DE102021112497B4 - Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät - Google Patents

Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät Download PDF

Info

Publication number
DE102021112497B4
DE102021112497B4 DE102021112497.2A DE102021112497A DE102021112497B4 DE 102021112497 B4 DE102021112497 B4 DE 102021112497B4 DE 102021112497 A DE102021112497 A DE 102021112497A DE 102021112497 B4 DE102021112497 B4 DE 102021112497B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
reticle holder
plate
receiving
reticle
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102021112497.2A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102021112497A1 (de
Inventor
Michael Raga-Barone
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GlobalFoundries US Inc
Original Assignee
GlobalFoundries US Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GlobalFoundries US Inc filed Critical GlobalFoundries US Inc
Publication of DE102021112497A1 publication Critical patent/DE102021112497A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102021112497B4 publication Critical patent/DE102021112497B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67359Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Prostheses (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

Vorrichtung (10), umfassend:eine Platte (12), wobei die Platte (12) eine Vorderseite (12X) und eine Rückseite (12Y) aufweist, wobei die Rückseite (12Y) gegenüber der Vorderseite (12X) angeordnet ist,eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X), wobei die Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) zumindest teilweise einen Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X) begrenzt, wobei die Rückseite (12Y) eine Stifteingriffsstruktur (13) aufweist, wobei die Stifteingriffsstruktur (13) ausgebildet ist, um mit einer Mehrzahl von Stiften (32) in Eingriff zu treten; undeinen Fluidströmungskanal (56), der so ausgebildet ist, dass er eine Fluidverbindung mit einem inneren Bereich eines Retikelhalters (40) ermöglicht, wenn der Retikelhalter (40) in dem Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist,wobei der Fluidströmungskanal (56) umfasst:eine innerhalb der Platte (12) ausgebildete Ausnehmung (30);eine erste Öffnung (35) in Fluidverbindung mit der Ausnehmung (30), wobei die erste Öffnung (35) von der Rückseite (12Y) der Platte (12) zu der Ausnehmung (30) verläuft; undeine erste Abdeckplatte (31), die über der Ausnehmung (30) angeordnet ist.

Description

  • Hintergrund
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft im Allgemeinen verschiedene Ausführungsformen einer neuen Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät und Verfahren zur Verwendung einer solchen Wechselplatte.
  • Beschreibung des verwandten Stands der Technik
  • Retikel werden bei der Herstellung von integrierten Schaltungprodukten verwendet. Ein Retikel weist eine Struktur auf, die auf einem Halbleitersubstrat (oder Wafer) dort gebildet werden soll, wo die integrierten Schaltungen gebildet werden. Ein typisches Retikel umfasst eine Quarzplatte, auf der die Struktur in einer dünnen Chromschicht auf einer Seite des Retikels festgelegt ist. Fotolithographiegeräte und -techniken werden verwendet, um das Bild auf dem Retikel auf die Oberfläche einer Schicht aus Fotolackmaterial zu projizieren, die auf der Oberfläche des Wafers ausgebildet ist. Danach wird die Schicht aus Fotolackmaterial entwickelt, um eine strukturierte Maskenschicht zu erzeugen, die das Bild auf der Maske enthält. Retikel sind teuer in der Herstellung und müssen sorgfältig behandelt werden, um die in dem Retikel festgelegte Struktur nicht zu beschädigen.
  • Retikel sind außerdem sicher aufzubewahren, wenn nicht in Gebrauch, und sie sollen bei Bedarf wieder leicht beizubringen sein. In der Regel wird ein einzelnes Retikel in einem inneren Bereich eines schützenden Retikelhalters aufbewahrt. Bei Anordnung des Retikelhalters (mit dem Retikel darin) auf einem gespülten Aufbewahrungsplatz wird ein unter Druck stehendes Inertgas in den inneren Bereich des Retikelhalters eingeführt. An Retikelhaltern werden verschiedene Bearbeitungsvorgänge durchgeführt, um sicherzustellen, dass sie für die Aufbewahrung von Retikeln geeignet sind, wie z. B. Feuchtigkeitstests, Tests auf Partikelkontamination, Reinigung usw. Diese verschiedenen Vorgänge werden von hochentwickelten Arbeitsgeräten in der Fertigungsanlage durchgeführt, in der die integrierten Schaltungsprodukte hergestellt werden.
  • Die vorliegende Erfindung ist allgemein auf verschiedene Ausführungsformen einer neuen Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät und Verfahren zur Verwendung einer solchen Wechselplatte gerichtet.
  • Bekannt ist dabei ein Reinigungsverfahren und eine Reinigungsvorrichtung für einen Behälter zum Transport von Substraten aus US 2012 / 0 042 988 A1.
  • Zusammenfassung
  • Das Folgende stellt eine vereinfachte Zusammenfassung der Erfindung dar, um ein grundlegendes Verständnis für einige Aspekte der Erfindung zu vermitteln. Diese Zusammenfassung bietet keine erschöpfende Übersicht über die Erfindung. Es ist nicht beabsichtigt, wichtige oder kritische Elemente der Erfindung zu identifizieren oder den Umfang der Erfindung abzugrenzen. Ihr einziger Zweck besteht darin, einige Konzepte in vereinfachter Form darzustellen, vorab der folgenden detaillierteren Beschreibung.
  • Im Allgemeinen bezieht sich die vorliegende Erfindung auf verschiedene Ausführungsformen einer neuen Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät und Verfahren zur Verwendung einer solchen Wechselplatte. Ein Beispiel umfasst eine Platte und eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite der Platte, die zumindest teilweise einen Bereich zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite begrenzt. In diesem Beispiel weist die Rückseite der Platte eine Stifteingriffsstruktur, die zum Eingriff mit einer Mehrzahl von Stiften ausgebildet ist, und einen Fluidströmungskanal auf, der ausgebildet ist, eine Fluidverbindung mit einem Innenbereich eines Retikelhalters zu ermöglichen, wenn der Retikelhalter im Bereich zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist.
  • Eine weitere hier beschriebene anschauliche Vorrichtung umfasst eine Platte und eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite der Platte, die zumindest teilweise einen Bereich zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite begrenzt. In diesem Beispiel umfasst die Vorrichtung auch eine Öffnung, die von der Vorderseite der Platte zur Rückseite der Platte verläuft, und eine Eingriffsfläche, die neben der Öffnung angeordnet ist, wobei die Eingriffsfläche eine Oberfläche aufweist, die auf einem Niveau angeordnet ist, das sich unter einem Niveau der Vorderseite der Platte befindet.
  • Eine weitere hierin beschriebene anschauliche Vorrichtung umfasst eine Platte und eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite der Platte, die zumindest teilweise einen Bereich zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite begrenzt. In diesem Beispiel umfasst die Vorrichtung auch einen Befestigungsmechanismus für die Retikelhalterplatte, der mit der Platte und/oder der Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters gekoppelt ist, wobei der Befestigungsmechanismus für die Retikelhalterplatte ausgebildet ist, um mit einer Oberfläche eines Retikelhalters zur Montage des Retikelhalters in dem Bereich zur Aufnahme eines Retikelhalters in Eingriff zu treten.
  • Erfindungsgemäß ist eine Vorrichtung gemäß Anspruch 1 oder 11.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die Erfindung geht mit Bezug auf die folgende Beschreibung in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen (die nicht maßstabsgetreu sind) verständlich hervor, in denen gleiche Referenznummern gleiche Elemente bezeichnen und in denen:
    • 1 eine perspektivische Aufsicht auf eine anschauliche Ausführungsform einer hierin beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte ist;
    • 2 eine perspektivische Ansicht von unten auf eine anschauliche Ausführungsform einer hierin beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte ist;
    • 3 und 4 Ansichten eines Abschnitts der Vorderseite einer anschaulichen Ausführungsform einer hierin beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte sind, die eine hierin beschriebene anschauliche Ausführungsform eines Luftstromkanals zeigen;
    • 5 eine perspektivische Aufsicht in Explosionsdarstellung einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte ist;
    • 6 eine weitere perspektivische Explosionsansicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte ist;
    • 7 eine perspektivische Explosionsansicht von unten einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte ist;
    • 8 eine perspektivische Aufsicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 9 eine perspektivische Ansicht von unten einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 10 eine weitere perspektivische Aufsicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 11 eine Aufsicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 12 eine Seitenansicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 13 eine andere Seitenansicht einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen, neuen Retikelhalterwechselplatte mit einem darauf angeordneten Retikelhalter ist;
    • 14 eine perspektivische Ansicht einer anschaulichen Ausführungsform einer Retikelhalterführungsstruktur ist, die auf einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte verwendet wird;
    • 15 eine Aufsicht einer anschaulichen Ausführungsform einer Retikelhalterführungsstruktur ist, die auf einer anschaulichen Ausführungsform einer hierin beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte verwendet wird;
    • 16 eine Seitenansicht einer anschaulichen Ausführungsform einer Retikelhalterführungsstruktur ist, die auf einer anschaulichen Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte verwendet wird;
    • 17 eine Querschnittsansicht einer möglichen Ausgestaltung für die hier beschriebenen Kanäle ist;
    • 18 eine Aufsicht einer anschaulichen Ausführungsform eines anschaulichen Arbeitsgeräts ist, das mit den verschiedenen Ausführungsformen der hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte verwendet werden kann;
    • 19 eine Aufsicht ist, die eine anschauliche Ausführungsform einer hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte zeigt, die auf und über der oberen Oberfläche eines anschaulichen Arbeitsgeräts angeordnet ist; und
    • 20 eine Aufsicht ist, die eine anschauliche Ausführungsform eines neuen Retikelhalters zeigt, der auf der in 19 gezeigten Retikelhalterwechselplatte angeordnet ist.
  • Detaillierte Beschreibung
  • Im Folgenden sind verschiedene Ausführungsformen der Erfindung beschrieben. Der Übersicht halber sind in dieser Beschreibung nicht alle Merkmale einer konkreten Ausführungsform beschrieben. Bei der Entwicklung einer solchen konkreten Ausführungsform sind verständlicherweise zahlreiche implementierungsspezifische Entscheidungen zu treffen, um die spezifischen Ziele der Entwickler zu erreichen, wie z. B. die Einhaltung systembezogener und geschäftsbezogener Randbedingungen, die von einer Implementierung zur anderen variieren werden. Darüber hinaus wird man verstehen, dass ein solcher Entwicklungsaufwand zwar komplex und zeitaufwendig sein kann, aber für den Fachmann angesichts dieser Erfindung dennoch ein Routineunternehmen darstellt.
  • Der vorliegende Gegenstand wird nun mit Bezug auf die beigefügten Figuren beschrieben. Verschiedene Strukturen, Systeme und Vorrichtungen sind schematisch in den Zeichnungen nur zu Beschreibungszwecke dargestellt und um die vorliegende Erfindung nicht mit Details, die dem Fachmann gut bekannt sind, zu verdecken. Dennoch sind die beigefügten Zeichnungen zur Beschreibung und Erläuterung von anschaulichen Beispielen der vorliegenden Erfindung enthalten. Die hierin verwendeten Wörter und Ausdrücke sind so zu verstehen und auszulegen, dass sie eine Bedeutung haben, die dem Verständnis dieser Wörter und Ausdrücke durch den Fachmann auf dem entsprechenden Gebiet entspricht. Eine spezielle Definition eines Begriffs oder einer Phrase, d. h. eine Definition, die sich von der gewöhnlichen und üblichen Bedeutung gemäß dem Verständnis durch den Fachmann unterscheidet, soll nicht durch die einheitliche Verwendung des Begriffs oder der Phrase hier impliziert werden. In dem Maße, in dem ein Begriff oder eine Phrase eine besondere Bedeutung haben soll, d.h. eine Bedeutung, die sich von der des Fachmanns unterscheidet, wird eine solche besondere Definition in der Beschreibung ausdrücklich in einer definitorischen Weise dargelegt, die die besondere Definition für den Begriff oder die Phrase direkt und unmissverständlich liefert. Unter Bezugnahme auf die beigefügten Figuren werden nun verschiedene anschauliche Ausführungsformen der hier beschriebenen Vorrichtungen, Systeme und Verfahren ausführlicher beschrieben.
  • In den 1 bis 20 sind verschiedene Ansichten verschiedener Ausführungsformen einer neuen Retikelhalterwechselplatte 10, die hierin zur Verbindung mit einem Arbeitsgerät beschrieben sind, und verschiedene neue Verfahren zur Verwendung einer solchen Retikelhalterwechselplatte 10 zur Positionierung eines Retikelhalters 40 auf einem Arbeitsgerät in einer Halbleiterfertigungsanlage dargestellt. Die 1 und 2 stellen entsprechend eine perspektivische Aufsicht und eine Ansicht von unten von einer anschaulichen Ausführungsform einer neuen Retikelhalterwechselplatte 10 dar, die hier beschrieben ist.
  • In dem dargestellten Beispiel umfasst die Retikelhalterwechselplatte 10 eine Platte 12 und eine Mehrzahl von Führungen 14A-D zur Aufnahme eines Retikelhalters (die zusammen mit der Zahl 14 bezeichnet sind), die an einer Vorderseite 12X der Platte 12 durch eine Mehrzahl von vorgesehenen Befestigungselementen mit Gewinde befestigt sind, die sich durch eine Mehrzahl von Öffnungen 15, die sich durch die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters 14, und eine Mehrzahl von Öffnungen 17 erstrecken (siehe 2), die sich durch die Platte 12 erstrecken. Die Platte 12 umfasst ferner eine Seitenkante 12A, eine Seitenkante 12B, eine Hinterkante 12D, eine erste Vorderkante 12C und eine zweite Vorderkante 12E. Zusammen legen die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters einen Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite 12X der Platte 12 fest. Im Allgemeinen bilden die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters, zusammen betrachtet, ein Mittel zur Aufnahme eines Retikelhalters in einer Struktur 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite 12X der Platte 12. Die Platte 12 kann jede beliebige Form oder Ausgestaltung (in Aufsicht) aufweisen und aus jedem Material gebildet sein, z. B. Aluminium, Stahl, Kunststoff usw. Die Platte 12 kann auch aus mehreren Materialien hergestellt sein. Als ein Beispiel könnte der Körper der Platte 12 ein einzelnes spritzgegossenes Materialstück mit Stahleinlagen sein, die als Kanäle 18A-18C fungieren, die zusammen als Kanäle 18 bezeichnet sind. Als weitere Alternative könnte die Platte 12 aus verschiedenen Stücken gebogenen Blechs hergestellt werden. Andere Möglichkeiten sind dem Fachmann angesichts der vorliegenden Beschreibung ersichtlich. Auch die Dicke der Platte 12 kann je nach Anwendung variieren.
  • Wie in den 14-16 am besten zu sehen ist, umfassen die hierin beschriebenen, anschaulichen Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters eine Oberseite 14E, eine sich verjüngende Vorderseite 14F, eine vertikale Vorderseite 14G, eine Unterseite 14H, eine Hinterseite 14I und Endseiten 14J, 14K. Im dargestellten Beispiel sind die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters so auf der Platte 12 montiert, dass die sich verjüngende Vorderseite 14F einer jeden der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters 14 nach innen in Richtung des Bereichs 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters gerichtet ist. In der dargestellten Ausführungsform sind die einzelnen, in den Zeichnungen gezeigten Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters nicht miteinander verbunden.
  • Die vier dargestellten Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters stellen natürlich nur eine mögliche Anordnung eines Mittels zur Aufnahme eines Retikelhalters in einer Struktur 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters auf der Vorderseite 12X der Platte 12 dar. In anderen Ausführungsformen können weniger als vier der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters vorgesehen sein, z. B. kann die Retikelhalterwechselplatte 10 nur drei der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters umfassen. Im dargestellten Beispiel stellen die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters als einzelne Strukturen dar, die mit der Platte 12 abnehmbar verbunden sind. In anderen Anwendungen können die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters integral mit der Platte 12 ausgebildet sein, z. B. durch maschinelle Bearbeitung der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters in das Material der Platte 12 oder durch Gießen der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters und der Platte 12 als ein einziger Materialkörper. In wieder anderen Anwendungen können die einzelnen Führungen 14 zur Aufnahme der Retikelhalter durch Schweißen oder Kleben an der Platte 12 befestigt werden. In weiteren Ausführungsformen können die einzelnen Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters durch einen durchgehenden Materialring, z. B. einen rechteckigen Materialring, ersetzt werden, der den Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters vollständig umschließt. Ein solcher durchgehender Ring zur Aufnahme eines Retikelhalters kann dauerhaft oder abnehmbar mit der Platte 12 verbunden sein oder er kann integral mit der Platte 12 ausgebildet sein und er kann eine sich verjüngende Oberfläche 14F aufweisen, die dem Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters gegenüberliegt. Die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters können (in Aufsicht) eine jede beliebige Form oder Ausgestaltung aufweisen und aus jedem Material gebildet sein, z. B. Aluminium, Stahl, Kunststoff usw. Die vertikale Dicke oder Höhe der Führungen zur Aufnahme 14 eines Retikelhalters kann ebenfalls je nach Anwendung variieren. Außerdem bestehen die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters und die Platte 12 nicht unbedingt aus demselben Material, was jedoch bei einigen Anwendungen der Fall sein kann. In einer anderen Ausführungsform können die einzelnen Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters auf einem oder mehreren einstellbaren Schlitten angeordnet sein, um eine einstellbare Positionierung der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters zu ermöglichen und so die Größe des Bereichs 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters anzupassen. In einigen Ausführungsformen können die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters sogar ganz weggelassen werden oder es können erhöhte Flächen (nicht dargestellt), die in oder auf der Vorderseite 12X der Platte 12 ausgebildet sind, vorgesehen werden, um die Funktionen der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters zu übernehmen und/oder um zu verhindern, dass der Retikelhalter von der Platte 12 rutscht.
  • Der Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters kann so dimensioniert und ausgebildet sein, dass er einen Retikelhalter von beliebiger Größe oder Gestalt aufnehmen kann. Beispielsweise kann der Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters so dimensioniert und ausgebildet sein, dass er z. B. 150 mm SMIF (Standard Mechanical InterFace), 200 mm SMIF, EUV-Retikelhalter usw. aufnehmen kann. In einer beispielhaften Ausführungsform, bei der die Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters lösbar mit der Platte 12 verbunden sind, können zusätzliche Montageöffnungen 17 (siehe 2) in der Platte 12 ausgebildet sein, um die Positionierung der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters an verschiedenen Stellen zu ermöglichen, so dass der Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters die richtige Größe hat, um einen Retikelhalter mit einer bestimmten Größe und/oder Gestalt aufzunehmen.
  • Die vertikale Höhe des Retikelhalters 40 relativ zur vertikalen Höhe der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters kann je nach Anwendung variieren, d.h. die vertikale Höhe oder das vertikale Niveau des Retikelhalters 40 kann kleiner, größer oder im Wesentlichen gleich der vertikalen Höhe oder dem vertikalen Niveau der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters sein. In dem hier dargestellten Beispiel ist das vertikale Niveau des Retikelhalters 40 größer als das vertikale Niveau der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters.
  • Mit Bezug auf die 2 und 7 ist in der Hinterseite 12Y der Platte 12 eine Stifteingriffsstruktur 13 ausgebildet. Die Stifteingriffsstruktur 13 ist so ausgebildet, dass sie in eine Mehrzahl von Stiften 32A-C (die zusammen mit dem Bezugszeichen 32 bezeichnet sind) - siehe 18 - eingreift, die auf einer Oberfläche 71A eines dargestellten Arbeitsgeräts 71 angeordnet sind, wenn die Retikelhalterwechselplatte 10 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet wird. In dem dargestellten Beispiel sind die Stifte 32 auf einer Oberseite des Arbeitsgeräts 71 angeordnet. In einer dargestellten Ausführungsform können die Stifte 32 Load-Port-Pins gemäß SEMI-Standard (E57) sein.
  • Die Stifteingriffsstruktur 13 auf der Unterseite 12Y der Platte 12 ist in der Tat ein Mittel zum Eingriff mit den Stiften 32, die auf der Oberfläche 71A des Arbeitsgeräts 71 angeordnet sind. In dem dargestellten Beispiel weist die Stifteingriffsstruktur 13 die Form einer Mehrzahl von Kanälen 18A-C (auf die gemeinsam mit dem Bezugszeichen 18 Bezug genommen wird) auf, die in der Rückseite 12Y der Platte 12 ausgebildet sind. Jeder der Kanäle 18 ist so ausgebildet, dass er in einen der Stifte 32 eingreift und mit diesem zusammenpasst, wenn die Retikelhalterwechselplatte 10 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet ist. Im dargestellten Beispiel sind die Kanäle so ausgebildet, dass die Öffnung eines jeden der Kanäle 18 im Wesentlichen koplanar mit der Rückseite 12Y der Platte 12 ist, was jedoch nicht unbedingt bei allen Anwendungen der Fall ist. Mit Bezug auf 2 ist zu beachten, dass in der hier dargestellten Ausführungsform der Kanal 18A die Vorderseite 12C und die Vorderseite 12E durchsetzt, der Kanal 18B die Seitenkante 12B und der Kanal 18C die Seitenkante 12A durchsetzt. Die Hinterseite 120 wird von keinem der Kanäle 18 durchsetzt. Natürlich könnte die Retikelhalterwechselplatte 10 so hergestellt sein, dass die Kanäle 18 keine der Seitenkanten der Retikelhalterwechselplatte 10 durchsetzen. Schließlich wurde in dem hier dargestellten Beispiel die Retikelhalterwechselplatte 10 mit einer gekerbten Vorderseite (d. h. den Flächen 12C und 12E) versehen, um das Gewicht der Retikelhalterwechselplatte 10 zu reduzieren. In anderen Anwendungen kann die gekerbte Oberfläche weggelassen werden und die Oberfläche 12E kann sich über die gesamte Vorderseite der Retikelhalterwechselplatte 10 erstrecken.
  • Die Stifteingriffsstruktur 13 (z. B. die Kanäle 18) ist so bemessen, angeordnet und ausgebildet, dass sie in das Muster der Stifte 32 an einem beliebigen Arbeitsgerät 71 in einer Halbleiterfertigungsanlage eingreift und mit diesem übereinstimmt. Die Anzahl und Positionierung der Kanäle 18 in der Rückseite 12Y kann je nach Anwendung variieren. Im dargestellten Beispiel sind die Kanäle 18 voneinander getrennt, obwohl das nicht unbedingt in allen Anwendungen der Fall ist. 17 ist eine Querschnittsansicht einer möglichen Ausgestaltung für die Kanäle 18. Natürlich sollte der gegenwärtig beschriebene Gegenstand nicht als auf die Verwendung der Via-Wechselwirkung zwischen der Stifteingriffsstruktur 13 und der Mehrzahl von SEMI-Standard-Load-Port-Stiften 32 beschränkt angesehen werden, da andere mögliche Mittel zum Eingriff und zur Ausrichtung zwischen den beiden Strukturen verwendet werden können.
  • In dem hier dargestellten anschaulichen Beispiel überschneiden sich die drei Kanäle 18 nicht physisch. Darüber hinaus hat, mit Bezug auf 2, jeder der Kanäle eine lange Achse 18L, wobei eine Verlängerung der langen Achse der Achsen 18L einander an einem Punkt 19 unterhalb des Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters schneiden. Außerdem beträgt der radiale Abstand zwischen dem ersten Kanal 18A und dem zweiten Kanal 18B in Aufsicht etwa 120 Grad, der radiale Abstand zwischen dem zweiten Kanal 18B und dem dritten Kanal 18C etwa 120 Grad und der radiale Abstand zwischen dem dritten Kanal 18C und dem ersten Kanal 18A etwa 120 Grad.
  • Die Retikelhalterwechselplatte 10 umfasst auch eine erste Ausnehmung 30 mit einer Oberseite, die mit der Vorderseite 12X der Platte 12 im Wesentlichen koplanar ist. Die erste Ausnehmung 30 umfasst auch eine Öffnung 35, die sich durch die Platte 12 hindurch erstreckt, und eine Eingriffsfläche 37 neben der Öffnung 35. Ein Plattenbefestigungsmechanismus 71 B (unten beschrieben) am Arbeitsgerät 71 ist so ausgebildet, dass er sich durch die Öffnung 35 erstreckt und, wenn er betätigt wird, in die Eingriffsfläche 37 eingreift, um die Retikelhalterwechselplatte 10 am Arbeitsgerät 71 zu befestigen. Im dargestellten Beispiel ist die Eingriffsfläche 37 auf einem Niveau angeordnet, das unter dem Niveau der Vorderseite 12X der Platte 12 liegt. Der Plattenbefestigungsmechanismus 71B am Arbeitsgerät 71 kann ein beliebiger aus einer Mehrzahl von verschiedenen Befestigungsmechanismen sein, die dem Fachmann bekannt sind, und er kann auf beliebige Weise betätigt werden, z. B. mechanisch, elektrisch, hydraulisch, pneumatisch usw. In anderen Anwendungen kann die Öffnung 35 weggelassen sein und die Retikelhalterwechselplatte 10 kann durch einen Saugmechanismus am Arbeitsgerät 71, der an der Rückseite 12Y der Platte 12 angreift, in ihrer Position am Arbeitsgerät 71 befestigt werden. In wieder anderen Anwendungen kann die Öffnung 35 weggelassen sein und der Plattenbefestigungsmechanismus 71B am Arbeitsgerät 71 kann einfach in einen oder mehrere Bereiche der Vorderseite 12X der Platte 12 eingreifen. Andere mögliche Varianten und Mechanismen für den Plattenbefestigungsmechanismus 71B sind dem Fachmann angesichts der Beschreibung ersichtlich.
  • Im dargestellten Beispiel umfasst die Retikelhalterwechselplatte 10 auch einen Retikelhalterbefestigungsmechanismus 41, der ausgebildet ist, bei Betätigung einen Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters zu sichern. Der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters ist möglicherweise nicht in allen Ausführungsformen der Retikelhalterwechselplatte 10 vorhanden. Im dargestellten Beispiel umfasst der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters 41 eine Verrohrung oder Schlauchverbindung 43 und eine Haltereingriffsstruktur 45. Wenn der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters betätigt wird, kann die Haltereingriffsstruktur 45 in eine Oberfläche des Retikelhalters 40 eingreifen, um die Position des Retikelhalters 40 im Bereich 16 zur Aufnahme des Retikelhalters zu halten. Der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters ist über einen Halter 47, der über mehrere Schrauben mit der Rückseite 120 der Retikelhalterwechselplatte 10 und der Führung 14B zur Aufnahme eines Retikelhalters 14B verbunden ist, funktionell mit der Retikelhalterwechselplatte 10 verbunden. Der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters kann ein beliebiger aus einer Mehrzahl von verschiedenen Mechanismen sein, die dem Fachmann bekannt sind und die verwendet werden können, um mit einer Oberfläche des Retikelhalters 40 in Eingriff zu kommen, und er kann auf beliebige Weise betätigt werden, z. B. mechanisch, elektrisch, hydraulisch, pneumatisch, usw. In einem besonderen Beispiel kann der Mechanismus 41 zur Sicherung des Retikelhalters ein pneumatisch betätigter Mechanismus sein, bei dem Druckluft über der Verrohrung oder Schlauchverbindung 43 der Haltereingriffsstruktur 45 zugeführt wird, bis diese an einer Oberfläche des Retikelhalters 40 anliegt. Der Druck wird in der Verrohrung oder Schlauchverbindung 43 so lange wie nötig aufrechterhalten. Die Haltereingriffsstruktur 45 kann durch Anlegen eines Unterdrucks in der Verrohrung oder Schlauchverbindung 43 oder über einen federunterstützten Rückholmechanismus zurückgezogen werden.
  • Die hier dargestellte Ausführungsform der Retikelhalterwechselplatte 10 umfasst auch eine erste Abdeckplatte 31, die einen Fluidströmungskanal 56 abdeckt, der zumindest teilweise auf, in oder innerhalb der Platte 12 ausgebildet oder in unmittelbarer Nähe der Platte 12 angeordnet ist. Wie dem Fachmann angesichts der Beschreibung ersichtlich ist, ist der Fluidströmungskanal 56 so ausgebildet, dass er eine Fluidverbindung mit einem Innenbereich des Retikelhalters 40 ermöglicht, wenn der Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist. Im dargestellten Beispiel umfasst der Fluidströmungskanal 56 eine zweite Ausnehmung 56, die in der Platte 12 ausgebildet ist und teilweise durch eine Bodenfläche 57 festgelegt ist. Die erste Abdeckplatte 31 kann an der Platte 12 durch eine Mehrzahl von Schrauben (nicht dargestellt) befestigt werden, die sich durch die Öffnungen 39 in der ersten Abdeckplatte 31 erstrecken und in Gewindeöffnungen 59 in der Platte 12 eingreifen. Eine Dichtung (nicht dargestellt) kann zwischen der ersten Abdeckplatte 31 und einer Dichtungsfläche 38 angrenzend an den Fluidströmungskanal 56 angeordnet sein. Der Fluidströmungskanal 56 steht in Fluidverbindung mit einer Öffnung 61, die sich durch die Bodenfläche 57 der Ausnehmung und durch die Rückseite 12Y der Platte 12 erstreckt. Wie dem Fachmann angesichts der Beschreibung ersichtlich ist, ist die hier dargestellte Struktur und Ausgestaltung des Fluidströmungskanals 56 nur beispielhaft, da er eine Mehrzahl unterschiedlicher Formen, Strukturen und Ausgestaltungen annehmen kann, z. B. kann er jede Form von Fluidströmungsvorrichtung oder -struktur umfassen, die einen Fluidströmungspfad zwischen dem Retikelhalter 40 und dem Arbeitsgerät 71 bereitstellt, wie unten ausführlicher beschrieben ist. In dem hier dargestellten Beispiel ist beispielsweise zumindest ein Teil des Fluidströmungskanals innerhalb der Platte 12 angeordnet. In anderen Ausführungsformen kann der Fluidströmungskanal 56 eine Fluidströmungsleitung, z. B. einen Kunststoffschlauch oder -rohr, Metallschlauch oder -rohr und/oder eine Verrohrung, umfassen, von dem zumindest ein Teil durch einen Teil der Platte 12 entweder direkt (d. h. durch direkten physischen Kontakt zwischen der Fluidströmungsleitung und der Platte 12) oder indirekt (durch Verwendung einer oder mehrerer Zwischenstrukturen, die zwischen einem Teil der Fluidströmungsleitung und der Platte 12 angeordnet sind) mechanisch abgestützt ist. Zum Beispiel kann zumindest ein Teil des Fluidströmungskanals 56 innerhalb der Platte 12, auf oder über der Vorderseite 12X der Platte 12, auf oder über der Rückseite 12Y der Platte 12 oder einer Kombination davon angeordnet sein. Daher sollte die gegenwärtig beschriebene Erfindung nicht als auf die hier beschriebene anschauliche Ausführungsform des Fluidströmungskanals 56 beschränkt angesehen werden.
  • Es ist ebenfalls ein anschaulicher Stift 33 dargestellt, der sich durch eine Öffnung 36 in der ersten Abdeckplatte 31 erstreckt. Wie weiter unten ausführlicher beschrieben wird, ist der Stift 33 so ausgebildet, dass er in ein Rückschlagventil in dem Retikelhalter40 eingreift und diesen öffnet, wenn der Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist. Eine Dichtung 34 ist um den Stift 33 und oberhalb einer Oberseite der ersten Abdeckplatte 31 angeordnet. Der Stift 33 weist einen obersten Abschnitt auf, der auf einem Niveau angeordnet ist, das oberhalb eines Niveaus der Oberseite der ersten Abdeckplatte 31 liegt. In dem dargestellten Beispiel wird nur ein einziger Stift 33 verwendet. In anderen Anwendungen können jedoch zwei der Stifte 33 verwendet werden, um in beide Rückschlagventile einzugreifen, die in dem Retikelhalter 40 vorhanden sind.
  • Die in diesem Beispiel ebenfalls dargestellte Retikelhalterwechselplatte 10 umfasst eine zweite Abdeckplatte 51 mit einer Oberfläche 51A, die an der Rückseite 12Y der Platte 12 mit einer Mehrzahl von Schrauben (nicht dargestellt) befestigt ist, die sich durch Öffnungen 55 in der zweiten Abdeckplatte 51 erstrecken und in Gewindeöffnungen (nicht dargestellt) in der Platte 12 eingreifen. Die zweite Abdeckplatte 51 umfasst eine Öffnung 53, die sich durch die zweite Abdeckplatte 51 erstreckt. Die Öffnung 53 steht in Fluidverbindung mit der Öffnung 61 und über die Öffnung 61 in Fluidverbindung mit dem Fluidströmungskanal 56 und der Öffnung 36 in der ersten Abdeckplatte 31. Eine Dichtung (nicht dargestellt) ist zwischen der zweiten Abdeckplatte 51 und der Rückseite 12Y der Platte 12 angeordnet. Wie weiter unten näher erläutert wird, ist ein Saugmechanismus 71C am Arbeitsgerät 71 so ausgebildet, dass er so ausgefahren werden kann, dass er dichtend an der Oberfläche 51A der zweiten Abdeckplatte 51 anliegt. Wie dem Fachmann nach vollständiger Lektüre der vorliegenden Anwendung ersichtlich ist, ist die zweite Abdeckplatte 51 eine Abstandsplatte, die so bemessen ist, dass die Oberfläche 51A ein Höhenniveau aufweist, das dem Höhenniveau einer Probenentnahmeöffnung eines FOUP (Front Opening Unified Pod) entspricht, wenn die Retikelhalterwechselplatte 10 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet ist. Daher kann die Dicke der zweiten Abdeckplatte 51 je nach Anwendung variieren. Bei einigen Anwendungen kann die zweite Abdeckplatte 51 weggelassen werden. Beispielsweise kann die Platte 12 so dick ausgeführt sein, dass die Rückseite 12Y der Platte 12 auf einem Höhenniveau angeordnet ist, das dem Höhenniveau einer sampling-port-Fläche eines FOUP entspricht. In dieser letzteren Situation würde der Saugmechanismus 71C des Arbeitsgeräts 71, wenn er ausgefahren ist, an der Vorderseite 12Y der Platte 12 angreifen.
  • In einer anschaulichen Ausführungsform kann die Retikelhalterwechselplatte 10 auch eine Öffnung 44 aufweisen, die es einem RFID-Lesegerät (nicht dargestellt) ermöglicht, eine Identifikationsnummer des auf der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordneten Retikelhalters 40 zu lesen. Um die Zeichnungen nicht zu sehr zu verkomplizieren, ist die Öffnung 44 nur in den 5, 7 und 9 dargestellt. Das RFID-Lesegerät kann mit einer Mehrzahl von bekannten Techniken an der Retikelhalterwechselplatte 10 befestigt sein. Wie dem Fachmann bekannt ist, variieren RFID-Lesegeräte in Größe und Gestalt. Daher kann die Öffnung 44 eine beliebige Größe, Form oder Gestalt aufweisen, die das jeweilige RFID-Lesegerät aufnimmt, das mit der Retikelhalterwechselplatte 10 verwendet wird. Außerdem kann die Öffnung 44 an praktisch jeder gewünschten Stelle der Platte 12 angeordnet sein. In einigen Anwendungen kann sich ein Teil der Öffnung 44 unter einer der Führungen 14 zur Aufnahme eines Retikelhalters erstrecken.
  • Wie bereits erwähnt, zeigt 18 eine Aufsicht auf eine beispielhafte Ausführungsform eines Arbeitsgeräts 71, in das die verschiedenen Ausführungsformen der hier beschriebenen Retikelhalterwechselplatte 10 eingreifen können. In dem dargestellten Beispiel sind eine Mehrzahl von Stifte 32A-C (zusammen mit dem Bezugszeichen 32 bezeichnet) auf einer Oberfläche 71A des Arbeitsgeräts 71 angeordnet. In einem besonderen Beispiel stellen die Stifte 32 eine Mehrzahl von SEMI-Standard-Load-Port-Pins dar, die dem SEMI-Standard E57 entsprechen, und die Oberfläche 71A stellt eine Oberseite des Arbeitsgeräts 71 dar. Das Arbeitsgerät 71 umfasst auch einen Plattenbefestigungsmechanismus 71B. Bei Betätigung ist ein Teil des Plattenbefestigungsmechanismus 71B so ausgebildet, dass er sich durch die Öffnung 35 in der Platte 12 erstreckt und in die Eingriffsfläche 37 eingreift, um die Retikelhalterwechselplatte 10 in ihrer Position am Arbeitsgerät 71 zu sichern. Der Plattenbefestigungsmechanismus 71B kann in einigen Anwendungen weggelassen werden. Der Plattenbefestigungsmechanismus 71B kann von beliebiger Gestalt, Art oder Beschaffenheit sein und kann aus einer Mehrzahl von Mechanismen gebildet sein, die dem Fachmann bekannt sind, z. B. Mechanismen, die einen oder mehrere Motoren (pneumatisch oder elektrisch) und verschiedene mechanische Verbindungen usw. umfassen. Das Arbeitsgerät 71 umfasst ferner einen Saugmechanismus 71C, der, wie weiter unten ausführlicher erläutert ist, so ausgebildet ist, dass er mit der Oberfläche 51A der zweiten Abdeckplatte 51 in Eingriff tritt, um eine Fluidverbindung zwischen dem Arbeitsgerät 71 und einem Innenbereich eines Retikelhalters 40 bereitzustellen, der auf der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet ist, die wiederum auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet wird.
  • Wie dem Fachmann bekannt ist, sind Platzierungs- und Anwesenheitssensoren (nicht dargestellt) in irgendeiner Form oder Art im Load-Port des Arbeitsgeräts 71 angeordnet. Die Platzierungs- und Anwesenheitssensoren stellen Mittel dar, mit denen das Arbeitsgerät 71 erkennt, wenn ein Träger oder ein Objekt - in diesem Fall die Retikelhalterwechselplatte 10 und der Retikelhalter 40 - auf dem Load-Port angeordnet wurde. Die Platzierungs- und Drucksensoren gibt es in verschiedenen Formen, z. B. ein oder mehrere Druckschalter, ein oder mehrere Lasersensoren usw. In dem Fall, in dem das Arbeitsgerät einen Druckschalter umfasst, müsste eine Öffnung (nicht dargestellt), d. h. ein mechanisches Durchgangsmerkmal, zur Platte 12 hinzugefügt werden, damit der Druckschalter am Arbeitsgerät 71 aktiviert wird, wenn der Retikelhalter 40 auf dem Arbeitsgerät 71 landet. In ähnlicher Weise müsste in dem Fall, in dem das Arbeitsgerät 71 einen Lasersensor umfasst, eine Öffnung (nicht dargestellt) in der Platte 12 ausgebildet sein, damit der Empfänger/Reflektor des Lasersensors nicht blockiert wird.
  • Gemäß der Darstellung in 19 wurde eine anschauliche Ausführungsform einer neuen Retikelhalterwechselplatte 10 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet. In der Praxis kann ein Retikelhalter 40 auf der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet werden, bevor die Retikelhalterwechselplatte 10 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet wird. Der Einfachheit halber ist in 19 jedoch dargestellt, wie die Retikelhalterwechselplatte 10 anfänglich auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet wird, ohne dass ein Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet ist. Gemäß der Darstellung in 19 ist die Stifteingriffsstruktur 13 (z. B. die Kanäle 18) mit der Mehrzahl von Stiften 32 am Arbeitsgerät 71 in Eingriff gebracht und ausgerichtet, um dadurch die Position der Retikelhalterwechselplatte 10 relativ zum Arbeitsgerät 71 zu fixieren. Darstellungsgemäß wurde der Plattenbefestigungsmechanismus 71B durch die Öffnung 35 in der Retikelhalterwechselplatte 10 ausgefahren und befindet sich in einem eingeklemmten Eingriff mit der Eingriffsfläche 37, wodurch die Retikelhalterwechselplatte 10 in ihrer Position am Arbeitsgerät 71 gesichert wird.
  • 20 zeigt eine anschauliche Ausführungsform des Retikelhalters 40, der im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters einer anschaulichen Ausführungsform einer neuen Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet ist, die hier beschrieben wird. An diesem Punkt kann, falls vorhanden, der Halterbefestigungsmechanismus 41 betätigt werden (falls dies als notwendig oder wünschenswert erachtet wird), um zu bewirken, dass die Haltereingriffsstruktur 45 an einer Oberfläche der Retikelhalter 40 angreift, um den Retikelhalter 40 sicher im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters der Retikelhalterwechselplatte 10 zu positionieren. In anderen Anwendungen kann der Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet werden, bevor die Kombination aus der Retikelhalterwechselplatte 10 und des Retikelhalters 40 auf dem Arbeitsgerät 71 angeordnet wird. In diesem letzteren Fall kann der Halterbefestigungsmechanismus 41 betätigt werden, um mit einer Oberfläche des Retikelhalters 40 in Eingriff zu kommen, bevor die Kombination aus der Retikelhalterwechselplatte 10 und des Retikelhalter 40 auf das Arbeitsgerät 71 gesetzt wird.
  • Gemäß der Darstellung in 11 kann ein Retikel 42 (durch eine gestrichelte Linie dargestellt) in dem Retikelhalter 40 angebracht werden. Das Retikel 42 ist nur in 11 dargestellt, um die gegenwärtig beschriebenen Erfindungen nicht zu verdecken. Wie dem Fachmann jedoch nach der vollständigen Lektüre der vorliegenden Anmeldung ersichtlich ist, kann in dem Retikelhalter 40 ein Retikel 42 angeordnet sein oder auch nicht, wenn der Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist. Wenn der Retikelhalter 40 (mit dem darin angeordneten Retikel 42) auf einem gespülten Aufbewahrungsplatz (nicht dargestellt) angeordnet ist, wird typischerweise eine unter Druck stehende Inertgasatmosphäre (z. B. Argon) in den Innenbereich des Retikelhalter 40 eingeführt. Das Inertgas kann über eines oder beide der beiden Rückschlagventile (nicht dargestellt), die sich typischerweise im Boden des Retikelhalters 40 befinden, in den Retikelhalter 40 eingeleitet werden.
  • Wenn der Retikelhalter 40 im Bereich 16 zur Aufnahme der Retikelhalterwechselplatte 10 angeordnet ist, greift der Stift 33 (siehe 1) in das Rückschlagventil (nicht dargestellt) im Boden des Retikelhalters 40 ein und öffnet es, und wenn der Retikelhalter 40 vollständig im Bereich 16 zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist, liegt die Dichtung 34 dicht an der Unterseite des Retikelhalters 40 an, wodurch eine Fluidverbindung zwischen dem Inneren des Retikelhalters 20 und dem Fluidströmungskanal 56 über die Öffnung 36 in der ersten Abdeckplatte 31 hergestellt wird. Sobald die Kombination aus der Retikelhalterwechselplatte 10 und dem Retikelhalter 40 auf der Oberfläche 71A des Arbeitsgeräts 71 angeordnet (und durch Betätigung des Plattenbefestigungsmechanismus 71B daran befestigt) ist, wird der Saugmechanismus 71C des Arbeitsgeräts so ausgefahren, dass das Ende des Saugmechanismus abdichtend an der Oberfläche 51A der zweiten Abdeckplatte 51 anliegt und die Öffnung 53 in der zweiten Abdeckplatte 51 umschließt. Dadurch wird eine Fluidverbindung zwischen dem Arbeitsgerät 71 und dem Inneren des Retikelhalters 40 (über die Öffnung 53, die Öffnung 61, den Fluidströmungskanal 56 und die Öffnung 36) hergestellt, so dass ein Fluid, wie Luft, Flüssigkeit oder Gas usw., zwischen dem Arbeitsgerät 71 und dem Retikelhalter 40 ausgetauscht werden kann.
  • Wie dem Fachmann nach vollständiger Lektüre der vorliegenden Anmeldung ersichtlich, ist das Arbeitsgerät 71 geeignet, eine Mehrzahl von Vorgängen in Bezug auf den Retikelhalter40 durchzuführen. In einer Ausführungsform kann das Arbeitsgerät 71 beispielsweise ein Partikelanalysewerkzeug sein, das dazu geeignet ist, eine Flüssigkeitsprobe aus dem Inneren des Retikelhalters 40 zu entnehmen und die Partikelanzahl der entnommenen Flüssigkeit zu messen. In anderen Ausführungsformen kann das Arbeitsgerät 71 so ausgebildet sein, dass es molekulare Verunreinigungen, Feuchtigkeit, VOCs, HF und alle anderen Verbindungen, die traditionell in der Halbleiterherstellung verwendet werden, der entnommenen Flüssigkeit misst. In anderen Ausführungsformen kann das Arbeitsgerät 71 ausgebildet sein, den inneren Bereich des Retikelhalters 40 durch Injektion eines Gases mit einer sehr hohen Durchflussrate und/oder durch Flüssigkeitsinjektion und -entfernung mit anschließender Trocknung des inneren Bereichs des Retikelhalters 40 zu reinigen. Nach einer vollständigen Lektüre der vorliegenden Anmeldung ist dem Fachmann ersichtlich, dass es in einer Halbleiterfertigungsanlage verschiedene Arbeitsgeräte 71 gibt, die zur Durchführung verschiedener Arbeitsschritte an einem Retikelhalter 40 verwendet werden können. Daher ist die hierin beschriebene Erfindung nicht als auf einen bestimmten Typ von Arbeitsgerät oder eine bestimmte Operation, die am Retikelhalter 40 durchgeführt wird, beschränkt anzusehen.
  • Normalerweise gibt es in einer Halbleiterfertigungsanlage und in Bezug auf einen beispielhaften Vorgang, wie die Feuchtigkeitsanalyse, ein erstes Arbeitsgerät, das für die Bearbeitung von FOUPs ausgebildet ist, und ein zweites Arbeitsgerät, das nur für die Bearbeitung von Retikelhaltern ausgebildet ist. Durch die Verwendung der hier beschriebenen neuen Retikelhalterwechselplatte 10 kann jedoch ein Vorgang (z. B. eine Feuchtigkeitsanalyse) an einem Retikelhalter 40 mit einem Arbeitsgerät 71 durchgeführt werden, das ursprünglich nur für die Durchführung eines solchen Vorgangs an FOUPs ausgebildet war. Das heißt, durch die Verwendung der Retikelhalterwechselplatte 10 muss die Fertigungseinrichtung keine separaten, speziellen Arbeitsgeräte für die Durchführung desselben Vorgangs sowohl an FOUPs als auch an Retikelhaltern anschaffen und unterhalten, wodurch Kosten und der unnötige Verbrauch von wertvollem Platz in der Fertigungseinrichtung reduziert werden.

Claims (14)

  1. Vorrichtung (10), umfassend: eine Platte (12), wobei die Platte (12) eine Vorderseite (12X) und eine Rückseite (12Y) aufweist, wobei die Rückseite (12Y) gegenüber der Vorderseite (12X) angeordnet ist, eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X), wobei die Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) zumindest teilweise einen Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X) begrenzt, wobei die Rückseite (12Y) eine Stifteingriffsstruktur (13) aufweist, wobei die Stifteingriffsstruktur (13) ausgebildet ist, um mit einer Mehrzahl von Stiften (32) in Eingriff zu treten; und einen Fluidströmungskanal (56), der so ausgebildet ist, dass er eine Fluidverbindung mit einem inneren Bereich eines Retikelhalters (40) ermöglicht, wenn der Retikelhalter (40) in dem Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters angeordnet ist, wobei der Fluidströmungskanal (56) umfasst: eine innerhalb der Platte (12) ausgebildete Ausnehmung (30); eine erste Öffnung (35) in Fluidverbindung mit der Ausnehmung (30), wobei die erste Öffnung (35) von der Rückseite (12Y) der Platte (12) zu der Ausnehmung (30) verläuft; und eine erste Abdeckplatte (31), die über der Ausnehmung (30) angeordnet ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Mehrzahl von Stiften (32) drei SEMI-Standard-Load-Port-Pins umfasst und wobei die Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) eine Mehrzahl von einzelnen Führungen (14) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) umfasst.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei zumindest ein Abschnitt des Fluidströmungskanals (56) innerhalb der Platte (12) angeordnet ist.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Fluidströmungskanal (56) eine Fluidströmungsleitung umfasst und wobei mindestens ein Abschnitt der Fluidströmungsleitung (56) entweder direkt oder indirekt durch die Platte (12) mechanisch gestützt ist.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner umfassend: eine Öffnung, die von der Vorderseite (12X) der Platte (12) zur Rückseite (12Y) der Platte (12) verläuft; und eine Eingriffsfläche (37), die neben der Öffnung angeordnet ist, wobei die Eingriffsfläche (37) eine Oberfläche aufweist, die auf einem Niveau angeordnet ist, das sich unter einem Niveau der Vorderseite (12X) befindet.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner umfassend einen Retikelhalterbefestigungsmechanismus (41), der funktionell mit zumindest einem der Platte (12) oder der Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) gekoppelt ist, wobei der Retikelhalterbefestigungsmechanismus (41) ausgebildet ist, um in eine Oberfläche eines Retikelhalters (40) zur Sicherung des Retikelhalters (40) im Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters einzugreifen.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Stifteingriffsstruktur (13) eine Mehrzahl von Kanälen (18) umfasst, wobei jeder aus der Mehrzahl von Kanälen (18) ausgebildet ist, um in einen der Mehrzahl von Stiften (32) einzugreifen.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Ausnehmung (30) eine Bodenfläche (14H) aufweis und wobei sich die erste Öffnung (35) bis zur Bodenfläche (14H) der Ausnehmung (30) erstreckt.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner umfassend: eine zweite Abdeckplatte (51), die mit der Rückseite (12Y) der Platte (12) gekoppelt ist; und eine zweite Öffnung (36) in der zweiten Abdeckplatte (51), wobei die zweite Öffnung (36) mit der ersten Öffnung (35) in Fluidverbindung steht.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner umfassend: einen Stift mit einer obersten Oberfläche (32), die auf einem Niveau angeordnet ist, das sich über einem Niveau einer Oberseite (31) der ersten Abdeckplatte befindet; und einen Dichtring (34), der um den Stift und auf der Oberseite (31) der ersten Abdeckplatte angeordnet ist.
  11. Vorrichtung (10), umfassend: eine Platte (12), wobei die Platte (12) eine Vorderseite (12X) und eine Rückseite (12Y) aufweist, wobei die Rückseite (12Y) gegenüber der Vorderseite (12X) angeordnet ist; eine Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X), wobei die Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) zumindest teilweise einen Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) auf der Vorderseite (12X) begrenzt, wobei die Rückseite (12Y) eine Stifteingriffsstruktur (13) aufweist, wobei die Stifteingriffsstruktur (13) ausgebildet ist, um mit einer Mehrzahl von Stiften (32) in Eingriff zu treten; eine Öffnung (35), die sich von der Vorderseite (12X) der Platte (12) zur Rückseite (12Y) der Platte (12) erstreckt; eine Eingriffsfläche (37), die neben der Öffnung (35) angeordnet ist, wobei die Eingriffsfläche (37) eine Oberfläche aufweist, die auf einem Niveau angeordnet ist, das sich unter einem Niveau der Vorderseite (12X) befindet; und einen Fluidströmungskanal (56), der ausgebildet ist, um eine Fluidverbindung mit einem Innenbereich (40) eines Retikelhalters (40) zu ermöglichen, wenn der Retikelhalter (40) im Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) angeordnet ist, wobei der Fluidströmungskanal (56) umfasst: eine innerhalb der Platte (12) gebildete Ausnehmung (30); eine erste Öffnung (35) in Fluidverbindung mit der Ausnehmung (30), wobei die erste Öffnung (35) von der Rückseite (12Y) der Platte (12) zu der Ausnehmung (30) verläuft; und eine erste Abdeckplatte (31), die über der Ausnehmung (30) angeordnet ist.
  12. Vorrichtung (10) nach Anspruch 11, ferner umfassend einen Retikelhalterplattenbefestigungsmechanismus (41), der funktionell mit der Platte (12) und/oder der Struktur zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) gekoppelt ist, wobei der Retikelhalterplattenbefestigungsmechanismus (41) ausgebildet ist, um mit einer Oberfläche (40) eines Retikelhalters (40) zur Befestigung des Retikelhalters (40) in dem Bereich (16) zur Aufnahme eines Retikelhalters (40) in Eingriff zu treten.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei zumindest ein Abschnitt (56) des Fluidströmungskanals innerhalb der Platte (12) angeordnet ist.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei der Fluidströmungskanal (56) eine Fluidströmungsleitung umfasst und wobei mindestens ein Abschnitt (56) der Fluidströmungsleitung entweder direkt oder indirekt durch die Platte (12) mechanisch gestützt ist.
DE102021112497.2A 2020-06-15 2021-05-12 Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät Active DE102021112497B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/901,099 2020-06-15
US16/901,099 US11569108B2 (en) 2020-06-15 2020-06-15 Reticle pod conversion plate for interfacing with a tool

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102021112497A1 DE102021112497A1 (de) 2021-12-16
DE102021112497B4 true DE102021112497B4 (de) 2024-06-06

Family

ID=78718889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102021112497.2A Active DE102021112497B4 (de) 2020-06-15 2021-05-12 Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11569108B2 (de)
CN (1) CN113805429B (de)
DE (1) DE102021112497B4 (de)
TW (1) TWI790616B (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12013649B1 (en) * 2022-12-30 2024-06-18 Gudeng Equipment Co., Ltd. Clamping appliance of reticle inner pod

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120042988A1 (en) 2009-05-12 2012-02-23 Murata Machinery, Ltd. Purgign apparatus and purging method

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5980183A (en) 1997-04-14 1999-11-09 Asyst Technologies, Inc. Integrated intrabay buffer, delivery, and stocker system
EP1022615A4 (de) * 1997-08-29 2001-01-03 Nikon Corp Behälter für photomaske, transporteinrichtung sowie transportverfahren
US6530736B2 (en) 2001-07-13 2003-03-11 Asyst Technologies, Inc. SMIF load port interface including smart port door
JP2006051886A (ja) 2004-08-12 2006-02-23 Murata Mach Ltd 天井走行車システム
JP4221603B2 (ja) 2005-03-31 2009-02-12 村田機械株式会社 天井走行車システム
US8821099B2 (en) 2005-07-11 2014-09-02 Brooks Automation, Inc. Load port module
US7591624B2 (en) 2006-01-09 2009-09-22 International Business Machines Corporation Reticle storage pod (RSP) transport system utilizing FOUP adapter plate
JP2007191235A (ja) 2006-01-17 2007-08-02 Murata Mach Ltd 天井走行車システム
JP4858018B2 (ja) 2006-09-01 2012-01-18 ムラテックオートメーション株式会社 被搬送物保管システム
US8146623B2 (en) * 2007-02-28 2012-04-03 Entegris, Inc. Purge system for a substrate container
CN101609260A (zh) * 2008-06-16 2009-12-23 亿尚精密工业股份有限公司 移栽容器的遮蔽式入出气结构
JP6493339B2 (ja) 2016-08-26 2019-04-03 村田機械株式会社 搬送容器、及び収容物の移載方法
CN108375872B (zh) * 2017-01-25 2022-04-15 家登精密工业股份有限公司 极紫外光光罩容器
TWI690771B (zh) * 2018-01-11 2020-04-11 家登精密工業股份有限公司 光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120042988A1 (en) 2009-05-12 2012-02-23 Murata Machinery, Ltd. Purgign apparatus and purging method

Also Published As

Publication number Publication date
TWI790616B (zh) 2023-01-21
CN113805429A (zh) 2021-12-17
DE102021112497A1 (de) 2021-12-16
US20210391198A1 (en) 2021-12-16
CN113805429B (zh) 2024-07-19
TW202213592A (zh) 2022-04-01
US11569108B2 (en) 2023-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68919234T2 (de) Vorrichtung zum Vorwählen und festhalten einer festen Distanz zwischen einem Werkstück und einem Vakuumgerät in Partikelstrahllithographiesystemen.
DE3047513C2 (de)
DE69412720T2 (de) Modulare Anordnung zum Analysieren von Schüttgut
DE69632095T2 (de) Giessvorrichtung mit Kompensationselement
DE102020204746A1 (de) Überprüfvorrichtung und bearbeitungsvorrichtung mit derselben
DE112005003767B4 (de) Ablage-Halteeinrichtung
DE2942876A1 (de) Durch vakuum betaetigte haltevorrichtung
EP2015087B1 (de) Vorrichtung zum Testen von elektronischen Bauelementen, insbesondere IC's, mit innerhalb einer Drucktestkammer angeordnetem Abdichtboard
DE102007052011A1 (de) Waferbearbeitungsverfahren
DE112018001612T5 (de) Substratlagerungsbehälter
DE102021112497B4 (de) Retikelhalterwechselplatte zur Kopplung mit einem Arbeitsgerät
DE102010034440A1 (de) Abfallfluid-Aufbereitungsvorrichtung
WO2007045331A1 (de) Vorrichtung zum lagern von kontaminationsempfindlichen, plattenförmigen gegenständen, insbesondere zum lagern von halbleiterwafern
DE1928203A1 (de) Haltevorrichtung fuer flaechige Werkstuecke
DE19613611A1 (de) Metallmagazineinheit zum Prüfen eines Halbleiterbauelements
DE69812822T2 (de) Me fühlervorrichtung und Verfahren zum Polieren eines Me fühlers
DE60317182T2 (de) Halbleiterprüfsystem mit leicht wechselbarer schnittstelleneinheit
DE2945149A1 (de) Schaltungsanordnung
DE102022200682A1 (de) Hintergrund der erfindung
DE10017742A1 (de) Vorrichtung zum Handling von Bauelementen
EP3844801B1 (de) Übertragen elektronischer bauteile von einem ersten zu einem zweiten träger
DE4335735C2 (de) Ansaugbaugruppe für Platten und Folien
DE69228906T2 (de) Verfahren zur Ausrichtung von Masken bei der photolithographischen Bearbeitung von gedruckten Leiterplatten
DE202019102647U1 (de) Vakuumhalter für Substrate in der Halbleiterbearbeitung
DE112019006131T5 (de) Vakuum-spritzgiessen für optoelektronische module

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G03F0001000000

Ipc: G03F0001660000

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: GLOBALFOUNDRIES U.S. INC., SANTA CLARA, US

Free format text: FORMER OWNER: GLOBALFOUNDRIES INC., GRAND CAYMAN, KY

R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division