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Die vorliegende Erfindung betrifft
eine verbesserte Struktur eines Sperrschicht-Feldeffekt-Transistors
vom Lateralkanaltyp (lateral channel type JFET) oder eines Static-Induction-Transistors (SIT).
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Siliciumcarbid (SiC), das ein dielektrisches Durchschlagsfeld
hat, das ungefähr
zehn mal so hoch ist wie das von Silicium (Si), ist ein Material,
das den Verlust verringert, da es die Dicke verringern und die Dichte
der Driftschicht erhöhen
kann, die der Spannung widersteht.
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Leistungshalbleiter-Bauelemente,
bei denen SiC verwendet wird, sind z.B. ein Sperrschicht-Feldeffekt-Transistor
(Junction Type Field Effect Transistor, JFET) oder ein SIT (Static
Induction Transistor). Ein Beispiel für einen SIT, der die Eigenschaften
des SiC ausnutzt, stellt die in der Veröffentlichung „Back-Gate
4H-SiC JFET fabricated on n-type substrate", Extended Abstracts for the 61st Autumn
Meeting, 2000, The Japan Society of Applied Physics, September 2000,
Hokkaido Institute of Technology, dargestellte Struktur dar. Die
in dieser Publikation beschriebene Struktur weist eine p+-Schicht auf, die
die Gatezone darstellt und auf einem n-leitenden Substrat gebildet
ist; die n–-Driftschicht
ist über
dieser Schicht gebildet, und quer über den Kanal sind die n+-Drainzone und die n+-Sourcezone
gebildet. Die Gateelektrode ist auf einer Hauptfläche des
n-leitenden Substrats, die Drainelektrode in der Drainzone, und
die Sourceelektrode ist in der Sourcezone gebildet.
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Ein SIT ist ein Transistor, der den
Strom durch die sich vom Gate zum Kanal erstreckende Verarmungsschicht
ein- oder ausschaltet. Dieser Transistor produziert durch Verringerung
der Dicke der n–-Schicht im Normalzustand
einen Aus-Zustand, selbst wenn die Gatespannung 0 V beträgt.
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Bei der oben beschriebenen herkömmlichen Struktur
ist der Kanal als eine dünne
Zone zwischen der n+-Drain und der n+-Source, und die Länge der dünnen Zone ist die Kanallänge. Die
n–-Zone
zwischen der n+-Source und der p+-Zone ist bei der Steuerung des Stroms nicht
beteiligt. Da sich außerdem die
Verarmungsschicht zum Zeitpunkt des Sperrens von der Drainseite
in den Kanal ausdehnt, muss die Kanallänge erhöht werden, um zu verhindern,
dass die Verarmungsschicht die Source erreicht, um eine Stehspannung
zu gewährleisten.
Der Versuch eine vorbestimmte Stehspannung auf diese Weise zu gewährleisten,
führt jedoch
zu einem übermäßigen Anstieg
des Widerstands im geöffneten
Zustand (Ein-Zustand).
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Es ist eine Aufgabe der vorliegenden
Erfindung eine Struktur bereitzustellen, die einen besseren Sperreffekt
und einen geringeren Widerstand im geöffneten Zustand aufweist.
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Die vorliegende Erfindung stellt
eine Struktur zur Verwendung in einem SIT des Lateralkanaltyps bereit,
bei der das p+-Gate und die n+-Source
aneinander angrenzend ausgebildet sind. Zusätzlich ist bei einem SIT des
Late ralkanaltyps, bei dem ein Halbleiterkörper als p+-Gate
verwendet wird und die Gateelektrode auf der Unterseite des Halbleiterkörpers ausgebildet
ist, eine Isolierschicht auf der Oberfläche des n–-Kanals
und eine Hilfsgateelektrode auf der Isolierschicht ausgebildet,
und die Hilfsgateelektrode und die Sourceelektrode sind kurzgeschlossen.
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Zusätzlich stellt die vorliegende
Erfindung eine Struktur zur Verwendung in einem SIT des Lateralkanaltyps,
bei dem der Halbleiterkörper
als das p+-Gate verwendet wird und die Gateelektrode
auf der Unterseite des Halbleiterkörpers ausgebildet ist, bereit,
bei der eine Isolierschicht auf der Oberfläche des n–-Kanals
und eine Hilfsgateelektrode auf der Isolierschicht ausgebildet sind,
und die Hilfsgateelektrode und die Sourceelektrode sind kurzgeschlossen.
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Durch Verbindung der n+-Source
nicht über die
n–-Zone,
sondern direkt an das p+-Gate, wird es ermöglicht,
den Elektronenstrom direkt von der Source in den Kanal laufen zu
lassen und nicht über
eine Hochwiderstandsschicht (n–), die die Ursache für einen
Anstieg des Widerstands im geöffneten
Zustand darstellt. Auf diese Weise wird verhindert, dass der Widerstand
im geöffneten
Zustand (Widerstand im Zustand = Ein) ansteigt. Obgleich Spannungsbeständigkeit
ein Problem bei pn-Übergängen zwischen hochdichten
Zonen darstellt, schafft die vorliegende Erfindung eine Struktur
zur Verwendung in einem SIT-Typ, der sich im Normalzustand im Zustand
= Aus befindet, bei dem der Aus-Zustand selbst dann existiert, wenn
kein Gate-Source Sperr-Vorspannungsstrom
gegeben ist. Daher tritt kein Problem auf, da dieser Transistortyp
keine hohe Gate-Stehspannung erfordert.
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Da außerdem die Isolierschicht und
die Hilfsgateelektrode auf dem Kanal ausgebildet sind und die Hilfsgateelektrode
und die Sourceelektrode kurz geschlossen sind, ist das Potenzial
auf dem Kanal festgelegt. Das festgelegte Potenzial verhindert eine Ausdehnung
der Verarmungsschicht ausgehend von der Drain zum Zeitpunkt des
Sperrens. Auf diese Weise wird es ermöglicht, die Kanallänge zu verkürzen, die
Sperrleistung zu erhöhen
und einen geringen Widerstand im geöffneten Zustand (Widerstand im
Zustand = Ein) zu erzielen.
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Andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der
Erfindung werden anhand der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele
der Erfindung im Zusammenhang mit den begleitenden Zeichnungen deutlich.
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Kurze Beschreibung der
Zeichnungen
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1 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein erstes Ausführungsbeispiel
der Erfindung zeigt.
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2A bis 2C sind Flussdiagramme, die
den Herstellungsprozess der Hauptteile der Halbleitereinrichtung
des ersten Ausführungsbeispiels
der Erfindung zeigen.
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3 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein zweites Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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4 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein drittes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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5A bis 5C sind Flussdiagramme, die
den Herstellungsprozess der Hauptteile der Halbleitereinrichtung
des zweiten Ausführungsbeispiels
der Erfindung zeigen.
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6 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein viertes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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7 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein fünftes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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8 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein sechstes Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung zeigt.
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9 ist
eine schematische Querschnittsdarstellung, die ein siebtes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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10A bis 10F sind Flussdiagramme,
die den Herstellungsprozess der Hauptteile der Halbleitereinrichtung
des siebenten Ausführungsbeispiels der
Erfindung zeigen.
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11 ist
eine perspektivische Ansicht der Halbleitereinrichtung des siebten
Ausführungsbeispiels
der vorliegenden Erfindung.
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Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele
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Ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
wir im Folgenden beschrieben. Eine Halbleitereinrichtung mit einer
Bandlücke
von 2,0 eV oder größer weist
zwei Hauptoberflächen
auf und verwendet ein Substrat mit einer geringen Dichte an einer Verunreinigung
eines ersten Leitfähigkeitstyps.
Der Halbleiter weist eine erste Zone auf, die als eine erste Hauptoberfläche auf
dem Substrat gebildet ist und einen zweiten Leitfähigkeitstyp
aufweist sowie einen Widerstand, der geringer ist als der des Substrates; eine
unter der ersten Zone gebildete Steuerelektrode und eine auf einer
zweiten Hauptoberfläche
des Substrats gebildete zweite Zone, die den gleichen Leitfähigkeitstyp
wie und einen geringeren Widerstand als das Substrat aufweist.
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Der Halbleiter hat außerdem eine
zweite auf der zweiten Zone gebildete Elektrode, eine auf der zweiten
Hauptoberfläche
des Substrats gebildete Zone vom gleichen Leitfähigkeitstyp und mit geringem
Widerstand als das Substrat, und eine auf der dritten Zone gebildete
dritte Elektrode.
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Die Oberfläche der dritten Zone ist auf
einem tieferen Niveau als der Boden der zweiten Zone, und die dritte
Zone schließt
an die erste Zone an. Das Halbleitermaterial, das für den erfindungsgemäßen Halbleiter
verwendet werden kann, ist Siliciumcarbid, Galliumnitrid, usw.,
mit einer Bandlücke
von 2,0 eV oder größer. Bei
einem anderen Ausführungsbeispiel der
Halbleitereinrichtung ist die zweite Zone derart ausgebildet, dass
sie auf einem Teil der zweiten Hauptoberfläche freigelegt ist.
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Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel
der Halbleitereinrichtung ist die dritte Zone auf einer Substratzone
gebildet, die gegenüber
dem Boden der zweiten Zone abgesenkt ist durch teilweises Entfernen
der zweiten Hauptoberfläche
des Substrats mit Ausnahme der zweiten Zone.
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Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel
der Halbleitereinrichtung ist eine vierte Elektrode durch eine Isolierschicht
auf einer Oberfläche
des abgesenkten Substrats und auf einer Oberfläche der dritten Zone gebildet,
und die dritte Elektrode und die vierte Elektrode sind kurzgeschlossen.
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Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel
der Halbleitereinrichtung ist eine Isolierschicht auf einer Oberfläche des
abgesenkten Substrats gebildet, eine vierte Elektrode ist über die
Isolierschicht gebildet, und die vierte Elektrode und die dritte
Elektrode sind kurzgeschlossen. Die Isolierschicht besteht aus SiO2 und wird dazu verwendet, die freigelegte
Oberfläche des Übergangs
der Halbleitereinrichtung zu schützen bzw.
zu stabilisieren (Passivierung), oder als Schicht zwischen der Elektrode
und dem Kanal zur Bildung einer MOS-Struktur.
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Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel
wird ein Siliciumcarbid-Halbleitersubstrat
mit einer geringen Verunreinigungsdichte vom ersten Leitfähigkeitstyp
verwendet. Eine Halbleitereinrichtung hat eine erste auf einer ersten
Hauptoberflächen
des Substrats gebildete erste Zone vom zweiten Leitfähigkeitstyp
mit einem geringeren Widerstand als das Substrat, eine auf der ersten
Zone gebildete Steuerelektrode und eine auf der zweiten Hauptoberfläche des Substrats
gebildete zweite Zone vom gleichen Leitfähigkeitstyp und mit geringem
Widerstand als das Substrat. Die Halbleitereinrichtung umfasst zudem eine
zweite auf der zweiten Zone gebildete Elektrode, eine auf der zweiten
Hauptoberfläche
des Substrats gebildete dritte Zone vom gleichen Leitfähigkeitstyp und
mit geringem Widerstand als das Substrat und eine auf der dritten
Zone gebildete dritte Elektrode.
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Die dritte Zone ist in einer Zone
gebildet, die durch Entfernung einer Substratzone mit Ausnahme der
zweiten Zone gebildet wurde, und eine Oberfläche der dritten Zone befindet
sich auf einem tieferen Niveau als der Boden der zweiten Zone, und
die dritte Zone grenzt an die erste Zone an. Die zweite Zone ist derart
ausgebildet, dass sie auf einem Teil der zweiten Hauptoberfläche freigelegt
ist.
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Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel
ist die zweite Zone in der oben beschriebenen Konfiguration derart
ausgebildet, dass die zweite Zone auf ei nem Teil der zweiten Hauptoberfläche freigelegt
ist, und eine vierte Elektrode ist durch eine Isolierschicht auf
einer Oberfläche
des abgesenkten Substrats und auf einer Oberfläche der dritten Zone gebildet,
und die dritte Elektrode und die vierte Elektrode sind kurzgeschlossen.
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Die vorliegende Erfindung wird im
Folgenden im Detail anhand einiger Ausführungsbeispiele beschrieben. 1 ist eine Darstellung,
die als erstes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung eine Querschnittsstruktur des Lateralkanal-SITs
zeigt. Bezugnehmend auf die Figur bezeichnet das Bezugszeichen 101 einen
p+-Halbleiterkörper, d.h. die Gatezone, das
Bezugszeichen 11 bezeichnet eine n–-Driftzone,
das Bezugszeichen 12 bezeichnet eine n+-Drainzone und das
Bezugszeichen 13 bezeichnet eine n+-Sourcezone. Das Bezugszeichen 21 bezeichnet
eine Gateelektrode 21, das Bezugszeichen 22 bezeichnet
eine Drain-elektrode und das Bezugszeichen 23 bezeichnet
eine Sourceelektrode. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird ein p-Typ
4H-SiC Halbleiterkörper
als p+-Gatezonen-Halbleiterkörper 101 verwendet.
Eine n-epitaktische Schicht mit einer Dicke von 1,0 μm und einer
Dichte von 2,0 × 1017 cm–3 wird als Driftzone 11 verwendet.
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Die 2A bis 2C sind Darstellungen, die den
Herstellungsprozess der Struktur dieses Ausführungsbeispiels zeigen. Wie
in 2A gezeigt, wächst die
hochdichte n+-Drainzone 12 epitaktisch auf
der n–-Driftzone 11 auf.
Als Dotierung wird Stickstoff mit einer Dichte von 1 × 102 cm–3 verwendet.
Als nächstes
wird, wie in 2B gezeigt,
ein Muster auf dem Maskenmaterial 41 aus SiO2 durch
fotolithographische Technologie ausgebildet sowie eine Zone 42,
die dem Kanal entspricht, und die Source wird durch Trockenätzen zur
Ausbildung eines Kanals der Dicke von 0,3 μm abgetragen. Dies verringert
die Dicke eines Teils der n–-Driftzone 11.
Die Oberfläche der
Zone ist gegenüber
der Unterseite der n+-Drainzone 12 abgesenkt,
d.h. gegenüber
einer Grenzfläche,
wo die n+-Drainzone 12 an die n–-Driftzone 11 angrenzt.
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Als nächstes wird durch fotolithographische Technologie
ein Muster auf dem Maskenmaterial 43 aus SiO2 erzeugt,
wie in 2C gezeigt, und
ein Stickstoffionenstrahl 44 wird zur Ausbildung einer n+-Sourcezone 13 durch Ionenimplantation
gerichtet, derart, dass die Sourcezone 13 an die Gatezone 101 angrenzt.
Nachfolgend wird ein Elektrodenmuster in der n+-Sourcezone zur Bildung
der in 1 gezeigten Struktur
ausgebildet. Der Kanal ist 0,5 μm
lang.
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Durch Verbindung der n+-Sourcezone 13 nicht über die
n–-Driftzone 11,
sondern direkt an die p+-Gatezone 101,
wie bei diesem Ausführungsbeispiel,
wird es ermöglicht
den Elektrodenstrom direkt von der Source in den Kanal nicht über die
Hochwiderstandsschicht fließen
zu lassen, die die Ursache für
einen Anstieg des Widerstands im geöffneten Zustand ist. Hierdurch
werden eine Stehspannung von 140 V und ein Widerstand im geöffneten
Zustand von 0,5 mΩ × cm2 erreicht.
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3 ist
eine Darstellung, die ein zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung und eine Querschnittsstruktur eines Lateral-SITs zeigt. Bei
diesem Ausführungsbeispiel
wird die Ionenimplantation zur Ausbildung einer n+-Drainzone 12 verwendet.
Gleiche Bezugszeichen wie in 1 bezeichnen
gleiche strukturelle Teile. Die Struktur unterscheidet sich von
der in 1 gezeigten dadurch, dass
eine n+-Drainzone 12 auf einer
n–-Driftzone 11 durch
Ionenimplantation ausgebildet ist. Das Übergangsende der Drainzone 12 ist
auf einer zweiten Hauptoberfläche
des ersten Substrats, das eine n–-Driftzone 11 darstellt,
freigelegt.
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Die 5A bis 5C sind Darstellungen, die den
Herstellungsprozess des zweiten Ausführungsbeispiels zeigen. Nach
dem epitaktischen Aufwachsen der n–-Driftzone 11 mit
einer Dicke von 0,7 μm und
einer Dichte von 2,0 × 1017 cm–3 auf einem p+-Halbleiterkörper, der eine Gatezone 101 darstellt, wird
durch Fotolithographie ein Muster auf einem Maskenmaterial 41 aus
SiO2 ausgebildet, wie in 5A gezeigt, danach werden eine dem Kanal
entsprechende Zone 42 und die Source abgetragen. Als nächstes wird,
wie in 5B gezeigt, eine
n–-Kanalschicht 111 mit
einer Dicke von 0,3 μm
und einer Dichte von 2,0 × 1017 cm–3 durch epitaktisches Wachstum
gebildet.
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Danach wird durch Fotolithographie,
wie in 5C gezeigt, ein
Muster auf einem Maskenmaterial 43 aus SiO2 erzeugt,
und eine n+-Sourcezone 131 wird
durch Ionenimplantation derart ausgebildet, dass sie an den p+-Halbleiterkörper, der die Gatezone 101 darstellt,
schließt.
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Danach wird ein Elektrodenmuster
auf der n+-Sourcezone 131 zur Ausbildung
der in 3 gezeigten Struktur
erzeugt. Der Kanal ist 0,5 μm
lang. Wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel
werden bei diesem Ausführungsbeispiel
eine Stehspannung von 140 V und ein Widerstand im geöffneten
Zustand von 0,5 mΩ × cm2 erzielt.
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Bei diesem Ausführungsbeispiel wird ein vorbestimmter
Teil der n–-Driftzone 11 einmal
in seiner Gesamtheit entfernt, um die Kanaldicke präzise zu steuern.
Da sich die Leitfähigkeit
der n–-Driftzone 11 von
der des p+-Halbleiterkörpers 101 bei dem
zweiten Ausführungsbeispiel
unterscheidet, kann der Endpunkt in einfacher Weise bestimmt werden.
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Danach wird eine n–-Kanalschicht 111 durch epitaktisches
Wachstum erzeugt. Die Fähigkeit
zur präzisen
Steuerung der Dicke des epitaktischen Wachstums der n–-Kanalschicht 111 macht
es einfach, die Dicke der Kanalschicht zu steuern und Schwankungen
der Eigenschaften zu verhindern. Bezugnehmend auf die 3, die das zweite Ausführungsbeispiel
zeigt, ist ein Teil des Übergangsendes
der n+-Drainzone 12 auf der zweiten
Hauptfläche der
Driftzone 11 freigelegt.
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4 ist
eine Darstellung eines dritten Ausführungsbeispiels der vorliegenden
Erfindung und zeigt eine Querschnittsstruktur eines Lateral-SITs. Gleiche
Bezugszeichen wie in den 1 und 3 bezeichnen gleiche strukturelle
Teile. Diese Struktur unterscheidet sich von der in den 1 und 3 gezeigten dadurch, dass eine SiO2-Oxidschicht 30 auf der Oberfläche und
am Ende einer n+-Drainzone 12,
auf der Seite einer n–-Driftzone 11, auf der Oberfläche des
Kanals und auf der Oberfläche
einer n+-Sourcezone 13 gebildet
ist. Diese Schicht schützt
die freigelegte Oberfläche
der Zonen. Bei diesem Ausführungsbeispiel
beträgt
die Stehspannung 140 V und ein Widerstand im geöffneten Zustand von 0,5 mΩ × cm2 kann erzielt werden, wie bei dem ersten
Ausführungsbeispiel.
Dies verhindert eine Verschlechterung der Eigen-schaften mit zunehmender
Alterung.
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6 ist
eine Darstellung, die ein viertes Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung zeigt und eine Querschnittstruktur eines Lateral-SITs veranschaulicht.
Gleiche Bezugszeichen wie in 3 bezeichnen
gleiche strukturelle Teile. Die Struktur dieses Ausführungsbeispiels ähnelt der
des zweiten Ausführungsbeispiels,
mit der Ausnahme, dass eine SiO2-Oxidschicht 30 zum
Schutz der Oberseite der Driftzone 11 und der n+-Drainzone 12 ausgebildet
ist, wie bei dem dritten Ausführungsbeispiel.
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Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Drainelektrode 22 innenseitig
einer n+-Drainzone 12 vorgesehen,
d.h. innerhalb einer Grenze zwischen der n+- Drainzone 12 und
der Driftzone 11, wobei die n+-Drainzone 12 hin
zu der zweiten Hauptoberfläche der
Driftzone 11 freigelegt ist. D.h. die Drainelektrode 22 ist
derart ausgebildet, dass sie nicht mit dem Übergangsende der n+-Drainzone 12 überlappt.
Wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel
kann bei diesem Ausführungsbeispiel
eine Stehspannung von 140 V und ein Widerstand im geöffneten
Zustand von 0,5 mΩ × cm2 erzielt
werden. Dies verhindert eine Verschlechterung der Eigenschaften
mit zunehmender Alterung.
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7 ist
eine Darstellung, die ein fünftes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung zeigt und die Struktur eines Lateral-SITs
im Querschnitt veranschaulicht. Gleiche Bezugszeichen wie bei 6 bezeichnen gleiche strukturelle
Teile. Dieses Ausführungsbeispiel
ist ähnlich
dem vierten Ausführungsbeispiel,
mit der Ausnahme, dass zur Verringerung der elektrischen Feldintensität um eine n+-Drainzone 12 herum eine Drainelektrode 22 sich über die
n+-Drainzone 12 erstreckt, d.h. über eine Grenze
zwischen der n+-Drainzone 12 und
der Driftzone 11 zur Erzeugung des Feldplatteneffekts (field plate
effect). Dies ergibt nicht nur ähnliche
Eigenschaften wie bei dem ersten Ausführungsbeispiel, sondern stabilisiert
zusätzlich
die Eigenschaften.
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8 ist
eine Darstellung, die ein sechstes Ausführungsbeispiel der Erfindung
veranschaulicht und eine Querschnittstruktur eines Lateral-SITs
zeigt. Gleiche Bezugszeichen wie in 4 bezeichnen gleiche
strukturelle Teile. Dieses Ausführungsbeispiel ähnelt dem
dritten Ausführungsbeispiel,
mit der Ausnahme, dass sich eine Sourceelektrode 23 in
die Richtung des Kanals erstreckt, derart, dass die Sourceelektrode
eine SiO2-Schicht 30 auf der Oberseite des
Kanals abdeckt. Die Elektrode oberhalb des Kanals, die bezüglich ihrer
Funktion einer Gateelektrode einer MOS-Struktur ähnelt, erzeugt den Effekt einer
Kanalverarmung. D.h. die Elektrode arbeitet mit der Verarmungschicht,
die sich von einem Gatezonen-p+-Halbleiterkörper erstreckt,
um die SIT-Sperreigenschaften zu verbessern.
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Außerdem kann aufgrund der Tatsache, dass
das elektrische Potenzial auf der Oberseite des Kanals festgelegt
ist, eine Ausdehnung des elektrischen Feldes in den Kanal hinein
selbst im Sperrzustand gesperrt werden. Aufgrund dessen kann der Kanal
verkürzt
werden. Gemäß diesem
Ausführungsbeispiel
kann der Kanal um 30 % verkürzt
werden, was zu einer Stehspannung von 140 V bei einer Kanallänge von
0,35 μm
führt,
bei einer Spannung der Gateelektrode 21 von 0 V, und der
Widerstand im eingeschalteten Zustand kann auf 0,4 mΩ × cm2 verringert werden.
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9 ist
eine Darstellung, die ein siebtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung veranschaulicht und eine Querschnittsstruktur eines Lateral-SITs
zeigt. 11 ist eine perspektivische
Ansicht des in 9 gezeigten
Halbleiters. Gleiche Bezugszeichen wie in 9 bezeichnen gleiche strukturelle Teile.
Bei diesem Ausführungsbeispiel
ist die Tiefe die lange Seite. Die obere Struktur des Kanals, die
mit der Sourceelektrode 23 integriert ist, erhöht den Sperreffekt
im ausge-schalteten Zustand. Daher ist es wünschenswert, dass diese Struktur
quer über die
Kanalbreite (Tiefenrichtung) ausgebildet ist, wie bei diesem Ausführungsbeispiel.
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Gleiche Bezugszeichen in 6 bezeichnen gleiche strukturelle
Teile. Dieses Ausführungsbeispiel ähnelt dem
vierten Ausführungsbeispiel,
mit der Ausnahme, dass sich die Sourceelektrode 23 in Richtung
des Kanals erstreckt, derart, dass die Sourceelektrode eine SiO4-Schicht 30 auf der Oberseite des Kanals
abdeckt. Die 10A bis 10F veranschaulichen den
Herstellungsprozess dieser Struktur. Wie in 10A gezeigt, wird eine Zone 42,
die dem Kanal und der Source entspricht, entfernt, nachdem eine n–-Driftzone 11 epitaktisch
gewachsen ist, wie bei dem zweiten Ausführungsbeispiel, und dann wird eine
Kanalschicht 11 durch epitaktisches Wachstum erzeugt, wie
in 10B gezeigt.
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Als nächstes wird eine der Drain
entsprechende Zone 121 und eine der Source entsprechende
Zone 131 durch Ionimplantation erzeugt, wie in 10C gezeigt. Nach Fehlererholungs-/Aktivierungsglüh-Behandlung
werden durch thermische Oxidation die SiO2-Schichten 30 und 31 ausgebildet, wie
in
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10D gezeigt.
Dann wird ein Kontaktfenster auf der Oberseite der n+-Drainzone 12 und
auf der Oberseite eine n+-Sourcezone 13 gebildet
und nach dem Aufdampfen einer Metalelektrode, wie z.B. einer Nickelelektrode,
wird eine Elektrode 47 auf der Oberseite eines Resists 46 durch
ein Lift-Off-Verfahren entfernt.
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Nachfolgend wird eine Legierungs-Temperaturbehandlung
durchgeführt
und eine Legierungs-Drainelektrode 221, die mit der n+-Drainzone 12 legiert ist und eine
Legierungs-Sourcelektrode 231, die mit der n+-Sourcezone 13 legiert
ist, ausgebildet, wie in 10E gezeigt.
Abschließend
wird Metall, wie z.B. Al, über
die gesamte Oberfläche
aufgedampft und eine nicht notwendige Zone 48 zwischen
dem Kanal und der Drain wird, wie in 10F gezeigt,
entfernt, um die Struktur dieses Ausführungsbeispiels, das in 9 gezeigt ist, herzustellen.
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Wie bei dem sechsten Ausführungsbeispiel kann
eine Stehspannung von 140 V für
eine Kanallänge
von 0,35 μm
erzielt werden bei einer Spannung der Gateelektrode 21 bei
0 V und zusätzlich
beträgt der
Widerstand im geöffneten
Zustand 0,4 mΩ × cm2. Epitaktisches
Wachstum, das zur Ausbildung des Kanals verwendet wird, ermöglicht es,
die Kanaldicke präzise
zu steuern, minimiert Schwankungen der Eigenschaften und erhöht die Ausbeute.
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Die erfindungsgemäße Halbleitereinrichtung macht
bei Verwendung als Schalteinrichtung eines Inverters den Betrieb über das
Gate einfach und verringert aufgrund eines besseren Sperreffekts
und eines geringeren Widerstands im geöffneten Zustand gleichzeitig
den Verlust.
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Dem Fachmann ist bewusst, dass, obgleich die
Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele erfolgt,
die Erfindung nicht auf die hier angeführten Ausführungsbeispiele beschränkt ist
und verschiedene Änderungen
und Modifikationen möglich
sind ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen, der durch die nachfolgenden
Ansprüche
festgelegt wird.