DE10250564A1 - Coating products, optics and automobile windows involves preparing substrate, coating with anti-reflective system, then coating with working layer to, e.g., resist scratches - Google Patents

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Abstract

The substrate (2) is prepared. The product (1) is coated with a first anti-reflective arrangement (10). It is then coated with a working layer (30), placing the anti-reflective layer between itself (30) and the substrate. An Independent claim is included for the corresponding product.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche, ein beschichtetes Erzeugnis, eine Vorrichtung zur Beschichtung des Erzeugnisses sowie Produkte aus dem Erzeugnis.The invention relates to a method for coating a surface, a coated product, a device for coating the Product as well as products from the product.

Optische Elemente, z.B. optische Linsen werden bislang häufig aus Glas hergestellt. Glas hat den Vorteil, dass es hohe Qualitätsanforderungen hinsichtlich der Oberflächengüte, -härte und der Bearbeitbarkeit der Oberfläche, z.B. Polierbarkeit und Beschichtbarkeit erfüllt.Optical elements, e.g. optical So far, lenses have become common made of glass. Glass has the advantage that it has high quality requirements with regard to surface quality, hardness and the machinability of the surface, e.g. Polishability and coatability met.

Andererseits besteht ein großer Bedarf an Ersatzmaterialen für Glas, da Glas ein hohes Gewicht aufweist und zum Teil aufwendig herzustellen und zu verarbeiten ist. Aufgrund ihres zumeist deutlich geringeren Gewichts, ihrer einfachen Handhabung und kostengünstigen Massenherstellung finden diesbezüglich transparente Kunststoffe mehr und mehr Verwendung in traditionellen Glasanwendungsgebieten.On the other hand, there is a great need of replacement materials for Glass, since glass is heavy and sometimes complex is to be manufactured and processed. Because of their mostly clear lighter weight, easy to use and inexpensive Mass production can be found in this regard transparent plastics more and more use in traditional Glass applications.

Der Vorteil des geringeren Gewichts von Kunststoffen ist z.B. für die Verwendung als Material für Brillenlinsen besonders interessant, da das Gewicht einer Brille mit Glaslinsen im wesentlichen durch das Linsengewicht bestimmt wird und hier folglich ein erhebliches Gewichtseinsparpotential besteht. Andererseits besteht eine große Nachfrage nach leichten und komfortablen Brillen. Daher erfreuen sich Kunststofflinsen für Brillen immer größerer Beliebtheit.The advantage of lower weight of plastics is e.g. For the use as material for Spectacle lenses are particularly interesting because of the weight of a pair of glasses with glass lenses essentially determined by the lens weight and consequently there is considerable weight saving potential consists. On the other hand, there is a great demand for light ones and comfortable glasses. Therefore, plastic lenses for glasses always enjoy more popular.

Aber auch in anderen Bereichen wie z.B. im Automobilbau besteht ein immerwährender Bedarf an Gewichtsreduzierung und Kostenersparnis, weshalb auch in diesem Bereich transparente Kunststoffe mehr und mehr Glas verdrängen. Beispielhaft sind hier Scheinwerferabdeckungen genannt. Insbesondere auch im Fahrzeuginnenraum werden Kunststoffdisplays verwendet, damit im Falle eines Unfalls keine Glassplitter zu Verletzungen führen.But also in other areas like e.g. There is an ongoing need for weight reduction in automotive engineering and cost savings, which is why transparent in this area too Plastics are increasingly displacing glass. Examples are here Called headlight covers. Especially in the vehicle interior plastic displays are used so that in the event of an accident no broken glass can cause injury.

Kunststoffe besitzen aber auch erhebliche Nachteile gegenüber Glas.But plastics also have considerable ones Disadvantages compared Glass.

Für die Anwendung im Automobilbereich sind transparente Kunststoffe häufig nicht ausreichend UV-beständig.For transparent plastics are used in the automotive sector frequently not sufficiently UV-resistant.

Ferner ist die Beständigkeit gegenüber Chemikalien zumeist schlechter als bei Glas.Furthermore, the durability across from Chemicals are usually worse than glass.

Besonders nachteilig ist aber die hohe Kratzempfindlichkeit von Kunststoffen, insbesondere z.B. bei kostengünstigen Polycarbonaten.But that is particularly disadvantageous high scratch sensitivity of plastics, especially e.g. at inexpensive Polycarbonates.

Aus diesem Grund werden Kunststoffoberflächen durch Aufbringen einer Kratzschutz- oder Antikratzschicht gehärtet. Als Antikratzschicht wird z.B. eine Siliziumdioxidschicht aufgedampft oder ein Epoxidlack aufgetragen. Allerdings sind die Haftungseigenschaften der Antikratzschicht relativ schlecht, wenn diese mit einem physikalischen Aufdampfverfahren unmittelbar auf einem Kunststoffsubstrat aufgebracht wird.For this reason, plastic surfaces are through Application of a scratch protection or anti-scratch layer hardened. As Anti-scratch layer is e.g. a silicon dioxide layer is deposited or applied an epoxy paint. However, the adhesive properties the anti-scratch layer is relatively poor when using a physical vapor deposition process is applied directly to a plastic substrate.

Daher wird typischerweise eine Haftvermittlerschicht unter der Antikratzschicht aufgebracht.Therefore, an adhesion promoter layer is typically used applied under the anti-scratch layer.

Ein weiterer Aspekt neben der Kratzempfindlichtkeit sind die Reflexionseigenschaften des Substrats oder Erzeugnisses. Um die Reflektanz zu verringern, wurde bereits 1935 von A. Smakula in der Patentschrift DE-PS-685 767 von der Firma Carl Zeiss vorgeschlagen, einen dünnen Antireflexfilm aufzutragen. Diese revolutionäre Erfindung wird in ihren Grundzügen, z.B. bei optischen Linsen, noch heute angewendet.Another aspect in addition to the sensitivity to scratching is the reflective properties of the substrate or product. In order to reduce the reflectance, A. Smakula wrote in the patent as early as 1935 DE-PS-685 767 proposed by Carl Zeiss to apply a thin anti-reflective film. The basic features of this revolutionary invention are still used today, for example in the case of optical lenses.

So wird z.B. in der Druckschrift EP-A-0 619 504 vorgeschlagen, einen Antireflexbelag aus MgF2 auf Brillengläsern z.B. aus Polycarbonat unter Zwischenschaltung weiterer Schichten aufzubringen. Bei diesem Verfahren wird eine Haftschicht z.B. aus SiOX aufgedampft und eine Hartschicht z.B. als Lack aufgetragen. Dieses Verfahren leidet aber unter zwei wesentlichen Nachteilen.For example, in the publication EP-A-0 619 504 proposed applying an anti-reflective coating made of MgF 2 to spectacle lenses, for example made of polycarbonate, with the interposition of further layers. In this method, an adhesive layer, for example made of SiO X, is evaporated and a hard layer is applied, for example, as a lacquer. However, this process suffers from two major disadvantages.

Erstens werden auf dasselbe Brillenglas Schichten mit unterschiedlichen Verfahren aufgebracht, so dass sich die Herstellung kompliziert, langwierig und daher kostenaufwendig gestaltet.First, be on the same lens Layers applied with different processes, so that the production is complicated, lengthy and therefore expensive designed.

Zweitens beeinträchtigen bei diesem Verfahren die Haftschicht und die Hartschicht die entspiegelnde Wirkung der Antireflexschicht erheblich, so dass die erzielten Reflexionseigenschaften verbesserungswürdig sind.Second, interfere with this procedure the adhesive layer and the hard layer the anti-reflective effect of Antireflection layer considerably, so that the achieved reflection properties are in need of improvement.

Davon ausgehend ist es eine Aufgabe der Erfindung, eine Entspiegelung bereitzustellen, welche in Zusammenwirken mit einer Nutzschicht, insbesondere einer Antikratzschicht und/oder mit einer Haftvermittlerschicht eine geringe Reflektanz aufweist.Based on this, it is a task of the invention to provide an anti-reflective coating which cooperate with a wear layer, in particular an anti-scratch layer and / or has a low reflectance with an adhesion promoter layer.

Noch eine Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum effizienten, einfachen und/oder kostengünstigen Aufbringen von insbesondere multifunktionalen Schichten oder Schichtsystemen auf ein Substrat zur Verfügung zu stellen.Another object of the invention is es, a process for efficient, simple and / or inexpensive Application of multifunctional layers or layer systems in particular available on a substrate to deliver.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Entspiegelung bereitzustellen, welche über dem gesamten sichtbaren Wellenlängenbereich eine geringe Reflektanz aufweist.Another object of the invention is to provide an anti-reflective coating, which over the entire visible wavelength range has a low reflectance.

Noch eine Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelung für ein Erzeugnis, bzw. ein solches Erzeugnis bereitzustellen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet oder zumindest mindert.Another object of the invention is it, a process for producing an anti-reflective coating for a product, or to provide such a product which has the disadvantages of the prior art avoided or at least reduced.

Die Aufgabe der Erfindung wird in überraschend einfacher Weise bereits durch den Gegenstand der Ansprüche 1 und 19 gelöst.The object of the invention is already surprisingly simple by the subject of Claims 1 and 19 solved.

Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche. Anspruch 36 betrifft eine erfindungsgemäße Beschichtungsvorrichtung und Anspruch 37 ein erfindungsgemäßes Zwischen- oder Endprodukt.Developments of the invention are Subject of the subclaims. Claim 36 relates to a coating device according to the invention and claim 37 an intermediate or end product according to the invention.

Erfindungsgemäß wird bei dem Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche eines Erzeugnisses, z.B. eines optischen Elements zunächst ein Substrat bereitgestellt. Daraufhin wird das Erzeugnis mit einer ersten Entspiegelungsschichtanordnung beschichtet, die gleichzeitig als Haftvermittler dient. Ferner wird das Erzeugnis mit einer Nutzschicht, z.B. einer Nutzschicht mit chemischer und/oder mechanischer Funktionalität, insbesondere einer Schutzschicht beschichtet, wobei die erste Entspiegelungsschichtanordnung unter der Nutzschicht oder zwischen der Nutzschicht und dem Substrat angeordnet wird.According to the invention, the method for Coating a surface a product, e.g. of an optical element first Substrate provided. The product is then marked with a first anti-reflective coating arrangement coated, the same time serves as an adhesion promoter. Furthermore, the product with a wear layer, e.g. a wear layer with chemical and / or mechanical functionality, in particular coated with a protective layer, the first anti-reflective layer arrangement under the wear layer or between the wear layer and the substrate is arranged.

Dabei ist das Beschichten des Erzeugnisses derart zu verstehen, dass entweder unmittelbar auf das Substrat oder auf bereits auf dem Substrat vorhandene Schichten beschichtet wird. Vorzugsweise wird also zuerst die erste Entspiegelungsschichtanordnung, insbesondere unmittelbar auf das Substrat, und danach die Nutzschicht, insbesondere unmittelbar auf die erste Entspiegelungsschichtanordnung aufgebracht.Here is the coating of the product to be understood in such a way that either directly on the substrate or coated on layers already present on the substrate becomes. The first antireflection layer arrangement is therefore preferred first, especially directly on the substrate, and then the wear layer, in particular directly on the first anti-reflective layer arrangement applied.

Die erfindungsgemäße Reihenfolge, die erste Entspiegelungsschichtanordnung unter der Nutzschicht anzuordnen, stellt einen höchst überraschenden Ansatz dar, da bislang üblicherweise Antireflexschichten zuoberst oder zuletzt aufgebracht wurden.The sequence according to the invention, the first anti-reflective layer arrangement Arranging it under the wear layer is a very surprising approach because so far usually Anti-reflective layers were applied on top or last.

Die Erfinder haben jedoch festgestellt, dass die erfindungsgemäße Anordnung ebenfalls eine sehr effektive Verringerung der Reflektanz auf zumindest den Wert eines nicht mit einer Nutzschicht belegten Substrates bewirkt. Ein weiterer Vorteil ist, dass die Entspiegelungsschichtanordnung unter der Nutzschicht gegen äußere Einflüsse wie Kratzer geschützt ist, insbesondere, wenn die Nutzschicht als Antikratzschicht ausgebildet ist.However, the inventors have found that the arrangement according to the invention also a very effective reduction in reflectance to at least causes the value of a substrate not covered with a wear layer. Another advantage is that the anti-reflective coating arrangement under the wear layer against external influences such as Scratch protected is, especially if the wear layer is formed as an anti-scratch layer is.

Zusätzlich kann eine zweite Entspiegelungsschichtanordnung vorgesehen werden, was die Wirksamkeit der Entspiegelung weiter verbessert, so dass in dieser Kombination eine erheblich reduzierte Reflektanz gegenüber dem vorstehend genannten Stand der Technik erzielt wird. Die erste und/oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung umfassen bevorzugt jeweils zumindest eine hochbrechende erste und eine niedrigbrechende zweite Schicht, wobei insbesondere die erste und/oder zweite Schicht der ersten Entspiegelungsschichtanordnung aus demselben Material bestehen wie die erste bzw. zweite Schicht der zweiten Entspiegelungsschichtanordnung.In addition, a second anti-reflective coating arrangement be provided, which further the effectiveness of the anti-reflective coating improved so that in this combination a significantly reduced Reflectance towards the above-mentioned prior art is achieved. The first and / or second anti-reflective layer arrangement preferably comprise at least one high refractive first and one low refractive second layer, in particular the first and / or second layer the first anti-reflective layer arrangement made of the same material consist like the first or second layer of the second anti-reflective layer arrangement.

Als besonders vorteilhaftes Verfahren für das Aufbringen der Schichten, z.B. der Nutzschicht, der ersten und/oder zweiten Entspiegelungsschichtanordnung und/oder weiterer einzelner oder aller Schichten hat sich die chemische Dampfabscheidung (chemical vapor deposition, CVD) erwiesen. Besonders hervorzuheben sind Plasma-unterstützte CVD-Verfahren (Plasma assisted CVD, PACVD) oder Plasma-verstärkte CVD-Verfahren (Plasma enhanced CVD, PECVD). Hierbei wird das abzuscheidende Material mittels eines Niedertemperatur-Plasmas zur Verfügung gestellt. Besonders bevorzugt sind gepulste Plasma-unterstütze CVD-Verfahren (Plasma Impulse CVD, PICVD). Bei diesen wird das Plasma durch eine gepulste Gleichstrom- (DC), Hochfrequenz- (HF) oder Mikrowelleneinstrahlung (MW) gezündet, wobei Pulsdauer und -frequenz der elektromagnetischen Welle einstellbar und/oder variierbar sind.As a particularly advantageous method for the Application of the layers, e.g. the wear layer, the first and / or second anti-reflective layer arrangement and / or further individual chemical vapor deposition (chemical vapor deposition, CVD). Plasma-assisted CVD processes are particularly noteworthy (Plasma assisted CVD, PACVD) or plasma enhanced CVD (plasma enhanced CVD, PECVD). Here, the material to be separated is removed by means of of a low-temperature plasma. Particularly preferred are pulsed plasma-assisted CVD processes (Plasma Impulse CVD, PICVD). In these, the plasma is through a pulsed direct current (DC), radio frequency (HF) or microwave radiation (MW) ignited, pulse duration and frequency of the electromagnetic wave adjustable and / or are variable.

Vorteilhafterweise ist die thermische Belastung des Substrats bei dem gepulsten Verfahren gegenüber kontinuierlichen Verfahren herabgesetzt, was besonders für Kunststoffsubstrate interessant ist.The thermal is advantageous Stress of the substrate in the pulsed process compared to continuous Process reduced, which is particularly interesting for plastic substrates is.

Durch die Verwendung eines CVD-Verfahrens zur Abscheidung der Schichten ergibt sich der synergetische Effekt, dass das Substrat in einem einheitlichen Produktionsablauf, in ein und derselben Beschichtungsanlage, z.B. in demselben Rezipienten, verbleibt und nicht für verschiedene Schichten verschiedene Verfahren eingesetzt werden. Dieser enorme Kosten- und Zeitvorteil kommt besonders zum Tragen, wenn die Antikratzschicht und die erste Entspiegelungsschichtanordnung und/oder eine Haftvermittlerschicht mit demselben Verfahren, z.B. PICVD aufgedampft werden, da bisher die Antikratzschicht häufig als Lack aufgetragen wurde. Bevorzugt werden also zumindest die erste Entspiegelungsschichtanordnung und die Nutzschicht, vorzugsweise aber auch einzelne, mehrere oder alle weiteren Schichten zumindest teilweise mit demselben Verfahren aufgebracht oder aufgedampft.By using a CVD process the synergetic effect results for the deposition of the layers, that the substrate in a single production process, in one and the same coating system, e.g. in the same recipient, remains and not for different layers different processes are used. This enormous cost and time advantage is particularly noticeable, if the anti-scratch layer and the first anti-reflective layer arrangement and / or an adhesion promoter layer using the same method, e.g. PICVD can be evaporated, as the anti-scratch layer has often been used up to now Lacquer was applied. At least the first are therefore preferred Anti-reflective coating arrangement and the wear layer, preferably but also individual, several or all further layers at least partially applied or evaporated using the same method.

Weiter vorteilhaft ist, dass die erste und/oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung, die Nutzschicht und/oder einzelne, mehrere oder alle weiteren Schichten aus demselben, insbesondere gasförmigen Ausgangsmaterial, einem sogenannten "Precursor", z.B. TiCl4 oder Hexamethyldisiloxan (HMDSO)- oder aus einer Mischung aus diesen, erzeugt werden können. Hierzu werden insbesondere nur Verfahrensparameter während des Beschichtens, wie z.B. Gasdruck, Gaszusammensetzung, Pulsdauer, Pulsfrequenz und/oder Mikrowellenleistung variiert.It is further advantageous that the first and / or second anti-reflective layer arrangement, the wear layer and / or individual, several or all further layers made from the same, in particular gaseous starting material, a so-called "precursor", for example TiCl 4 or hexamethyldisiloxane (HMDSO) - or from one Mixture of these, can be generated. For this purpose, in particular only process parameters such as gas pressure, gas composition, pulse duration, pulse frequency and / or microwave power are varied during coating.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die erste und/oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung mehrschichtig, d.h. umfassen zumindest 2, 3, 4, 5 oder 6 Schichten. Insbesondere ist der Brechungsindex zumindest einer Schicht, z.B. der Substrat-nächsten Schicht der ersten und/oder zweiten Entspiegelungsschichtanordnung höher als der Brechungsindex des Substrats.According to a particularly preferred embodiment the invention are the first and / or second anti-reflective coating arrangement multilayer, i.e. comprise at least 2, 3, 4, 5 or 6 layers. In particular, the refractive index of at least one layer, e.g. the substrate next layer the first and / or second anti-reflective layer arrangement higher than the refractive index of the substrate.

Ferner ist der Brechungsindex der unmittelbar an die Substrat-nächste Schicht angrenzenden Schicht vorzugsweise geringer als der Brechungsindex der Substrat-nächsten Schicht. Als hochbrechende Schichten werden vorzugsweise Metalloxide verwendet.Furthermore, the refractive index is the layer immediately adjacent to the next layer to the substrate preferably less than the refractive index of the next layer to the substrate. Metal oxides are preferably used as the high-index layers.

Bevorzugt wird das Erzeugnis mit einer Haftvermittlerschicht beschichtet, welche insbesondere unmittelbar auf dem Substrat aufgebracht wird.The product is preferred with an adhesion promoter layer coated, which in particular immediately is applied to the substrate.

Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Haftvermittlerschicht ein optisch funktionaler Bestandteil der ersten Entspiegelungsschichtanordnung, d.h. sie wirkt mittels ihrer Brechungseigenschaften an der Verringerung der Reflektanz mit.According to an advantageous development the adhesion promoter layer is an optically functional component the first anti-reflective layer arrangement, i.e. it works by means of their refractive properties to reduce reflectance With.

Bevorzugt umfassen dabei die Haftvermittlerschicht, die erste und/oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung eine oder mehrere Schichten, welche ein Metall, eine Metallverbindung und/oder ein Metalloxid, insbesondere TiO2, Al2O3, Ni2O5, Ta2O5, Ti2O5, ZrO2 und/oder CrO2 enthalten.The adhesion promoter layer, the first and / or second anti-reflective layer arrangement preferably comprise one or more layers which comprise a metal, a metal compound and / or a metal oxide, in particular TiO 2 , Al 2 O 3 , Ni 2 O 5 , Ta 2 O 5 , Ti 2 O 5 , ZrO 2 and / or CrO 2 included.

Vorzugsweise ist die Reihenfolge der Schichtanordungen unmittelbar oder unter Zulassung weiterer Schichten wie folgt:

  • – Substrat
  • – Haftvermittlerschicht
  • – erste Entspiegelungsschichtanordnung
  • – Antikratzschicht
  • – zweite Entspiegelungsschichtanordnung
  • – Luft
The sequence of the layer arrangements, directly or with the approval of further layers, is preferably as follows:
  • - substrate
  • - adhesion promoter layer
  • - First anti-reflective layer arrangement
  • - anti-scratch layer
  • - Second anti-reflective layer arrangement
  • - Air

Versuche haben gezeigt, dass eine mittels PICVD aufgebrachte Metalloxidhaftvermittlerschicht zu einer sehr guten Haftung auf Polycarbonat-Substraten führt. Dies gilt auch dann, wenn anschließend eine relativ dicke SiO2-Schicht als Antikratzschicht aufgebracht wird. Durch die hochbrechende Metalloxidhaftvermittlerschicht und eine nachfolgende Antikratzschicht aus z.B. SiO2 entstehen allerdings stärkere Interferrenzrippel als nur durch eine (üblicherweise dem Substrat im Brechungsindex ähnlichen) Antikratzschicht. Vorteilhafterweise wird erfindungsgemäß dennoch verhindert, dass starke Interferenzrippel durch die Antikratzschicht auftreten, so dass eine gegenüber herkömmlichen Verfahren verbesserte Entspiegelung erzielt wird.Tests have shown that a metal oxide adhesion promoter layer applied by means of PICVD leads to very good adhesion to polycarbonate substrates. This also applies if a relatively thick SiO 2 layer is subsequently applied as an anti-scratch layer. The highly refractive metal oxide adhesion promoter layer and a subsequent anti-scratch layer made of SiO 2 , for example, result in stronger interferential ripples than only an anti-scratch layer (usually similar to the substrate in the refractive index). Advantageously, according to the invention, it is nevertheless prevented that strong interference ripples occur through the anti-scratch layer, so that an anti-reflective coating which is improved compared to conventional methods is achieved.

Vorzugsweise umfasst die erste Haftvermittlerschicht eine erste hochbrechende Schicht, wobei unter hochbrechend insbesondere ein Material mit einem Brechungsindex von n = 1,7; 1,8; 1,9; 2,0; 2,1; 2,2; 2,3 oder 2,4 verstanden wird.The first adhesion promoter layer preferably comprises a first high refractive index layer, with high refractive index in particular a material with a refractive index of n = 1.7; 1.8; 1.9; 2.0; 2.1; 2.2; 2,3 or 2,4 is understood.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung umfasst die erste Entspiegelungsschichtanordnung eine erste niedrigbrechende Schicht. Unter einer niedrigbrechenden Schicht wird insbesondere eine Schicht verstanden, welche einen Brechungsindex kleiner als den der Haftvermittlerschicht und/oder kleiner als 1,7; 1,6 oder 1,5 aufweist. Die erste niedrigbrechende Schicht schließt sich vorzugsweise unmittelbar angrenzend an die Haftvermittlerschicht auf deren Substrat-abgewandter Seite an.According to a preferred development According to the invention, the first anti-reflective layer arrangement comprises one first low refractive index layer. Under a low refractive index layer is understood in particular a layer which has a refractive index smaller than that of the adhesion promoter layer and / or smaller than 1.7; 1.6 or 1.5. The first low refractive index layer closes preferably immediately adjacent to the adhesion promoter layer on the side facing away from the substrate.

Ferner bevorzugt ist eine erste Entspiegelungsschichtanordnung aus 3, 5, 7 oder mehr Schichten, welche spiegelsymmetrisch bezüglich der Schichtmaterialien und/oder bezüglich der Schichtdicken ist. Alternativ sind auch 4, 6, 8 oder mehr bezüglich der Schichtmaterialien alternierende Schichten einsetzbar.A first anti-reflective layer arrangement is also preferred of 3, 5, 7 or more layers, which are mirror-symmetrical with respect to the Layer materials and / or regarding the layer thickness is. Alternatively, 4, 6, 8 or more with respect to the Layer materials alternating layers can be used.

Eine besonders effektive Entspiegelung wird erzielt, wenn das Substrat und die Gesamtheit der ersten Entspiegelungsschichtanordnung zusammen mit der Nutzschicht ein Index-Matching bezüglich der Brechungsindizes aufweisen. Ferner kann der äquivalente Brechungsindex der ersten Entspiegelungsschichtanordnung, insbesondere etwa in der Mitte in einem Intervall von +/– 50 % zwischen dem Brechungsindex des Substrats und der Nutzschicht liegen, um eine effektive Entspiegelung zu erzielen.A particularly effective anti-reflective coating is achieved when the substrate and the entirety of the first anti-reflective layer arrangement together with the wear layer an index matching regarding the Have refractive indices. Furthermore, the equivalent refractive index of the first anti-reflective layer arrangement, in particular approximately in the Middle in an interval of +/- 50 % between the refractive index of the substrate and the wear layer to achieve an effective anti-reflective coating.

Die Nutzschicht ist z.B. als Antikratzschicht und/oder als chemische Barriereschicht ausgebildet. Dabei weist die Nutzschicht insbesondere eine Dicke auf, welche um ein Vielfaches, z.B. mindestens 5-faches oder 10-faches größer ist als die Dicke der übrigen Schichten. Für die Antikratzschicht haben sich Siliziumverbindungen, insbesondere SiOXCYHZ besonders bewährt, da dessen mechanische und optische Eigenschaften vorteilhaft sind.The wear layer is designed, for example, as an anti-scratch layer and / or as a chemical barrier layer. The wear layer in particular has a thickness which is a multiple, for example at least 5 times or 10 times, greater than the thickness of the other layers. Silicon compounds, in particular SiO X C Y H Z, have proven particularly useful for the anti-scratch layer, since its mechanical and optical properties are advantageous.

Die Nutzschicht ist bevorzugt als Gradientenschicht, z.B. bezüglich ihrer Härte oder ihres Brechungsindex ausgebildet.The wear layer is preferred as Gradient layer, e.g. in terms of their hardness or their refractive index.

Als Substrat wird z.B. ein transparentes Material, insbesondere ein Kunststoff verwendet. Das Substrat weist hierbei einen Brechungsindex von n = 1,5; 1,6; 1,7; 1,8; 1,9; 2,0; 2,1; 2,2 oder 2,3 auf. Das Verfahren zur Entspiegelung einer Oberfläche eignet sich aber ebenfalls für die Beschichtung von Glas und anderen Materialien. Als Kunststoffe wurden erfolgreich Polycarbonate (PC) und Polymethylacrylate (PMA) beschichtet.As a substrate e.g. a transparent one Material, especially a plastic used. The substrate points here a refractive index of n = 1.5; 1.6; 1.7; 1.8; 1.9; 2.0; 2.1; 2,2 or 2,3. The method for anti-reflective treatment of a surface is suitable but also for the coating of glass and other materials. As plastics polycarbonates (PC) and polymethylacrylates (PMA) coated.

Vorzugsweise werden der Brechungsindex und/oder die Dicke einer, mehrerer oder aller Schichten derart aufeinander und/oder an den Brechungsindex des Substrats angepasst, dass das Erzeugnis eine verringerte Reflektanz aufweist.Preferably the refractive index and / or the thickness of one, several or all layers on top of each other and / or adapted to the refractive index of the substrate that the Product has a reduced reflectance.

Vorzugsweise wird die Nutzschicht über, d.h. substratferner, der ersten Entspiegelungsschichtanordnung und die zweite Entspiegelungsschichtanordnung über der Nutzschicht, jeweils unmittelbar oder unter Zulassung von weiteren Zwischenschichten aufgebracht.Preferably the wear layer is over, i.e. remote from the substrate, the first anti-reflective layer arrangement and the second anti-reflective layer arrangement over the wear layer, in each case immediately or with the approval of further intermediate layers applied.

Die erste Entspiegelungsschichtanordnung besitzt vorzugsweise eine Dicke von 10 nm bis 1000 nm, insbesondere 50 nm bis 200 nm.The first anti-reflective layer arrangement preferably has a thickness of 10 nm to 1000 nm, in particular 50 nm to 200 nm.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren wurde ein Erzeugnis hergestellt, welches eine mittlere Reflektanz von ≤ 4 %; 1,5 %; 1 % oder 0,5 % im Wellenlängenbereich zwischen 380 nm und 780 nm aufweist. Eine Rotverschiebung der Entspiegelung zur Nutzung der Erfindung im nahen und fernen Infrarot ist jedoch ebenso möglich.With the method according to the invention a product was manufactured which has a medium reflectance of ≤ 4%; 1.5%; 1% or 0.5% in the wavelength range has between 380 nm and 780 nm. A red shift in the anti-reflective coating to use the invention in the near and far infrared, however also possible.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die Figuren näher erläutert. Gleiche oder ähnliche Elemente sind dabei mit gleichen Bezugszeichen versehen.The invention is described below of preferred embodiments and explained in more detail with reference to the figures. Same or similar Elements are provided with the same reference symbols.

Kurzbeschreibung der FigurenSummary of the figures

Es zeigen:Show it:

1 ein erfindungsgemäßes Erzeugnis gemäß einer ersten Ausführungsform, 1 an inventive product according to a first embodiment,

2 einen Graph der Reflektanz als Funktion der Wellenlänge für die erste Ausführungsform, 2 3 shows a graph of the reflectance as a function of the wavelength for the first embodiment,

3 ein erfindungsgemäßes Erzeugnis gemäß einer zweiten Ausführungsform, 3 an inventive product according to a second embodiment,

4 wie 2, aber für die zweite Ausführungsform, 4 how 2 but for the second embodiment,

5 ein erfindungsgemäßes Erzeugnis gemäß einer dritten Ausführungsform, 5 an inventive product according to a third embodiment,

6 wie 2, aber für die dritte Ausführungsform, 6 how 2 but for the third embodiment,

7 ein erfindungsgemäßes Erzeugnis gemäß einer vierten Ausführungsform, 7 an inventive product according to a fourth embodiment,

8 wie 2, aber für die vierte Ausführungsform 8th how 2 but for the fourth embodiment

9 ein erfindungsgemäßes Erzeugnis gemäß einer fünften Ausführungsform, und 9 an inventive product according to a fifth embodiment, and

10 wie 2, aber für die fünfte Ausführungsform. 10 how 2 but for the fifth embodiment.

Detaillierte Beschreibung der Erfindungdetailed Description of the invention

Erste beispielhafte AusführungsformFirst exemplary embodiment

1 zeigt ein optisches Erzeugnis 1, umfassend ein transparentes Substrat 2 aus Polycarbonat, auf welches eine Entspiegelungsschichtanordnung 10 mittels CVD aufgebracht oder aufgedampft ist. Die Entspiegelungsschichtanordnung 10 umfasst mehrere optische Schichten oder Filme und zwar eine TiO2-Schicht 11, welche unmittelbar auf dem Substrat 2 aufgebracht ist, eine SiO2-Schicht, welche unmittelbar auf der TiO2-Schicht 11 aufgebracht ist und eine weitere TiO2-Schicht 13, welche unmittelbar auf der SiO2-Schicht 12 aufgebracht ist. Die Schichtdicken der beiden TiO2-Schichten 11, 13 betragen jeweils 5 nm und die Schichtdicke der SiO2-Schicht 12 beträgt 61,20 nm. Folglich ist die Entspiegelungsschichtanordnung in diesem Ausführungsbeispiel bezüglich der Schichtmaterialien und der Schichtdicken spiegelsymmetrisch. 1 shows an optical product 1 comprising a transparent substrate 2 made of polycarbonate, on which an anti-reflective layer arrangement 10 applied or evaporated by means of CVD. The anti-reflective coating arrangement 10 comprises several optical layers or films, namely a TiO 2 layer 11 which are directly on the substrate 2 is applied, a SiO 2 layer, which is directly on the TiO 2 layer 11 is applied and another TiO 2 layer 13 which are directly on the SiO 2 layer 12 is applied. The layer thicknesses of the two TiO 2 layers 11 . 13 are 5 nm and the layer thickness of the SiO 2 layer 12 is 61.20 nm. Consequently, the anti-reflective coating arrangement in this exemplary embodiment is mirror-symmetrical with regard to the coating materials and the coating thicknesses.

Unmittelbar auf der Entspiegelungsschichtanordnung, genauer unmittelbar auf der TiO2-Schicht 13 ist eine Nutzschicht, genauer eine Antikratzschicht 30 aus 2000 nm SiOXCYHZ aufgebracht.Immediately on the anti-reflective layer arrangement, more precisely directly on the TiO 2 layer 13 is a wear layer, more precisely an anti-scratch layer 30 applied from 2000 nm SiO X C Y H Z.

Um die Stöchiometrie der Antikratzschicht zu ermitteln, wurden XPS-Messungen an Schichten die mit 15 % HMDSO in Sauerstoff hergestellt wurden, durchgeführt. Dies entspricht etwa dem unteren Wert der für die Antikratzschichten verwendeten Konzentrationen. Da vorzugsweise die HMDSO-Konzentration während einer Gradientenschicht variiert wird, ist dies aber lediglich als Richtwert anzusehen.The stoichiometry of the anti-scratch layer XPS measurements were carried out on layers containing 15% HMDSO were made in oxygen. This corresponds approximately to that lower value of that for the Anti-scratch layers used concentrations. Because preferably the HMDSO concentration during a Gradient layer is varied, but this is only as a guide to watch.

Wasserstoff kann mit XPS nicht nachgewiesen werden, scheint allerdings nur in sehr geringen Konzentrationen vorzukommen.XPS cannot detect hydrogen appears, however, only in very low concentrations occur.

Das Ergebnis einer XPS-Messung ist wie folgt: The result of an XPS measurement is as follows:

Elementelement Atomprozento percent OO 54,554.5 SiSi 27,627.6 CC 17,717.7

Daraus ergibt sich folgendes Verhältnis:
SiO1,97C0,64 This results in the following relationship:
SiO 1.97 C 0.64

Unmittelbar auf der Antikratzschicht 30 ist eine zweite Entspiegelungsschichtanordnung 20 aufgebracht, welche eine TiO2-Schicht 21, eine SiO2-Schicht 22, eine TiO2-Schicht 23 und eine SiO2-Schicht 24 in dieser Reihenfolge umfasst. Die zweite Entspiegelungsschichtanordnung 20, genauer die SiO2-Schicht 24 bildet die oberste Schicht, d.h. die Schnittstelle zur Luft. Die Dicken und Brechungsindizes der Schichten sind in Tabelle 1 aufgeführt. Vorzugsweise liegen die jeweiligen Parameter auch bezüglich der weiteren nachfolgenden Tabellen in einem Bereich von +/– 50 %, besonders bevorzugt in einem Bereich von +/– 20 % und am meisten bevorzugt in einem Bereich von +/– 10 % um die aufgeführten Werte.Immediately on the anti-scratch layer 30 is a second anti-reflective coating arrangement 20 applied which is a TiO 2 layer 21 , an SiO 2 layer 22 , a TiO 2 layer 23 and an SiO 2 layer 24 in that order. The second anti-reflective coating arrangement 20 , more precisely the SiO 2 layer 24 forms the top layer, ie the interface to the air. The thicknesses and refractive indices of the layers are listed in Table 1. The respective parameters are preferably also in relation to the further successions the tables in a range of +/- 50%, particularly preferably in a range of +/- 20% and most preferably in a range of +/- 10% around the listed values.

Tabelle 1:

Figure 00140001
Table 1:
Figure 00140001

Die drei Schichten 11, 12 und 13 der ersten Entspiegelungsschichtanordnung 10 oder Vorabentspiegelung weisen einen äquivalenten Brechungsindex von n10 = 1,469 auf.The three layers 11 . 12 and 13 the first anti-reflective layer arrangement 10 or preliminary anti-reflective coatings have an equivalent refractive index of n 10 = 1.469.

Der Brechungsindex des Substrates 2, in diesem Ausführungsbeispiel Glas, beträgt n2 = 1,520. Somit liegt der Brechungsindex der Entspiegelungsschichtanordnung 10 genau zwischen dem Brechungsindex des Substrates 2 und der Antikratzschicht 30.The refractive index of the substrate 2 , in this exemplary embodiment glass, is n 2 = 1.520. The refractive index of the antireflection layer arrangement is thus 10 exactly between the refractive index of the substrate 2 and the anti-scratch layer 30 ,

Somit ist die TiO2-Schicht 11 derart ausgebildet, dass sie zwei Funktionen erfüllt. Sie ist erstens als Haftvermittlerschicht für den weiteren Schichtenaufbau und zweitens als ein optisch funktioneller Bestandteil der ersten Entspiegelungsschichtanordnung 10 ausgebildet.Thus, the TiO 2 layer 11 trained to perform two functions. It is firstly as an adhesion promoter layer for the further layer structure and secondly as an optically functional component of the first anti-reflective layer arrangement 10 educated.

Die Antikratzschicht 30 zusammen mit der ersten Entspiegelungsschichtanordnung 10 wirkt zumindest in einem gewissen Wellenlängenbereich wie in Index-Matching und die darauffolgende zweite Entspiegelungsschichtanordnung 20 ist deutlich freier von Rippeln und besser in der Entspiegelungswirkung.The anti-scratch layer 30 together with the first anti-reflective coating arrangement 10 acts at least in a certain wavelength range as in index matching and the subsequent second anti-reflective layer arrangement 20 is significantly free of ripples and better in the anti-reflective effect.

2 zeigt einen Graph der Reflektanz in Prozent als Funktion der Wellenlänge in nm für das erste Ausführungsbeispiel aus 1. 2 shows a graph of the reflectance in percent as a function of the wavelength in nm for the first embodiment 1 ,

Dabei zeigt die Kurve 41 die Reflektanz eines Erzeugnisses ohne die erste Entspiegelungsschichtanordnung 10 und ohne die Antikratzschicht, d.h: für eine Anordnung lediglich bestehend aus dem Substrat und der zweiten Entspiegelungsschichtanordnung 20.The curve shows 41 the reflectance of a product without the first anti-reflective layer arrangement 10 and without the anti-scratch layer, ie: for an arrangement consisting only of the substrate and the second anti-reflective layer arrangement 20 ,

Die Kurve 42 zeigt ein Erzeugnis ohne die erste Entspiegelungsschichtanordnung 10, d.h. eine Anordnung bestehend lediglich aus dem Substrat 2, einem Haftvermittler der Antikratzschicht 30 und der zweiten Entspiegelungsschichtanordnung 20. Es ist deutlich erkennbar, wie die Entspiegelungswirkung durch die Haftvermittlerschicht und die Antikratzschicht verschlechtert wird.The curve 42 shows a product without the first anti-reflective layer arrangement 10 , ie an arrangement consisting only of the substrate 2, an adhesion promoter of the anti-scratch layer 30 and the second anti-reflective layer arrangement 20 , It can be clearly seen how the anti-reflective effect is worsened by the adhesion promoter layer and the anti-scratch layer.

Die Kurve 43 zeigt die Reflektanz des erfindungsgemäßen Erzeugnisses 1 wie in 1 dargestellt, d.h. das Substrat 2 mit der ersten und zweiten Entspiegelungsschichtanordnung 10, 20 und der dazwischen befindlichen Antikratzschicht 30. Die Kurve 43 zeigt eine deutliche Verringerung der Reflektanz gegenüber der Kurve 42.The curve 43 shows the reflectance of the product according to the invention 1 as in 1 shown, ie the substrate 2 with the first and second anti-reflective coating arrangement 10 . 20 and the anti-scratch layer in between 30 , The curve 43 shows a significant reduction in reflectance compared to the curve 42 ,

Die hervorragende Entspiegelungswirkung, d.h. geringe Reflektanz ist ein Ergebnis der Zwischenschaltung der ersten Entspiegelungsschichtanordnung 10, welche nicht nur eine Metalloxidschicht als Haftungsgrundlage, sondern ein Schichtsystem aus, in diesem Beispiel zwei Metalloxidschichten, genauer TiO2-Schichten 11, 13 und einer dazwischen angeordneten SiO2-Schicht 12 umfasst.The excellent anti-reflective effect, ie low reflectance, is a result of the interposition of the first anti-reflective layer arrangement 10 , which not only a metal oxide layer as a basis for adhesion, but a layer system, in this example two metal oxide layers, more precisely TiO 2 layers 11 . 13 and an SiO 2 layer arranged between them 12 includes.

Zweite beispielhafte AusführungsformSecond exemplary embodiment

3 zeigt eine zweite Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die zweite Entspiegelungsschichtanordnung 20 insgesamt sechs Schichten 21 bis 26 umfasst. Ansonsten ist die zweite Ausführungsform bezüglich der Schichtabfolge entsprechend der ersten Ausführungsform ausgebildet. Dabei sind die beiden obersten Schichten 25, 26 eine TiO2- bzw. SiO2-Schicht. Ferner besteht das Substrat 2 aus einem Brillenkunststoff mit einem Brechungsindex von 1,7. Die Schichtdicken und weiteren Brechungsindizes sind der Tabelle 2 zu entnehmen. Tabelle 2:

Figure 00170001
3 shows a second embodiment of the invention, in which the second anti-reflective layer arrangement 20 a total of six layers 21 to 26 includes. Otherwise, the second embodiment is configured in accordance with the first embodiment with respect to the layer sequence. Here are the top two layers 25 . 26 a TiO 2 or SiO 2 layer. There is also the substrate 2 made of a plastic with a refractive index of 1.7. The layer thicknesses and other refractive indices can be found in Table 2. Table 2:
Figure 00170001

Bezugnehmend auf 4 zeigt die Kurve 43 die Reflektanz des erfindungsgemäßen Erzeugnisses 1 gemäß 3. Die Kurve 42 zeigt die Reflektanz eines herkömmlichen Erzeugnisses ohne die erste Entspiegelungsschichtanordnung 10, statt dessen mit lediglich einer Haftvermittlerschicht an deren Stelle.Referring to 4 shows the curve 43 the reflectance of the product according to the invention 1 according to 3 , The curve 42 shows the reflectance of a conventional product without the first anti-reflective layer arrangement 10 , instead with only one adhesion promoter layer in its place.

Dritte beispielhafte AusführungsformThird exemplary embodiment

5 zeigt eine dritte Ausführungsform der Erfindung, welche sogar ohne die zweite Entspiegelungsschichtanordnung 20 auskommt. In diesem Beispiel besteht das Substrat aus Polycarbonat und die Schichtabfolge der ersten Entspiegelungsschichtanordnung 10 und der Antikratzschicht 30 ist bezüglich der Materialien gleich der ersten und zweiten Ausführungsform. 5 shows a third embodiment of the invention, which even without the second anti-reflective layer arrangement 20 gets along. In this example, the substrate consists of polycarbonate and the layer sequence of the first anti-reflective layer arrangement 10 and the anti-scratch layer 30 is the same as the first and second embodiments in terms of materials.

Bei der dritten Ausführungsform der Erfindung bildet die Antikratzschicht 30 die oberste Schicht, d.h. die Schnittstelle zur Luft. Dies ist besonders vorteilhaft, da die einzige Entspiegelungsschichtanordnung 10 unter dieser gegen mechanische Einwirkungen geschützt ist. Zumindest bildet bei dieser Ausführungsform keine empfindliche Antireflexschicht die Schnittstelle zur Luft.In the third embodiment of the invention, the anti-scratch layer forms 30 the top layer, ie the interface to the air. This is particularly advantageous since the only anti-reflective layer arrangement 10 under this is protected against mechanical influences. At least in this embodiment, no sensitive anti-reflective layer forms the interface to the air.

Dennoch wird im Wellenlängenbereich zwischen 450 und 800 nm eine wirksame Reduzierung von Interferenzrippeln erzielt, wie in 6 zu sehen ist. Die Kurven sind entsprechend 4 bezeichnet.Nevertheless, an effective reduction of interference ripples is achieved in the wavelength range between 450 and 800 nm, as in 6 you can see. The curves are corresponding 4 designated.

Die Schichtdicken und Brechungsindizes sind in Tabelle 3 aufgeführt. Tabelle 3:

Figure 00180001
The layer thicknesses and refractive indices are listed in Table 3. Table 3:
Figure 00180001

Vierte beispielhafte AusführungsformFourth exemplary embodiment

7 zeigt eine vierte Ausführungsform der Erfindung, bei welcher im Vergleich zur dritten Ausführungsform eine zusätzliche SiO2-Schicht 14 unmittelbar zwischen dem Substrat 2 und der TiO2-Schicht 11 angeordnet ist. Die erste Entspiegelungsschichtanordnung 10 besitzt also eine bezüglich der Materialien alternierende Schichtabfolge von vier Schichten. Mehr als vier Schichten sind aber ebenfalls möglich. 7 shows a fourth embodiment of the invention, in which an additional SiO 2 layer compared to the third embodiment 14 immediately between the substrate 2 and the TiO 2 layer 11 is arranged. The first anti-reflective coating arrangement 10 thus has an alternating layer sequence of four layers with respect to the materials. However, more than four layers are also possible.

8 zeigt die Reflektanz der vierten Ausführungsform, wobei die Kurven entsprechend 4 bezeichnet sind. 8th shows the reflectance of the fourth embodiment, the curves corresponding 4 are designated.

Die Schichtdicken und Brechungsindizes sind in Tabelle 4 aufgeführt. Tabelle 4:

Figure 00190001
The layer thicknesses and refractive indices are listed in Table 4. Table 4:
Figure 00190001

Fünfte beispielhafte AusführungsformFifth exemplary embodiment

9 zeigt eine fünfte Ausführungsform der Erfindung, bei welcher im Vergleich zur vierten Ausführungsform die alternierende Schichtabfolge umgekehrt ist. Das heißt, unmittelbar auf dem Substrat 2 befindet sich eine hochbrechende Metalloxid-, genauer die TiO2-Schicht 11, unmittelbar darauf die niedrigbrechende SiO2-Schicht 12, unmittelbar darauf die hochbrechende Metalloxid-, genauer TiO2-Schicht 13 und unmittelbar darauf die niedrigbrechende SiO2-Schicht 14. 9 shows a fifth embodiment of the invention, in which the alternating layer sequence is reversed compared to the fourth embodiment. That is, directly on the substrate 2 there is a highly refractive metal oxide, more precisely the TiO 2 layer 11 , immediately afterwards the low refractive index SiO 2 layer 12 , immediately afterwards the highly refractive metal oxide, more precisely TiO 2 layer 13 and immediately afterwards the low refractive index SiO 2 layer 14 ,

10 zeigt die Reflektanz der fünften Ausführungsform, wobei die Bezeichnung der Kurven wiederum 4 entspricht. 10 shows the reflectance of the fifth embodiment, the designation of the curves again 4 equivalent.

Die Schichtdicken und Brechungsindizes sind in Tabelle 5 aufgeführt. Tabelle 5:

Figure 00200001
The layer thicknesses and refractive indices are listed in Table 5. Table 5:
Figure 00200001

Verfahren zur SchichtabscheidungLayer deposition process

Im Folgenden wird das Verfahren zur Aufbringung der verschiedenen Schichten auf dem Substrat näher beschrieben.The procedure for Application of the various layers on the substrate described in more detail.

Alle Schichten sind mit einem gepulsten chemischen Plasma-Dampfabscheidungsverfahren (Plasma Impulse Chemical Vapor Deposition PICVD) aufgebracht. Bei dem PICVD-Verfahren wird ein Ausgangsmaterial oder Grundstoff, ein sogenannter precursor, in einen Rezipienten, z.B. eine Vakuumkammer eingebracht. Der Grundstoff ist z.B. TiCl4 oder HMDSO (Hexamethyldisiloxan), welches auf etwa 40 Grad vorgeheizt wird, um den Gasdruck zu erhöhen. Mittels der Mikrowellenleistung wird die Verbindung des Grundstoffes zu chemisch äußerst reaktiven Bestandteilen zertrümmert.All layers are applied using a pulsed chemical plasma vapor deposition process (Plasma Impulse Chemical Vapor Deposition PICVD). In the PICVD process, a starting material or raw material, a so-called precursor, is introduced into a recipient, for example a vacuum chamber. The base material is, for example, TiCl 4 or HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is preheated to around 40 degrees in order to increase the gas pressure. The connection of the basic material to chemically extremely reactive components is broken up by means of the microwave power.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird die Mikrowellenleistung gepulst, was den Vorteil hat, dass die thermische Belastung für das Substrat gering gehalten wird. Dies ist besonders für Kunststoffe vorteilhaft. Mittels der Verfahrensparameter: Temperatur, Gaszusammensetzung, Gasdruck und Beschichtungszeit in der Kammer sind die Zusammensetzung und Dicke der jeweils aufzubringenden Schicht einstellbar. Vorteilhafterweise können so mit ein und demselben Verfahren und ggf. Grundstoff verschiedene Schichtmaterialien und Dicken erzeugt werden, so dass alle Schichten erzeugt werden können, ohne dass das Erzeugnis aus dem Rezipienten entfernt wird.In the method according to the invention the microwave power is pulsed, which has the advantage that the thermal load for the substrate is kept low. This is especially true for plastics advantageous. Using the process parameters: temperature, gas composition, Gas pressure and coating time in the chamber are the composition and adjustable thickness of the layer to be applied. advantageously, can so with one and the same procedure and possibly different raw materials Layer materials and thicknesses are generated so that all layers can be generated without removing the product from the recipient.

Im Folgenden sind die Verfahrensparameter für die fünf vorstehend beschriebenen Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.The following are the process parameters for the five above described embodiments described the invention.

Die SiO2-Schichten werden mit folgenden Parametern abgeschieden: Parameter Bereich Mikrowellenleistung 2000W – 8000 W Druck 0,1 mBar – 0,5 mBar O2-Fluss 500 sccm – 2000 sccm HMDSO-Fluss 20 sccm – 100 sccm Pulsdauer 1 ms – 10ms Pulspause 50 ms – 200 ms The SiO 2 layers are deposited using the following parameters: parameter Area microwave power 2000W - 8000 W. print 0.1 mBar - 0.5 mBar O2 flow 500 sccm - 2000 sccm HMDSO flow 20 sccm - 100 sccm pulse duration 1 ms - 10 ms pulse pause 50 ms - 200 ms

Die TiO2-Schichten werden mit folgenden Verfahrensparametern abgeschieden: Parameter Bereich Mikrowellenleistung 4000W – 8000 W Druck 0,1 mBar – 0,5 mBar O2-Fluss 500 sccm – 2000 sccm HMDSO-Fluss 1 sccm – 50 sccm Pulsdauer 1 ms – 10 ms Pulspause 100 ms – 500 ms The TiO 2 layers are deposited using the following process parameters: parameter Area microwave power 4000W - 8000W print 0.1 mBar - 0.5 mBar O2 flow 500 sccm - 2000 sccm HMDSO flow 1 sccm - 50 sccm pulse duration 1 ms - 10 ms pulse pause 100 ms - 500 ms

Die SiOXCYHZ-Schicht wird mit folgenden Parametern abgeschieden: Parameter Bereich Mikrowellenleistung 2000W – 8000 W Druck 0,1 mBar – 0,5 mBar O2-Fluss 500 sccm – 2000 sccm HMDSO-Fluss (Rampe) von bis zu 500 sccm abfallend auf bis zu 50 sccm Pulsdauer 1 ms – 10 ms Pulspause 20 ms – 200 ms The SiO X C Y H Z layer is deposited using the following parameters: parameter Area microwave power 2000W - 8000 W. print 0.1 mBar - 0.5 mBar O2 flow 500 sccm - 2000 sccm HMDSO flow (ramp) from up to 500 sccm falling down to 50 sccm pulse duration 1 ms - 10 ms pulse pause 20 ms - 200 ms

Hierbei ist zu beachten, dass der HMDSO-Fluss abfallend, insbesondere kontinuierlich abfallend eingestellt werden kann.Please note that the HMDSO flow decreasing, in particular continuously decreasing can be.

Es ist für den Fachmann ersichtlich, dass die Erfindung nicht auf die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern vielmehr die Schichtdicken, Schichtmaterialien und Schichtabfolgen variiert werden können, ohne den Geist der Erfindung zu verlassen.It will be apparent to those skilled in the art that the invention is not based on the exemplary embodiments described above limited is, but rather the layer thicknesses, layer materials and Layer sequences can be varied without the spirit of the invention to leave.

Es ist insbesondere möglich, die offenbarten Merkmale sogar unter Auslassung der ersten Entspiegelungsschichtanordnung zu kombinieren.In particular, it is possible disclosed features even omitting the first anti-reflective layer arrangement to combine.

Claims (37)

Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche eines Erzeugnisses (1) mittels Beschichtung eines Substrats (2), umfassend die Schritte Bereitstellen des Substrats (2), Beschichten des Erzeugnisses (1) mit einer ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) und Beschichten des Erzeugnisses (1) mit einer Nutzschicht (30), wobei die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) zwischen der Nutzschicht (30) und dem Substrat (2) aufgebracht wird.Process for coating a surface of a product ( 1 ) by coating a substrate ( 2 ), comprising the steps of providing the substrate ( 2 ), Coating the product ( 1 ) with a first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) and coating the product ( 1 ) with a wear layer ( 30 ), the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) between the wear layer ( 30 ) and the substrate ( 2 ) is applied. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der aufzubringenden Schichten (11, 12, 13, 30, 21, 22, 23, 24, 25, 26) zumindest mit einem der folgenden Verfahren aufgebracht wird: chemische Dampfabscheidung (CVD); Plasma-verstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD); Plasma-unterstütze chemische Dampfabscheidung (PACVD); gepulste chemische Plasma-Dampfabscheidung (PICUD).A method according to claim 1, characterized in that at least one of the layers to be applied ( 11 . 12 . 13 . 30 . 21 . 22 . 23 . 24 . 25 . 26 ) is applied using at least one of the following methods: chemical vapor deposition (CVD); Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD); Plasma-assisted chemical vapor deposition (PACVD); pulsed chemical plasma vapor deposition (PICUD). Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Erzeugnis (1) mit einer zweiten Entspiegelungsschichtanordnung (20) beschichtet wird, wobei die Nutzschicht (30) zwischen der ersten und zweiten Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the product ( 1 ) with a second anti-reflective layer arrangement ( 20 ) is coated, the wear layer ( 30 ) between the first and second anti-reflective coating arrangement ( 10 . 20 ) is applied. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) und die Nutzschicht (30) aus demselben Ausgangsmaterial erzeugt werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first or second anti-reflective coating arrangement ( 10 . 20 ) and the wear layer ( 30 ) from the same source material be fathered. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass unterschiedliche Schichtmaterialien (TiO2, SiO2, SiOXCYHZ) mittels einer Variation der Verfahrensparameter der Dampfabscheidung erzeugt werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that different layer materials (TiO 2 , SiO 2 , SiO X C Y H Z ) are produced by means of a variation of the process parameters of the vapor deposition. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) mehrschichtig aufgebracht werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first and second anti-reflective coating arrangement ( 10 . 20 ) can be applied in multiple layers. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Erzeugnis (1) mit einer Haftvermittlerschicht (11) beschichtet wird, welche unmittelbar angrenzend auf das Substrat (2) aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the product ( 1 ) with an adhesion promoter layer ( 11 ) is coated, which is immediately adjacent to the substrate ( 2 ) is applied. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Erzeugnis (1) dergestalt beschichtet wird, dass eine Haftvermittlerschicht (11) einen optisch funktionalen Bestandteil der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) bildet.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the product ( 1 ) is coated in such a way that an adhesion promoter layer ( 11 ) an optically functional component of the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) forms. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftvermittlerschicht (11), die erste oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10) ein Metall, eine Metallverbindung oder ein Metalloxid enthält.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the adhesion promoter layer ( 11 ), the first or second anti-reflective layer arrangement ( 10 ) contains a metal, a metal compound or a metal oxide. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftvermittlerschicht (11) eine hochbrechende Schicht umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the adhesion promoter layer ( 11 ) comprises a high refractive index layer. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) eine niedrigbrechende Schicht (12) umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) a low refractive index layer ( 12 ) includes. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) hinsichtlich der Schichtmaterialien eine alternierende oder spiegelsymmetrische Schichtabfolge aus zumindest drei Schichten umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) comprises an alternating or mirror-symmetrical layer sequence of at least three layers with respect to the layer materials. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (2) und die Gesamtheit aus der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) zusammen mit der Nutzschicht (30) ein Index-Matching der Brechungsindizes aufweisen.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate ( 2 ) and the entirety from the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) together with the wear layer ( 30 ) have an index matching of the refractive indices. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der äquivalente Brechungsindex (n10) der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) zwischen dem Brechungsindex des Substrats (2) und der Nutzschicht (30) liegt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the equivalent refractive index (n 10 ) of the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) between the refractive index of the substrate ( 2 ) and the wear layer ( 30 ) lies. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nutzschicht (30) als Antikratzschicht oder eine chemische Barriereschicht aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the wear layer ( 30 ) is applied as an anti-scratch layer or a chemical barrier layer. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nutzschicht (30) als Gradientenschicht aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the wear layer ( 30 ) is applied as a gradient layer. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Entspiegelungsschichtanordnung (20) zumindest eine hochbrechende und eine niedrigbrechende Schicht umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the second anti-reflective layer arrangement ( 20 ) comprises at least one high-index and one low-index layer. Erzeugnis (1) herstellbar mit einem Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche.Product ( 1 ) producible with a method according to one of the preceding claims. Erzeugnis (1) umfassend ein Substrat (2), eine erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) und eine Nutzschicht (30), wobei die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) zwischen der Nutzschicht (30) und dem Substrat (2) angeordnet ist.Product ( 1 ) comprising a substrate ( 2 ), a first anti-reflective coating arrangement ( 10 ) and a wear layer ( 30 ), the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) between the wear layer ( 30 ) and the substrate ( 2 ) is arranged. Erzeugnis (1) nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der Schichten (11, 12, 13, 30, 21, 22, 23, 24, 25, 26) zumindest mit einem der folgenden Verfahren aufbringbar ist: chemische Dampfabscheidung (CVD); Plasma-verstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD); Plasma-unterstütze chemische Dampfabscheidung (PACVD); gepulste chemische Plasma-Dampfabscheidung (PICVD).Product ( 1 ) according to claim 18 or 19, characterized in that at least one of the layers ( 11 . 12 . 13 . 30 . 21 . 22 . 23 . 24 . 25 . 26 ) can be applied using at least one of the following methods: chemical vapor deposition (CVD); Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD); Plasma-assisted chemical vapor deposition (PACVD); pulsed chemical plasma vapor deposition (PICVD). Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Erzeugnis (1) eine zweite Entspiegelungsschichtanordnung (20) umfasst, wobei die Nutzschicht (30) zwischen der ersten und zweiten Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) angeordnet ist.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the product ( 1 ) a second anti-reflective layer arrangement ( 20 ), the wear layer ( 30 ) between the first and second anti-reflective layer arrangement ( 10 . 20 ) is arranged. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) und die Nutzschicht (30) aus demselben Ausgangsmaterial erzeugbar sind.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the first or second anti-reflective coating arrangement ( 10 . 20 ) and the wear layer ( 30 ) can be generated from the same starting material. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass unterschiedliche Schichtmaterialien (TiO2, SiO2, SiOXCYHZ) mittels einer Variation der Verfahrensparameter der Dampfabscheidung erzeugbar sind.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that different layer materials (TiO 2 , SiO 2 , SiO X C Y H Z ) can be produced by means of a variation of the process parameters of the vapor deposition. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10, 20) mehrschichtig ausgebildet ist.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the first and second anti-reflective coating arrangement ( 10 . 20 ) is multi-layered. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, gekennzeichnet durch eine Haftvermittlerschicht (11), welche unmittelbar angrenzend auf dem Substrat (2) aufgebracht ist.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized by an adhesion promoter layer ( 11 ), which are immediately adjacent to the substrate ( 2 ) is applied. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Haftvermittlerschicht (11) einen optisch funktionalen Bestandteil der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) bildet.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that an adhesion promoter layer ( 11 ) an optically functional component of the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) forms. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftvermittlerschicht (11), die erste oder zweite Entspiegelungsschichtanordnung (10) ein Metall, eine Metallverbindung oder ein Metalloxid enthält.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the adhesion promoter layer ( 11 ), the first or second anti-reflective layer arrangement ( 10 ) contains a metal, a metal compound or a metal oxide. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftvermittlerschicht (11) eine hochbrechende Schicht umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the adhesion promoter layer ( 11 ) comprises a high refractive index layer. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) eine niedrigbrechende Schicht (12) umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) a low refractive index layer ( 12 ) includes. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Entspiegelungsschichtanordnung (10) hinsichtlich der Schichtmaterialien eine alternierende oder spiegelsymmetrische Schichtabfolge aus zumindest drei Schichten umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) comprises an alternating or mirror-symmetrical layer sequence of at least three layers with respect to the layer materials. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (2) und die Gesamtheit aus der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) zusammen mit der Nutzschicht (30) ein Index-Matching der Brechungsindizes aufweisen.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the substrate ( 2 ) and the entirety from the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) together with the wear layer ( 30 ) have an index matching of the refractive indices. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der äquivalente Brechungsindex (n10) der ersten Entspiegelungsschichtanordnung (10) zwischen dem Brechungsindex des Substrats (2) und der Nutzschicht (30) liegt.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the equivalent refractive index (n 10 ) of the first anti-reflective layer arrangement ( 10 ) between the refractive index of the substrate ( 2 ) and the wear layer ( 30 ) lies. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nutzschicht (30) eine Antikratzschicht oder eine chemische Barriereschicht umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the wear layer ( 30 ) comprises an anti-scratch layer or a chemical barrier layer. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nutzschicht (30) eine Gradientenschicht umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the wear layer ( 30 ) comprises a gradient layer. Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Entspiegelungsschichtanordnung (20) zumindest eine hochbrechende und eine niedrigbrechende Schicht umfasst.Product ( 1 ) according to one of the preceding product claims, characterized in that the second anti-reflective layer arrangement ( 20 ) comprises at least one high-index and one low-index layer. Beschichtungsvorrichtung hergerichtet zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorstehenden Verfahrensansprüche und/oder hergerichtet zur Herstellung des Erzeugnisses (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche.Coating device prepared for carrying out the method according to one of the preceding method claims and / or prepared for producing the product ( 1 ) after one of the previous existing product claims. Produkt, insbesondere ein optisches Element, eine Brillenlinse oder eine Displayabdeckung, umfassend das Erzeugnis (1) nach einem der vorstehenden Erzeugnisansprüche.Product, in particular an optical element, an eyeglass lens or a display cover, comprising the product ( 1 ) according to one of the preceding product claims.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007025151A1 (en) * 2007-05-29 2008-09-04 Innovent E.V. Coating method comprises producing plasma jet from process gas and introducing precursor material into it, coating being deposited from jet on to substrate or existing coating on it and substrate being heated
DE102007025152A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Innovent E.V. Method for coating a substrate
WO2010119004A1 (en) 2009-04-15 2010-10-21 Wacker Chemie Ag Composition based on siloxane copolymers
DE102009030303A1 (en) 2009-06-24 2010-12-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Method for the production of a coating having antireflexion layer on a movable substrate by a plasma-enhanced chemical vapor deposition, comprises providing a gas mixture having process-, carrier- and/or balance gas through a slit
EP2329888A3 (en) * 2009-12-01 2011-10-05 Kojima Press Industry Co., Ltd. Organic glass for automobile and process for producing the same
US8076002B2 (en) 2006-10-11 2011-12-13 Wacker Chemie Ag Laminates comprising thermoplastic polysiloxane-urea copolymers
WO2022043628A1 (en) * 2020-08-25 2022-03-03 Saint-Gobain Glass France Thin film deposition method
WO2023215206A1 (en) * 2022-05-03 2023-11-09 Corning Incorporated Transparent articles with high shallow hardness and display devices with the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4430363A1 (en) * 1994-08-26 1996-02-29 Leybold Ag Optical lens made of a clear plastic
DE19523444A1 (en) * 1995-06-28 1997-01-02 Antec Angewandte Neue Technolo Scratch- and corrosion-resistant coating prodn. on plastics etc. without heating
US20020102364A1 (en) * 2000-06-17 2002-08-01 Christoph Moelle Object which has optical layers
DE10113030A1 (en) * 1999-09-22 2002-09-19 Gfe Met & Mat Gmbh Plasma coating process, especially plasma-assisted chemical vapor deposition process, for coating a substrate with a metallic coating, comprises exposing substrate in reaction chamber to process gas flowing through chamber

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE685767C (en) * 1935-11-01 1939-12-23 Zeiss Carl Fa Process for increasing the light transmittance of optical parts by lowering the refraction exponent at the interfaces of these optical parts
EP0619504A1 (en) * 1993-04-08 1994-10-12 Optische Werke G. Rodenstock Antireflection coating

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4430363A1 (en) * 1994-08-26 1996-02-29 Leybold Ag Optical lens made of a clear plastic
DE19523444A1 (en) * 1995-06-28 1997-01-02 Antec Angewandte Neue Technolo Scratch- and corrosion-resistant coating prodn. on plastics etc. without heating
DE10113030A1 (en) * 1999-09-22 2002-09-19 Gfe Met & Mat Gmbh Plasma coating process, especially plasma-assisted chemical vapor deposition process, for coating a substrate with a metallic coating, comprises exposing substrate in reaction chamber to process gas flowing through chamber
US20020102364A1 (en) * 2000-06-17 2002-08-01 Christoph Moelle Object which has optical layers

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8076002B2 (en) 2006-10-11 2011-12-13 Wacker Chemie Ag Laminates comprising thermoplastic polysiloxane-urea copolymers
DE102007025151A1 (en) * 2007-05-29 2008-09-04 Innovent E.V. Coating method comprises producing plasma jet from process gas and introducing precursor material into it, coating being deposited from jet on to substrate or existing coating on it and substrate being heated
DE102007025152A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Innovent E.V. Method for coating a substrate
DE102007025152B4 (en) * 2007-05-29 2012-02-09 Innovent E.V. Method for coating a substrate
WO2010119004A1 (en) 2009-04-15 2010-10-21 Wacker Chemie Ag Composition based on siloxane copolymers
DE102009002408A1 (en) 2009-04-15 2010-10-21 Wacker Chemie Ag Composition based on siloxane copolymers
DE102009030303A1 (en) 2009-06-24 2010-12-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Method for the production of a coating having antireflexion layer on a movable substrate by a plasma-enhanced chemical vapor deposition, comprises providing a gas mixture having process-, carrier- and/or balance gas through a slit
EP2329888A3 (en) * 2009-12-01 2011-10-05 Kojima Press Industry Co., Ltd. Organic glass for automobile and process for producing the same
US8580378B2 (en) 2009-12-01 2013-11-12 Kojima Press Industry Co., Ltd. Organic glass for automobile and process for producing the same
WO2022043628A1 (en) * 2020-08-25 2022-03-03 Saint-Gobain Glass France Thin film deposition method
FR3113672A1 (en) * 2020-08-25 2022-03-04 Saint-Gobain Glass France METHOD FOR OBTAINING A MATERIAL COATED WITH A PHOTOCATALYTIC COATING
WO2023215206A1 (en) * 2022-05-03 2023-11-09 Corning Incorporated Transparent articles with high shallow hardness and display devices with the same

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