird nachstehend beschrieben. Eine Metallschicht 35 wird durch Plattieren direkt auf einer Oberfläche des transparenten Substratfilms 31 ausgebildet. Das Plattierungsverfahren ist wie folgt: Eine Oberfläche des transparenten Substratfilms 31 wird einer Behandlung unterworfen, um diese Oberfläche gemäß einer Struktur, die aus einem Netzteil, der in der Mitte vorliegt, und einem Rahmenteil besteht, der den Netzteil umgibt, elektrisch leitfähig zu machen, und dann wird die Oberfläche mit einem Metall plattiert. Folglich werden der Netzteil 203 und der Rahmenteil 201, der den Netzteil 203 umgibt, gleichzeitig ausgebildet, wodurch die Metallschicht 35 erhalten wird. In diesem Fall ist die zweite transparente Haftmittelschicht 33 nicht erforderlich. Mindestens auf der Oberfläche der Metallschicht 35 auf der Seite der transparenten Schutzschicht 50 wird dann eine Schwärzungsbehandlungsschicht 37 ausgebildet. Die Schwärzungsbehandlungsschicht 37 kann in einer Weise ausgebildet werden, die derjenigen ähnlich ist, wie sie in dem vorstehend beschriebenen photolithographischen Verfahren eingesetzt worden ist, und auf der Schwärzungsbehandlungsschicht 37 kann gegebenenfalls ferner eine Antikorrosionsschicht 37a ausgebildet werden. Obwohl die Materialien für den transparenten Substratfilm 31, die Metallschicht 35 und die Schwärzungsbehandlungsschicht 37, die in dem Plattierungsverfahren verwendet werden, mit denjenigen identisch sind, die in dem photolithographischen Verfahren (1) verwendet werden, ist die Art und Weise, in der die Metallschicht in dem Plattierungsverfahren ausgebildet wird, anders als bei dem photolithographischen Verfahren. Bei der Durchführung der Behandlung, die dazu dient, den transparenten Substratfilm elektrisch leitfähig zu machen, um den Netzteil 203 in der gewünschten Weise zu bilden und den Rahmenteil 201 um den Umfang des Netzteils 203 zu bilden, wird die gewünschte Netzstruktur verwendet.
Substratfilm
Jedwedes Material von verschiedenen Materialien kann für den transparenten Substratfilm 31 verwendet werden, so lange es eine Transparenz, Isoliereigenschaften, Wärmebeständigkeit, mechanische Festigkeit, usw., aufweist, die für die Betriebs- und Herstellungsbedingungen geeignet sind. Beispiele für Materialien, die hier geeignet sind, umfassen Polyesterharze, wie z.B. Polyethylenterephthalat und Polyethylennaphthalat, Polyamidharze, wie z.B. Nylon 6 und Nylon 610, Polyolefinharze, wie z.B. Polypropylen und Polymethylpenten, Vinylharze, wie z.B. Polyvinylchlorid, Acrylharze, wie z.B. Poly(meth)acrylat und Polymethyl(meth)acrylat, technische Harze, wie z.B. Polyallylat, Polysulfon, Polyphenylenether und Polyaramid, Polycarbonat, Styrolharze, wie z.B. Polystyrol, und Celluloseharze, wie z.B. Triacetylcellulose (TAC).
Der transparente Substratfilm 31 kann auch aus einem Copolymerharz oder einem Gemisch (einschließlich einer Legierung) hergestellt werden, dessen Hauptkomponenten Harze sind, die aus den vorstehend aufgezählten Harzen ausgewählt sind, oder es kann sich um ein Laminat aus einer Mehrzahl von Schichten handeln. Obwohl der transparente Substratfilm entweder ein orientierter oder ein nicht-orientierter Film sein kann, ist es bevorzugt, einen monoaxial oder biaxial orientierten Film zu verwenden, um eine verbesserte Festigkeit zu erhalten. Die Dicke des transparenten Substratfilms 31 beträgt üblicherweise etwa 12 bis 1000 μm, vorzugsweise 50 bis 700 μm und insbesondere 100 bis 500 μm. Ein transparenter Substratfilm 31 mit einer Dicke unterhalb des vorstehend genannten Bereichs kann keine ausreichend hohe mechanische Festigkeit aufweisen und weist ein ungünstiges Kräuseln und Durchhängen auf, während ein transparenter Substratfilm 31 mit einer Dicke über dem vorstehend genannten Bereich eine übermäßig hohe Festigkeit aufweist, was im Hinblick auf die Kosten eine Verschwendung darstellt. Der transparente Substratfilm 31 kann ein Film, eine Folie oder eine Platte sein, der bzw. die aus mindestens einer Schicht aus jedwedem der vorstehend aufgezählten Harze zusammengesetzt ist, und diese Formen werden hier insgesamt als Filme bezeichnet. Im Allgemeinen werden für den transparenten Substratfilm 31 zweckmäßig Filme aus Polyestern, wie z.B. Polyethylenterephthalat und Polyethylennaphthalat verwendet, da sie sowohl bezüglich der Transparenz als auch der Wärmebeständigkeit hervorragend und billig sind, und von diesen Polyestern ist Polyethylenterephthalat am meisten bevorzugt. Bezüglich der Transparenz des transparenten Substratfilms 31 gilt, je höher desto besser, und es ist bevorzugt, dass der transparente Substratfilm 31 eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht von nicht weniger als 80 % aufweist.
Die Oberfläche des transparenten Substratfilms 31, die mit einem Haftmittel beschichtet werden soll, kann einer haftungsverbessernden Behandlung unterzogen werden, wie z.B. einer Koronaentladungsbehandlung, einer Plasmabehandlung, einer Ozonbehandlung, einer Flammenbehandlung, einer Primerbeschichtungsbehandlung (der Primer wird auch als Haftvermittler, haftungsförderndes Mittel oder haftungsverbesserndes Mittel bezeichnet), einem Vorwärmen, Entstauben, Vakuumabscheiden oder einer Alkalibehandlung. In diesen transparenten Substratfilm 31 können gegebenenfalls auch Additive wie z.B. Ultraviolettlichtabsorptionsmittel, Weichmacher und Antistatikmittel einbezogen werden.
Metallschicht
Als Materialien für die Metallschicht 35 können Metalle wie z.B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Nickel, Chrom und Aluminium verwendet werden, die eine Leitfähigkeit aufweisen, die hoch genug ist, um elektromagnetische Wellen vollständig abzuschirmen. Die Metallschicht kann eine Einzelschicht aus einem Metall oder einer Legierung sein oder aus mehreren Schichten zusammengesetzt sein. Beispiele für Eisenmaterialien, die hier verwendet werden können, umfassen Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z.B. unberuhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, Ni-Fe-Legierungen und Invar-Legierungen. Wenn als Schwärzungsbehandlung eine kathodische Elektroabscheidung durchgeführt wird, ist es bevorzugt, eine Kupfer- oder Kupferlegierungsfolie als Metallschicht zu verwenden, da es einfach ist, auf einem solchen Metall eine Elektroabscheidung durchzuführen. Als Kupferfolie kann eine gewalzte Kupferfolie oder eine Elektrolytkupferfolie verwendet werden und eine Elektrolytkupferfolie ist bevorzugt, da sie eine einheitliche Dicke aufweist, ein hohes Haftvermögen an der Schwärzungsbehandlungsschicht und/oder der Chromatbehandlungsschicht aufweist und eine geringe Dicke von unter 10 μm aufweisen kann. Die Dicke der Metallschicht 35 beträgt etwa 1 bis 100 μm und vorzugsweise 5 bis 20 μm. Wenn die Metallschicht 35 eine Dicke unter dem vorstehend genannten Bereich aufweist, weist die Metallschicht 35 einen erhöhten elektrischen Widerstandswert auf und zeigt einen beeinträchtigten Effekt der Abschirmung elektromagnetischer Wellen, obwohl es einfach ist, photolithographisch eine Netzstruktur in der Metallschicht 35 zu bilden. Wenn die Metallschicht 35 eine Dicke über dem vorstehend genannten Bereich aufweist, ist es unmöglich, die gewünschte sehr kleine Netzstruktur zu erhalten, so dass die Öffnungsrate klein wird. Als Folge wird die Lichtdurchlässigkeit geringer und der Betrachtungswinkel wird kleiner, wodurch die Bildsichtbarkeit schlechter wird.
Die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 35, die durch den Rz-Wert angegeben wird, beträgt vorzugsweise 0,5 bis 10 μm. Wenn die Metallschicht 35 einen Oberflächenrauhigkeitswert unterhalb dieses Bereichs aufweist, reflektiert sie externes Licht durch eine Spiegelreflexion selbst dann, wenn sie der Schwärzungsbehandlung unterworfen worden ist, und die Bildsichtbarkeit (Kontrast) in der Gegenwart von externem Licht wird somit schlechter. Wenn der Oberflächenrauhigkeitswert der Metallschicht über dem vorstehend genannten Bereich liegt, verteilt sich ein Haftmittel oder ein Photolack bei dessen Aufbringen nicht über der gesamten Oberfläche der Metallschicht oder schließt Luft ein, so dass Luftblasen gebildet werden. Die Oberflächenrauhigkeit Rz ist ein mittlerer Zehnpunkt-Rauhigkeitswert, der gemäß JIS-BO601 (1994) erhalten wird.
Zweite transparente Haftmittelschicht
Die Metallschicht 35 wird mit der zweiten transparenten Haftmittelschicht 33 an den transparenten Substratfilm 31 laminiert. Als zweite transparente Haftmittelschicht 33 können wärme härtbare Haftmittel oder durch ionisierende Strahlung härtende Haftmittel verwendet werden, die durch ionisierende Strahlung, wie z.B. Ultraviolettstrahlen oder Elektronenstrahlen, härten. Spezielle Beispiele für wärmehärtbare Haftmittel, die hier verwendet werden können, umfassen Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel (z.B. Polyesterurethanhaftmittel, Polyetherurethanhaftmittel, usw.), Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Polyamidhaftmittel, Polyvinylacetathaftmittel, Epoxyhaftmittel und Kautschukhaftmittel. Von diesen Haftmitteln sind Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel bevorzugt.
Druckempfindliches Haftmittel
Für die zweite transparente Haftmittelschicht 33 kann jedwedes druckempfindliche Haftmittel von herkömmlichen druckempfindlichen Haftmitteln verwendet werden. Beispiele für druckempfindliche Haftmittel, die hier geeignet sind, umfassen Naturkautschuk, synthetische Kautschukharze, wie z.B. Butylkautschuk, Polyisopren, Polyisobutylen, Polychloropren und Styrol-Butadien-Copolymerharze, Vinylacetatharze, wie z.B. Polyvinylacetat und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Kolophoniumharze, wie z.B. Kolophonium, Kolophoniumtriglycerid und hydriertes Kolophonium, Acrylharze und Urethanharze.
Laminierverfahren
Das Verfahren zum Laminieren des transparenten Substratfilms 31 und der Metallschicht 35 ist wie folgt: Eines der vorstehend aufgezählten Harze für das Haftmittel (oder das druckempfindliche Haftmittel) oder ein Gemisch von zwei oder mehr der Harze wird als Latex, wässrige Dispersion oder Lösung in einem organischen Lösungsmittel bereitgestellt, der bzw. die dann entweder auf den transparenten Substratfilm 31 oder die Metallschicht 35 mit einem herkömmlichen Druck- oder Beschichtungsverfahren gedruckt oder aufgebracht wird, wie z.B. mittels Siebdruck, Tiefdruck, Kommabeschichten oder Walzenbeschichten, und die Schicht wird gegebenenfalls getrocknet, das andere Element wird auf diese Haftmittelschicht gelegt und es wird Druck ausgeübt. Die Dicke der Haftmittelschicht beträgt etwa 0,1 bis 20 μm (Trockenbasis), vorzugsweise 1 bis 10 μm. Insbesondere werden in dem Laminierverfahren üblicherweise kontinuierliche bandförmige (aufgerollte) Materialien verwendet, das Haftmittel wird entweder auf die Metallschicht oder den Substratfilm in dem von einer Aufwickelrolle abgewickelten und gestreckten Zustand aufgebracht und dann getrocknet, das andere Element wird auf diese Haftmittelschicht gelegt und Druck wird ausgeübt. Ferner wird in einer Atmosphäre von 30 bis 80°C für mehrere Stunden bis mehrere Tage gegebenenfalls ein Altern (Altern und Härten) durchgeführt, wodurch ein Laminat im aufgerollten Zustand erhalten wird. Dabei handelt es sich um ein Verfahren, das vom Fachmann als Trockenlaminierung bezeichnet wird. Die Verwendung von durch ionisierende Strahlung härtenden Harzen ist ebenfalls vorteilhaft.
Trockenlaminierung
Die Trockenlaminierung ist ein Verfahren zum Laminieren von zwei Materialien in der folgenden Weise: Durch ein Beschichtungsverfahren, wie z.B. ein Walzen-, Umkehrwalzen- oder Tiefdruckbeschichten, wird ein Haftmittel, das in einem Lösungsmittel dispergiert oder gelöst ist, auf ein Material aufgebracht, so dass die aufgebrachte Schicht eine Dicke von 0,1 bis 20 μm (Trockenbasis), vorzugsweise von 1,0 bis 5,0 μm aufweist, und das Lösungsmittel wird zur Bildung einer Haftmittelschicht entfernt, unmittelbar nach der Bildung der Haftmittelschicht wird das andere Laminiermaterial auf die Haftmittelschicht laminiert und dieses Laminat wird mehrere Stunden bis mehrere Tage bei 30 bis 120°C altern gelassen, wodurch das Haftmittel gehärtet wird. Die Haftmittelschicht, die in dem Trockenlaminierverfahren verwendet wird, ist hier die zweite transparente Haftmittelschicht 33, und als zweite transparente Haftmittelschicht 33 können wärmehärtbare Haftmittel oder durch ionisierende Strahlung härtende Haftmittel verwendet werden. Spezielle Beispiele für wärmehärtbare Haftmittel umfassen Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel, die durch die Reaktion polyfunktioneller Isocyanate, wie z.B. Toluoldiisocyanat oder Hexamethylendiisocyanat, mit Hydroxylgruppe-enthaltenden Verbindungen, wie z.B. Polyetherpolyolen oder Polyacrylatpolyolen, erhalten werden, Acrylhaftmittel und Kautschukhaftmittel. Von diesen Haftmitteln sind Zweikomponenten-härtende Urethanhaftmittel bevorzugt.
Photolithographisches Verfahren
Die Metalloberfläche des Laminats aus dem transparenten Substratfilm 31/der zweiten transparenten Haftmittelschicht 33/der Metallschicht 35 wird photolithographisch in eine Netzstruktur umgewandelt. Eine Photolackschicht wird in einer Netzstruktur auf dieser Metallschicht 35 ausgebildet, diejenigen Abschnitte der Metallschicht, die nicht mit dem Photolack bedeckt sind, werden durch Ätzen entfernt, und dann wird die Photolackschicht abgelöst, wodurch eine Netzstruktur in der Metallschicht ausgebildet wird. Gemäß der 2 umfasst die Metallschicht 35 in der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 den Netzteil 203 und den Rahmenteil 201. Der Netzteil 203 weist eine Mehrzahl von Öffnungen 203a auf, die von den Linienteilen 203b umgeben sind, und die restliche Metallschicht und der Rahmenteil 201 weisen keine Öffnungen auf und sind vollständig aus der Metallschicht hergestellt. Der Rahmenteil 201 ist derart bereitgestellt, dass er den Netzteil 203 umgibt.
Die Photolithographie ist ein Verfahren, bei dem ein bandförmiges Laminat in dem Zustand einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle verarbeitet wird. Während das Laminat kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert wird, werden mit dem gestreckten und gespannten Laminat ein Maskieren, Ätzen und Photolackablösen durchgeführt. Als erstes wird ein Maskieren in der folgenden Weise durchgeführt: Ein lichtempfindlicher Photolack wird z.B. auf die Metallschicht aufgebracht und getrocknet, diese Metallschicht wird einer Kontaktbelichtung unter Verwendung einer Originalplatte (Photomaske) mit einer vorgegebenen Struktur (die aus den Linienteilen 203b des Netzteils 203 und dem Rahmenteil 201 besteht) unterzogen, die belichtete Metallschicht wird mit Wasser entwickelt, einer Filmhärtungsbehandlung unterzogen und ausgehärtet. Während das bandförmige Laminat im aufgerollten Zustand kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert wird, wird auf die Metallschichtoberfläche des Laminats mit einem Verfahren wie Eintauchen, Vorhangbeschichten oder Flutbeschichten ein Photolack wie z.B. Casein, PVA oder Gelatine aufgebracht. Alternativ kann anstelle des Aufbringens eines Photolacks ein Trockenfilmphotolack verwendet werden. Die Verwendung eines Trockenfilmphotolacks verbessert die Bearbeitbarkeit. Es ist bevorzugt, den Photolack bei einer möglichst niedrigen Temperatur auszuhärten, um ein Kräuseln des Laminats zu verhindern.
Ätzen
Nach dem Maskieren des Laminats mit dem Photolack wird ein Ätzen durchgeführt. In dem Fall, bei dem ein Ätzen kontinuierlich durchgeführt wird, ist es bevorzugt, als Ätzmittel eine Lösung von Eisen(III)-chlorid oder Kupfer(II)-chlorid zu verwenden, die leicht rezykliert werden kann. Ferner ist der Ätzschritt im Wesentlichen mit dem Verfahren zur Herstellung einer Abdeckmaske für eine Kathodenstrahlröhre eines Farbfernsehgeräts identisch. Bei diesem Verfahren wird ein bandförmiges kontinuierliches Stahl-Ausgangsmaterial, insbesondere eine dünne Platte mit einer Dicke von 20 bis 80 μm, geätzt. Insbesondere können die bestehenden Anlagen zur Herstellung einer Abdeckmaske verwendet werden und eine Reihe der Schritte vom Maskieren bis zum Ätzen können kontinuierlich durchgeführt werden, so dass eine beträchtlich hohe Effizienz erreicht werden kann. Nach dem Ätzen wird das Laminat mit Wasser gewaschen, unter Verwendung einer alkalischen Lösung einem Photolackablösen unterzogen, gereinigt und dann getrocknet.
Netz
Der Netzteil 203 weist eine Mehrzahl von zweidimensional angeordneten, benachbarten Öffnungen 203a und Linienteilen 203b auf, die an die Öffnungen 203a angrenzen. Die Öffnung 203a kann in der Draufsicht in einer beliebigen Form vorliegen, wie z.B. als Dreieck, wie z.B. als gleichseitiges Dreieck, als Quadrat, wie z.B. als regelmäßiges Quadrat, als Rechteck, als Raute oder als Trapez, als Polygon, wie z.B. als Hexagon, als Kreis oder als Oval. Die Öffnungen 203a von nur einem oder von zwei oder mehr der vorstehend genannten Typen bilden die Netzstruktur. Im Hinblick auf die Öffnungsrate und die Unsichtbarkeit der Netzstruktur ist es bevorzugt, dass die Breite der Linienteile 203b 25 μm oder weniger, mehr bevorzugt 20 μm oder weniger beträgt. Im Hinblick auf die Lichtdurchlässigkeit ist es bevorzugt, dass der Abstand zwischen den Linienteilen 203b (Linienabstand) 100 μm oder mehr, mehr bevorzugt 200 μm oder mehr beträgt. Um das Auftreten von Moiréstrukturen oder dergleichen zu vermeiden, kann der Neigungswinkel zwischen den Linienteilen 203b und den Grenzen der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen unter Berücksichtigung der Pixel- und Emissionseigenschaften einer Anzeige zweckmäßig ausgewählt werden.
Schwärzungsbehandlung
Vorzugsweise wird mindestens auf der Seite der transparenten Schutzschicht 50 der Oberfläche der Metallschicht 35 eine Schwärzungsbehandlungsschicht 37 durch eine Schwärzungsbehandlung bereitgestellt. Alternativ können Schwärzungsbehandlungsschichten 37 auf beiden Oberflächen der Metallschicht 35 bereitgestellt werden. Um Schwärzungsbehandlungsschichten auf beiden Oberflächen der Metallschicht 35 bereitzustellen, kann das folgende Verfahren eingesetzt werden: Die Metallschicht 35 in der Form einer Einzelschicht wird einer Schwärzungsbehandlung unterworfen, wodurch auf der Schicht eine Schwärzungsbehandlungsschicht gebildet wird, diese Metallschicht 35 wird so auf den transparenten Substratfilm 31 laminiert, dass die Schwärzungsbehandlungsschicht 37 auf den transparenten Substratfilm 31 gerichtet ist, und die blanke Oberfläche der Metallschicht 35 auf der Seite, die dem transparenten Substratfilm 31 gegenüber liegt, wird dann einer Schwärzungsbehandlung unterworfen.
Wenn die Schwärzungsbehandlung nach dem photolithographischen Bilden des Netzteils 203 durchgeführt wird, werden sowohl die Oberfläche (die Oberflächen der Linienteile 203b) als auch die Seitenflächen (die Seitenflächen der Linienteile 203b) der Metallschicht 35 geschwärzt, so dass dann, wenn externes Licht, wie z.B. Sonnenlicht und elektrisches Licht, auf eine Anzeige fällt, die Linienteile 203b zum Abschirmen elektromagnetischer Wellen verhindern, dass die Anzeige das externe Licht reflektiert. Folglich erscheint das Bild auf der Anzeige in einem hervorragenden Zustand und kann mit hohem Kontrast betrachtet werden.
Die Schwärzungsbehandlung kann durch Aufrauhen (Diffusion von einfallendem Licht) und/oder Schwärzen (Absorption von einfallendem Licht) der Oberfläche der Metallschicht durchgeführt werden und zu diesem Zweck kann die Abscheidung eines Metalls, einer Legierung oder eines Metalloxids oder -sulfids oder jedwedes der anderen verschiedenen Verfahren eingesetzt werden. Als Mittel zur Schwärzungsbehandlung ist das Plattieren bevorzugt und durch Plattieren kann eine Schwärzungsbehandlungsschicht erhalten werden, die an der Metallschicht stark haftet und die Oberfläche der Metallschicht 35 und der Seitenflächen (Querschnitt) des Netzteils 203 gleichzeitig, einheitlich und einfach schwärzen kann. Zum Plattieren kann mindestens ein Metall verwendet werden, das aus Kupfer, Cobalt, Nickel, Zink, Zinn und Chrom oder einer chemischen Verbindung dieser Metalle ausgewählt ist. Mit anderen Metallen oder Verbindungen ist es unmöglich, die Schwärzungsbehandlung vollständig durchzuführen und die erhaltenen Schwärzungsbehandlungsschichten weisen eine schlechte Haftung an der Metallschicht auf.
Wenn eine Kupferfolie als Metallschicht 35 verwendet wird, ist ein bevorzugtes Plattierungsverfahren ein kathodisches Elektroabscheidungsplattieren, bei dem die Kupferfolie einer kathodischen Elektrolyse in einem Elektrolyten wie z.B. Schwefelsäure, Kupfersulfat, Cobaltsulfat oder dergleichen unterzogen wird, wodurch kationische Teilchen abgeschieden werden. Die abgeschiedenen kationischen Teilchen rauhen die Metallschicht 35 zu einem höheren Grad auf und schwärzen gleichzeitig die Metallschicht. Obwohl die kationischen Teilchen entweder Kupferteilchen oder Teilchen einer Legierung von Kupfer und jedwedem anderen Metall sein können, sind Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen bevorzugt. Der mittlere Teilchendurchmesser von Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen beträgt vorzugsweise 0,1 bis 1 μm. Durch eine kathodische Elektroabscheidung können einheitliche Teilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 bis 1 μm zweckmäßig abgeschieden werden. Wenn die Oberfläche der Kupferfolie mit einer hohen Stromdichte behandelt wird, wird die Oberfläche der Kupferfolie kathodisch, erzeugt reduzierenden Wasserstoff und wird somit aktiviert, so dass eine signifikant verbesserte Haftung zwischen der Kupferfolie und den Teilchen erhalten werden kann. Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen größer gemacht wird als der vorstehend genannte Bereich, wird die Dicke der Metallschicht geringer und die Verarbeitbarkeit wird schlecht, wobei beispielsweise die Metallfolie in dem Schritt des Laminierens an den Substratfilm reißt. Darüber hinaus wird die äußere Erscheinung der zusammengeballten Teilchen bezüglich der Dichte schlecht und die Uneinheitlichkeit der äußeren Erscheinung und der Lichtabsorption wird erkennbar. Wenn andererseits der mittlere Teilchendurchmesser unterhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, wird die Metallschicht nicht ausreichend aufgerauht, was zu einer schlechten Bildsichtbarkeit führt. Die Schwärzungsbehandlung, bei der schwarzes Chrom oder Nickel verwendet wird, ist auch bevorzugt, da ein solches Material sowohl eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit als auch eine hervorragende Schwärze aufweist und dessen Teilchen nicht abfallen.
Der Farbton wurde mit dem Farbsystem „L*, a*, b* und ΔE*" gemäß JIS-Z8729 als optische Eigenschaft angegeben, die zur Bewertung der Sichtbarkeit der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 geeignet ist. Wenn die Absolutwerte von „a*" und „b*" kleiner sind, ist das leitfähige Material weniger sichtbar und ein höherer Kontrast wird erhalten. Als Folge davon kann eine bessere Bildsichtbarkeit erhalten werden.
In dieser Beschreibung werden das Aufrauhen und das Schwärzen gemeinsam als Schwärzungsbehandlung bezeichnet. Der Reflexionswert Y der Schwärzungsbehandlungsschicht beträgt vorzugsweise 5 oder weniger. Der Reflexionswert Y wurde mit einem Spektrophotometer UV-3100PC (von Shimadzu Corp., Japan hergestellt) bei einem Einfallswinkel von 5° (Wellenlänge: 380 bis 780 nm) gemessen. Im Hinblick auf die Bildsichtbarkeit ist es bevorzugt, dass die Schwärzungsbehandlungsschicht eine Lichtreflexion von 5 % oder weniger aufweist.
Antikorrosionsschicht
Eine Antikorrosionsschicht 37a kann auf der Oberfläche der Metallschicht 35 und/oder der Oberfläche der Schwärzungsbehandlungsschicht 37 bereitgestellt werden und es ist bevorzugt, die Antikorrosionsschicht 37a mindestens auf der Oberfläche der Schwärzungsbehandlungsschicht 37 bereitzustellen. Die Antikorrosionsschicht 37a hat die Funktion des Verhinderns einer Korrosion der Metallschicht 35 und der Schwärzungsbehandlungsschicht 37 und auch die Funktion, zu verhindern, dass dann, wenn die Schwärzungsbehandlungsschicht 37 Teilchen enthält, die Teilchen abfallen oder verformt werden. Obwohl als Antikorrosionsschicht 37a herkömmliche Antikorrosionsschichten verwendet werden können, ist eine Schicht eines Oxids von Nickel, Zink und/oder Kupfer oder eine Chromatbehandlungsschicht geeignet. Zur Bildung einer Schicht eines Oxids von Nickel, Zink und/oder Kupfer kann ein herkömmliches Plattierungsverfahren verwendet werden und die Dicke der abgeschiedenen Schicht beträgt etwa 0,001 bis 1 μm, vorzugsweise 0,001 bis 0,1 μm.
Chromatbehandlung
Eine Chromatbehandlung besteht darin, dass eine Chromatbehandlungsflüssigkeit auf einen zu behandelnden Gegenstand aufgebracht wird. Zum Aufbringen einer Chromatbehandlungsflüssigkeit kann z.B. ein Walzen-, Vorhang-, Quetsch-, elektrostatisches Sprüh- oder Tauchbeschichtungsverfahren eingesetzt werden. Nach dem Aufbringen wird die aufgebrachte Chromatbehandlungsflüssigkeit nicht mit Wasser weggewaschen, sondern als solche getrocknet. Eine wässrige Lösung, die 3 g/Liter CrO₂ enthält, wird üblicherweise als Chromatbehandlungsflüssigkeit verwendet. Spezielle Beispiele für die Chromatbehandlungsflüssigkeit umfassen Alsurf 1000 (Marke eines Chromatbehandlungsmittels, von Nippon Paint Co., Ltd., Japan hergestellt) und PM-284 (Marke eines Chromatbehandlungsmittels, von Nippon Parkerizing Co., Ltd., Japan hergestellt). Die Chromatbehandlung kann den Effekt der Schwärzungsbehandlung weiter verstärken.
Glättungsharzschicht
Die 3 ist eine Querschnittsansicht des Netzteils der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen. Eine Glättungsschicht 39 ist auf der Oberfläche der Schwärzungsbehandlungsschicht 37 in dem Laminat aus dem transparenten Substratfilm 31/der Metallschicht 35/der Schwärzungsbehandlungsschicht 37, die mit einem photolithographischen Verfahren oder einem Plattierungsverfahren laminiert worden sind, bereitgestellt. Wenn der Netzteil 203 wie in der 3 ausgebildet ist, bilden die Öffnungen 203a, die durch Entfernen der Metallschicht 35 gebildet worden sind, obwohl der Rahmenteil 201 und die Linienteile 203b des Netzteils eine Dicke aufweisen, die mit der Dicke der Metallfolie identisch ist, Hohlräume (konkave Abschnitte), und der Netzteil weist folglich Unregelmäßigkeiten auf. Wenn in dem folgenden Schritt ein Haftmittel oder ein druckempfindliches Haftmittel aufgebracht wird, werden, obwohl die konkaven Bereiche mit diesem Haftmittel oder druckempfindlichen Haftmittel gefüllt werden, nicht alle Ecken der konkaven Bereiche mit dem Haftmittel oder druckempfindlichen Haftmittel gefüllt und es umfasst Luftblasen, die zu einer Verminderung der Transparenz und Bildsichtbarkeit führen. Es ist daher erforderlich, einen Entgasungsschritt bereitzustellen, der unter Druck oder Vakuum durchgeführt wird.
Wenn ferner die Frontplatte als solche nach der Bildung des Netzteils auf eine Anzeige aufgebracht wird, wird die Frontplatte leicht beschädigt und weist schlechte Betriebseigenschaften auf, da der Netzteil freiliegende Unregelmäßigkeiten aufweist. Daher wird die Glättungsharzschicht 39 bereitgestellt, um die konkaven Bereiche durch Verteilen der Glättungsharzschicht in alle Ecken der konkaven Bereiche in dem Netzteil 203 zu füllen, und auch um die Metallschicht 35 zu schützen. Ein Harz für die Glättungsschicht 39 wird auf die Metallschicht 35 aufgebracht, um diese zu bedecken. Gemäß der 3A kann die Oberfläche der Metallschicht 35 durch Füllen der konkaven Abschnitte in den Öffnungen mit der Glättungsharzschicht 39 und Bilden der Glättungsharzschicht 39 auch auf der Metallschicht 35 geglättet werden. Alternativ kann die Oberfläche der Glättungsharzschicht 39 aufgrund der Unregel mäßigkeiten der Metallschicht nicht glatt sein, wie es in der 3B gezeigt ist. Für die Glättungsharzschicht 39 ist es essentiell, dass sie die Öffnungen 203a und die Metallschicht 35 bedeckt und sich in alle Ecken der konkaven Abschnitte in dem Netzteil 203 verteilt, wodurch die Unregelmäßigkeiten der Metallschicht vermindert werden.
Als Glättungsharzschicht 39 kann jedwede Harzschicht verwendet werden, so lange sie hochtransparent ist und an dem Metall des Netzteils und auch an einem Haftmittel, das in dem anschließenden Schritt verwendet wird, stark haftet. Für die Glättungsharzschicht 39 kann jedwedes Harz verwendet werden, so lange es transparent ist, und herkömmliche thermoplastische Harze, wärmehärtbare Harze, reaktive Harze und durch ionisierende Strahlung härtende Harze und Gemische dieser Harze können verwendet werden. Wenn für die Glättungsharzschicht 39 ein wärmehärtbares Harz verwendet wird, unterliegt dann, wenn ein Farbmittel, das später beschrieben wird, insbesondere eine Diimmoniumverbindung, einbezogen wird, das Farbmittel im Verlauf der Härtungsreaktion mit einem Härtungsmittel, das eine funktionelle Gruppe, wie z.B. eine Isocyanatgruppe, aufweist, einer Veränderung, und neigt dazu, dessen Funktion zu verlieren. Ferner kann in dem Fall, bei dem ein Elektronenstrahl- (EB-) oder Ultraviolettlicht- (UV-) härtendes Harz für die Glättungsharzschicht 39 verwendet wird, das Farbmittel einer Farbänderung oder einem Verblassen unterliegen, oder dessen Funktion verlieren, wenn ein EB oder UV angewandt wird. Aus diesem Grund sind thermoplastische Harze bevorzugt.
Beispiele für thermoplastische Harze, die hier geeignet sind, umfassen Vinylchloridharze, wie z.B. Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymere, Vinylchlorid-Vinylalkoholacetat-Copolymere und Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymere, Acrylharze, wie z.B. Polymethyl(meth)acrylat, Polybutyl(meth)acrylat und Acrylsäureester-Acrylnitril-Copolymere, Polyolefinharze, wie z.B. cyclische Polyolefine, Styrol-Acrylnitrilharze, Polyvinylbutyral, Polyesterharze, Polycarbonatharze, Urethanharze, Amidharze, Celluloseharze (Celluloseacetatbutyrat, Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Nitrocellulose, Ethylcellulose, Methylcellulose, Propylcellulose, Methylethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Acetylcellulose, usw.), und Gemische dieser Harze. In dieser Beschreibung umfassen die synthetischen Harze auch modifizierte Celluloseharze. Bevorzugte thermoplastische Harze sind Acrylharze, Acrylnitrilharze, Urethanharze und Polyesterharze. Thermoplastische Harze sind dahingehend vorteilhaft, dass sie Farbstoffe, die als Farbmittel dienen, in zufrieden stellender Weise lösen und stabil halten, und dass die Farbstoffe, die in diesen Harzen gelöst sind, ihre Funktionen aufrechterhalten können.
Einbeziehen von Farbmitteln
In die Glättungsharzschicht 39 wird die folgende Kombination von Farbmitteln einbezogen:
(1) Ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel (NIR-Absorptionsmittel) und ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Mittel zur Absorption des Ne-Atomemissionsspektrums), (2) Ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel (NIR-Absorptionsmittel), ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Mittel zur Absorption des Ne-Atomemissionsspektrums) und ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung, (3) Ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel (NIR-Absorptionsmittel) oder (4) ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur. Im Fall von (3) kann ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Mittel zur Absorption des Ne-Atomemissionsspektrums) in die separat gebildete dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen werden. Im Fall von (4) kann ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel in die separat gebildete dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen werden.
Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel
Als Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel kann jedwedes Mittel verwendet werden, das Nahinfrarotstrahlen in einem praktischen Ausmaß absorbieren kann, das derart ist, dass dessen Durchlässigkeit für Nahinfrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1100 nm, die von PDP's emittiert werden, 20 % oder weniger, vorzugsweise 10 % oder weniger, beträgt. Beispiele für das Nahinfrarotstrahlen-absorbierende Mittel, das hier geeignet ist, umfassen Nahinfrarotstrahlen-absorbierende Farbstoffe mit einem abrupten Absorptionsende an der Grenze zwischen dem Nahinfrarotbereich und dem Bereich von sichtbarem Licht und mit einer hohen Transparenz bezüglich Licht im Bereich von sichtbarem Licht, wie z.B. Polymethinfarbstoffe, Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen, Dithiolverbindungen, Immoniumverbindungen und Diimmoniumverbindungen.
Farbmittel zur Farbtonkorrektur
PDP's erzeugen das Licht des inhärenten Emissionsspektrums (unerwünschtes Licht) von eingebrachten Gasen (z.B. Neon, usw.), das für PDP's charakteristisch ist, so dass die Farbreinheit von Bildern verschlechtert wird. Es ist daher erforderlich, eine Schicht bereitzustellen, die „ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur" enthält, welches das Licht des Emissionsspektrums absorbiert, um den Farbton eines angezeigten Bilds zu korrigieren. Ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur, das eine maximale Absorption bei einer Wellenlänge von 570 bis 605 nm zeigt, wird in die Schicht einbezogen. Als Farbmittel zur Farbtonkorrektur werden herkömmli che Farbstoffe oder Pigmente verwendet, die eine Absorption bei den gewünschten Wellenlängen im Bereich von sichtbarem Licht zeigen. Hier sind Farbstoffe oder Pigmente jedweden Typs geeignet, einschließlich organische Farbstoffe, wie z.B. Anthrachinon-, Phthalocyanin-, Methin-, Azomethin-, Oxazin-, Azo-, Styryl-, Cumarin-, Porphyrin-, Dibenzofuranon-, Diketopyrrolopyrrol-, Rhodamin-, Xanthen- und Pyromethenfarbstoffe.
Farbmittel zur Farbtoneinstellung
Ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung wird zur Verbesserung des Transmissionsbildkontrasts und zur Durchführung der Farbeinstellung verwendet. Ein solches Farbmittel absorbiert sichtbares Licht und ist zum Variieren des Farbtons eines Bilds, um den Farbton auf einen bevorzugten Farbton einzustellen, geeignet. Beispiele für Farbmittel, die hier geeignet sind, umfassen organische oder anorganische Pigmente, wie z.B. Monoazopigmente, Chinacridon, Thioindigobordeaux, Perylenrötlichbraun, Anilinschwarz, Blutrot, Chromoxid, Cobaltblau, Ultramarin und Ruß, und Farbstoffe, wie z.B. indigoide Farbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinolinfarbstoffe, Nitrosofarbstoffe, Naphthochinonfarbstoffe und Perinonfarbstoffe. Bevorzugte Farbmittel (Farbstoffe oder Pigmente) sind Rhodamin-, Porphyrin-, Cyanin-, Squarilium-, Azomethin-, Xanthen-, Oxonol- und Azoverbindungen, die eine maximale Absorption bei einer Wellenlänge von 560 bis 620 nm zeigen, Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Oxonolfarbstoffe, Methinfarbstoffe, wie z.B. Arylidenfarbstoffe und Styrylfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Chinonfarbstoffe, Diphenylmethanfarbstoffe, Triphenylmethanfarbstoffe, Xanthenfarbstoffe, Azoverbindungen und Azomethinverbindungen, die eine maximale Absorption bei einer Wellenlänge von 380 bis 440 nm zeigen, und Cyanin-, Squarilium-, Azomethin-, Xanthen-, Oxonol-, Azo-, Anthrachinon-, Triphenylmethan-, Kupferphthalocyanin-, Phenothiazin- und Phenoxazinverbindungen, die eine maximale Absorption bei einer Wellenlänge von 640 bis 780 nm zeigen. Diese Verbindungen können einzeln oder als Gemisch verwendet werden.
Die Art und die Mengen der Farbmittel, die verwendet werden sollen, können abhängig von den Absorptionswellenlängen und den Absorptionskoeffizienten der Farbmittel, dem gewünschten Farbton, der für die Frontplatte für eine Anzeige erforderlichen Durchlässigkeit, usw., zweckmäßig ausgewählt werden. Beispielsweise wird das Nahinfrarotstrahlenabsorbierende Mittel in die Schicht in einer Menge von etwa 0,1 bis 15 Gew.-% der Schicht einbezogen, und das Farbmittel zur Farbtonkorrektur oder das Farbmittel zur Farbtoneinstellung wird in die Schicht in einer Menge von etwa 0,00001 bis 2 Gew.-% der Schicht einbezogen. Um diese Farbmittel vor Ultraviolettlicht zu schützen, kann der Schicht ein Benzophe non- oder Benzotriazol-Ultraviolettlichtabsorptionsmittel zugesetzt werden. Die Menge des zuzusetzenden Ultraviolettlichtabsorptionsmittels beträgt 0,1 bis 10 Gew.-% der Schicht.
Bildung der Glättungsharzschicht
Zur Bildung der Glättungsharzschicht 39 wird ein Harz so aufgebracht, dass die konkaven Abschnitte in den Öffnungen 203a in dem Netzteil 203 mit dem Harz gefüllt werden. Wenn sich dabei das Harz nicht in alle Ecken der konkaven Abschnitte verteilt, enthält die gebildete Harzschicht Luftblasen und weist eine verminderte Transparenz auf. Daher wird das Harz durch Lösen in einem Lösungsmittel oder dergleichen als Zusammensetzung (Tinte) mit einer geringen Viskosität bereitgestellt und diese Zusammensetzung wird zur Bildung einer Schicht aufgebracht und getrocknet. Im Hinblick auf eine einheitliche Dispersion ist es bevorzugt, dass die Zusammensetzung (Tinte) in der folgenden Weise hergestellt wird: Das vorstehend beschriebene Harz wird in einem Lösungsmittel, wie z.B. Methylethylketon, Ethylacetat und/oder Toluol dispergiert oder gelöst, getrennt davon werden Farbmittel in einem entsprechenden Lösungsmittel dispergiert oder gelöst, und diese Dispersionen oder Lösungen werden gemischt. Die Zusammensetzung kann mit einem herkömmlichen Druck- oder Beschichtungsverfahren, wie z.B. Siebdruck, Tiefdruck, Offset-Tiefdruck, Walzenbeschichten, Umkehrwalzenbeschichten, Sprühbeschichten, Düsenbeschichten, Tiefdruckbeschichten, Tiefdruckumkehrbeschichten oder Kommabeschichten aufgebracht werden. Wenn sich die Zusammensetzung nicht in alle Ecken der konkaven Abschnitte verteilt, enthält die aufgebrachte Zusammensetzungsschicht Luftblasen und weist eine verminderte Transparenz auf. Daher wird die Zusammensetzung in einem Lösungsmittel oder dergleichen verdünnt und die verdünnte Zusammensetzung mit einer niedrigen Viskosität wird aufgebracht und dann getrocknet, oder die Zusammensetzung wird aufgebracht, während eine Entgasung durchgeführt wird.
Strukturweise Bildung der Glättungsharzschicht
Wenn die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 den Netzteil 203 und den Rahmenteil 201, der den Netzteil 203 umgibt, umfasst, ist es bevorzugt, dass die Glättungsharzschicht 39 strukturweise aufgebracht wird, wie es in der 2 gezeigt ist, und als Verfahren zum strukturweisen Aufbringen ist ein diskontinuierliches Düsenbeschichten bevorzugt. Die Struktur ist derart, dass die aufgebrachte Glättungsharzschicht den Netzteil 203 bedeckt, jedoch nicht mindestens einen Teil des Rahmenteils 201 bedeckt, so dass die Metallschicht 35, ein Teil des Rahmenteils 201, blank bleibt, so dass sie als Erdung dient. Der blanke Teil kann der gesamte Rahmenteil 201 oder eine oder zwei oder mehr der oberen, unteren, linken und rechten Seite des Umfangs des Rahmenteils 201, oder ein Teil jedweder dieser Seiten des Rahmenteils 201 sein.
Da die Oberfläche des Rahmenteils 201 auf der Seite, die dem transparenten Substrat 11 gegenüber liegt, blank ist, ist es einfach, den Rahmenteil 201 mit dem Gehäuse eines Geräts oder dergleichen für eine Erdung zu verbinden. Ferner wird die Glättungsharzschicht 39 nur auf den erforderlichen Teil strukturweise aufgebracht, so dass die Materialkosten gesenkt werden können. Ferner wurde im Stand der Technik bisher ein Verarbeitungsvorgang durchgeführt, um einen blanken Anschlussbereich herzustellen, da ein Anschlussbereich zum Erden nicht blank ist. In der vorliegenden Erfindung ist ein solcher Verarbeitungsvorgang jedoch nicht erforderlich, da die Glättungsharzschicht strukturweise aufgebracht wird, so dass ein Teil des Rahmenteils blank bleibt.
In der vorliegenden Erfindung können das Nahinfrarotstrahlen-absorbierende Mittel (NIR-absorbierende Mittel) und das Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-absorbierendes Mittel) separat in die Glättungsharzschicht 39 bzw. die dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen werden. In diesem Fall ist es einfach, nur das Farbmittel zur Farbtonkorrektur festzulegen, das eine Einstellung der Durchlässigkeit erfordert. Ferner kann in dem Fall, bei dem das Farbmittel zur Farbtoneinstellung zusätzlich zu dem Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-absorbierendes Mittel) in die dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen wird, der Schritt der Farbtoneinstellung an einem Punkt nahe am Ende des gesamten Verfahrens durchgeführt werden. Da es in diesem Fall möglich ist, eine große Anzahl halb fertiggestellter Produkte gemäß den gebräuchlichen Spezifikationen in den Schritten vor dem Schritt der Farbtoneinstellung zu erzeugen, können Endprodukte mit niedrigen Kosten hergestellt werden und darüber hinaus kann der Farbton eines Bilds in dem Schritt der Farbtoneinstellung einfach gemäß den Bedürfnissen des Kunden eingestellt werden.
Vorverarbeitung der transparenten Schutzschicht
Als nächstes wird die transparente Schutzschicht 50 hergestellt. Obwohl die transparente Schutzschicht 50 nur aus einem transparenten Schutzsubstratfilm 51 zusammengesetzt sein kann, wird bzw. werden auf der Oberfläche des transparenten Schutzsubstratfilms 51 üblicherweise auch eine Antireflexionsschicht 53 und/oder eine Antiblendschicht 55 bereitgestellt. Für den transparenten Schutzsubstratfilm 51 können diejenigen Materialien verwendet werden, die den Materialien für den transparenten Substratfilm 31 entsprechen.
Antireflexionsschicht
Als Antireflexionsschicht 53 kann ein herkömmlicher Antireflexionsfilm verwendet werden. Die Antireflexionsschicht kann jedwede herkömmliche Antireflexionsschicht sein, bei der ein Film in der folgenden Weise direkt oder über eine Hartbeschichtungsschicht auf dem transparenten Substratfilm 51 gebildet wird.

(1) Eine Antireflexionsschicht wird durch Bilden eines extrem dünnen Films mit einer Dicke von etwa 0,1 μm, der aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex mit einem Brechungsindex hergestellt ist, der niedriger ist als der Brechungsindex des transparenten Schutzsubstratfilms oder der Hartbeschichtungsschicht, und die MgF₂ oder dergleichen umfasst, erhalten.
(2) Eine Antireflexionsschicht wird durch Bilden einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf einer Schicht mit hohem Brechungsindex, die einen Brechungsindex aufweist, der höher ist als der Brechungsindex des transparenten Schutzsubstratfilms oder der Hartbeschichtungsschicht, und die Titanoxid, Zirkoniumoxid oder dergleichen umfasst, erhalten. Beispielsweise kann in dem Teil der Antireflexionsschicht, der mit der Hartbeschichtungsschicht in Kontakt kommt, eine Schicht aus ultrafeinen Teilchen eines Metalloxids, die einen hohen Brechungsindex aufweist, ungleichmäßig verteilt sein.
(3) Eine Antireflexionsschicht wird durch wiederholtes Laminieren der vorstehend beschriebenen Schicht mit niedrigem Brechungsindex und der Schicht mit hohem Brechungsindex erhalten.
(4) Eine Antireflexionsschicht wird durch Bereitstellen einer Schicht mit mittlerem Brechungsindex, einer Schicht mit hohem Brechungsindex und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex erhalten.

Eine Antireflexionsschicht, die eine Reflexion effektiver verhindern kann, ist ein Laminat, das durch aufeinander folgendes Laminieren einer Schicht mit mittlerem Brechungsindex, einer Schicht mit hohem Brechungsindex und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex in dieser Reihenfolge mittels der Hartbeschichtungsschicht auf den transparenten Substratfilm erhalten wird.
Die Hartbeschichtungsschicht ist eine Schicht mit einer Bleistifthärte N oder mehr, bestimmt gemäß den Bleistifthärtetests gemäß JIS K5400, und kann durch Härten eines polyfunktionellen Acrylats, wie z.B. eines Polyesteracrylats, Urethanacrylats oder Epoxyacrylats durch Wärme oder ionisierende Strahlung erhalten werden. Mehr bevorzugt genügt die Antireflexionsschicht, die aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex, einer Schicht mit mittlerem Brechungsindex und einer Schicht mit hohem Brechungsindex zusammengesetzt ist, bei denen es sich um SiO_x-Schichten handelt, der Ungleichung 2,20 > Brechungsindex der Schicht mit hohem Brechungsindex > Brechungsindex der Schicht mit mittlerem Brechungsindex > Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex > 1,40, und genügt auch den folgenden Bedingungen: Die Schicht mit niedrigem Brechungsindex weist eine Dicke von 80 bis 110 nm auf, die Schicht mit hohem Brechungsindex weist eine Dicke von 30 bis 110 nm auf und die Schicht mit mittlerem Brechungsindex weist eine Dicke von 50 bis 100 nm und eine optische Filmdicke D (D = n·d, wobei n der Brechungsindex der Schicht mit mittlerem Brechungsindex ist und d die Dicke der Schicht mit mittlerem Brechungsindex ist) auf.
Antiblendschicht
Die Antiblendschicht 55 dient zur Verhinderung des Blendens und Flimmerns eines angezeigten Bilds. Als Antiblendschicht 55 können herkömmliche Antiblendschichten verwendet werden und bevorzugte Antiblendschichten sind Schichten, die anorganische Füllstoffe wie z.B. Siliziumdioxid enthalten, oder Schichten mit Oberflächen, die feine Unregelmäßigkeiten aufweisen, die externes Licht streuen. Eine Schicht, die einen anorganischen Füllstoff enthält, wird in der folgenden Weise gebildet: In einem härtenden Harz, wie z.B. einem Acrylharz, beispielsweise einem Polyacrylat-Copolymer, das aus Ethylacrylat, Butylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, t-Butylacrylat oder dergleichen besteht, einem Dienharz, einem Polyesterharz oder einem Silikonharz, werden Siliziumdioxidteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser von gewöhnlich 30 μm oder weniger, vorzugsweise etwa 2 bis 15 μm, in einer Menge von etwa 0,1 bis 10 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile des Harzes dispergiert, diese Dispersion wird mittels Tiefdruck-, Umkehrwalzen- oder Düsenbeschichten derart aufgebracht, dass der trockene Film eine Dicke von etwa 5 bis 30 μm aufweist, worauf getrocknet wird, und Wärme, Ultraviolettlicht oder Elektronenstrahlen wird bzw. werden gegebenenfalls angewandt, um den Film zu härten. Als Schicht mit einer Oberfläche mit feinen Unregelmäßigkeiten können herkömmliche Schichten verwendet werden, wie z.B. eine Schicht, die durch die Verwendung des Harzes und des Beschichtungsverfahrens, die zur Bildung der anorganischen Füllstoff-enthaltenden Schicht verwendet werden, und Prägen von Unregelmäßigkeiten auf die Schicht gebildet wird, eine Schicht, die durch Aufbringen eines Harzes auf einen Plattenzylinder, der Unregelmäßigkeiten aufweist, Härten des aufgebrachten Harzes mit UV-Licht und Ablösen der Harzschicht von dem Plattenzylinder, wodurch die Unregelmäßigkeiten auf die Oberfläche der Harzschicht übertragen werden, erhalten wird, und eine Schicht, die durch Aufbringen eines Harzes auf einen Formgebungsfilm, der Unregelmäßigkeiten aufweist, Härten des aufgebrachten Harzes mit UV-Licht und Ablösen der Harzschicht von dem Formgebungsfilm, wodurch die Unregelmäßigkeiten auf die Oberfläche der Harzschicht übertragen werden, erhalten wird.
Antiverschmutzungsschicht
Eine Antiverschmutzungsschicht 55a kann auf der Antireflexionsschicht 53 und/oder der Antiblendschicht 55 bereitgestellt werden. Die Antiverschmutzungsschicht 55a ist üblicherweise eine wasser- und ölabstoßende Beschichtung und Siloxanverbindungen, fluorierte Alkylsilylverbindungen und dergleichen können für diese Schicht verwendet werden. Fluorkunststoffe oder Silikonharze, die als wasserabstoßende Beschichtungen verwendet werden, werden zweckmäßig eingesetzt. Beispielsweise ist es in dem Fall, bei dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex in der Antireflexionsschicht aus SiO₂ hergestellt ist, bevorzugt, eine wasserabstoßende Fluorsilikatbeschichtung zu verwenden.
Herstellung einer Frontplatte für eine Plasmaanzeige
Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30, die transparente Schutzschicht 50, das transparente Substrat 11, die erste transparente Haftmittelschicht 21 und die dritte transparente Haftmittelschicht 41 werden hergestellt. Danach wird die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 mit der ersten transparenten Haftmittelschicht 21 auf das transparente Substrat 11 laminiert und die transparente Schutzschicht 50 wird dann mit der dritten transparenten Haftmittelschicht 41 auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 laminiert, wodurch eine Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige erhalten wird.
In diesem Fall wird die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 mit der ersten transparenten Haftmittelschicht 21 auf das transparente Substrat 11 laminiert, wobei der transparente Substratfilm 31 des transparenten Substrats 11 der Oberfläche der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 zugewandt ist. Für diese Laminierung wird ein herkömmliches Laminierverfahren, wie z.B. ein Verfahren (1), bei dem die erste transparente Haftmittelschicht 21, bei der es sich um eine druckempfindliche Haftmittelschicht handelt, die auf einem Trennpapier ausgebildet ist, entweder auf das transparente Substrat 11 oder auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 geklebt wird, das Trennpapier abgelöst wird und das andere Element an diese Haftmittelschicht unter Anwendung von Druck angebracht wird, oder ein Verfahren (2) eingesetzt, bei dem eine Tintenzusammensetzung, die durch Lösen oder Dispergieren eines Haftmittels für die erste transparente Haftmit telschicht 21 in einem Lösungsmittel hergestellt wird, entweder auf das transparente Substrat 11 oder auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 aufgebracht und getrocknet wird, das andere Element dann auf die Tintenzusammensetzungsschicht gelegt wird, mit einer Walze, einer Platte oder dergleichen Druck auf dieses Laminat ausgeübt wird, und gegebenenfalls Wärme oder ionisierende Strahlung angewandt wird, um die Tintenzusammensetzungsschicht zu härten.
Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 wird mit der dritten transparenten Haftmittelschicht 41 auf die transparente Schutzschicht 50 laminiert, wobei die Metallschicht 35 der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 dem transparenten Substratfilm 51 der transparenten Schutzschicht 50 zugewandt ist. Für diese Laminierung kann das gleiche Laminierverfahren eingesetzt werden, wie dasjenige, das vorstehend für die Laminierung des transparenten Substrats 11 und der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 mit der ersten transparenten Haftmittelschicht 21 beschrieben worden ist.
Einbeziehen von Farbmitteln
Die Art und Weise, in der mindestens eines der Farbmittel, d.h. das Nahinfrarotstrahlenabsorbierende Mittel (NIR-Absorptionsmittel), das Farbmittel für die Farbtonkorrektur (z.B. ein Ne-Absorptionsmittel) und das Farbmittel für die Farbtoneinstellung in die dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen wird, ist wie folgt: Eine Tintenzusammensetzung, die durch Lösen oder Dispergieren eines Haftmittels und eines Farbmittels für die dritte transparente Haftmittelschicht 41 in einem Lösungsmittel hergestellt wird, wird entweder auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 oder auf die transparente Schutzschicht 50 aufgebracht und dann getrocknet, das andere Element wird auf die Tintenzusammensetzungsschicht gelegt und mit einer Walze, einer Platte oder dergleichen wird Druck auf dieses Laminat ausgeübt. Im Hinblick auf eine einheitliche Dispersion des Farbmittels ist es bevorzugt, die Tintenzusammensetzung in der folgenden Weise herzustellen: Das Farbmittel wird im Vorhinein in einem Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, das Haftmittel wird ebenfalls separat in einem Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, und diese zwei Lösungen oder Dispersionen werden gemischt oder redispergiert. Zum Mischen oder Dispergieren der Lösungen oder Dispersionen kann jedwedes Verfahren verwendet werden und ein herkömmlicher Dispersionsmischer, wie z.B. ein Disper-Dispergiergerät, ein Mischer, ein Trommelmischer, ein Blender, ein Homogenisator oder eine Kugelmühle, kann verwendet werden.
Erfindungsgemäß werden das Nahinfrarotstrahlen-absorbierende Mittel (NIR-Absorptionsmittel), das Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-Absorptionsmittel) und das Farbmittel für die Farbtoneinstellung in die dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen. Alternativ können erfindungsgemäß das Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-Absorptionsmittel) und das Farbmittel zur Farbtoneinstellung in die dritte transparente Haftmittelschicht 41 einbezogen werden. Dieser Schritt des Einbeziehens wird an einem Punkt nahe am Ende des gesamten Verfahrens durchgeführt und das Farbmittel zur Farbtoneinstellung, das gemäß den Bedürfnissen des Kunden ausgewählt worden ist, wird in eine große Anzahl halb fertiggestellter Produkte einbezogen, die gemäß den gebräuchlichen Spezifikationen in den Schritten vor dem Schritt des Einbeziehens hergestellt worden sind. Es ist daher möglich, den Farbton eines angezeigten Bilds einzustellen und gleichzeitig die Kosten zu senken.
Zusammenbau einer Plasmaanzeige
Anschließend wird die Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige auf der Vorderseite eines PDP 101 montiert, wodurch eine Plasmaanzeige 100 erhalten wird. Dabei wird die Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige so angebracht, dass das transparente Substrat 11 der Frontplatte 103 auf das PDP (Plasmaanzeigeelement) 101 gerichtet ist. Eine Luftschicht kann zwischen der Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige und dem PDP 101 vorliegen oder diese zwei Elemente können mit einem Haftmittel oder dergleichen direkt aneinander gebunden werden.
Da ein Teil des Rahmenteils der Metallschicht 35 auf der Betrachtungsseitenoberfläche der Frontplatte 103 für eine Plasmaanzeige blank ist, kann die Frontplatte 103 durch Verbinden des blanken Teils mit dem Gehäuse der Plasmaanzeige 100 mit einem herkömmlichen leitfähigen Band oder dergleichen einfach geerdet werden. In einer herkömmlichen Frontplatte ist die Metallschicht nicht blank, so dass dabei der Schritt erforderlich war, die Metallschicht blank zu machen. Erfindungsgemäß wird die Plasmaanzeige 100 von der Seite der transparenten Schutzschicht 50 her betrachtet. Erfindungsgemäß werden die vorstehend genannten verschiedenen Funktionen und Effekte erhalten.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend mittels Beispielen und Vergleichsbeispielen genauer erläutert. Die vorliegende Erfindung wird durch diese Beispiele jedoch nicht beschränkt.
Beispiel 1
Herstellung einer Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen
Ein biaxial orientierter PET-Film A4300 (Marke, Polyethylenterephthalat, das von Toyobo Co., Ltd., Japan hergestellt worden ist) mit einer Dicke von 100 μm, der als transparenter Substratfilm dient, und eine Elektrolytkupferfolie mit einer Dicke von 10 μm, die als Metallschicht dient, wurden mit der zweiten transparenten Haftmittelschicht, die aus einem Zweikomponenten-härtendem Urethanhaftmittel hergestellt worden ist, laminiert, und diese Anordnung wurde 3 Tage bei 50°C gehärtet, wodurch ein Laminat erhalten wurde. Bei dem Haftmittel wurde ein Polyesterurethanpolyol als Hauptbestandteil und Xyloldiisocyanat als Härtungsmittel verwendet. Das Haftmittel wurde in einer Menge aufgebracht, so dass die trockene Haftmittelschicht eine Dicke von 4 μm aufwies. In der Kupferfolie in diesem Laminat wurde photolithographisch ein Netzteil hergestellt. Unter Verwendung einer bestehenden Herstellungsanlage für Abdeckmasken für Farbfernsehgeräte wurde das Laminat in der Form einer bandförmigen (aufgerollten) kontinuierlichen Bahn einer Reihe der Schritte vom Maskieren bis zum Ätzen unterworfen. Als erstes wurde ein Casein-Photolack auf die gesamte Oberfläche der Kupferschicht in dem Laminat durch Flutbeschichten aufgebracht. Dieses Laminat wurde diskontinuierlich zur nächsten Station transportiert, wo unter Verwendung einer Originalplatte mit einer Negativstruktur, die aus einem Netzteil mit quadratischen Öffnungen mit einer Linienbreite von 22 μm, einem Linienabstand (Abstand) von 300 μm und einem Neigungswinkel von 49°, und einem Rahmenteil mit einer Breite von 15 mm, der das Netzteil umgab, bestand, eine Kontaktbelichtung durchgeführt wurde. Das belichtete Laminat wurde dann zur Entwicklung mit Wasser, zur Filmhärtungsbehandlung und zum Aushärten durch Erwärmen von einer Station zur nächsten transportiert. Danach wurde das ausgehärtete Laminat weiter zu nächsten Station transportiert, wo ein Ätzen durch Sprühen einer wässrigen Eisen(III)-chloridlösung als Ätzmittel über das Laminat durchgeführt wurde, wodurch Öffnungen erzeugt wurden. Dieses Laminat wurde zum Waschen mit Wasser, zum Photolackablösen, zum Reinigen und zum Trocknen bei 60°C von einer Station zur nächsten transportiert, wodurch ein Kupfernetzteil gebildet wurde. Der Kupfernetzteil wurde dann einer Schwärzungsbehandlung unterzogen. Auf den Oberflächen und Seitenflächen der Linienteile des Netzteils wurde dadurch, dass der Netzteil einer elektrolytischen Plattierung unter Verwendung eines schwarzen Nickelplattierungsbads als Schwärzungsbehandlungsplattierungsbad unterzogen wurde, eine Schwärzungsbehandlungsschicht gebildet.
Anschließend wurde eine Glättungsharzschicht 39 gebildet. Eine Zusammensetzungsflüssigkeit zur Bildung der Glättungsharzschicht wurde durch Mischen des nachstehend beschriebenen Farbmittels, das in Methylethylketon dispergiert oder gelöst worden ist, mit einem Ac rylharz, und Einstellen der Viskosität des Gemischs auf 40 s, gemessen mit einem Zane-Becher Nr. 3 (von Rigo Kabushiki Kaisha, Japan hergestellt), hergestellt. Ein Diimmonium-Farbmittel CIR1085 (Marke, von Japan Carlit Co., Ltd., Japan hergestellt), ein Phthalocyaninfarbstoff IR12 (Marke, von Nippon Shokubai Co., Ltd., Japan hergestellt) und ein Phthalocyaninfarbstoff IR14 (Marke, von Nippon Shokubai Co., Ltd., Japan hergestellt) wurden als Nahinfrarotstrahlen-absorbierende Mittel (NIR-Absorptionsmittel) verwendet. TAP-2 (Marke, von Yamada Chemical Co., Ltd., Japan hergestellt) wurde als Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-Absorptionsmittel) verwendet. Die vorstehend beschriebene Zusammensetzungsflüssigkeit zur Bildung der Glättungsharzschicht wurde strukturweise durch diskontinuierliches Düsenbeschichten nur auf den Netzteil aufgebracht und getrocknet, wodurch eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen erhalten wurde.
Herstellung einer transparenten Schutzschicht
Ein Antireflexionsfilm TAC-AR1 (Marke, von Dai Nippon Printing Co., Ltd., Japan hergestellt), der durch Laminieren einer Hartbeschichtungsschicht, einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex und einer Antiverschmutzungsschicht auf einen 80 μm dicken Triacetylcellulosefilm (TAC-Film) hergestellt worden ist, wurde als transparente Schutzschicht verwendet. Ein aus einem Acrylharz hergestelltes Substrat mit einer Dicke von 5 mm wurde als transparentes Substrat verwendet und ein druckempfindliches Haftmittel HJ-9150W (Marke, von NITTO DENKO CORPORATION, Japan hergestellt) wurde für die erste transparente Haftmittelschicht verwendet. Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen wurde durch die erste transparente Haftmittelschicht auf das transparente Substrat laminiert, wobei der transparente Substratfilm der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen auf das transparente Substrat gerichtet war. Ein druckempfindliches Haftmittel HJ-9150W (Marke, von NITTO DENKO CORPORATION, Japan hergestellt) wurde für die dritte transparente Haftmittelschicht verwendet. Der Antireflexionsfilm TAC-AR1 (Marke, von Dai Nippon Printing Co., Ltd., Japan hergestellt) wurde auf die dritte transparente Haftmittelschicht laminiert, wobei der TAC-Film des Antireflexionsfilms auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen gerichtet war, wodurch eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige von Beispiel 1 erhalten wurde.
Beispiel 2
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass der Zusammensetzungsflüssigkeit zur Bildung der Glättungsharzschicht als Farbmittel zur Farbtoneinstellung PS Violet RC (Marke, von Mitsui Toatsu Dyes, Ltd., Japan hergestellt) in einer Menge (Trockenbasis) von 0,109 g/m² zugesetzt wurde.
Beispiel 3
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die vier Farbmittel, die im Beispiel 1 verwendet wurden, in die dritte transparente Haftmittelschicht einbezogen wurden und dass in die Glättungsharzschicht kein Farbmittel einbezogen wurde.
Beispiel 4
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 erhalten, mit der Ausnahme, dass der dritten transparenten Haftmittelschicht als Farbmittel zur Farbtoneinstellung PS Violet RC (Marke, von Mitsui Toatsu Dyes, Ltd., Japan hergestellt) in einer Menge (Trockenbasis) von 0,109 g/m² zugesetzt wurde.
Beispiel 5
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass Nahinfrarotstrahlen-absorbierenden Mittel (NIR-Absorptionsmittel) in die Glättungsharzschicht einbezogen wurden und das Farbmittel zur Farbtonkorrektur (Ne-Absorptionsmittel) in die dritte transparente Haftmittelschicht einbezogen wurde.
Beispiel 6
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 5 erhalten, mit der Ausnahme, dass als transparentes Substrat eine 3 mm dicke Glasplatte verwendet wurde.
Beispiel 7
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 5 erhalten, mit der Ausnahme, dass der dritten transparenten Farbmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung zugesetzt wurde.
Beispiel 8
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 7 erhalten, mit der Ausnahme, dass als transparentes Substrat eine 3 mm dicke verstärkte Glasplatte verwendet wurde.
Beispiel 9
Die Frontplatte für eine Plasmaanzeige von Beispiel 1 wurde an der Vorderseite eines PDP „WOOO" (Marke, von Hitachi Ltd., Japan hergestellt) mittels einer 5 mm dicken Luftschicht montiert, wodurch eine Plasmaanzeige erhalten wurde.
Beispiel 10
Die Frontplatte für eine Plasmaanzeige von Beispiel 7 wurde an der Vorderseite eines PDP „WOOO" (Marke, von Hitachi Ltd., Japan hergestellt) mit einem druckempfindlichen Haftmittel HJ-9150W (Marke, von NITTO DENKO CORPORATION, Japan) montiert, wodurch eine Plasmaanzeige erhalten wurde.
Bewertung
Die vorstehend beschriebenen Frontplatten wurden bezüglich des Farbtons eines Bilds, der Lichtechtheit der Farbmittel und der Bildsichtbarkeit bewertet. Der Farbton eines Bilds wurde durch visuelles Betrachten des Farbtons einer angezeigten Fernseh-Teststruktur bewertet und eine Frontplatte, die keine Anomalität zeigte, wurde mit „0" bezeichnet. Die Lichtechtheit der Farbmittel wurde durch visuelles Betrachten der Farbe der Frontplatte vor und nach Tests bezüglich der Beständigkeit gegen Feuchtigkeit und Wärme (in einer Atmosphäre von 60°C und 95 % relativer Feuchtigkeit für 1000 Stunden durchgeführt) bewertet. Eine Frontplatte, die keine signifikante Änderung der Farbe aufwies, wurde mit „0" bezeichnet, und eine Frontplatte, die nahezu keine Farbänderung aufwies, wurde mit „0" bezeichnet. Die Bildsichtbarkeit wurde durch visuelles Betrachten des Farbtons eines angezeigten Schwarzweiß-Bilds bewertet und eine Frontplatte, die weder eine Blendung noch eine erkennbare Spiegelung von externem Licht aufwies, wurde mit „0" bewertet. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 1 und 2 gezeigt.
Tabelle 1
Tabelle 2
Die Ergebnisse der Bewertung, die bezüglich der Farbechtheit der Farbmittel durchgeführt worden ist, waren wie folgt: Die Frontplatten der Beispiele 3 und 4 waren „0" und diejenigen der Beispiele 1, 2, 5, 6, 7 und 8 waren „0". Obwohl dies nicht in den Tabellen gezeigt ist, waren die Ergebnisse der Bewertung der Plasmaanzeigen der Beispiele 9 und 10, die bezüglich des Farbtons eines Bilds und der Bildsichtbarkeit durchgeführt worden ist, beide „0".
Zusammenfassung
Eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige umfasst ein transparentes Substrat 11 und eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30, die auf einer Oberfläche des transparenten Substrats 11 mittels einer ersten transparenten Haftmittelschicht 21 bereitgestellt ist. Die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 umfasst einen transparenten Substratfilm 31, eine Metallschicht 35, die einen Netzteil 203 und einen Rahmenteil 201, der den Netzteil 203 umgibt, umfasst, und eine Glättungsharzschicht 39. Auf der Metallschicht 35 ist eine Schwärzungsbehandlungsschicht 37 bereitgestellt. Eine dritte transparente Haftmittelschicht 41 und eine transparente Schutzschicht 50 sind in dieser Reihenfolge auf die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen 30 laminiert. Die Glättungsharzschicht 39 und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht 41 enthält bzw. enthalten ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur.

Claims

Frontplatte für eine Plasmaanzeige, die ein transparentes Substrat, eine erste transparente Haftmittelschicht, die auf dem transparenten Substrat bereitgestellt ist, eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die auf der ersten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, eine dritte transparente Haftmittelschicht, die auf der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereitgestellt ist, und eine transparente Schutzschicht, die auf der dritten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, umfasst, wobei die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen einen transparenten Substratfilm, eine Metallschicht, die einen Netzteil mit einer Mehrzahl von benachbarten Öffnungen umfasst und auf dem transparenten Substratfilm ausgebildet ist, und eine Glättungsharzschicht umfasst, die aus einem transparenten synthetischen Harz hergestellt ist und mindestens einen Teil der Räume in den Öffnungen in der Metallschicht füllt, wobei die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht sowohl ein Nahinfrarotstrahlenabsorbierendes Mittel als auch ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 2, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung zum Einstellen des Farbtons eines angezeigten Bilds auf den gewünschten Farbton enthält bzw. enthalten.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der die Glättungsharzschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel enthält und die dritte transparente Haftmittelschicht ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 4, bei der die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung enthält.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der die Metallschicht ferner einen Rahmenteil umfasst, der den Netzteil umgibt, und wobei ein Teil des Rahmenteils weder mit der Glättungsharzschicht, noch mit der dritten transparenten Haftmittelschicht noch mit der transparenten Schutzschicht bedeckt ist und somit blank ist.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen eine zweite transparente Haftmittelschicht zwischen dem transparenten Substratfilm und der Metallschicht umfasst.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der die transparente Schutzschicht einen transparenten Schutzsubstratfilm und eine Antireflexionsschicht und/oder eine Antiblendschicht umfasst, die auf dem transparenten Schutzsubstratfilm bereitgestellt ist bzw. sind.
Frontplatte für eine Plasmaanzeige nach Anspruch 1, bei der eine Schwärzungsbehandlungsschicht auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht bereitgestellt ist.
Plasmaanzeige, die eine Frontplatte für eine Plasmaanzeige und ein Plasmaanzeigeelement, das der Frontplatte für eine Plasmaanzeige zugewandt ist, umfasst, wobei die Frontplatte für eine Plasmaanzeige ein transparentes Substrat, eine erste transparente Haftmittelschicht, die auf dem transparenten Substrat bereitgestellt ist, eine Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die auf der ersten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, eine dritte transparente Haftmittelschicht, die auf der Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen bereitgestellt ist, und eine transparente Schutzschicht, die auf der dritten transparenten Haftmittelschicht bereitgestellt ist, umfasst, wobei die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen einen transparenten Substratfilm, eine Metallschicht, die einen Netzteil mit einer Mehrzahl von benachbarten Öffnungen umfasst und auf dem transparenten Substratfilm ausgebildet ist, und eine Glättungs harzschicht umfasst, die aus einem transparenten synthetischen Harz hergestellt ist und mindestens einen Teil der Räume in den Öffnungen in der Metallschicht füllt, wobei die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel und/oder ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten, wobei das transparente Substrat der Frontplatte für eine Plasmaanzeige dem Plasmaanzeigeelement zugewandt ist, und wobei ein angezeigtes Bild von der Seite der transparenten Schutzschicht her betrachtet wird.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht sowohl ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel als auch ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält bzw. enthalten.
Plasmaanzeige nach Anspruch 11, bei der die Glättungsharzschicht und/oder die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung zum Einstellen des Farbtons eines angezeigten Bilds auf den gewünschten Farbton enthält bzw. enthalten.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der die Glättungsharzschicht ein Nahinfrarotstrahlen-absorbierendes Mittel enthält und die dritte transparente Haftmittelschicht ein Farbmittel zur Farbtonkorrektur enthält.
Plasmaanzeige nach Anspruch 13, bei der die dritte transparente Haftmittelschicht ferner ein Farbmittel zur Farbtoneinstellung enthält.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der die Metallschicht ferner einen Rahmenteil umfasst, der den Netzteil umgibt, und wobei ein Teil des Rahmenteils weder mit der Glättungsharzschicht, noch mit der dritten transparenten Haftmittelschicht noch mit der transparenten Schutzschicht bedeckt ist und somit blank ist.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der die Schicht zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen eine zweite transparente Haftmittelschicht zwischen dem transparenten Substratfilm und der Metallschicht umfasst.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der die transparente Schutzschicht einen transparenten Schutzsubstratfilm und eine Antireflexionsschicht und/oder eine Antiblendschicht umfasst, die auf dem transparenten Schutzsubstratfilm bereitgestellt ist bzw. sind.
Plasmaanzeige nach Anspruch 10, bei der eine Schwärzungsbehandlungsschicht auf der Seite der transparenten Schutzschicht der Oberfläche der Metallschicht bereitgestellt ist.