DE10221442B4 - Induktives Element einer integrierten Schaltung - Google Patents

Induktives Element einer integrierten Schaltung Download PDF

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Abstract

Integrierte Schaltung, umfassend wenigstens ein induktives Element (10), welches wenigstens eine Windung (12) umfasst, die von einer integrierten länglichen Leiterbahn (14) aus einem leitenden Material gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Leiterbahn (14) an deren Innenrand wenigstens eine Aussparung (30) aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine integrierte Schaltung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • Eine solche Schaltung ist z. B. bekannt aus Chih-Chun Tang et al, IEEE Journal of solidstate circuits, Vol. 37, No. 4, April 2002, pp. 471-480 und umfaßt ein induktives Element, welches von einer Metallschicht gebildet ist (vgl. 1(a) dieser Veröffentlichung).
  • Derartige Elemente sind insbesondere aus dem Bereich von integrierten Hochfrequenzschaltungen bekannt und dort auch als "integrierte Spulen" oder "monolithische Spulen" bezeichnet. Derartige Spulen können in allen gängigen Herstellungstechnologien für integrierte Schaltungen realisiert werden. Bei dieser Realisierung von Spulen auf oder in einem Substrat einer integrierten Hochfrequenzschaltung lassen sich vorteilhaft unerwünscht große elektrische und magnetische Kopplungen vermeiden, wie sie bei Verwendung externer Spulen beispielsweise im Bereich von Kontaktierungspads und Bondleitungen zwangsläufig auftreten würden.
  • Wichtige Parameter eines induktiven Elements sind die Induktivität und der elektrische Widerstand. Das Verhältnis dieser beiden Parameter bestimmt zusammen mit den elektrischen Eigenschaften der unmittelbaren Umgebung des Elements die sogenannte Güte (Qualitätsfaktor) sowie die Resonanzfrequenz des Elements bzw. eines damit aufgebauten Schwingkreises. Ein weiterer wichtiger Parameter für ein integriertes induktives Element ist ferner der Platzbedarf.
  • Wenngleich diese Parameter stark vom Layout und den Eigenschaften der verwendeten Herstellungstechnologie abhängen, so sind bei der Auslegung eines integrierten induktiven Elements hinsichtlich dieser Parameter stets relativ enge Grenzen gesetzt. Oftmals besitzt das Element einen großen Widerstand, da die Leiterbahnbreite durch das für das Element auf einem Halbleitersubstrat zur Verfügung stehende Platzangebot begrenzt ist und die Leiterbahnhöhe durch die verwendete Herstellungstechnologie begrenzt ist. Für ein vorgegebenes Platzangebot ist die maximal zu erreichende Induktivität stark eingeschränkt, insbesondere da die Anordnung einer Mehrzahl von Windungen (ringförmig verlaufende Leiterabschnitte) bei einer integrierten Schaltung im wesentlichen zweidimensional (z. B. in einer Ebene des Layouts) erfolgen muß. Wenn ein nicht allzu großer Widerstand der Leitungsbahn realisiert werden soll, so können nur wenige Windungen in einer vorgegebenen Fläche untergebracht werden.
  • Zusammenfassend besteht bei der Auslegung von integrierten induktiven Elementen ein Zielkonflikt hinsichtlich der wichtigen Parameter. Besonders problematisch ist die Realisierung eines solchen Elements mit wenig Platzbedarf, kleinem Widerstand und hoher Induktivität.
  • Aus der DE-PS 1 095 403 ist eine Anordnung zur Abschirmung einer als Oszillator dienenden Röhre in gedruckten Schaltungen bekannt. Bei dieser Anordnung ist in einer Leiterplatte eine runde Aussparung vorgesehen, um welche herum eine Leiterbahn auf die Leiterplatte aufkaschiert ist. Diese elektrisch leitende Leiterbahn bildet eine geschlossene Windung, die zum Auflöten eines Blechkragens zur Anbringung einer Abschirmhülse dient. Eine gute Verlötung des Blechkragens wird hierbei durch Aussparungen am Innenrand der Leiterbahn gesichert.
  • Aus der DE 690 31 501 T2 ist eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Lichtmessung unter Verwendung eines Supraleiters bekannt. Bei dieser Vorrichtung ist ein supraleitender Ring mit zwei dünnen Verbindungsabschnitten vorgesehen. Diese Verbindungsabschnitte sind jeweils aus einer Einbuchtung am Innenrand und einer Einbuchtung am Außenrand des supraleitenden Rings gebildet.
  • Aus der EP 1 168 442 A1 ist eine gattungsgemäße integrierte Schaltung bekannt, bei welcher ein induktives Element auf und isoliert von einer leitfähigen Lage angeordnet ist. Die leitfähige Lage bildet einen geschlossenen Ring, an dessen Innenrand sich in Umfangsrichtung betrachten Schlitze (Aussparungen) und Streifen abwechseln. Diese Strukturierung des leitfähigen Rings dient zur Vermeidung eines durch das Magnetfeld des induktive Element hervorgerufenen Stromflusses durch den leitfähigen Ring.
  • Aus der DE 198 55 008 A1 ist eine weitere gattungsgemäße integrierte Induktivität sowie ein Verfahren zur Herstellung einer integrierten Induktivität mit hoher Güte bekannt. Bei diesem Stand der Technik wird der Nachteil einer geringen Güte von planar auf ein isoliertes Halbleitersubstrat mit isolierender Schutzschicht aufgebrachten Induktivitäten dadurch beseitigt, dass eine Spirale oder Spulenwindung mit erhöhtem Abstand zum Substrat realisiert wird und die Substratverluste hierdurch weitgehend reduziert werden. Als Ausführungsbeispiel wird eine Induktivität beschrieben, bei welcher ein einzige Windung kreisbogenförmig und mit einheitlicher Leiterbahnbreite verläuft, ähnlich wie in 1 oder 9 gezeigt.
  • Aus der WO 00/5743A1 ist ein planarer Induktor bekannt, bei welchem eine Windung mit einheitlicher Leiterbahnbreite entlang eines Rechtecks verläuft (1 und 2 dieser Veröffentlichung), ähnlich wie in 1 oder 4 gezeigt.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein induktives Element einer integrierten Schaltung der eingangs erwähnten Art bereitzustellen, bei dem eine größere Freiheit bei der Wahl der Parameter gegeben ist.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch eine integrierte Schaltung mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Die abhängigen Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung.
  • Das induktive Element in dieser Schaltung ist dadurch gekennzeichnet, daß die Leiterbahn an deren Innenrand wenigstens eine Aussparung aufweist. Damit läßt sich beispielsweise bei vorgegebenen Platzbedarf und Widerstand die Induktivität erhöhen oder bei vorgegebenen Widerstand und vorgegebener Induktivität Platz einsparen. Unabhängig davon ergibt sich eine Verringerung der kapazitiven Kopplung zum Substrat.
  • Das Element kann in verschiedenen Herstellungstechnologien (CMOS, Bipolar, BICMOS, GaAs, etc.) implementiert werden. Um einen niedrigen Widerstand des Elements vorzusehen, kann als Material der Leiterbahn ein Metall gewählt werden. Alternativ kommt auch hoch dotiertes Halbleitermaterial oder Polysilicium in Betracht.
  • Bevorzugt ist der Verlauf der Leiterbahn im wesentlichen polygonförmig (z. B. rechteckig) oder kreisförmig vorgesehen. Für eine vorgegebene Induktivität und Leiterbahnbreite läßt sich mit einem kreisförmigen Verlauf der Leiterbahn ein besonders kleiner Widerstand erzielen.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform verläuft die Leiterbahn entlang wenigstens 80% des Umfangs eines Rechtecks oder eines Kreises. Für die im Rahmen dieser Erfindung besonders interessierenden Hochfrequenzschaltungen mit hoher Integrationsdichte beträgt eine einheitliche Leiterbahnbreite bzw. eine lokal maximale Leiterbahnbreite weniger als 100 μm, insbesondere weniger als 50 μm. Wenn das induktive Element lediglich eine Windung umfaßt, so liegt das Verhältnis zwischen der über die Leiterbahnlänge gemittelten Leiterbahnbreite und der maximalen Querausdehnung der Windung bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 0,4.
  • Bevorzugt besitzt die Leiterbahn (abgesehen von deren Aussparungen) eine im wesentlichen einheitliche Breite, insbesondere eine Breite, die über die Leiterbahnlänge um maximal 20% von der gemittelten Leiterbahnbreite abweicht. Eine besonders gute Verbesserung der Eigenschaften des Elements ergibt sich hierbei, wenn die Ausdehnung der Aussparung in Querrichtung der Leiterbahn im Bereich des 0,1-fachen bis 0,5-fachen der Breite der Leiterbahn liegt und/oder die die Ausdehnung der Aussparung in Längsrichtung der Leiterbahn im Bereich des 0,05-fachen bis 0,5-fachen der Breite der Leiterbahn liegt.
  • Die Ausdehnung einer Aussparung in Längsrichtung der Leiterbahn sollte wenigstens so groß gewählt sein, daß beim Betrieb des induktiven Elements mit elektrischen Belastungen gemäß der Spezifikation dieses Elements im Bereich der Aussparung kein Durchschlag aufgrund einer zu hohen elektrischen Feldstärke im Aussparungsbereich stattfindet. In einer bevorzugten Ausführungsform ist zur Vermeidung von Durchschlägen als Material im Bereich der Aussparung ein Material vorgesehen, welches verschieden von dem Substratmaterial der integrierten Schaltung ist und eine höhere Durchschlagfestigkeit als dieses Substratmaterial besitzt. Beispielsweise kann das induktive Element in der obersten Leitungsebene eines IC gebildet sein, die von einer isolierenden Passivierungsschicht überdeckt wird, welche sich auch in die Aussparungen hinein erstreckt.
  • Allgemein ergeben sich auch dann besonders gute Eigenschaften des Elements, wenn die Leiterbahn an deren Innenrand mehrere Aussparungen (z. B. Einkerbungen) aufweist, die in Längsrichtung der Leiterbahn im wesentlichen gleichmäßig voneinander beabstandet sind. Hierbei hat es sich als günstig herausgestellt, wenn die Summe der Ausdehnungen der Aussparungen in Längsrichtung der Leiterbahn im Bereich des 0,05-fach bis 0,2-fachen der Länge der Leiterbahn liegt.
  • Insbesondere wenn die Leiterbahnbreite im Bereich einer Aussparung relativ klein ist, z. B. in der Größenordnung der mit der verwendeten Herstellungstechnologie erzielbaren Strukturbreite liegt, so bietet sich eine rechteckige Form der Aussparung an. Hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften des Elements ist auch eine Aussparung in Form einer Einbuchtung mit einem gekrümmten Verlauf des Einbuchtungsrands günstig, z. B. eine halbkreisförmige Einbuchtung.
  • Bevorzugt liegt das Verhältnis zwischen Aussparungsfläche und Leiterbahnfläche (mit gedachter Fortsetzung der Leiterbahn im Bereich der Aussparungen) im Bereich von 0,005 bis 0,25.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es stellen dar:
  • 1 vier Ausführungen eines induktiven Elements nach dem Stand der Technik zur Veranschaulichung des Zusammenhangs zwischen Induktivität, Widerstand und Leiterbahnbreite für eine Leiterbahn einheitlicher Breite,
  • 2 eine Darstellung zur Erläuterung der Selbstinduktivität von zwei parallelen Flachleitern,
  • 3 eine Darstellung zur Erläuterung des Widerstands eines Flachleiters,
  • 4 zwei der Ausführungen eines induktiven Elements nach 1 zur detaillierten Erläuterung des Einflusses der Leiterbahnbreite auf die Eigenschaften des Elements,
  • 5 eine Darstellung zur Erläuterung des Platzbedarfs sowie der Strompfade bei den induktiven Elementen nach 4,
  • 6 eine Darstellung eines erfindungsgemäßen induktiven Elements,
  • 7 eine der 5 entsprechende Darstellung zur Erläuterung des Strompfads bei einem erfindungsgemäßen induktiven Element,
  • 8 eine der 7 ähnliche Darstellung zur Erläuterung der Stromdichteverteilung in einem weiteren erfindungsgemäßen induktiven Element,
  • 9 ein induktives Element nach dem Stand der Technik als Vergleichsbeispiel,
  • 10 ein weiteres erfindungsgemäßes induktives Element,
  • 11 vergleichende Darstellungen der Güte, der Induktivität und des Widerstands, jeweils in Abhängigkeit von der Frequenz, der beiden Elemente nach 9 und 10, und
  • 12 ein weiteres erfindungsgemäßes induktives Element mit mehreren Windungen.
  • Mit Bezug auf die 1 bis 5 werden zunächst prinzipielle Abhängigkeiten der elektrischen Eigenschaften eines integrierten induktiven Elements von dessen geometrischer Gestaltung erläutert.
  • 1 zeigt zwei jeweils mit A bezeichnete Elemente, die von einer gekrümmten einheitlich breiten Leiterbahn mit im wesentlichen kreisförmigem Verlauf (links) bzw. im wesentlichen rechteckigem Verlauf (rechts) gebildet sind. In 1 unten sind entsprechende Elemente mit gleichem Platzbedarf, jedoch verringerter Leiterbahnbreite dargestellt und mit B bezeichnet. Für einen Vergleich der Induktivität sowie des Widerstands der Strukturen A mit den entsprechenden Strukturen B sind die nachfolgend anhand der 2 und 3 dargestellten Zusammenhänge nützlich.
  • 2 stellt die Anordnung von zwei parallelen Flachleitern dar, für die sich eine auf die Flachleiterlänge I bezogene Induktivität L ergibt, die für relativ großen gegenseitigen Abstand der Flachleiter (d»w, t) durch folgende Formel angenähert werden kann (vgl. Walker, Charles S.: "Capacitance inductance and crosstalk analysis"; 1. Aufl.; Norwood; ARTECH HOUSE; 1990; s. 95):
    Figure 00060001
  • Hierbei bezeichnet μr die relative Permeabilität der Umgebung der Flachleiter (näherungsweise 1), μ0 die absolute Permeabilität des Vakuums, d den gegenseitigen Abstand der Flachleiter, w die Breite der Flachleiter und t die Höhe der Flachleiter. Die Abhängigkeit der Induktivität von der Breite w und der Länge I gemäß dieser Näherung gilt ähnlich auch für die in 1 gezeigten Strukturen. Für die in 1 linken Strukturen A, B gilt diese Näherung etwa, wenn darin der Abstand d durch den Durchmesser des kreisbogenförmigen Leiterbahnabschnitts ersetzt wird, wobei als Durchmesser das arithmetische Mittel von Innendurchmesser und Außendurchmesser zu verwenden ist.
  • Bei den in 1 gezeigten Strukturen A läßt sich demnach die Induktivität erhöhen, indem die Leiterbahnbreite w verringert wird oder die Leiterbahnlänge I vergrößert wird. Dies ist der Fall bei den in 1 mit B bezeichneten Strukturen. Diese besitzen gegenüber den entsprechenden Strukturen A also eine erhöhte Induktivität (bei gleichem Platzbedarf).
  • 3 zeigt einen Flachleiter mit einer Länge I, einer Breite w und einer Höhe t. Die Abhängigkeit des elektrischen Widerstands R dieser Leiterbahn von diesen Abmessungen und von dem spezifischen Widerstand ρ (homogenes Material) läßt sich durch folgende Formel beschreiben:
    Figure 00070001
  • Die in 1 mit B bezeichneten Strukturen besitzen gegenüber den entsprechenden Strukturen A eine erhöhte Leiterbahnlänge I und eine verringerte Leiterbahnbreite w. Somit besitzen die Strukturen B einen vergleichsweise hohen Widerstand R.
  • In der Praxis ist bei den in 1 dargestellten Strukturen immer ein Kompromiss zwischen der notwendigen Induktivität, der Güte und dem Platzbedarf zu finden. Eine Struktur mit einer hohen Induktivität L und dennoch niedrigem Widerstand R benötigt oftmals zu viel Platz.
  • 4 zeigt nochmals die in 1 rechts dargestellten rechteckigen Strukturen A, B und 5 veranschaulicht in einer kombinierten Darstellung für einen Teil der von der Leiterbahn gebildeten Windung die verschiedenen Leiterbahnbreiten wA, wB, die verschiedenen Leiterbahnflächen AA, BB und die verschiedenen bevorzugten Strompfade PA, PB. Die Strukturen A und B besitzen den gleichen Substrat-Platzbedarf. Die Struktur A hat eine größere Leiterbahnbreite wA als die Struktur B und besitzt deshalb einen niedrigeren Widerstand als die Struktur B. Jedoch besitzt die Struktur B mit deren geringerer Leiterbahnbreite wB und einem größeren Leiterbahnabstand eine größere Induktivität als die Struktur A. Beide Strukturen A, B ermöglichen es daher nicht, eine große Induktivität mit einem kleinen Widerstand und mit möglichst wenig Platzverbrauch zu realisieren.
  • 6 zeigt ein erfindungsgemäßes induktives Element 10 bestehend aus einer Windung 12, die aus einer ringartig verlaufenden Leiterbahn 14 einheitlicher Breite w gebildet ist. Das Element 10 ist in einer leitenden Ebene im Rahmen einer IC-Herstellung gebildet und über Kontaktierungen 16, 18 mit weiteren, hier nicht dargestellten Komponenten einer integrierten Schaltung verbunden. Die Leiterbahn 14 weist an ihrer Innenseite eine Mehrzahl von Aussparungen bzw. Einkerbungen 30 auf.
  • Das dargestellte Element 10 besitzt den gleichen Platzbedarf wie die in 4 dargestellten Elemente A und B, besitzt diesen gegenüber jedoch verbesserte Eigenschaften aufgrund der Aussparungen 30. Die Struktur 10 kombiniert gewissermaßen den Vorteil eines niedrigen Widerstands der Struktur A mit dem Vorteil einer großen Induktivität der Struktur B. Die Aussparungen 30 bewirken, daß der Strom durch die Leiterbahn einen effektiv längeren Strompfad benutzen muß, so daß sich eine erhöhte Induktivität ergibt. Gleichzeitig bewirken die Aussparungen 30 jedoch nur eine geringfügige Erhöhung des Widerstands, da sich dieser Widerstand durch eine Integration eines lokalen spezifischen Widerstands ergibt und im Bereich der Aussparungen 30 bewirkte lokale Erhöhungen dieses spezifischen Widerstands relativ wenig zu dem Integral beitragen. Vielmehr ergibt sich bei dem in 6 dargestellten Beispiel ein Widerstand, der etwa dem der Struktur A in 4 entspricht, da in Längsrichtung (Umfangsrichtung) betrachtet die nichtausgesparten Leiterbahnabschnitte bei weitem überwiegen.
  • Bei der nachfolgenden Beschreibung von weiteren Ausführungsbeispielen werden für analoge Komponenten die gleichen Bezugszahlen verwendet, jeweils ergänzt durch einen kleinen Buchstaben zur Unterscheidung der Ausführungsform. Dabei wird im wesentlichen nur auf die Unterschiede zu der bzw. den bereits beschriebenen Ausführungsbeispielen eingegangen und im übrigen hiermit ausdrücklich auf die Beschreibung vorangegangener Ausführungsbeispiele verwiesen.
  • 7 zeigt eine der 5 entsprechende Darstellung eines Teils eines induktiven Elements 10a mit einer Windung 12a, die von einer Leiterbahn 14a gebildet ist. Die Leiterbahn 14a verläuft wieder einem Rechteck folgend. Abweichend von dem in 6 dargestellten Beispiel sind hier einige der Aussparungen 30a an den Eckbereichen der Leiterbahn 14a vorgesehen. Wie bei dem Element gemäß 6 sind die Aussparungen 30a rechteckig. Deren Breite ist mit wE, deren Länge ist mit IE und deren Fläche ist mit AE bezeichnet. Ein Vergleich mit 5 zeigt, daß der Strompfad etwa dem Strompfad PB entspricht, so daß eine hohe Induktivität erzielt wird. Die Leiterbahnfläche ist im dargestellten Windungsabschnitt um 6 × AE reduziert. Diese Reduzierung der Fläche verringert außerdem vorteilhaft die kapazitive Kopplung der Leiterbahn zum Substrat (im Vergleich z. B. mit der Struktur A in 4).
  • 8 zeigt eine der 7 ähnliche Darstellung eines Abschnitts einer Leiterbahn 14b zur Bildung eines induktiven Elements 10b. Eingezeichnet sind Stromflußpfade im Bereich zweier aufeinanderfolgend angeordneter Aussparungen 30b. Hieraus ist ersichtlich, daß die Länge eines für die Induktivität des Elements 10b maßgeblichen "effektiven Strompfads" durch die Anordnung der Aussparungen 30b verlängert ist. Der Stromfluß erfolgt um die Aussparungen 30b herum.
  • Die 9 bis 11 dienen einem Vergleich zwischen einem herkömmlichen induktiven Element 1 (9), d. h. ohne Aussparungen, und einem erfindungsgemäßen induktiven Element 10c (10). Das Element 10c unterscheidet sich von dem herkömmlichen Element 1 lediglich durch äquidistante Anordnung von sieben rechteckigen Aussparungen 30c am inneren Rand der ringförmig gekrümmt verlaufenden Bahn 14. Hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften ist die für eine Windung vorgesehene Anzahl von Aussparungen (aus Symmetriegründen) bevorzugt ungerade. So sind im dargestellten Beispiel sieben gleichgestaltete und gleichbemessene Aussparungen vorgesehen.
  • 11 zeigt für beide Elemente 1 und 10c die Frequenzabhängigkeit der Güte Q, der Induktivität L und des Widerstands R. Die in 11 dargestellten Kurven sind das Ergebnis eines Simulation der Elemente 1, 10c mit einem stark vereinfachten Ersatzschaltbild bestehend aus einer Induktivität L, einem in Serie dazu angeordneten ohmschen Widerstand R und einer parasitären Kapazität C zum (nicht dargestellten) Substrat. Durch diese starke Vereinfachung im Rahmen der Simulation ergibt sich die Frequenzabhängigkeit der simulierten Größen Q, L und R.
  • Aus 11 ist ersichtlich, daß das Element 10c verglichen mit dem Element 1 beispielsweise bei einer Auslegungsfrequenz von 10 GHz eine nahezu unveränderte Güte Q und einen nur geringfügig höheren Widerstand R besitzt, die Induktivität L jedoch beträchtlich erhöht ist.
  • 12 zeigt schließlich eine weitere Ausführungsform eines induktiven Elements 10d, umfassend zwei Windungen 12d-1 und 12d-2, die jeweils von einem Abschnitt einer spiralförmig vorgesehenen Leiterbahn 14d gebildet sind. Abweichend von dem dargestellten Ausführungsbeispiel könnten noch mehr Windungen vorgesehen sein. Ferner ist es möglich, lediglich einen Teil einer Mehrzahl von Windungen mit Aussparungen vorzusehen.

Claims (10)

  1. Integrierte Schaltung, umfassend wenigstens ein induktives Element (10), welches wenigstens eine Windung (12) umfasst, die von einer integrierten länglichen Leiterbahn (14) aus einem leitenden Material gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Leiterbahn (14) an deren Innenrand wenigstens eine Aussparung (30) aufweist.
  2. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei das Material der Leiterbahn (14) ein Metall ist.
  3. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Verlauf der Leiterbahn (14) polygonförmig oder kreisförmig vorgesehen ist.
  4. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei die Leiterbahn (14) eine im Wesentlichen einheitliche Breite (w) besitzt.
  5. Integrierte Schaltung nach Anspruch 4, wobei die Ausdehnung der Aussparung (30) in Querrichtung der Leiterbahn im Bereich des 0,1-fachen bis 0,5-fachen der Breite (w) der Leiterbahn liegt.
  6. Integrierte Schaltung nach Anspruch 4 oder 5, wobei die Ausdehnung der Aussparung (30) in Längsrichtung der Leiterbahn (14) im Bereich des 0,05-fachen bis 0,5-fachen der Breite (w) der Leiterbahn liegt.
  7. Integrierte Schaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Leiterbahn (14) an deren Innenrand mehrere Aussparungen (30) aufweist, die in Längsrichtung der Leiterbahn gleichmäßig voneinander beabstandet sind.
  8. Integrierte Schaltung nach Anspruch 7, wobei die Summe der Ausdehnungen der Aussparungen (30) in Längsrichtung der Leiterbahn (14) im Bereich des 0,05-fach bis 0,2-fachen der Länge (I) der Leiterbahn liegt.
  9. Integrierte Schaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Aussparung (30) rechteckig oder halbkreisförmig ist.
  10. Integrierte Schaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei das Verhältnis zwischen Aussparungsfläche und Leiterbahnfläche im Bereich von 0,005 bis 0,25 liegt.
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Tang, Chih-Chun et al.: "Miniature 3-D Inductors in Standard CMOS Process". In: IEEE J. Sol. State Circuits, Vol. 37, No. 4, 2002, S. 471-480 *
Walker, Charles S.: "Capacitance, inductance and crosstalk analysis". 1. Aufl., Norwood, Artech House, 1990, S. 95 *

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