DE102018204429A1 - DEVICE FOR PROMOTING AND DOSING POWDER AND DEVICE FOR PRODUCING A LAYER STRUCTURE ON A SURFACE AREA OF A COMPONENT - Google Patents

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Abstract

Eine Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 umfasst einen Pulvervorratsbehälter 110 zum Speichern und Bereitstellen von Pulver 112, einen Schwingförderer 120 mit einer Fördereinrichtung 122 mit einer einstellbaren Förderrate zum Abgeben des Pulvers 112 an einen Pulverauslass 124 mit der einstellbaren Förderrate, eine Leitungsanordnung 130 zum Befördern des von dem Schwingförderer 120 abgegebenen Pulvers 112 in einem Fördergas 114 als ein Pulver-Gas-Gemisch 116 und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches 116 zu einer Pulververarbeitungseinrichtung 200, wobei eine Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 vorgesehen ist, um einen definierten Anteil PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu entnehmen, eine Pulvermengenmessanordnung 140 zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen eines Pulvermengeninformationssignals S1, wobei die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge PM1 des Schwingförderers 120 aufweist, und einer Steuerungseinrichtung 150, die ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung 140 bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal S1 die einstellbare Förderrate des Schwingförderers 120 auf einen vorgegebenen Sollwert einzustellen.A powder delivery and metering apparatus 100 includes a powder reservoir 110 for storing and providing powder 112, a vibratory conveyor 120 having a variable delivery rate conveyor 122 for delivering the powder 112 to an adjustable rate powder outlet 124, a conduit assembly 130 for conveying the powder 112 discharged from the vibrating conveyor 120 in a conveying gas 114 as a powder-gas mixture 116 and for supplying the powder-gas mixture 116 to a powder processing device 200, wherein a decoupling device 132 is provided in the line arrangement 130 to a defined proportion PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116, a Pulvermengenmessanordnung 140 for detecting the decoupled powder amount PM2 per unit time and for providing a powder amount information signal S1, wherein the extracted powder amount PM2 per unit time within a tolerance Area has a predetermined ratio to the conveyed powder amount PM1 of the vibratory conveyor 120, and a control device 150 which is adapted to set based on the powder amount information provided by the powder flow meter 140 amount information signal S1, the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 to a predetermined desired value.

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Förderung und Dosierung von Pulver zu einer Pulververarbeitungseinrichtung, wie z. B. zu einer Plasmaspritzeinrichtung oder Plasmadüse, um das bei der Plasmabeschichtung bzw. dem Plasmaspritzen benötigte Pulver mit einer hohen Genauigkeit der Pulververarbeitungseinrichtung zuzuführen. Ferner beziehen sich Ausführungsbeispiele auf eine Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur an einem Oberflächenbereich eines Bauelements, wobei die mit hoher Genauigkeit zugeführte Menge an Pulverteilchen zum Beispiel in der Pulververarbeitungseinrichtung in einem Plasmaspritzprozess aktiviert und dann auf ein Substrat bzw. den Oberflächenbereich des Bauelements aufgebracht wird. Ausführungsbeispiele beziehen sich ferner auf ein flächiges Heizelement, bei dem mittels Plasmabeschichten bzw. Plasmaspritzen eine flächige, elektrisch leitfähige Widerstandsschichtstruktur auf dem Oberflächenbereich des Bauelements aufgebracht ist.The present invention relates to an apparatus and a method for conveying and metering powder to a powder processing device, such. B. to a plasma spraying device or plasma nozzle to supply the powder required in the plasma coating or the plasma spraying with high accuracy of the powder processing device. Furthermore, exemplary embodiments relate to an apparatus and method for producing a layer structure at a surface region of a component, wherein the high-precision supplied amount of powder particles is activated, for example, in the powder processing device in a plasma spraying process and then applied to a substrate or the surface region of the component , Embodiments also relate to a planar heating element, in which a planar, electrically conductive resistance layer structure is applied to the surface region of the component by means of plasma coatings or plasma spraying.

Gemäß dem Stand der Technik werden sogenannte Pulverförderer verwendet, um eine zugeführte Menge von Pulverteilchen zu dosieren und die dosierte Pulvermenge einer Pulververarbeitungseinrichtung, wie zum Beispiel einer Plasmabeschichtungs- oder Plasmaspritzeinrichtung, zuzuführen. In einer Plasmabeschichtungseinrichtung werden nun Plasmaströmungen, wie zum Beispiel Plasmastrahlen bzw. Plasma-Jets, verwendet, um Oberflächen zu behandeln oder zu beschichten. Im Rahmen der Oberflächenbearbeitung werden Plasmen beispielsweise zur plasmainduzierten Materialabscheidung verwendet. In der Beschichtungstechnik werden beispielsweise Funktionsschichten, wie zum Beispiel Verspiegelungen oder Antihaftschichten aufgebracht. In der Werkstofftechnik werden Plasmen beispielsweise zur plasmainduzierten Materialabscheidung eingesetzt.According to the prior art, so-called powder conveyors are used to meter an added amount of powder particles and to supply the metered amount of powder to a powder processor, such as a plasma coating or plasma sprayer. In a plasma coating apparatus, plasma flows, such as plasma jets and plasma jets, are now used to treat or coat surfaces. In the context of surface treatment, plasmas are used, for example, for plasma-induced material deposition. In coating technology, for example, functional layers, such as, for example, reflective coatings or non-stick layers, are applied. In material technology, plasmas are used, for example, for plasma-induced material deposition.

Die der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht nun darin, ein verbessertes Konzept zur genauen Förderung und Dosierung einer Pulvermenge zu einer Pulververarbeitungseinrichtung zu schaffen, um dadurch eine möglichst definierte und gleichmäßige Materialabscheidung und Oberflächenbeschichtung unter Verwendung von Plasma zu schaffen, so dass auf einem Oberflächenbereich eines (beliebigen) Bauelements ein Heizelement mit äußerst gleichmäßige, flächige, elektrisch leitfähige Widerstandsschichtstruktur erhalten werden kann.The object underlying the present invention is now to provide an improved concept for accurately conveying and metering a quantity of powder to a powder processing device, thereby to create as defined and uniform material deposition and surface coating using plasma, so that on a surface region of a (arbitrary) component, a heating element with extremely uniform, planar, electrically conductive resistance layer structure can be obtained.

Diese Aufgabe wird durch die unabhängigen Patentansprüche gelöst.This object is solved by the independent claims.

Weiterbildungen des vorliegenden Konzepts sind in den jeweiligen Unteransprüchen definiert.Further developments of the present concept are defined in the respective subclaims.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst eine Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 einen Pulvervorratsbehälter 110 zum Speichern und Bereitstellen von Pulver 112, einen Schwingförderer 120 mit einer Fördereinrichtung 122 mit einer einstellbaren Förderrate zum Abgeben des Pulvers 112 an einen Pulverauslass 124 mit der einstellbaren Förderrate, eine Leitungsanordnung 130 zum Befördern des von dem Schwingförderer 120 abgegebenen Pulvers 112 in einem Fördergas 114 als ein Pulver-Gas-Gemisch 116 und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches 116 zu einer Pulververarbeitungseinrichtung 200, wobei eine Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 vorgesehen ist, um einen definierten Anteil PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu entnehmen, eine Pulvermengenmessanordnung 140 zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen eines Pulvermengeninformationssignals S1, wobei die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge PM1 des Schwingförderers 120 aufweist, und einer Steuerungseinrichtung 150, die ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung 140 bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal S1 die einstellbare Förderrate des Schwingförderers 120 auf einen vorgegebenen Sollwert einzustellen.According to one embodiment, a device comprises 100 for the promotion and dosage of powder 112 a powder reservoir 110 for storing and supplying powder 112 , a vibrating conveyor 120 with a conveyor 122 with an adjustable delivery rate for dispensing the powder 112 to a powder outlet 124 with the adjustable delivery rate, a line arrangement 130 for conveying the from the vibratory conveyor 120 discharged powder 112 in a conveying gas 114 as a powder-gas mixture 116 and for supplying the powder-gas mixture 116 to a powder processing device 200 , wherein a decoupling device 132 in the line arrangement 130 is provided to a defined proportion PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116 to take a powder flow measuring arrangement 140 for detecting the decoupled powder amount PM2 per unit time and for providing a powder amount information signal S1 in which the amount of powder PM2 withdrawn per unit of time within a tolerance range is a predetermined ratio to the delivered powder quantity PM1 of the vibrating conveyor 120 and a control device 150 configured to be based on that of the powder flow meter assembly 140 provided powder quantity information signal S1 the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 to set to a predetermined setpoint.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst eine Vorrichtung 101 zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 200 die Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 zum Bereitstellen von Pulverteilchen 114 an eine Plasmabeschichtungsanordnung (auch: Plasmaspritzanordnung) 200, und eine Plasmabeschichtungsanordnung 200 mit einer Plasmaquelle 208 zum Einbringen eines Plasmas 210 in einem Prozessbereich 206, um die bereitgestellten Pulverteilchen 114 in dem Prozessbereich 206 mit dem Plasma 210 zu aktivieren, und mit einer Aufbringeinrichtung 212 zum Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen 114 auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260, um die Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten.According to one embodiment, a device comprises 101 for producing a layered structure 270 on a surface area 262 a component 200 the device 100 for the promotion and dosage of powder 112 for providing powder particles 114 to a plasma coating assembly (also: plasma spray assembly) 200, and a plasma coating assembly 200 with a plasma source 208 for introducing a plasma 210 in a process area 206 to the powder particles provided 114 in the process area 206 with the plasma 210 to activate, and with an applicator 212 for applying the activated powder particles 114 on the surface area 262 of component 260 to the layer structure 270 on the surface area 262 of the component 260 to obtain.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 folgende Schritte: Bereitstellen von Pulverteilchen in einem Prozessbereich einer Plasmabeschichtungseinrichtung mit der Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 114, Aktivieren der bereitgestellten Pulverteilchen 114 in einem Prozessbereich 206 einer Plasmabeschichtungsanordnung 200 mit dem Plasma 210 einer Plasmaquelle 208, und Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen 114 auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260, um die Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhaltenAccording to one embodiment, a method for producing a layer structure comprises 270 on a surface area 262 a component 260 the following steps: providing powder particles in a process area of a plasma coating device with the device 100 for the promotion and dosage of powder 114 , Activating the provided powder particles 114 in a process area 206 a plasma coating arrangement 200 with the plasma 210 a plasma source 208 , and applying the activated powder particles 114 on the surface area 262 of the component 260 to the layer structure 270 on the surface area 262 of the component 260 to obtain

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst ein flächiges Heizelement 300 ein elektrischen Heizwiderstandselement 270-3, und einen ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2, wobei zwischen dem ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist, wobei der erste flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem ersten Randbereich 270-3A des elektrischen Widerstandsheizelements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, und wobei der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 aufweisen.According to one embodiment, a flat heating element comprises 300 an electrical heating resistor element 270-3 , and a first and second, planar, electrically conductive layer region 270 to 1 . 270-2 , wherein between the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 the electrical heating resistor element 270-3 is arranged, wherein the first planar electrically conductive layer region 270-1 as a first contact connection region at least in regions at a first edge region 270-3A of the electrical resistance heating element 270-3 is arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least in regions at a second edge region 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively, and wherein the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 an at least twice as high conductivity as the electrical Heizwiderstandselement 270-3 exhibit.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst ein Verfahren zur Herstellung eines flächigen Heizelements 300 folgende Schritte: Bereitstellen eines elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260, und Aufbringen eines ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereichs 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung oder mittels Plasmaspritzen auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 mit dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3, wobei zwischen dem ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist, wobei der erste flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem ersten Randbereich 270-3A des elektrischen Widerstandsheizelements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, und wobei der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-31 aufweisen.According to one embodiment, a method for producing a planar heating element comprises 300 the following steps: Provision of an electrical resistance element 270-3 on a surface area 262 a component 260 , and applying a first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 by plasma coating or by plasma spraying on a surface area 262 a component 260 with the electrical heating resistor element 270-3 , wherein between the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 the electrical heating resistor element 270-3 is arranged, wherein the first planar electrically conductive layer region 270-1 as a first contact connection region at least in regions at a first edge region 270-3A of the electrical resistance heating element 270-3 is arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least in regions at a second edge region 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively, and wherein the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 an at least twice as high conductivity as the electrical Heizwiderstandselement 270-31 exhibit.

Der Kerngedanke der vorliegenden Erfindung besteht nun darin, eine möglichst exakte Förderung und Dosierung der einer Plasmabeschichtungsanordnung zugeführten Menge an Pulverteilchen zu ermöglichen, um eine äußerst gleichmäßige und exakte, plasmainduzierte Schichterzeugung auf einem Oberflächenbereich eines Bauelements zu erhalten. Dazu wird aus dem von der Pulverfördereinrichtung abgegebenen Pulver-Gas-Gemisch mittels einer Auskoppeleinrichtung in der in dem Schwingförderer nachgeordneten Leitungsanordnung ein definierter Anteil des Pulvers aus dem Pulver-Gas-Gemisch entnommen und einer Pulvermengenmessanordnung zugeführt, die die ausgekoppelte Pulvermenge pro Zeiteinheit ermittelt und einer Steuerungseinrichtung ein entsprechendes Pulvermengeninformationssignal bereitstellt. Dabei weist die entnommene Pulvermenge pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Gesamtpulvermenge des Schwingförderers bzw. zu der Gesamtpulvermenge des Pulver-Gas-Gemisches in der Leitungsanordnung auf. Die Steuerungseinrichtung ist nun ausgebildet, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal den Schwingförderer mit einem Steuersignal anzusteuern, um die Förderrate des Schwingförderers auf einen vorgegebenen Soll- bzw. Zielwert, d.h. auf die Zielförderrate, einzustellen, so dass die exakte Dosierung der geförderten Pulvermenge zu der Pulververarbeitungseinrichtung erhalten werden kann.The core idea of the present invention is to enable the most accurate possible delivery and metering of the amount of powder particles fed to a plasma coating arrangement, in order to obtain extremely uniform and exact plasma-induced layer formation on a surface region of a component. For this purpose, a defined proportion of the powder from the powder-gas mixture is removed from the powder-gas mixture discharged from the powder conveyor by means of a decoupling device in the downstream in the vibratory conveyor line and fed to a powder flow meter, which determines the decoupled amount of powder per unit time and one Control device provides a corresponding amount of powder information signal. In this case, the amount of powder removed per unit time within a tolerance range to a predetermined ratio to the funded total powder quantity of the vibratory conveyor or to the total powder amount of the powder-gas mixture in the line arrangement. The control device is now designed to control the vibratory conveyor with a control signal based on the powder quantity information signal provided by the powder flow measuring arrangement, in order to reduce the conveying rate of the vibrating conveyor to a predetermined target value, ie. to the target delivery rate, so that the exact metering of the delivered powder amount to the powder processing device can be obtained.

Durch die Steuerung bzw. Regelung der einstellbaren Förderrate des Schwingförderers 120 der Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver kann die Regelung bzw. Steuerung der Förderrate des Schwingförderers 120 auf den vorgegebenen Sollwert während des Betriebs der Pulververarbeitungseinrichtung 200, d. h.t beispielsweise während eines Beschichtungs- oder Spritzvorgangs einer Plasmadüse, durchgeführt werden. Gemäß dem vorliegenden Konzept kann somit die Förderrate des Schwingförderers der Vorrichtung zur Förderung von Dosierung und Pulver gleichzeitig mit dem Betrieb der Pulververarbeitungseinrichtung durchgeführt werden. Durch die Auskoppelung der Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit kann die Pulvermengenmessanordnung, in Form einer Wägezelle oder einer optischen Erfassungseinrichtung ferner beispielsweise von dem Schwingförderer mechanisch entkoppelt angeordnet sein, so dass die Pulvermengenermittlung von den Schwingungen bzw. Vibrationen des Schwingförderers mechanisch entkoppelt bzw. getrennt werden kann. Dies führt zu einer weiteren Erhöhung der Genauigkeit der Einstellung der Förderrate des Schwingförderers und damit der zu der Pulververarbeitungseinrichtung zugeführten Pulvermenge pro Zeiteinheit.By the control or regulation of the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 the device 100 For conveying and metering of powder, the regulation or control of the delivery rate of the vibratory conveyor 120 to the predetermined set point during operation of the powder processing device 200 For example, during a coating or spraying operation of a plasma nozzle. Thus, according to the present concept, the delivery rate of the vibrating conveyor of the metering and powder feeding apparatus can be performed simultaneously with the operation of the powder processing apparatus. By decoupling the amount of powder PM2 per unit of time, the powder quantity measuring arrangement, in the form of a load cell or an optical detection device can also be arranged mechanically decoupled, for example, from the vibratory conveyor, so that the powder quantity determination can be mechanically decoupled or separated from the vibrations of the vibratory conveyor. This leads to a further increase in the accuracy of the adjustment of the delivery rate of the vibratory conveyor and thus the amount of powder supplied to the powder processing device per unit time.

Durch die äußerst exakte Dosierung der geforderten Pulvermenge zu der Pulververarbeitungseinrichtung, z. B. zu einer Plasmabeschichtungsanordnung bzw. einer Plasmadüse zum Plasmaspritzen, können im Wesentlichen beliebige Oberflächenstrukturen eines zu Bauelements äußerst gleichmäßig und exakt beschichtet werden, wobei ferner die elektrischen Eigenschaften der aufgebrachten Schichtstrukturen sehr exakt eingestellt und dimensioniert werden können. So können auf einem Oberflächenbereich eines Bauelements zum Beispiel flächige Kontaktbereiche plasmainduziert aufgebracht werden, die mit den Randbereichen eines dazwischen angeordneten, elektrischen (z. B. flächigen) Heizwiderstandselements elektrisch und stoffschlüssig verbunden sein können. Ferner können die aufgebrachten Schichtstrukturen mit dem zu beschichtenden Bauelement stoffschlüssig verbunden bzw. einstückig ausgebildet sein.Due to the extremely exact dosage of the required amount of powder to the Powder processing device, eg. As to a plasma coating arrangement or a plasma nozzle for plasma spraying, substantially any surface structures of a component to be extremely uniformly and accurately coated, further, the electrical properties of the applied layer structures can be set and dimensioned very accurately. For example, flat contact areas can be applied to a surface area of a component in a plasma-induced manner, which can be electrically and materially connected to the edge areas of an electrical (eg areal) heating resistance element arranged therebetween. Furthermore, the applied layer structures can be integrally connected to the component to be coated or integrally formed.

Als Kontaktflächen kann ein hochleitendes Material, z. B. ein Metall oder eine Metalllegierung, als Schichtstruktur auf dem Oberflächenbereich des Bauelements aufgebracht werden, wobei diese hochleitende Kontaktflächenstrukturen für eine Lötmittelverbindung geeignet ausgebildet werden können. Weist die Metallschicht beispielsweise als ein Hauptbestandteil ein Kupfermaterial etc. auf, kann ein übliches Lötmittel zum „Anlöten“ eines Anschlussdrahts an dem jeweiligen, flächigen Kontaktanschlussbereich verwendet werden. Durch die bei dem Schwingförderer eingestellte Förderrate, d. h. durch die aufgebrachte Pulvermenge auf den Oberflächenbereich des Bauelements und der daraus resultierenden Partikelkonzentration, die beispielsweise ein leitfähiges Material aufweisen, kann der Widerstandsbelag bzw. der Schichtwiderstand (reziprok zur Leitfähigkeit) des jeweiligen flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereichs ausgebildet werden, so dass diese Schichtbereiche als Kontaktanschlussbereiche für das elektrische Heizwiderstandselement ausgebildet sein können. Insbesondere sind die Kontaktanschlussbereiche durch das Plasma-induzierte Schichtaufbringverfahren mit dem Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements sowohl elektrisch als auch stoffschlüssig, d. h. im Wesentlichen unlösbar, verbunden.As contact surfaces, a highly conductive material, eg. As a metal or a metal alloy, are applied as a layer structure on the surface region of the device, said highly conductive contact surface structures can be formed suitable for a solder joint. For example, if the metal layer includes a copper material, etc. as a main component, a common solder for "soldering" a terminal wire to the respective land contact terminal portion may be used. By the set at the vibratory conveyor delivery rate, d. H. by the amount of powder applied to the surface region of the component and the resulting particle concentration, which comprise, for example, a conductive material, the resistance coating or the sheet resistance (reciprocal to the conductivity) of the respective planar, electrically conductive layer region can be formed, so that these layer regions as contact connection regions may be formed for the electrical Heizwiderstandselement. In particular, the contact terminal regions are both electrically and cohesively by the plasma-induced Schichtaufbringverfahren with the edge region of the electrical Heizwiderstandselements, d. H. essentially insoluble, connected.

Durch das Plasmaspritzen mittels der Plasmabeschichtungsanordnung bzw. Plasmadüse gemäß dem vorliegenden Konzept kann auch das elektrische Heizwiderstandselement als eine flächige, mittels einer Plasmabeschichtung aufgebrachte Widerstandsstruktur auf dem Oberflächenbereich des Bauelements aufgebracht und stoffschlüssig mit demselben verbunden werden. Dabei können beliebige Strukturen des elektrischen Heizwiderstandselements zwischen den Kontaktabschlussbereichen, z. B. linear, überkreuzend, meanderförmig, etc. erzeugt werden, wobei die resultierende Geometrie der flächigen, leitfähigen Struktur(en) je nach Anwendungsfall entsprechend eingestellt werden kann.As a result of the plasma spraying by means of the plasma coating arrangement or plasma nozzle according to the present concept, the electrical heating resistance element can also be applied to the surface region of the component as a planar resistance structure applied by means of a plasma coating and connected to it in a materially bonded manner. In this case, any structures of the electrical Heizwiderstandselements between the contact termination areas, z. B. linear, crossing, meandering, etc. are generated, the resulting geometry of the sheet-like, conductive structure (s) can be adjusted according to the application.

Ferner ist es gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel möglich, sowohl für die Kontaktanschlussbereiche und für flächige Widerstandsstruktur, die als elektrisches Heizwiderstandselement zwischen den Kontaktanschlussbereichen ausgebildet ist, unterschiedliche Pulvermaterialien bzw. Schichtmaterialien mit unterschiedlich resultierenden Schichtwiderstandswerten (auch Flächenwiderstandswerten) bei dem Aufbringungsprozess zu verwenden.Further, according to a first embodiment, it is possible to use different powder materials or layer materials having different resulting sheet resistance values (also sheet resistance values) in the application process, both for the contact terminal regions and for the sheet-like resistor structure formed as the electrical heating resistor element between the contact terminal regions.

Ferner ist es möglich, sowohl für die Kontaktanschlussbereiche als auch für die flächige Widerstandsstruktur das gleiche Pulvermaterial bzw. Schichtmaterial einzusetzen, wobei die Kontaktanschlussbereiche mittels einer Mehrfachbeschichtung oder mittels mehreren Beschichtungsvorgängen eine „dichtere“ oder dickere Beschichtungslage erzeugt werden kann, die gegenüber der flächigen Widerstandsstruktur, die als elektrisches Heizwiderstandselement wirksam ist, eine erheblich höhere, z. B. zumindest um den Faktor zwei, fünf oder zehn höhere, Leitfähigkeit (Flächenleitfähigkeit) aufweist.Furthermore, it is possible to use the same powder material or layer material both for the contact connection regions and for the planar resistance structure, wherein the contact connection regions can be produced by means of a multiple coating or by means of a plurality of coating processes a "denser" or thicker coating layer which is opposite to the planar resistance structure, which is effective as an electrical Heizwiderstandselement, a considerably higher, z. B. at least by a factor of two, five or ten higher, conductivity (surface conductivity).

Ferner ist es auch möglich, dass die Kontaktanschlussbereiche als längliche Bereiche bzw. Inseln innerhalb der aufgebrachten, flächigen Widerstandsstruktur des elektrischen Heizwiderstandselements z.B. an Randbereichen desselben angeordnet sind.Furthermore, it is also possible for the contact connection regions to be in the form of elongated regions or islands within the applied planar resistance structure of the electrical resistance element, e.g. are arranged at the edge regions thereof.

Durch die flächig bzw. relativ großflächig ausgebildeten Kontaktanschlussbereiche für die als elektrisches Heizelement ausgebildete, flächige Widerstandsstruktur ist es möglich, eine ausreichend hohe Leistung großflächig in die als elektrische Heizwiderstandselement ausgebildete flächige Widerstandsstruktur einzukoppeln, um eine ausreichende Erwärmung aufgrund der Umwandlung elektrischer Energie in thermische Energie (Wärme) zu erhalten.Due to the planar or relatively large area formed contact terminal regions for the formed as an electric heating element, planar resistance structure, it is possible to couple a sufficiently high power over a large area in the electrical resistance element formed as a flat resistance structure to sufficient heating due to the conversion of electrical energy into thermal energy ( Heat).

Die als Kontaktanschlussbereiche wirksamen elektrisch leitfähigen Schichtbereiche können beispielsweise aufeinanderliegend mit der als elektrisches Heizwiderstandselement wirksamen, flächigen Widerstandsstruktur mittels eines Plasmabeschichtungs- bzw. Plasmaspritzvorgangs ausgebildet sein.The electrically conductive layer regions which act as contact connection regions can be formed, for example, on one another with the planar resistance structure, which acts as an electrical heating resistance element, by means of a plasma coating or plasma spraying process.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Hinsichtlich der dargestellten schematischen Figuren wird darauf hingewiesen, dass die dargestellten Funktionsblöcke sowohl als Elemente und Merkmale der erfindungsgemäßen Vorrichtung(en) als auch als entsprechende Verfahrensschritte des erfindungsgemäßen Verfahrens zu verstehen sind, und auch entsprechende Verfahrensschritte des erfindungsgemäßen Verfahrens davon abgeleitet werden können.Preferred embodiments will be explained in more detail with reference to the accompanying drawings. With regard to the illustrated schematic figures, it is pointed out that the functional blocks shown are to be understood both as elements and features of the device (s) according to the invention and as corresponding method steps of the method according to the invention, and also corresponding method steps of the method according to the invention can be derived therefrom.

Es zeigen:

  • 1 ein schematisches Blockdiagramm einer Vorrichtung zur Förderung und Dosierung von Pulver gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 2a-b eine perspektivische Ansicht und eine Teilschnittansicht einer möglichen Implementierung eines Pulvervorratsbehälters und eines Schwingförderers der Vorrichtung zur Förderung und Dosierung von Pulver gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 2c eine Teilschnittansicht einer möglichen Implementierung einer Abstandseinstellung zwischen Auslass des Pulvervorratsbehälters und Schwingförderers zu Grobdosierung;
  • 3a-b eine schematische Blockdarstellung der Pulvermengenmessanordnung und der zugehörigen Auskoppeleinrichtung in der Leitungsanordnung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 4 eine schematische Blockdarstellung einer Vorrichtung zur Herstellung einer Schichtstruktur an einem Oberflächenbereich eines Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 5a-c Schematische Darstellungen in einer Draufsicht, einer Schnittansicht und einer perspektivischen Darstellung einer aufgebrachten Schichtstruktur an einem Oberflächenbereich des Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel; und
  • 6a-e schematische Darstellungen in einer Draufsicht eines flächigen Heizelements in Form einer mittels Plasmaspritzen aufgebrachten, flächigen, elektrisch leitfähigen Widerstandsschichtstruktur auf einem Oberflächenbereich eines Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel.
Show it:
  • 1 a schematic block diagram of a device for conveying and metering powder according to an embodiment;
  • 2a-b a perspective view and a partial sectional view of a possible implementation of a powder reservoir and a vibratory conveyor of the apparatus for conveying and dispensing powder according to an embodiment;
  • 2c a partial sectional view of a possible implementation of a distance adjustment between the outlet of the powder reservoir and vibratory conveyor to gross dosage;
  • 3a-b a schematic block diagram of the powder flow measuring arrangement and the associated output device in the line arrangement according to an embodiment;
  • 4 a schematic block diagram of an apparatus for producing a layer structure at a surface region of a device according to an embodiment;
  • 5a-c Schematic diagrams in a plan view, a sectional view and a perspective view of an applied layer structure at a surface region of the device according to an embodiment; and
  • 6a-e schematic representations in a plan view of a planar heating element in the form of an applied by plasma spraying, planar, electrically conductive resistance layer structure on a surface region of a device according to an embodiment.

Bevor nachfolgend Ausführungsbeispiele des vorliegenden Konzepts im Detail anhand der Zeichnungen näher erläutert wird, wird darauf hingewiesen, dass identische, funktionsgleiche oder gleichwirkende Elemente, Objekte, Funktionsblöcke und/oder Verfahrensschritte in den unterschiedlichen Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind, so dass die in unterschiedlichen Ausführungsbeispielen dargestellte Beschreibung dieser Elemente, Objekte, Funktionsblöcke und/oder Verfahrensschritte untereinander austauschbar ist bzw. aufeinander angewendet werden kann.Before exemplary embodiments of the present concept will be explained in detail with reference to the drawings, it is pointed out that identical, functionally identical or equivalent elements, objects, functional blocks and / or method steps in the different figures are provided with the same reference numerals, so that in different Described embodiments of these elements, objects, functional blocks and / or method steps with each other is interchangeable or can be applied to each other.

Verschiedene Ausführungsbeispiele werden nun ausführlicher Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben, in denen einige Ausführungsbeispiele dargestellt sind. In den Figuren können Abmessungen von dargestellten Elementen, Schichten und/oder Bereichen zur Verdeutlichung nicht maßstäblich dargestellt sein.Various embodiments will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which some embodiments are illustrated. In the figures, dimensions of illustrated elements, layers and / or regions may not be shown to scale for clarity.

1 zeigt in einer schematischen Prinzipdarstellung eine Vorrichtung 100 zur Förderung bzw. Zuführung und Dosierung von Pulver 112 gemäß einem Ausführungsbeispiel. Die Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 weist einen Pulvervorratsbehälter 110 zum Speichern und Bereitstellen von Pulver 112 auf. Die Vorrichtung 100 umfasst ferner einen Schwingförderer 120 mit einer Fördereinrichtung bzw. Förderrinne 122, deren Förderrate zum Abgeben des Pulvers 112 an einen Pulverauslass 124 einstellbar ist, um eine Pulvermenge PM1 pro Zeiteinheit (z.B. pro Sekunde) an dem Pulverauslass 124 bereitzustellen. Die Vorrichtung 100 umfasst ferner eine Leitungsanordnung 130 zum Befördern des von dem Schwingförderer 120 abgegebenen Pulvers 112 in einem Fördergas 114 als ein Pulver-Gas-Gemisch 116 und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches 116 zu einer (optionalen) Pulververarbeitungseinrichtung 200, die zum Beispiel als eine Plasmabeschichtungsanordnung bzw. Plasmadüse 200 zum Plasmaspritzen gemäß DIN 657 ausgebildet sein kann. Die Leitungsanordnung 130 umfasst ferner eine Auskoppeleinrichtung bzw. einen Bypass 132, um einen definierten Anteil bzw. eine definierte Pulvermenge PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 auszukoppein bzw. zu entnehmen. Die Vorrichtung 100 umfasst ferner eine Pulvermengenmessanordnung 140 zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen eines Pulvermengeninformationssignals S1 basierend auf der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit. Die Auskoppeleinrichtung 132 ist nun ausgebildet, so dass die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge PM1 (Gesamtpulvermenge) des Schwingförderers 120 und damit auch ein vorgegebenes Verhältnis zu der von der Leitungsanordnung 130 an die Pulververarbeitungseinrichtung 200 zugeführte Pulvermenge PM3 (= geförderte Pulvermenge PM1 minus entnommene Pulvermenge PM2) pro Zeiteinheit aufweist. 1 shows a schematic diagram of a device 100 for conveying or feeding and metering powder 112 according to an embodiment. The device 100 for the promotion and dosage of powder 112 has a powder reservoir 110 for storing and supplying powder 112 on. The device 100 further comprises a vibrating conveyor 120 with a conveyor or conveyor trough 122 , their delivery rate for dispensing the powder 112 to a powder outlet 124 is adjustable to a powder amount PM1 per unit time (eg per second) at the powder outlet 124 provide. The device 100 further comprises a conduit arrangement 130 for conveying the from the vibratory conveyor 120 discharged powder 112 in a conveying gas 114 as a powder-gas mixture 116 and for supplying the powder-gas mixture 116 to an (optional) powder processing device 200 , for example, as a plasma coating arrangement or plasma nozzle 200 can be designed for plasma spraying according to DIN 657. The line arrangement 130 further comprises a decoupling device or a bypass 132 , to a defined proportion or a defined amount of powder PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116 auszuschpein or remove. The device 100 further includes a powder flow meter assembly 140 for detecting the decoupled amount of powder per unit time and for providing a powder amount information signal S1 based on the decoupled amount of powder per unit time. The decoupling device 132 is now formed so that the amount of powder removed PM2 per unit of time within a tolerance range, a predetermined ratio to the amount of powder delivered PM1 (Total powder amount) of the vibrating conveyor 120 and thus also a predefined relationship to that of the line arrangement 130 to the powder processing device 200 supplied amount of powder PM3 (= amount of powder delivered PM1 minus amount of powder removed PM2 ) per unit time.

Die Vorrichtung 100 umfasst ferner eine Steuerungseinrichtung 150, die ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung 140 bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal S1 den Schwingförderer 120 mit einem Steuersignal S2 anzusteuern, um die Förderrate des Schwingförderers 120 auf einen vorgegebenen Soll- bzw. Zielwert, d.h. auf die Zielförderrate PM1, einzustellen, so dass die exakte Dosierung der geförderten Pulvermenge PM1 und damit die zu der Pulververarbeitungseinrichtung 200 zugeführte Pulvermenge PM3 erhalten werden kann.The device 100 further comprises a controller 150 configured to be based on that of the powder flow meter assembly 140 provided powder quantity information signal S1 the vibratory conveyor 120 with a control signal S2 to control the delivery rate of the vibratory conveyor 120 to a predetermined target or target value, ie the target production rate PM1 To adjust, so that the exact dosage of the amount of powder delivered PM1 and thus to the powder processor 200 supplied amount of powder PM3 can be obtained.

Damit die von der Steuerungseinrichtung 150 vorgenommene Ansteuerung des Schwingförderers 120 zur Einstellung der Förderrate des Schwingförderers 120 auf eine vorgegebene Zielförderrate ausreichend gute Zuführungs- und Dosierungsergebnisse liefert, wird ein Toleranzbereich eingeführt, innerhalb dessen die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit, die aus dem Pulver-Gas-Gemisch mittels der Auskoppeleinrichtung 132 ausgekoppelt wird, in einem vorgegebenen festen Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge bzw. Gesamtpulvermenge PM1 des Schwingförderers 120 vorliegen sollte. Es wird also ein Toleranzbereich für das vorgegebene Verhältnis zwischen der entnommenen Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit zu der geförderten Pulvermenge PM1 pro Zeiteinheit des Schwingförderers 120 eingeführt. Der Toleranzbereich kann somit beispielsweise angeben, dass das tatsächliche Verhältnis der entnommenen Pulvermenge pro Zeiteinheit zu der geförderten Gesamtpulvermenge pro Zeiteinheit des Schwingförderers 120 um weniger als 20%, 10%, 5%, 2%, 1% oder 0,1% von dem vorgegebenen Verhältnis abweicht oder keine oder nur eine vernachlässigbar kleine Abweichung vorhanden ist. Je niedriger der Toleranzbereich angenommen wird und eingehalten werden kann, umso genauer kann die Steuerungseinrichtung 150 die einstellbare Förderrate des Schwingförderers 120 auf die vorgegebene Zielförderrate einstellen.So that of the control device 150 made control of the vibratory conveyor 120 for adjusting the delivery rate of the vibratory conveyor 120 to a given target production rate provides sufficiently good feed and dosage results, a tolerance range is introduced, within which the amount of powder removed PM2 per unit of time, which from the powder-gas mixture by means of the coupling-out device 132 is decoupled, in a predetermined fixed ratio to the conveyed powder quantity or total powder amount PM1 of the vibratory conveyor 120 should be available. So there is a tolerance range for the predetermined ratio between the amount of powder removed PM2 per unit of time to the amount of powder delivered PM1 per unit time of the vibratory conveyor 120 introduced. The tolerance range can thus indicate, for example, that the actual ratio of the quantity of powder taken off per unit of time to the delivered total powder quantity per unit time of the vibratory conveyor 120 is less than 20%, 10%, 5%, 2%, 1% or 0.1% different from the given ratio or there is no or only negligibly small deviation. The lower the tolerance range is assumed and can be maintained, the more accurate the control device 150 the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 set to the specified target delivery rate.

Der Toleranzbereich kann beispielsweise sich ändernde Umgebungsparameter, wie Temperatur etc. oder abweichende physikalische Eigenschaften des Pulvers, wie zum Beispiel Größe und/oder Dichte der Pulverpartikel, oder Änderungen (Schwankungen) des Gasdrucks bzw. der Gastemperatur des Fördergases 114 oder auch weitere Umgebungsparameter und/oder Einflussgrößen berücksichtigen.The tolerance range can be, for example, changing environmental parameters such as temperature etc. or different physical properties of the powder, such as size and / or density of the powder particles, or changes (fluctuations) in the gas pressure or the gas temperature of the conveying gas 114 or take into account further environmental parameters and / or influencing variables.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Auskoppeleinrichtung 132 ausgebildet, um einen vordefinierten Anteil bzw. das vorgegebene Verhältnis der von dem Schwingförderer 120 an dem Pulverauslass 122 abgegebenen und in der Leitungsanordnung 130 transportierten Pulvermenge PM1 in dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu entnehmen. Dabei kann beispielsweise die Auskoppeleinrichtung 132 als Leitungs- bzw. Rohrabschnitt der Leitungsanordnung 130 mit einem Auskoppelpfad 133 versehen sein. Insbesondere kann die Auskoppeleinrichtung 132 entlang der Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches in unterschiedliche Volumenbereiche unterteilt sein, um eine homogene Verteilung des Pulver-Gas-Gemisches in der Auskoppeleinrichtung 132 zu erhalten, um möglichst exakt das vorgegebene Verhältnis zwischen der entnommenen Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit und der geförderten Pulvermenge PM1 des Schwingförderers 120 bzw. der an die Pulververarbeitungseinrichtung 200 zugeführten Pulvermenge PM3 beizubehalten. Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann die Auskoppeleinrichtung 132 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches einen Einlassbereich, einen Expansionsbereich bzw. Saugbereich, einen Homogenisierungsbereich, einen Auskoppel- bzw. Entnahmebereich und einen Ausgabe- bzw. Komprimierungsbereich aufweisen. Diesbezüglich wird ferner auf die detaillierte Beschreibung Bezug nehmend auf die 3a-b hingewiesen.According to one embodiment, the decoupling device 132 formed to a predefined portion or the predetermined ratio of the vibratory conveyor 120 at the powder outlet 122 delivered and in the management order 130 transported amount of powder PM1 in the powder-gas mixture 116 refer to. In this case, for example, the decoupling device 132 as line or pipe section of the line arrangement 130 with a decoupling path 133 be provided. In particular, the decoupling device 132 be divided into different volume ranges along the flow direction of the powder-gas mixture to a homogeneous distribution of the powder-gas mixture in the output device 132 to obtain as accurately as possible the predetermined ratio between the amount of powder removed PM2 per unit of time and the amount of powder delivered PM1 of the vibratory conveyor 120 or to the powder processing device 200 supplied amount of powder PM3 maintain. According to one embodiment, the decoupling device 132 have in the flow direction of the powder-gas mixture an inlet region, an expansion region or suction region, a homogenization region, a decoupling or removal region and an output or compression region. In this regard, reference is further made to the detailed description with reference to FIGS 3a-b pointed.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet, um basierend auf der entnommenen bzw. ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit zu erfassen bzw. zu ermitteln. Basierend auf dem erfassten Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit kann dann das Pulvermengeninformationssignal S1 von der Pulvermengenmessanordnung 140 an die Steuerungseinrichtung 150 bereitgestellt werden. In one embodiment, the powder flow meter assembly is 140 formed to based on the extracted or decoupled amount of powder PM2 per unit time the weight of the decoupled amount of powder PM2 to record or determine per unit of time. Based on the detected weight of the decoupled powder amount per unit time then the powder quantity information signal S1 from the powder flow meter 140 to the control device 150 to be provided.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann die Pulvermengenmessanordnung 140 als eine Wägezelle bzw. Waage ausgebildet sein, um „direkt“ das Gewicht (bzw. die Masse) der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit zu erfassen.According to an embodiment, the powder quantity measuring arrangement 140 be designed as a weighing cell or scale to "directly" to detect the weight (or the mass) of the decoupled amount of powder per unit time.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet sein, um die Anzahl der ausgekoppelten Pulverteilchen 112 optisch zu erfassen und das Pulvermengeninformationssignal S1 mit der Anzahl der ausgekoppelten Pulverteilchen an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.According to a further embodiment, the powder quantity measuring arrangement 140 be formed to the number of decoupled powder particles 112 optically detect and the powder quantity information signal S1 with the number of decoupled powder particles to the controller 150 provide.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet sein, um die Anzahl und zum Beispiel die jeweilige Größe oder die durchschnittliche Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen 112 optisch zu erfassen und das Pulvermengeninformationssignal S1 mit der Anzahl und (jeweiligen oder durchschnittlichen) Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.According to a further embodiment, the powder quantity measuring arrangement 140 be formed by the number and, for example, the respective size or the average size of the decoupled powder particles 112 optically detect and the powder quantity information signal S1 with the number and (respective or average) size of the decoupled powder particles to the controller 150 provide.

Basierend auf der Anzahl und (jeweiligen oder durchschnittlichen) Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen kann das Volumen der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit ermittelt werden, wobei basierend auf dem ermittelten Volumen der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit und ferner der (z.B. vorgegebenen) Materialdichte der verwendeten Pulverteilchen das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit ermittelt werden kann.Based on the number and (respective or average) size of the decoupled powder particles, the volume of the decoupled powder amount PM2 be determined per unit time, based on the determined volume of decoupled powder amount per unit time and also the (eg predetermined) material density of the powder particles used, the weight of the decoupled amount of powder PM2 can be determined per unit of time.

Das Ermitteln bzw. Berechnen des Volumens und/oder des Gewichts der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit kann dabei in der Pulvermengenmessanordnung 140 oder auch in der Steuerungseinrichtung 150 erfolgen.The determination or calculation of the volume and / or the weight of the decoupled amount of powder PM2 per unit of time can be in the powder quantity measuring arrangement 140 or in the control device 150 respectively.

Bei der optischen Erfassung der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 kann das von der Pulvermengenmessanordnung 140 bereitgestellte Pulvermengeninformationssignal S1 zumindest die Anzahl der ausgekoppelten Pulverteilchen umfassen, soweit die durchschnittliche Größe und die durchschnittliche Materialdichte der ausgekoppelten Pulverteilchen bekannt ist und als Information zur Verfügung steht. Somit kann beispielsweise die Pulvermengenmessanordnung 140 oder die Steuerungseinrichtung 150 die Berechnung des Gewichts der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit durchführen. In the optical detection of the decoupled powder quantity PM2 this can be done by the powder flow meter 140 provided powder quantity information signal S1 at least the number of decoupled powder particles include, as far as the average size and the average material density of the decoupled powder particles is known and is available as information. Thus, for example, the powder quantity measuring arrangement 140 or the controller 150 the calculation of the weight of the decoupled powder quantity PM2 per time unit.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Steuerungseinrichtung 150 ausgebildet, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal S1 die momentane Förderrate PM1 des Schwingförderers 120 zu ermitteln und bei einer Abweichung der momentanen Förderrate des Schwingförderers 120 von der Zielförderrate dann den Schwingförderer 120 so anzusteuern, um die momentane Förderrate PM1 auf die Zielförderrate PM einzustellen.In one embodiment, the controller is 150 configured to be based on the powder quantity information signal S1 the current delivery rate PM1 of the vibratory conveyor 120 to determine and a deviation of the current delivery rate of the vibratory conveyor 120 from the Zielförderrate then the vibratory conveyor 120 so to control the current delivery rate PM1 to set the target conveying rate PM.

Während des Betriebs der Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 12 kann die Steuerungseinrichtung 150 somit ausgebildet sein, um die momentane, einstellbare Förderrate des Schwingförderers 120 kontinuierlich auf die gewünschte Zielförderrate einzustellen bzw. nachzuführen.During operation of the device 100 for the promotion and dosage of powder 12 can the controller 150 thus be formed to the current, adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 continuously adjust to the desired Zielförderrate or track.

Die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 wird beispielsweise zur Förderung des Pulvers bzw. der Pulverpartikel 112 zu einer Schwingungsbewegung senkrecht und parallel zur Förderrichtung angeregt, wobei der Schwingförderer 120 ausgebildet ist, um eine Schwingungsbewegung der Fördereinrichtung 122 mit einer Schwingungsfrequenz oberhalb von 1 Hz bis 1 kHz oder von 50 Hz bis 300 Hz bei einer Schwingweite bzw. Schwingamplitude in einem Bereich von 1 µm bis 1 mm oder von 5 µm bis 200 µm auszuführen, um die einstellbare Förderrate zu erhalten.The conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 For example, to promote the powder or powder particles 112 excited to a vibratory motion perpendicular and parallel to the conveying direction, wherein the vibrating conveyor 120 is formed to a vibratory movement of the conveyor 122 with an oscillation frequency above 1 Hz to 1 kHz or from 50 Hz to 300 Hz at an oscillation amplitude in a range from 1 μm to 1 mm or from 5 μm to 200 μm in order to obtain the adjustable delivery rate.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der Schwingförderer 120 als eine piezoelektrisch oder magnetisch angetriebene Fördereinrichtung 122 ausgebildet sein, d. h. die Schwingungsfrequenz und Schwingweite wird mittels piezoelektrischer und/oder magnetischer Aktoren erhalten.According to one embodiment, the vibratory conveyor 120 as a piezoelectrically or magnetically driven conveyor 122 be formed, ie the oscillation frequency and amplitude is obtained by means of piezoelectric and / or magnetic actuators.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann nun die Steuerungseinrichtung 150 ausgebildet sein, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal S1 das Steuersignal S2 an den Schwingförderer 120 zuzuführen, um die Schwingungsbewegung der Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 einzustellen und die Zielförderrate zu erhalten.According to one embodiment, the control device can now 150 be configured to be based on the powder quantity information signal S1 the control signal S2 to the vibratory conveyor 120 supply to the vibratory movement of the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 set and receive the target production rate.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist der Pulvervorratsbehälter 110 eine Auslasseinrichtung bzw. ein Auslassventil 114 zum Bereitstellen des Pulvers an die Fördereinrichtung 122 auf. Dabei hängt beispielsweise die Bereitstellungsrate des Pulvers 112 bzw. die Pulvermenge PM0 pro Zeiteinheit von dem Pulvervorratsbehälter 110 an die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 von dem eingestellten Abstand d1 zwischen dem Auslassende 114-A der Auslasseinrichtung 114 und dem Förderoberflächenbereich 122-A der Fördereinrichtung 122 ab.According to one embodiment, the powder reservoir 110 an outlet or an outlet valve 114 for providing the powder to the conveyor 122 on. For example, the delivery rate of the powder depends on this 112 or the amount of powder PM0 per unit time of the powder reservoir 110 to the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 from the set distance d1 between the outlet end 114-A the outlet device 114 and the conveyor surface area 122-A the conveyor 122 from.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann eine Abstandseinstelleinrichtung (nicht gezeigt in 1) zum Einstellen des Abstands bzw. des Spalts d1 zwischen dem Auslassende 114-A der Auslasseinrichtung 114 und dem Förderoberflächenbereich 122-A der Fördereinrichtung 122 vorgesehen sein, um beispielsweise eine Vordosierung bzw. Grobdosierung der von dem Pulvervorratsbehälter 110 an die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 bereitgestellte Pulvermenge PM0 vorzusehen.According to an embodiment, a gap adjusting device (not shown in FIG 1 ) for adjusting the distance or gap d1 between the outlet end 114-A the outlet device 114 and the conveyor surface area 122-A the conveyor 122 be provided, for example, a predosing or coarse metering of the powder reservoir 110 to the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 provided amount of powder PM0 provided.

Wie nun bereits im Vorhergehenden angesprochen wurde, kann die Pulververarbeitungseinrichtung 200, der das Pulver-Gas-Gemisch 116 mit der eingestellten Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit zur Verfügung gestellt wird, beispielsweise als eine Plasmabeschichtungsanordnung bzw. eine Plasmadüse zum Plasmaspritzen gemäß DIN 657 ausgebildet sein.As already mentioned above, the powder processing device 200 who has the powder-gas mixture 116 with the set powder quantity PM3 per unit of time is made available, for example, be designed as a plasma coating arrangement or a plasma nozzle for plasma spraying according to DIN 657.

Die Pulverfördereinrichtung 100 ist im Allgemeinen für alle Anwendungen zur dosierten Förderung bzw. Zuführung eines Aerosols zu der Pulververarbeitungseinrichtung 200 anwendbar. Als Aerosol werden beispielsweise in einem Trägergas beförderte Partikel bzw. Feststoffe bezeichnet. Neben Plasmabeschichtungs- bzw. Plasmaspritzanwendungen kann die Pulverfördereinrichtung 100 ferner auch bei Laserauftragsschweißprozessen bzw. Laserplasmabeschichtungsprozessen eingesetzt werden.The powder conveyor 100 is generally for all applications for metered delivery of an aerosol to the powder processor 200 applicable. As aerosol, for example, particles or solids conveyed in a carrier gas are referred to. In addition to plasma coating or plasma spraying applications, the powder conveyor 100 also be used in laser deposition welding processes or laser plasma coating processes.

Die in 1 dargestellte Gesamtanordnung 101 zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 kann somit die im Vorhergehenden beschriebene Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 sowie eine Plasmabeschichtungsanordnung 200 aufweisen. Die Plasmabeschichtungsanordnung 200 kann beispielsweise eine Plasmaquelle zum Einbringen eines Plasmas in einen Prozessbereich aufweisen, um die bereitgestellten Pulverteilchen in dem Prozessbereich mit dem Plasma zu aktivieren, und kann ferner eine Aufbringungseinrichtung bzw. Auslassdüse zum Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen auf dem Oberflächenbereich des Bauelements aufweisen, um die Schichtstruktur auf dem Oberflächenbereich des Bauelements zu erhalten. Diesbezüglich wird auf die nachfolgende Beschreibung im Zusammenhang mit den 4 und 5a-c verwiesen.In the 1 illustrated overall arrangement 101 for producing a layered structure 270 on a surface area 262 a component 260 Thus, the device described above can be used 100 for the promotion and dosage of powder 112 and a plasma coating arrangement 200 exhibit. The plasma coating arrangement 200 For example, a plasma source may include a plasma source to introduce a plasma into a process area to activate the provided powder particles in the process area with the plasma, and may further include an applicator for applying the activated powder particles to the surface area of the device to form the layered structure the surface area of the device too receive. In this regard, reference is made to the following description in connection with the 4 and 5a-c directed.

Gemäß Ausführungsbeispielen kann das Bauelement 260 auch als ein Mehrschichtelement ausgebildet sein, wobei beispielsweise eine Grundierungsschicht an dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 vorgesehen sein kann. Gemäß Ausführungsbeispielen kann ferner optional eine Deckschicht oder Schutzschicht (nicht gezeigt) auf dem mit dem flächigen Heizelement 300 versehenen Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 vorgesehen sein (nicht gezeigt), um beispielsweise das flächige Heizelement 300 vor Umgebungseinflüssen zu schützen bzw. einen mechanischen Schutz für das flächige Heizelement 300 bereitzustellen.According to embodiments, the device 260 also be formed as a multi-layer element, wherein, for example, a primer layer on the surface region 262 of the component 260 can be provided. Further, according to embodiments, a cover layer or protective layer (not shown) may optionally be provided on the surface heating element 300 provided surface area 262 of the component 260 be provided (not shown), for example, the flat heating element 300 To protect against environmental influences or a mechanical protection for the flat heating element 300 provide.

Die 2a-b zeigen eine perspektivische Ansicht und eine Teilschnittansicht einer möglichen Implementierung des Pulvervorratsbehälters 110 und des Schwingförderers 120 der Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 gemäß einem Ausführungsbeispiel.The 2a-b show a perspective view and a partial sectional view of a possible implementation of the powder reservoir 110 and the vibratory conveyor 120 the device 100 for the promotion and dosage of powder 112 according to an embodiment.

Bezug nehmend auf 2a und 2b weist die Vorrichtung 100 zur Zuführung von Pulver 112 gemäß der Ausführungsform der Erfindung einen Pulvervorratsbehälter 110, einen Schwingförderer 120 mit einer als Förderrinne ausgebildeten Fördereinrichtung 122 sowie ein Gehäuse 123 mit einem Gaseinlass 125 und einem Pulverauslass 124 auf.Referring to 2a and 2 B has the device 100 for supplying powder 112 According to the embodiment of the invention, a powder reservoir 110 , a vibrating conveyor 120 with a conveyor designed as a conveyor 122 as well as a housing 123 with a gas inlet 125 and a powder outlet 124 on.

Der Pulvervorratsbehälter 110 weist einen Hauptkörper 110-b auf, der an seinem oberen Ende eine mit einem Deckel 110-a verschließbare Nachfüllöffnung aufweist. An seinem unteren Ende weist der Pulvervorratsbehälter 110 eine Öffnung auf, durch die im Betrieb der Vorrichtung Pulver aufgrund der Schwerkraft auf ein erstes Ende (in 2a und 2b das linke Ende) der Förderfläche 122-A der Förderrinne 122 des Schwingförderers 120 aufgebracht wird. Innerhalb des Pulvervorratsbehälters 110 befinden sich in den Figuren nicht dargestellte Leit-/ Zwischenbleche, die den statischen Druck des Pulvers 112 aus dem Pulvervorratsbehälter 110 auf die Förderrinne 122 abmildern.The powder reservoir 110 has a main body 110-b on, at its upper end one with a lid 110-a has closable refill opening. At its lower end, the powder reservoir 110 an opening through which, during operation of the device, powder is forced to a first end (in FIG 2a and 2 B the left end) of the conveying surface 122-A the conveyor trough 122 of the vibratory conveyor 120 is applied. Inside the powder reservoir 110 are not shown in the figures Leit- / Zwischenbleche, the static pressure of the powder 112 from the powder reservoir 110 on the conveyor trough 122 mitigate.

Die Förderrinne 122 des linearen Schwingförderers 120 ist beispielsweise ein längliches Stück Blech mit einer in dessen Mitte ausgebildeten länglichen Rinne. Bei einem vorliegenden Ausführungsbeispiel z.B. die Rinne 6 mm breit, 4 mm hoch und 20 cm lang sein, e nach Pulverart und zu erzielender Förderrate kann die Rinne jedoch auch andere Abmessungen, insbesondere kleinere Abmessungen von z. B. 0,5 mm Breite, 0, 1 mm Höhe und 5 cm Länge der Rinne besitzen. Der lineare Schwingförderer 112 weist weiter einen z.B. piezoelektrisch oder magnetisch angetriebenen Schwinger auf, mit dem die Förderrinne 122 des Schwingförderers 120 zur Förderung des Pulvers 112 gleichzeitig zu einer Schwingungsbewegung (Vibrationsbewegung) senkrecht und parallel zur Förderrichtung gezwungen werden kann. Dabei sind die senkrechte und die parallele Vibrationsbewegung gleichphasig, wobei die Schwingweite dem Abstand zwischen den beiden Wendepunkten der Vibrationsbewegung entspricht. Die Vibrationsbewegung weist also bezüglich der Förderfläche eine senkrechte sowie auch eine parallele Vibrationskomponente auf.The conveyor trough 122 of the linear vibratory conveyor 120 For example, is an elongated piece of sheet metal with an elongated groove formed in its center. In a present embodiment, for example, the channel 6 mm wide, 4 mm high and 20 cm long, e by powder type and to be achieved delivery rate, the channel can, however, other dimensions, especially smaller dimensions of z. B. 0.5 mm wide, 0, 1 mm in height and 5 cm in length of the gutter. The linear vibratory conveyor 112 also has a piezoelectric or magnetically driven oscillator, for example, with which the conveyor trough 122 of the vibratory conveyor 120 for conveying the powder 112 can be forced simultaneously to a vibratory motion (vibration movement) perpendicular and parallel to the conveying direction. In this case, the vertical and the parallel vibration movement are in phase, the amplitude corresponds to the distance between the two inflection points of the vibration movement. The vibratory movement therefore has a vertical as well as a parallel vibration component with respect to the conveying surface.

Im Betrieb ist dabei die Förderfläche 122-A der Förderrinne 112, auf der das Pulver 112 gefördert wird, im Wesentlichen waagrecht, d. h. senkrecht zur Richtung der Gravitation ausgerichtet. Im Wesentlichen waagrecht schließt dabei Neigungen der Orthogonalen auf die Förderfläche von ±5% oder ±3% zur Richtung der Gravitation mit ein. Im Betrieb der Vorrichtung wird das Pulver auf der Förderfläche in der Förderrinne 122 von dem ersten Ende der Förderrinne 122 zu dem zweiten Ende der Förderrinne 122 gefördert. An dem zweiten Ende der Förderrinne 122 wird das Pulver an den Pulverauslass 124 abgegeben.In operation is the conveying surface 122-A the conveyor trough 112 on which the powder 112 is conveyed, substantially horizontally, that is aligned perpendicular to the direction of gravity. Essentially horizontal includes inclinations of the orthogonal to the conveying surface of ± 5% or ± 3% to the direction of gravity with a. In operation of the device, the powder on the conveying surface in the conveyor trough 122 from the first end of the conveyor trough 122 to the second end of the conveyor trough 122 promoted. At the second end of the conveyor trough 122 the powder gets to the powder outlet 124 issued.

Das Gehäuse 123 dichtet den Schwingförderer 120 mit der Förderrinne 122 von der Umgebung z.B. gasdicht ab, wobei in dem Gehäuse eine Einlassöffnung für das Pulver aus dem Pulvervorratsbehälter 110, ein Gaseinlass 125 für das Trägergas und ein Pulverauslass 124 zum Abgeben eines Gemisches aus Pulver und Trägergas vorgesehen ist. Der Gaseinlass 125 in dem Gehäuse 123 kann über einen Massenflusswächter an eine Gasversorgung angeschlossen werden. Mit dem Massenflusswächter wird der Massenfluss des in das Gehäuse eingeleiteten Trägergases geregelt. Das Trägergas kann je nach Anwendung Luft oder ein Inertgas, wie z. B. Stickstoff (N2) oder Argon (Ar), sein. Soll das mit der Vorrichtung zugeführte und dosierte Pulver nicht mit Feuchtigkeit in Kontakt kommen, dann ist die Verwendung von Luft ungeeignet und die Verwendung eines Inertgases ist vorzuziehen. Durch den Pulverauslass wird eine Mischung des Trägergases mit dem durch den Linearförderer dosierten Pulver ausgelassen. Die Dosierung des Pulvers wird jedoch alleine durch die Förderrate des Linearförderers bestimmt. Der Massenfluss des Trägergas bestimmt das Massenverhältnis von Trägergas zu Pulver in dem durch den Pulverauslass abgegebenen Gas-Pulver-Gemisch. Dieses Massenverhältnis kann für ein der Zuführung und Dosierung des Pulvers nachgeschaltetes Verfahren, wie z. B. ein Plasmabeschichtungsverfahren, von Bedeutung sein.The housing 123 seals the vibratory conveyor 120 with the conveyor trough 122 from the environment, for example, gas-tight, wherein in the housing an inlet opening for the powder from the powder reservoir 110 , a gas inlet 125 for the carrier gas and a powder outlet 124 is provided for dispensing a mixture of powder and carrier gas. The gas inlet 125 in the case 123 can be connected to a gas supply via a mass flow monitor. The mass flow controller regulates the mass flow of the carrier gas introduced into the housing. The carrier gas can, depending on the application, air or an inert gas such. B. nitrogen ( N2 ) or argon (Ar). If the powder supplied and metered with the device does not come into contact with moisture, the use of air is inappropriate and the use of an inert gas is preferable. Through the powder outlet, a mixture of the carrier gas is discharged with the metered by the linear conveyor powder. However, the dosage of the powder is determined solely by the delivery rate of the linear conveyor. The mass flow of the carrier gas determines the mass ratio of carrier gas to powder in the gas-powder mixture discharged through the powder outlet. This mass ratio can for a downstream of the supply and metering of the powder process, such. As a plasma coating process, be of importance.

Bei einem Verfahren zur Förderung und Dosierung von feinem Pulver wird die zuvor beschriebene Vorrichtung verwendet. Das mit der Vorrichtung zugeführte und dosierte feine Pulver besitzt eine Korngrößenverteilung mit einem D50-Wert in einem Bereich von 0,1 µm bis 100 µm. Die Form der Pulverteilchen kann kugelig, sphärisch oder spratzig sein oder die Pulverteilchen können die Form von sogenannten Flakes besitzen. Das Pulver kann aus den unterschiedlichsten Materialien bestehen, insbesondere aus einem Metall, einer Metalllegierung, einem Polymer, Diamanten oder einer Keramik. Die Pulverteilchen können auch aus unterschiedlichen Materialien zusammengesetzt sein (sogenanntes Compound-Pulver). So können z.B. beschichtete Pulverteilchen mit der Vorrichtung zugeführt und dosiert werden, die aus einem Kern und einer Ummantelung bestehen, wobei der Kern und die Ummantelung aus verschiedenen Materialien sind.In a method of conveying and metering fine powder, the device described above is used. The supplied with the device and metered fine powder has a grain size distribution having a D50 value in a range of 0.1 μm to 100 μm. The shape of the powder particles may be spherical, spherical or sparse, or the powder particles may be in the form of so-called flakes. The powder can consist of the most diverse materials, in particular of a metal, a metal alloy, a polymer, diamonds or a ceramic. The powder particles can also be composed of different materials (so-called compound powder). For example, coated powder particles may be fed and metered with the device consisting of a core and a sheath, the core and sheath being of different materials.

Die mit dem Verfahren erzielten Förderraten liegen bei einem Anwendungsbeispiel in einem Bereich von 0,01 g/min bis 50 g/min. Dabei wurden Trägergas zwischen 10 sccm und 80 slm verwendet. Die Vorrichtung und das Verfahren zur Zuführung und Dosierung von feinen und feinsten Pulvern wird bei einem Ausführungsbeispiel dazu verwendet, das Pulver einem Plasmabrenner zuzuführen. Bei dieser Anwendung ist die genaue Dosierung des zugeführten Pulvers von großer Bedeutung. Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann jedoch auch zur Zuführung zu anderen Anlagen als zu einem Plasmabrenner verwendet werden.The production rates achieved with the process are in an application example in a range of 0.01 g / min to 50 g / min. Carrier gas was used between 10 sccm and 80 slm. The apparatus and method for feeding and metering fine and finest powders is used in one embodiment to supply the powder to a plasma torch. In this application, the exact dosage of the supplied powder is of great importance. However, the device according to the invention can also be used for supplying to other systems than to a plasma torch.

Bei der oben beschriebenen Ausführungsform ist die Förderfläche auf der das Pulver mit dem Schwingförderer gefördert wird, im Wesentlichen waagrecht, d. h. senkrecht zur Gravitationsrichtung, ausgerichtet. Es ist auch eine Förderung des Pulvers mit einer zur Waagrechten geneigten Förderfläche mögliche. Jedoch ist dann die Förderrate deutlich stärker von der Oberflächenrauhigkeit und -strukturierung sowie der Morphologie der Pulverteilchen (kugelig, sphärische oder spratzige Form oder sogenannte Flakes). Ggf. muss bei einer geneigten Förderfläche eine an die Pulvermorphologie (Pulverteilchenform) angepasste Förderrinne verwendet werden.In the above-described embodiment, the conveying surface on which the powder is conveyed by the vibrating conveyor is substantially horizontal, that is, the horizontal direction. H. perpendicular to the gravitational direction, aligned. It is also a promotion of the powder with a horizontally inclined conveying surface possible. However, then the delivery rate is much stronger from the surface roughness and structure and the morphology of the powder particles (spherical, spherical or chapped form or so-called flakes). Possibly. In the case of an inclined conveying surface, a conveying channel adapted to the powder morphology (powder particle form) shall be used.

2c zeigt nun eine Teilschnittansicht einer möglichen Implementierung einer Abstandseinstellung zwischen Auslass 114 des Pulvervorratsbehälters 110 und der Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 zu Grobdosierung. 2c now shows a partial sectional view of a possible implementation of a gap adjustment between outlet 114 of the powder reservoir 110 and the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 to rough dosage.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann eine Abstandseinstelleinrichtung G zum Einstellen des Abstands bzw. des Spalts d1 zwischen dem Auslassende 114-A der Auslasseinrichtung 114 und dem Förderoberflächenbereich 122-A der Fördereinrichtung 122 eingestellt werden, um beispielsweise eine Vordosierung bzw. Grobdosierung der von dem Pulvervorratsbehälter 110 an die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 bereitgestellte Pulvermenge PM0 vorzusehen. Die Abstandseinstelleinrichtung zum (vertikalen) Einstellen des Abstands bzw. Spalts d1 zwischen dem Auslassende 114-A der Auslasseinrichtung 114 und dem Förderoberflächenbereich 122-A der Fördereinrichtung 122 kann beispielsweise mittels einer Gewindeanordnung G an der Auslasseinrichtung realisiert werden. Darüber hinaus kann ein Stellmotor (nicht gezeigt in 2c) an der Auslasseinrichtung 114 bzw. an dem Pulvervorratsbehälter 110 vorgesehen sein, um den Abstand d1 einzustellen. Alternativ oder zusätzlich ist es auch möglich, die Abstandseinstelleinrichtung an der Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 mittels einer mechanischen Verstellungseinrichtung bzw. einem Stellmotor zu realisieren.According to one embodiment, a Abstandseinstelleinrichtung G for adjusting the distance or the gap d1 between the outlet end 114-A the outlet device 114 and the conveyor surface area 122-A the conveyor 122 be set to, for example, a predosing or coarse metering of the powder reservoir 110 to the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 provided amount of powder PM0 provided. The gap adjusting device for (vertically) adjusting the gap d1 between the outlet end 114-A the outlet device 114 and the conveyor surface area 122-A the conveyor 122 For example, by means of a threaded arrangement G be realized at the outlet. In addition, a servomotor (not shown in FIG 2c ) at the outlet 114 or on the powder reservoir 110 be provided to the distance d1 adjust. Alternatively or additionally, it is also possible, the Abstandseinstelleinrichtung on the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 to realize by means of a mechanical adjustment device or a servomotor.

Abhängig von den Pulvereigenschaften, wie. z. B. Größe, Dichte, etc. der Pulverteilchen 112 kann bei der Vordosierung bzw. Grobdosierung mit eine Abweichung von etwa 10 bis 50% zu der von dem Pulvervorratsbehälter 110 an die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 bereitzustellenden Pulvermenge PMO bzw. Zielförderrate erhalten werden. Dadurch kann die von der Steuerungseinrichtung 150 durchzuführende Feineinstellung der Zielförderrate mit einer Genauigkeit von zumindest 80%, 90%, 95%, 98% oder 99% der Zielförderrate unterstützt bzw. vereinfacht werden.Depending on the powder properties, such as. z. Size, density, etc. of the powder particles 112 can at the pre-dosage or coarse dosage with a deviation of about 10 to 50% to that of the powder reservoir 110 to the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 To be provided amount of powder PMO or Zielförderrate be obtained. This allows the control device 150 Fine adjustment of the target production rate to be carried out with an accuracy of at least 80%, 90%, 95%, 98% or 99% of the target production rate to be supported or simplified.

Die 3a-b zeigen eine schematische Blockdarstellung der Pulvermengenmessanordnung 140 und der zugehörigen Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 gemäß einem Ausführungsbeispiel.The 3a-b show a schematic block diagram of the powder flow measuring arrangement 140 and the associated output device 132 in the line arrangement 130 according to an embodiment.

Die Vorrichtung 100 umfasst die Leitungsanordnung 130 zum Befördern des von dem Schwingförderer 120 abgegebenen Pulvers 112 in einem Fördergas 114 als ein Pulver-Gas-Gemisch 116 und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches 116 zu der Pulververarbeitungseinrichtung 200, die zum Beispiel als eine Plasmabeschichtungsanordnung bzw. Plasmadüse 200 zum Plasmaspritzenausgebildet sein kann. Die Leitungsanordnung 130 umfasst ferner die Auskoppeleinrichtung bzw. den Bypass 132, um einen definierten Anteil bzw. eine definierte Pulvermenge PM2 des Pulvers 114 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 auszukoppeln bzw. zu entnehmen.The device 100 includes the conduit arrangement 130 for conveying the from the vibratory conveyor 120 discharged powder 112 in a conveying gas 114 as a powder-gas mixture 116 and for supplying the powder-gas mixture 116 to the powder processing device 200 , for example, as a plasma coating arrangement or plasma nozzle 200 may be formed for plasma spraying. The line arrangement 130 further comprises the decoupling device or the bypass 132 , to a defined proportion or a defined amount of powder PM2 of the powder 114 from the powder-gas mixture 116 decouple or remove.

Die Vorrichtung 100 umfasst ferner die Pulvermengenmessanordnung 140 zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen des Pulvermengeninformationssignals S1 basierend auf der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit. Die Auskoppeleinrichtung 132 ist nun ausgebildet, so dass die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge PM1 (Gesamtpulvermenge) des Schwingförderers 120 und damit auch zu der von der Leitungsanordnung 130 an die Pulververarbeitungseinrichtung 200 zugeführte Pulvermenge PM3 (= geförderte Pulvermenge PM1 minus entnommene Pulvermenge PM2) pro Zeiteinheit aufweist.The device 100 further includes the powder flow meter assembly 140 for detecting the decoupled amount of powder per unit time and for providing the powder quantity information signal S1 based on the decoupled powder quantity PM2 per time unit. The decoupling device 132 is now formed so that the amount of powder removed PM2 per unit of time within a tolerance range, a predetermined ratio to the amount of powder delivered PM1 (Total powder amount) of the vibrating conveyor 120 and thus also to that of the line arrangement 130 to the powder processing device 200 supplied amount of powder PM3 (= amount of powder delivered PM1 minus amount of powder removed PM2 ) per unit time.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet, um basierend auf der entnommenen bzw. ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit zu erfassen bzw. zu ermitteln. Basierend auf dem erfassten Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit kann dann das Pulvermengeninformationssignal S1 von der Pulvermengenmessanordnung 140 an die Steuerungseinrichtung 150 bereitgestellt werden.In one embodiment, the powder flow meter assembly is 140 formed to based on the extracted or decoupled amount of powder PM2 per unit time the weight of the decoupled amount of powder PM2 to record or determine per unit of time. Based on the detected weight of the decoupled powder amount per unit time then the powder quantity information signal S1 from the powder flow meter 140 to the control device 150 to be provided.

Wie in 3a dargestellt, kann die Pulvermengenmessanordnung 140 eine Wägezelle bzw. Waage aufweisen, um „direkt“ das Gewicht (bzw. die Masse) der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit zu erfassen und das Pulvermengeninformationssignal S1 an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.As in 3a shown, the powder flow meter 140 a weighing cell or scale to "directly" the weight (or the mass) of the decoupled amount of powder PM2 per unit of time to capture and the powder quantity information signal S1 to the control device 150 provide.

Wie in 3a beispielhaft dargestellt ist, wird aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 mittels der Auskoppeleinrichtung 132 die Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit ausgekoppelt und beispielsweise einem Pulverlagerbehälter 134 zugeführt, wobei die Mengenänderung der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit in dem Pulverlagerbehälter 134 mit der Wägezelle 136 erfasst und ein entsprechendes Pulvermengeninformationssignal S1 an die Steuerungseinrichtung 150 bereitgestellt wird. Wie in 3a ferner dargestellt ist, kann der Pulverlagerbehälter ferner eine optionale Auslassleitung 137 zu einem Filterelement 138 aufweisen, der ein definiertes Entweichen des Fördergases 114 vorsieht, um einen konstanten Fördergasdruck in dem System bzw. der Leitungsanordnung 130 beizubehalten.As in 3a is exemplified, from the powder-gas mixture 116 by means of the coupling-out device 132 the amount of powder PM2 decoupled per unit of time and, for example, a powder storage container 134 supplied, wherein the quantity change of the decoupled amount of powder PM2 per unit of time in the powder storage container 134 with the load cell 136 detected and a corresponding powder quantity information signal S1 to the control device 150 provided. As in 3a Further, the powder storage container may further include an optional outlet conduit 137 to a filter element 138 having a defined escape of the conveying gas 114 provides for a constant delivery gas pressure in the system or the conduit arrangement 130 maintain.

Wie in 3a ferner dargestellt ist, kann optional eine Pulverweichenanordnung 160 in Förderrichtung nach der Auskoppeleinrichtung 130 vorgesehen sein. Die optionale Pulverweichenanordnung 160 kann beispielsweise eine Pulverweiche 162, einen weiteren Pulverlagerbehälter 164, eine Austrittsleitung 165, ein Ventil 166 und ein weiteres Filterelement 167 aufweisen. Ferner kann eine weitere Wägezelle 168 vorgesehen sein, um die von der Pulverweiche 162 ausgekoppelte Pulvermenge PM3 aufzunehmen und zu speichern bzw. zwischenspeichern. Ferner kann die weitere optionale Wägezelle 168 vorgesehen sein, die zwischengespeicherte Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit zu erfassen und ein entsprechendes Informationssignal S3 der Pulvermenge PM3 zur Auswertung an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen. Die Pulverweiche 162 ist vorgesehen, um in einem ersten Betriebszustand, z. B. einem eingeschalteten Betriebszustand AN200 der Plasmadüse 200 die Pulvermenge PM3 der Plasmadüse 200 zuzuführen, und in einem zweiten Betriebszustand AUS200, z. B. in einem Aus-Zustand der Plasmadüse 200, die Pulvermenge PM3 (ausschließlich) in dem weiteren Pulverlagerbehälter 164 zuzuführen. Optional kann die Pulverweichenanordnung 162 auch ausgebildet sein, um die in dem Aus-Zustand abgeführte Pulvermenge PM3 auch in den ersten Pulveraufnahmebehälter 134 zuzuführen, wie dies beispielsweise durch die optionale Verbindungsleitung 163 in 3a dargestellt ist. Falls die optionale Verbindungsleitung 163 vorgesehen ist kann die Funktion des weiteren Pulverlagerbehälters 164 und der weiteren Wägezelle 168 durch den Pulverlagerbehälter 134 mit der Wägezelle 136 ausgeführt bzw. durch diese Elemente ersetzt werden.As in 3a is also shown, optionally, a powder diverter assembly 160 in the conveying direction after the decoupling device 130 be provided. The optional powder diverter arrangement 160 For example, a powder switch 162 , another powder storage container 164 , an outlet line 165 , a valve 166 and another filter element 167 exhibit. Furthermore, another load cell 168 be provided to that of the powder gate 162 decoupled powder quantity PM3 record and save or buffer. Furthermore, the further optional load cell 168 be provided, the cached amount of powder PM3 per unit of time to capture and a corresponding information signal S3 the amount of powder PM3 for evaluation to the control device 150 provide. The powder switch 162 is intended to be in a first operating state, for. B. a switched-ON operating state AN 200 of the plasma nozzle 200 the amount of powder PM3 the plasma nozzle 200 in a second operating state AUS 200 , z. B. in an off state of the plasma nozzle 200 , the amount of powder PM3 (Exclusively) in the other powder storage container 164 supply. Optionally, the powder diverter assembly 162 also be designed to the discharged in the off state amount of powder PM3 also in the first powder container 134 feed, as for example by the optional connection line 163 in 3a is shown. If the optional connection line 163 is provided, the function of the further powder storage container 164 and the other load cell 168 through the powder storage container 134 with the load cell 136 executed or replaced by these elements.

Mit der weiteren optionalen Wägezelle 164 kann nun beispielsweise die Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit während des Aus-Betriebszustands der Plasmadüse 200 ermittelt werden, so dass beispielsweise eine Nachkalibrierung der Pulverauskoppeleinrichtung 132 durchgeführt werden kann, indem die durch die Pulverauskoppeleinrichtung 132 ausgekoppelte Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit mit der ermittelten Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit verglichen wird, so dass exakt das Auskoppelverhältnis der Pulvermengenauskoppeleinrichtung 132 zwischen der zugeführten Pulvermenge PM1 und der (im Aus-Zustand AUS200) ausgekoppelten Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit exakt bestimmt werden kann und optional eine Nachkalibrierung vorgenommen werden kann.With the additional optional load cell 164 Now, for example, the amount of powder PM3 per unit time during the off-state of the plasma nozzle 200 be determined, so that, for example, a recalibration of the powder output device 132 can be performed by the through the powder output device 132 decoupled powder quantity PM2 per unit time with the determined amount of powder PM3 is compared per unit time, so that exactly the Auskoppelverhältnis the Pulvermengenauskoppeleinrichtung 132 between the supplied amount of powder PM1 and the (in OFF state OFF 200 ) decoupled amount of powder PM3 can be determined exactly per time unit and optional recalibration can be performed.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist also die Pulverweichenanordnung 160 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches 116 nach der Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 angeordnet, wobei die Pulverweichenanordnung 160 ausgebildet ist, um während einer Betriebspause AUS200 der Pulververarbeitungseinrichtung 200 die in der Leitungsanordnung 130 nach der Auskoppeleinrichtung 132 vorhandene Pulvermenge PM3 zu ermitteln und ein weiteres Pulvermengeninformationssignal S3 der Pulvermenge PM3 zur Auswertung an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.According to one embodiment, therefore, the powder diverter assembly 160 in the flow direction of the powder-gas mixture 116 after the decoupling device 132 in the line arrangement 130 arranged, wherein the powder diverter assembly 160 is designed to be OFF 200 during a break in operation of the powder processing device 200 the in the line arrangement 130 after the decoupling device 132 existing amount of powder PM3 to determine and another powder quantity information signal S3 the amount of powder PM3 for evaluation to the control device 150 provide.

Die Steuerungseinrichtung 150 ist nun beispielsweise ferner ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulverweichenanordnung 160 bereitgestellten weiteren Pulvermengeninformationssignal S3 den tatsächlich von der Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 entnommenen Anteil PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu bestimmen bzw. zu kalibrieren.The control device 150 Now, for example, it is further configured to be based on that of the powder diverter assembly 160 provided further powder quantity information signal S3 actually from the decoupling device 132 in the line arrangement 130 removed portion PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116 to be determined or calibrated.

Basierend auf der anhand von 3a dargestellten Auskoppeleinrichtung bzw. Bypass 132 zum Auskoppeln eines definierten Anteils bzw. einer definierten Pulvermenge PM2 des Pulvers 114 aus den Pulver-Gas-Gemisch 116 und der Erfassung der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 mittels der Pulvermengenmessanordnung 140 kann eine kontinuierliche Regelung der Austragsrate bzw. Förderrate der Pulvermenge PM3, die der Pulververarbeitungseinrichtung 200 pro Zeiteinheit zugeführt wird, sowohl außerhalb als auch während des tatsächlichen Beschichtungsprozesses durchgeführt werden.Based on the basis of 3a shown decoupling device or bypass 132 to the Decoupling a defined proportion or a defined amount of powder PM2 of the powder 114 from the powder-gas mixture 116 and the detection of the decoupled amount of powder PM2 by means of the powder quantity measuring arrangement 140 can be a continuous control of the discharge rate or delivery rate of the powder amount PM3 , that of the powder processor 200 per unit time, both outside and during the actual coating process are performed.

Ferner kann eine Verbesserung der Förderstabilität der zugeführten Pulvermenge PM3 erhalten werden, da eine geringere Feuchtigkeitsaufnahme und eine geringere Alterung des Pulvers aufgrund des Abdichtens des Pulverlagerbehälters während des Beschichtungsprozesses vorgenommen werden kann. Ferner kann gemäß dem vorliegenden Konzept ein sehr hoher Gesamtpulveraustrag bzw. zugeführte Pulvermenge PM3 pro erhalten werden. Ferner können durch die Pulverweichenanordnung 160 Druckschwankungen des Fördergases 114 in der Leitungsanordnung 130 vermieden werden. Schließlich können relativ lange Prozesszeiten zur Durchführung der Plasmabeschichtung bzw. des Plasmaspritzens mit der Plasmadüse 200 bis zu einem Nachfüllvorgang des Pulvervorratsbehälters 110 durchgeführt werden, da das in dem Pulverlagerbehälter 134 eingebrachte Pulver regelmäßig in den Pulvervorratsbehälter 110 zurückgebracht werden kann. Die Prozessdauer ist im Wesentlichen lediglich durch den Wägebereich der Wägezelle 136 der Pulvermengenmessanordnung 140 begrenzt.Further, an improvement in the conveying stability of the supplied powder amount PM3 can be obtained, since a lower moisture absorption and a lower aging of the powder due to the sealing of the powder storage container can be made during the coating process. Furthermore, according to the present concept, a very high total powder discharge or amount of powder supplied PM3 per receive. Furthermore, by the powder diverter assembly 160 Pressure fluctuations of the conveying gas 114 in the line arrangement 130 be avoided. Finally, relatively long process times for carrying out the plasma coating or the plasma spraying with the plasma nozzle 200 until a refilling of the powder reservoir 110 be performed, as in the powder storage container 134 introduced powder regularly in the powder reservoir 110 can be returned. The process duration is essentially only due to the weighing range of the load cell 136 the powder flow meter 140 limited.

Basierend auf der Pulverweichenanordnung 160 mit der Pulverweiche 162 kann beispielsweise in Betriebspausen der Pulververarbeitungseinrichtung 200, d. h. während des zweiten Betriebszustands AUS200, die Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit bzw. die gesamte Pulvermenge PM1 als Kombination der Teilpulvermengen PM2 + PM3 ermittelt werden. Somit kann exakt das Auskoppelverhältnis der Pulvermengenauskoppeleinrichtung 132 zwischen der zugeführten Pulvermenge PM1 und der tatsächlich ausgekoppelten Pulvermenge PM2 ermittelt werden, so dass beispielsweise eine Startkalibrierung der Fördervorrichtung 100 vor Beginn des Pulververarbeitungsprozesses bzw. in Betriebspausen der Pulververarbeitungseinrichtung 200 eine Nachkalibrierung der Fördermenge des Schwingförderers 120 der Fördervorrichtung 100 durchgeführt werden kann. Insbesondere kann eine Kalibrierung der Auskoppeleinrichtung 132 bzw. der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 im Verhältnis zur zugeführten Pulvermenge PM1 bzw. zur Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit durchgeführt werden.Based on the powder diverter arrangement 160 with the powder switch 162 For example, during breaks in the powder processing device 200 , ie during the second operating state AUS 200 , the amount of powder PM3 per unit of time or the total amount of powder PM1 as a combination of the partial powder quantities PM2 + PM3 be determined. Thus, exactly the Auskoppelverhältnis the Pulvermengenauskoppeleinrichtung 132 between the supplied amount of powder PM1 and the actually decoupled amount of powder PM2 be determined so that, for example, a start calibration of the conveyor 100 before the start of the powder processing process or during breaks in operation of the powder processing device 200 a recalibration of the flow rate of the vibratory conveyor 120 the conveyor 100 can be carried out. In particular, a calibration of the coupling-out device 132 or the decoupled amount of powder PM2 in relation to the amount of powder supplied PM1 or to the powder quantity PM3 be performed per unit time.

3b zeigt nun eine beispielhafte Ausgestaltung in Form einer schematischen Darstellung der Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 gemäß einem Ausführungsbeispiel. 3b shows an exemplary embodiment in the form of a schematic representation of the coupling-out 132 in the line arrangement 130 according to an embodiment.

Wie in 3b dargestellt ist, kann die Auskoppeleinrichtung 132 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches 116 zunächst einen Einlassbereich 132-1 aufweisen, an dem die Pulvermenge PM1 pro Zeiteinheit in die Auskoppeleinrichtung 132 zugeführt wird. Daran anschließend weist die Auskoppeleinrichtung 132 beispielsweise einen Expansions- bzw. Saugbereich 132-2 auf. In Strömungsrichtung anschließend folgt der Homogenisierungsbereich 132-3. Der Expansionsbereich 132-2 und der nachfolgende Homogenisierungsbereich 132-3 sorgen für eine „laminare“ Strömung des Pulver-Gas-Gemisches 114 mit der Pulvermenge PM1 vor der Entnahme bzw. Pulverauskopplung. Der Expansionsbereich 132-2 und der nachfolgende Homogenisierungsbereich 132-3 soll insbesondere für eine möglichst vorgebebene (z. B. Gaußverteilung) oder gleichmäßige Verteilung des Pulvers 114 über dem Querschnitt (senkrecht zur Strömungsrichtung) der Auskoppeleinrichtung 132 sorgen, so dass ein definierter Anteil PM2 der der Auskoppeleinrichtung 132 zugeführten Pulvermenge PM1 pro Zeiteinheit im Entnahmebereich 132-4 entnommen werden kann. In dem Auskoppelbereich bzw. Entnahmebereich 132-4 wird also dem laminaren Gas-Pulver-Strom 116 eine definierte Probe, d. h. die Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit, entnommen und der Pulvermengenmessanordnung 140 (nicht gezeigt in 3b) zugeführt. Der resultierende Teilstrom des Pulver-Gas-Gemisches 116 mit der Pulvermenge PM3 kann dann dem Beschichtungsprozess bzw. der Plasmadüse 200 zum Plasmaspritzen zugeführt werden. Der weitere Gasstrom mit der Pulvermenge PM2 wird dann dem Auswertesystem, d. h. der Pulvermengenmessanordnung 140 zugeführt.As in 3b is shown, the output device 132 in the flow direction of the powder-gas mixture 116 first an inlet area 132-1 at which the amount of powder PM1 per unit time in the decoupling device 132 is supplied. Subsequently, the decoupling device points 132 for example, an expansion or suction area 132-2 on. In the flow direction, the homogenization region follows 132-3 , The expansion area 132-2 and the subsequent homogenization area 132-3 provide a "laminar" flow of the powder-gas mixture 114 with the amount of powder PM1 before removal or powder extraction. The expansion area 132-2 and the subsequent homogenization area 132-3 should in particular for a possible vorgebebene (eg Gauss distribution) or even distribution of the powder 114 over the cross section (perpendicular to the flow direction) of the coupling-out device 132 ensure that a defined proportion PM2 the decoupling device 132 supplied amount of powder PM1 per unit of time in the withdrawal area 132-4 can be removed. In the decoupling area or removal area 132-4 So is the laminar gas-powder stream 116 a defined sample, ie the amount of powder PM2 per unit time, taken and the powder flow measuring arrangement 140 (not shown in 3b) fed. The resulting partial flow of the powder-gas mixture 116 with the amount of powder PM3 can then the coating process or the plasma nozzle 200 be supplied for plasma spraying. The further gas flow with the amount of powder PM2 is then the evaluation system, ie the powder flow measuring device 140 fed.

Wie in 3b dargestellt ist die Auskoppeleinrichtung 132 ausgebildet, um einen vordefinierten Anteil PM2 bzw. das vorgegebene Verhältnis „PM2/PM1 = PM2/(PM2+PM3)“ der von dem Schwingförderer 120 an dem Pulverauslass 122 abgegebenen und in der Leitungsanordnung 130 transportierten Pulvermenge PM1 in dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu entnehmen. Dabei kann beispielsweise die Auskoppeleinrichtung 132 als Leitungs- bzw. Rohrabschnitt der Leitungsanordnung 130 mit einem Auskoppelpfad 133 versehen sein. Insbesondere kann die Auskoppeleinrichtung 132 entlang der Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches in unterschiedliche Volumenbereiche unterteilt sein, um eine homogene Verteilung des Pulver-Gas-Gemisches in der Auskoppeleinrichtung 132 zu erhalten, um möglichst exakt das vorgegebene Verhältnis zwischen der entnommenen Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit und der geförderten Pulvermenge PM1 des Schwingförderers bzw. der an die Pulververarbeitungseinrichtung 200 zugeführten Pulvermenge PM3 beizubehalten. Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann die Auskoppeleinrichtung 132 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches einen Einlassbereich, einen Expansionsbereich, einen Homogenisierungsbereich, einen Auskoppelbereich und einen Ausgabe- bzw. Komprimierungsbereich aufweisen.As in 3b shown is the decoupling device 132 trained to a predefined proportion PM2 or the predetermined ratio "PM2 / PM1 = PM2 / (PM2 + PM3)" of the vibratory conveyor 120 at the powder outlet 122 delivered and in the management order 130 transported amount of powder PM1 in the powder-gas mixture 116 refer to. In this case, for example, the decoupling device 132 as line or pipe section of the line arrangement 130 with a decoupling path 133 be provided. In particular, the decoupling device 132 be divided into different volume ranges along the flow direction of the powder-gas mixture to a homogeneous distribution of the powder-gas mixture in the output device 132 to obtain as accurately as possible the predetermined ratio between the amount of powder removed PM2 per unit of time and the amount of powder delivered PM1 the vibrating conveyor or the powder to the powder processing device 200 supplied amount of powder PM3 maintain. According to In one embodiment, the decoupling device 132 have in the flow direction of the powder-gas mixture an inlet region, an expansion region, a homogenization region, a decoupling region and an output or compression region.

Gemäß der in der Leitungsanordnung 130 angeordneten Pulverauskoppeleinrichtung 132 und der nachgeschalteten Pulvermengenmessanordnung 140 kann somit ein kontinuierlicher Gas-Pulver-Strom 116 während des Beschichtungsprozesses überwacht und geregelt (gesteuert) werden.According to the in the line arrangement 130 arranged powder output device 132 and the downstream powder flow meter assembly 140 thus can be a continuous gas powder stream 116 monitored and controlled (controlled) during the coating process.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der Pulveraustrag bzw. die Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit der Pulverauskoppeleinrichtung 132 10 bis 90% der zugeführten Pulvermenge PM1 betragen. Die Trägergasgeschwindigkeit kann beispielsweise in einem Bereich von 5-50 m/s liegen. Die Pulvermenge PM3 pro Zeiteinheit kann beispielsweise in einem Bereich von 0,1 bis 100 g pro Minute liegen. Als Trägergas können im Wesentlichen alle Gase, wie z. B. Argon, Stickstoff, Luft, etc. eingesetzt werden. Das Gasvolumen bzw. der Gasdurchsatz kann beispielsweise in einem Bereich von 0,1 bis 500 Liter pro Minute liegen.According to one embodiment, the Pulveraustrag or the powder quantity PM3 per unit time of the powder output device 132 10 up to 90% of the supplied powder quantity PM1 be. The carrier gas velocity may be in a range of 5-50 m / s, for example. The amount of powder PM3 per unit time may be, for example, in a range of 0.1 to 100 g per minute. As a carrier gas can substantially all gases, such as. As argon, nitrogen, air, etc. are used. The gas volume or the gas throughput may be, for example, in a range of 0.1 to 500 liters per minute.

Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel (nicht gezeigt in 3a-b) kann die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet sein, um die Anzahl der ausgekoppelten Pulverteilchen 112 optisch zu erfassen und das Pulvermengeninformationssignal S1 mit der Anzahl der ausgekoppelten Pulverteilchen an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen. Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet sein, um die Anzahl und zum Beispiel die (durchschnittliche) Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen 112 optisch zu erfassen und das Pulvermengeninformationssignal S1 mit der Anzahl und durchschnittlichen Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.According to a further embodiment (not shown in FIG 3a-b ) can the powder flow meter 140 be formed to the number of decoupled powder particles 112 optically detect and the powder quantity information signal S1 with the number of decoupled powder particles to the controller 150 provide. According to a further embodiment, the powder quantity measuring arrangement 140 be formed to the number and, for example, the (average) size of the decoupled powder particles 112 optically detect and the powder quantity information signal S1 with the number and average size of the decoupled powder particles to the controller 150 provide.

Basierend auf der Anzahl und Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen kann das Volumen der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit ermittelt werden, wobei basierend auf dem ermittelten Volumen der ausgekoppelten Pulvermenge pro Zeiteinheit und ferner der (z.B. vorgegebenen) Materialdichte der verwendeten Pulverteilchen das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit ermittelt werden kann. Das Ermitteln des Volumens und/oder des Gewichts der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit kann dabei in der Pulvermengenmessanordnung 140 oder auch in der Steuerungseinrichtung 150 erfolgen.Based on the number and size of the decoupled powder particles, the volume of the decoupled powder amount PM2 be determined per unit time, based on the determined volume of decoupled powder amount per unit time and also the (eg predetermined) material density of the powder particles used, the weight of the decoupled amount of powder PM2 can be determined per unit of time. Determining the volume and / or the weight of the decoupled amount of powder PM2 per unit of time can be in the powder quantity measuring arrangement 140 or in the control device 150 respectively.

4 zeigt in einer schematischen Prinzipdarstellung der Plasmabeschichtungsanordnung bzw. Plasmadüse 200 zum Plasmaspritzen zur Herstellung einer Schichtstruktur 260 an einem Oberflächenbereich 272 eines Bauelements 270 gemäß einem Ausführungsbeispiel. 4 shows in a schematic schematic representation of the plasma coating arrangement or plasma nozzle 200 for plasma spraying to produce a layered structure 260 on a surface area 272 a component 270 according to an embodiment.

Die Pulverfördereinrichtung 100 von 1, 2a-c und 3a-c ist vorgesehen, um die Pulverteilchen 112, z. B. aus dem Pulverreservoir 110 (nicht gezeigt in 4) in einem Prozessbereich 206 bereitzustellen bzw. dorthin zu befördern. Ferner ist eine Plasmaquelle 208 vorgesehen, um ein Plasma 210, z. B. in Form eines Plasmastrahls, in den Prozessbereich 206 einzubringen und um die dort bereitgestellten Pulverteilchen 112, die den Prozessbereich 206 durchlaufen, mit dem Plasma 210 thermisch zu aktivieren. Durch die „Plasma-Aktivierung“ wird beispielsweise eine Verringerung der Viskosität bzw. eine Änderung des momentanen Aggregatzustands zumindest eines Teils der Pulverteilchen 112 bewirkt.The powder conveyor 100 from 1 . 2a-c and 3a-c is provided to the powder particles 112 , z. B. from the powder reservoir 110 (not shown in 4 ) in a process area 206 to be delivered or transported there. Further, a plasma source 208 provided a plasma 210 , z. B. in the form of a plasma jet, in the process area 206 bring in and around the powder particles provided there 112 that the process area 206 go through, with the plasma 210 thermally activate. For example, the "plasma activation" causes a reduction in the viscosity or a change in the instantaneous state of aggregation of at least part of the powder particles 112 causes.

Bei der Plasma-Aktivierung werden die Pulverteilchen 112 beispielsweise direkt einer Lichtbogenentladungszone, d.h. einer hochenergetischen Plasmazone, zugeführt, wobei die Pulverteilchen 112 die intensive Plasmaenergie absorbieren kann, was zu einer Verflüssigung (zumindest in einen zähflüssigen Zustand) des Materials der Pulverteilchen 112 führt. Es können auch andere Anordnungen zur Erzeugung des thermischen Plasmas eingesetzt werden, wie dies nachfolgend noch erörtert wird.At the plasma activation, the powder particles become 112 For example, directly to an arc discharge zone, ie a high-energy plasma zone supplied, wherein the powder particles 112 can absorb the intense plasma energy, resulting in liquefaction (at least in a viscous state) of the material of the powder particles 112 leads. Other arrangements for generating the thermal plasma may also be used, as will be discussed below.

Die Vorrichtung 200 umfasst ferner optional eine Aufbringeinrichtung 212 (z.B. eine Auslassdüse) zum Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen 112 auf den Oberflächenbereich 272 des Bauelements 260, um die die Partikel 112 aufweisende Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten. Als Aufbringeinrichtung 212 wird der Abschnitt der Vorrichtung 200 angesehen, der den Transfer der aktivierten Pulverteilchen 112 von dem Prozessbereich 206 zu dem zu behandelnden Oberflächenbereich 262 bewirkt. Wenn beispielsweise der Prozessbereich 206 in einem (optionalen) Gehäuse 214 angeordnet ist, kann die Aufbringeinrichtung 212 optional als eine Austrittsöffnung oder auch als eine Düsenanordnung 216 ausgebildet sein, um die aktivierten Pulverteilchen 112 in Richtung des zu behandelnden Oberflächenbereichs 262 des Bauelements 260 auszurichten und darauf aufzubringen.The device 200 further optionally comprises an applicator 212 (For example, an outlet nozzle) for applying the activated powder 112 on the surface area 272 of the component 260 to the the particles 112 having layer structure 270 on the surface area 262 of the component 260 to obtain. As applicator 212 becomes the section of the device 200 considered the transfer of the activated powder particles 112 from the process area 206 to the surface area to be treated 262 causes. For example, if the process area 206 in an (optional) housing 214 is arranged, the applicator 212 optionally as an outlet opening or as a nozzle arrangement 216 be formed to the activated powder particles 112 in the direction of the surface area to be treated 262 of the component 260 align and apply.

Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung 200 zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 können im Wesentlichen beliebige Plasmaquellen 208 zum Einbringen des Plasmas 210 in dem Prozessbereich 206 eingesetzt werden. So können beispielsweise auch Atmosphärendruck-Plasmaquellen bzw. Normaldruck-Plasmaquellen eingesetzt werden, bei denen der Druck im Prozessbereich 206 ungefähr dem der umgebenden Atmosphäre, d. h. dem sogenannten Normaldruck, entsprechen kann. Vorteilhaft ist dabei, dass Atmosphärendruck-Plasmen kein (abgeschlossenes) Reaktionsgefäß benötigen, das für die Aufrechterhaltung eines zum Atmosphärendruck unterschiedlichen Druckniveaus oder abweichender Gasatmosphären sorgt. Zur Erzeugung des Plasmas können verschiedene Anregungsarten, wie z. B. eine Wechselstromanregung (niederfrequente Wechselströme), anregende Wechselströme im Radiowellen-Bereich (Mikrowellenanregung) oder eine Gleichstromanregung eingesetzt werden. Beispielsweise kann mit einer Hochspannungsentladung (5-15 kV, 10-100 kHz) ein gepulster Lichtbogen erzeugt werden, wobei das Prozessgas an dieser Entladungsstrecke vorbeiströmt, dort angeregt und in den Plasmazustand überführt wird. Dieses Plasma 210 wird in dem Prozessbereich 206 mit den Pulverteilchen in Kontakt gebracht, so dass die Pulverteilchen durch das Plasma 210 aktiviert werden. Die aktivierten Pulverteilchen 112 werden dann aus einer Gehäuseöffnung (z. B. einem Düsenkopf) auf den Oberflächenbereich 262 des zu behandelnden Bauteils 260 geführt.In the device according to the invention 200 for producing a layered structure 270 can essentially any plasma sources 208 for introducing the plasma 210 in the process area 206 be used. For example, atmospheric pressure plasma sources or Normal pressure plasma sources are used, where the pressure in the process area 206 can approximately correspond to the surrounding atmosphere, ie the so-called normal pressure. It is advantageous that atmospheric pressure plasmas require no (closed) reaction vessel, which ensures the maintenance of a pressure level different from the atmospheric pressure or deviating gas atmospheres. To generate the plasma different types of excitation, such. As an AC excitation (low-frequency alternating currents), stimulating AC currents in the radio wave range (microwave excitation) or a DC excitation can be used. For example, a pulsed arc can be generated with a high-voltage discharge (5-15 kV, 10-100 kHz), whereby the process gas flows past this discharge path where it is excited and transferred to the plasma state. This plasma 210 will be in the process area 206 brought into contact with the powder particles, so that the powder particles through the plasma 210 to be activated. The activated powder particles 112 are then from a housing opening (eg., A nozzle head) on the surface area 262 of the component to be treated 260 guided.

So kann insbesondere beispielsweise die Schichtstruktur 270 bestehend aus einer Vielzahl von kontrolliert aufgebrachten und verteilten Partikeln oder auch eine gleichmäßige Schichtstruktur 270 (in Form einer Beschichtung) auf der zu behandelnden Oberfläche 262 des Bauelements 260 gebildet werden.For example, in particular, the layer structure 270 consisting of a variety of controlled applied and distributed particles or even a uniform layer structure 270 (in the form of a coating) on the surface to be treated 262 of the component 260 be formed.

5a-c zeigt eine schematische Darstellungen in einer Draufsicht, einer Schnittansicht und einer perspektivischen Darstellung einer aufgebrachten Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 gemäß einem Ausführungsbeispiel. 5a-c shows a schematic representations in a plan view, a sectional view and a perspective view of an applied layer structure 270 on a surface area 262 of the component 260 according to an embodiment.

In diesem Zusammenhang zeigen die 5a-b in einer schematischen Schnittansicht bzw. Aufsicht einige der kontrolliert aufgebrachten Partikel 112 an dem behandelten Oberflächenbereich 262 (in Form eines kleinen Ausschnitts) des zu beschichtenden Bauelements 260. Die Partikel 114 können beim Aufbringen bzw. Auftreffen auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 beispielsweise unter Einwirkung des Plasmastrahls mit dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 fest bzw. stoffschlüssig verbunden werden bzw. auf demselben aufgeschmolzen werden können, um die Schichtstruktur bzw. Beschichtung 270 auf dem zu behandelnden Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu bilden.In this context, the show 5a-b in a schematic sectional view or top view of some of the controlled particles applied 112 on the treated surface area 262 (in the form of a small section) of the device to be coated 260 , The particles 114 can when applied or impact on the surface area 262 of the component 260 for example, under the action of the plasma jet with the surface area 262 of the component 260 be firmly or cohesively connected or can be melted on the same, to the layer structure or coating 270 on the surface area to be treated 262 of the component 260 to build.

Die Partikel 112 (Partikelkerne) weisen beispielsweise einen mittleren Durchmesser von 0,1 µm bis 100 µm, 1 µm bis 100 µm oder 20 µm bis 80 µm auf. Der gewünschte mittlere Durchmesser der Partikel 112 ergibt sich durch die Vorgabe der gewünschten elektrischen, dielektrischen und/oder mechanischen Eigenschaften der resultierenden Schichtstruktur bzw. Beschichtung 270 auf dem zu behandelnden Oberflächenbereich 262 des Beschichtungsträgers 260.The particles 112 (Particle cores), for example, have an average diameter of 0.1 .mu.m to 100 .mu.m, 1 .mu.m to 100 .mu.m or 20 .mu.m to 80 .mu.m. The desired mean diameter of the particles 112 results from the specification of the desired electrical, dielectric and / or mechanical properties of the resulting layer structure or coating 270 on the surface area to be treated 262 of the coating carrier 260 ,

Das Material der Partikel/Partikelkerne 114 kann beispielsweise ein Metall, wie z. B. Kupfer Cu, ein Polymer oder eine Kohlenstoffverbindung aufweisen. So kann das Material der Partikel 114 zur Erzeugung einer durchgehenden (z. B. leitfähigen) Beschichtung beispielsweise Kupfer, Zinn, Nickel, etc. aufweisen.The material of the particles / particle cores 114 For example, a metal, such as. As copper Cu, a polymer or a carbon compound. So can the material of the particles 114 for producing a continuous (eg conductive) coating, for example copper, tin, nickel, etc.

Die aufgebrachte Schichtstruktur 270 kann beispielsweise nicht durchgehend bzw. nicht kontinuierlich sein, wobei die Partikel 114 mit einer Belegung von beispielsweise 5 % bis 50 % (oder beispielweise 2% bis 95%, 3% bis 80% oder 3% bis 30%) des Oberflächenbereichs verteilt auf den behandelnden Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 angeordnet sind. Diesbezüglich wird auf die 5a-b verwiesen, die schematische Darstellungen in einer Draufsicht und Schnittansicht (entlang der Schnittlinie AA) einer aufgebrachten Schichtstruktur 270 an dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zeigen.The applied layer structure 270 For example, it may not be continuous or discontinuous, with the particles 114 with an occupancy of, for example, 5% to 50% (or for example 2% to 95%, 3% to 80% or 3% to 30%) of the surface area distributed over the treated surface area 262 of the component 260 are arranged. In this regard is on the 5a-b Refer to the schematic representations in a plan view and sectional view (along the section line AA) of an applied layer structure 270 at the surface area 262 of the component 260 demonstrate.

Die oben angegebene Belegung bzw. Verteilung ist beispielsweise auf einen (einzelnen) Überfahrvorgang (Behandlungsvorgang) des zu „beschichtenden“ Oberflächenbereichs bezogen. Der Überfahrvorgang des zu „beschichtenden“ Oberflächenbereichs kann auch mehrfach wiederholt werden, um beispielweise die gewünschte resultierende Belegungsdichte (bis zu 100%) des Oberflächenbereichs mit den Pulverteilchen zu erhalten.The assignment or distribution given above is based, for example, on a (single) overrun process (treatment process) of the surface area to be coated. The overrun of the "surface area to be coated" can also be repeated several times in order to obtain, for example, the desired resulting coverage (up to 100%) of the surface area with the powder particles.

Der Schichtwiderstand bzw. Flächenwiderstand der resultierenden, mittels Plasmaspritzen aufgebrachten Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 ist somit bereichsweise exakt einstellbar. Ferner kann durch einen erhöhten Materialauftrag an leitfähigen Pulverteilchen 114 die Leitfähigkeit des plasmabeschichteten Bereichs entsprechend erhöht bzw. entsprechend eingestellt werden.The sheet resistance of the resulting layered structure applied by means of plasma spraying 270 on the surface area 262 of the component 260 is thus partially adjustable exactly. Furthermore, by an increased application of material to conductive powder particles 114 the conductivity of the plasma-coated area is increased accordingly or adjusted accordingly.

Alternativ kann die aufgebrachte Schichtstruktur auch eine durchgehende Beschichtung 270 auf dem behandelnden Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 bilden. Diesbezüglich wird auf die 5c verwiesen, die eine schematische perspektivische Darstellung einer aufgebrachten Beschichtung 270 an dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 beispielhaft zeigt.Alternatively, the applied layer structure can also be a continuous coating 270 on the treating surface area 262 of the component 260 form. In this regard is on the 5c which is a schematic perspective view of an applied coating 270 at the surface area 262 of the component 260 exemplifies.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen kann der Überfahrvorgang (Behandlungsvorgang) des zu „beschichtenden“ Oberflächenbereichs solange (mehrfach) wiederholt werden, um beispielsweise eine homogene (i.W. Hohlraum-freie) Schichtstruktur zu erhalten, wobei resultierende Schichtdicken dS von mehreren µm bis mehreren 100 µm aufgebaut werden können. In further exemplary embodiments, the overrun process (treatment process) of the surface area to be "coated" can be repeated (multiple times) in order, for example, to obtain a homogeneous (in particular cavity-free) layer structure, with resulting layer thicknesses d S can be built up from several microns to several 100 microns.

6a-e zeigen schematische Darstellungen in einer Draufsicht eines flächigen Heizelements 300 in Form einer mittels einer Plasmabeschichtung aufgebrachten, flächigen, elektrisch leitfähigen Widerstandsschichtstrukturen 270-n auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 gemäß einem Ausführungsbeispiel. 6a-e show schematic representations in a plan view of a flat heating element 300 in the form of a planar, electrically conductive resistive layer structures applied by means of a plasma coating 270-n on a surface area 262 a component 260 according to an embodiment.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist das flächige Heizelement 300 ein elektrisches Heizwiderstandselement 270-3 und einen ersten und einen zweiten flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 auf, wobei zwischen dem ersten und zweiten flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist. Der erste flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 ist als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einen ersten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-2 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei die erste und zweite flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt, zumindest fünffach, zumindest zehnfach oder zumindest hundertfach so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 aufweisen.According to one embodiment, the planar heating element 300 an electrical heating resistor element 270-3 and a first and a second planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 on, between the first and second planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 the electrical heating resistor element 270-3 is arranged. The first planar, electrically conductive layer region 270-1 is at least partially as a first contact terminal region to a first edge region of the electrical Heizwiderstandselements 270-2 arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least in regions at a second edge region of the electrical heating resistance element 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the first and second planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 an at least double, at least five times, at least ten times or at least one hundred times as high a conductivity as the electrical heating resistor element 270-3 exhibit.

Der erste flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 ist also zumindest bereichsweise oder vollständig mit dem ersten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-2 übereinanderliegend bzw. überlappend an dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-2 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise oder vollständig mit dem zweiten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 übereinanderliegend bzw. überlappend an dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist.The first planar, electrically conductive layer region 270-1 is thus at least partially or completely with the first edge region of the electrical Heizwiderstandselements 270-2 superimposed or overlapping on the electrical Heizwiderstandselement 270-2 arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact terminal region at least partially or completely with the second edge region of the electrical Heizwiderstandselements 270-3 superimposed or overlapping on the electrical Heizwiderstandselement 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel sind der erste und zweite, flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung bzw. mittels Plasmaspritzen auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 mit dem elektrisch leitfähigen Heizwiderstandselement 270-3 aufgebracht.According to one embodiment, the first and second, planar electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 by means of a plasma coating or by means of plasma spraying on the surface area 262 of the component 260 with the electrically conductive heating resistor element 270-3 applied.

Der als Kontaktanschlussbereich wirksame erste flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 kann beispielsweise auch aus mehreren getrennt voneinander angeordneten Teilschichtbereichen ausgebildet sein, soweit die Teilbereiche miteinander elektrisch verbunden sind, d. h. bei einer Bestromung auf dem im Wesentlichen gleichen Potenzial liegen. Dies ist gleichermaßen auf den als zweiten Kontaktanschlussbereich wirksamen zweiten flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-2 anwendbar.The effective as a contact terminal area first planar, electrically conductive layer area 270-1 For example, it may also be formed from a plurality of sub-layer regions arranged separately from one another, as far as the subregions are electrically connected to one another, ie, when energized, they lie at substantially the same potential. This is equally on the effective as a second contact terminal area second planar, electrically conductive layer region 270-2 applicable.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann ferner das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 als eine flächige, mittels einer Plasmabeschichtung aufgebrachte Widerstandsstruktur ausgebildet sein.According to an exemplary embodiment, furthermore, the electrical heating resistance element 270-3 be formed as a flat, applied by means of a plasma coating resistor structure.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel des flächigen Heizelements 300 kann der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung oder mittels Plasmaspritzen, wie dies im Vorhergehenden beschrieben wurde, auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 mit dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3 aufgebracht werden. Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann ferner das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 als eine flächige, mittels einer Plasmabeschichtung aufgebrachte Widerstandsstruktur gebildet werden.According to an embodiment of the planar heating element 300 may be the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 by means of a plasma coating or by means of plasma spraying, as described above, on the surface area 262 of the component 260 with the electrical heating resistor element 270-3 be applied. According to an exemplary embodiment, furthermore, the electrical heating resistance element 270-3 be formed as a planar, applied by means of a plasma coating resistor structure.

Bei dem flächigen Heizelement 300 bzw. dessen Herstellungsverfahren kann der Flächenwiderstand der unterschiedlichen Schichtbereiche 270-1, 270-2, 270-3 definiert eingestellt werden, indem die Konzentration an leitfähigem Material beim Plasmaaufbringen der Schichtbereiche angepasst bzw. exakt dosiert wird. Damit ist insbesondere die als elektrische Heizwiderstandselement ausgebildete flächige Widerstandsstruktur 270-3, die mittels einer Plasmabeschichtung aufgebracht werden kann, an die gewünschte Heizleistung und die dafür erforderliche Leistungseinkopplung anpassbar.In the flat heating element 300 or its production method, the sheet resistance of the different layer areas 270-1 . 270-2 . 270-3 can be adjusted defined by the concentration of conductive material during plasma deposition of the layer areas adapted or precisely metered. This is in particular designed as an electrical heating resistor element planar resistance structure 270-3 , which can be applied by means of a plasma coating, adaptable to the desired heat output and the required power input.

Die Schichtbereiche 270-1, 270-2 können mit der aufgebrachten Widerstandsschichtstruktur 270-3 verbunden werden, indem die Schichtbereiche 270-1 bzw. 270-2 jeweils mit der aufgebrachten Widerstandsstruktur 270-3 übereinanderliegend angeordnet werden, so dass ein flächiger Übergang zwischen den als Kontaktanschlussbereichen ausgebildeten Schichtbereichen 270-1 bzw. 270-2 und der als elektrisches Heizwiderstandselement aufgebrachte Schichtstruktur 270-3 erhalten wird.The layer areas 270-1 . 270-2 can with the applied resistance layer structure 270-3 be connected by the layer areas 270-1 respectively. 270-2 each with the applied resistance structure 270-3 be arranged one above the other, so that a planar transition between the formed as a contact terminal regions layer areas 270-1 respectively. 270-2 and the as electric heating element applied layer structure 270-3 is obtained.

Durch das Plasmaspritzen mittels der Plasmabeschichtungsanordnung bzw. Plasmadüse gemäß dem vorliegenden Konzept kann auch das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 als eine flächige, mittels einer Plasmabeschichtung aufgebrachte Widerstandsstruktur auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 aufgebracht und stoffschlüssig mit demselben verbunden werden. Dabei können beliebige Strukturen des elektrischen Heizwiderstandselements zwischen den Kontaktabschlussbereichen, z. B. linear, überkreuzend, meanderförmig, etc. erzeugt werden, wobei die resultierende Geometrie der flächigen, leitfähigen Struktur(en) je nach Anwendungsfall entsprechend eingestellt werden kann.Due to the plasma spraying by means of the plasma coating arrangement or plasma nozzle according to the present concept, the electrical heating resistance element can also 270-3 as a planar, applied by means of a plasma coating resistance structure on the surface region 262 of the component 260 applied and cohesively connected to the same. In this case, any structures of the electrical Heizwiderstandselements between the contact termination areas, z. B. linear, crossing, meandering, etc. are generated, the resulting geometry of the sheet-like, conductive structure (s) can be adjusted according to the application.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der erste und zweite Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-3 und der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-3 einstückig mit dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 ausgebildet sein.According to an embodiment, the first and second contact terminal regions 270-1 . 270-3 and the planar, electrically conductive layer region 270-3 integral with the surface area 262 of the component 260 be educated.

Die flächige Widerstandsstruktur 270-3 ist also beispielsweise ausgebildet, um bei einer elektrischen Bestromung als das elektrische Heizelement elektrische Energie in thermische Energie umzuwandeln.The planar resistance structure 270-3 Thus, for example, is designed to convert electrical energy into thermal energy when the electrical heating element as the electric heating element.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der erste und zweite, flächige Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-2 als eine lötfähige Metallschicht ausgebildet sind. Als Kontaktflächen kann ein hochleitendes Material, z. B. ein Metall oder eine Metalllegierung, als Schichtstruktur auf dem Oberflächenbereich des Bauelements aufgebracht werden, wobei diese hochleitende Kontaktflächenstrukturen für eine Lötmittelverbindung geeignet ausgebildet werden können. Weist die Metallschicht beispielsweise als ein Hauptbestandteil ein Kupfermaterial etc. auf, kann ein übliches Lötmittel zum „Anlöten“ eines Anschlussdrahts an dem jeweiligen, flächigen Kontaktanschlussbereich verwendet werden. According to an exemplary embodiment, the first and second, areal contact connection area 270-1 . 270-2 are formed as a solderable metal layer. As contact surfaces, a highly conductive material, eg. As a metal or a metal alloy, are applied as a layer structure on the surface region of the device, said highly conductive contact surface structures can be formed suitable for a solder joint. For example, if the metal layer includes a copper material, etc. as a main component, a common solder for "soldering" a terminal wire to the respective land contact terminal portion may be used.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann das flächige Heizelement 300 kachelförmig ausgebildet sein und mit einer Mehrzahl von benachbart angeordneten, weiteren, flächigen Heizelementen 300 elektrisch in Serie oder parallel verschaltbar sein.According to one embodiment, the planar heating element 300 be formed trough-shaped and arranged with a plurality of adjacent, further, flat heating elements 300 be electrically connected in series or in parallel.

Gemäß Ausführungsbeispielen kann das flächige Heizelement Polygenzug-förmig oder rechteckig ausgebildet sein, wobei der erste und zweite flächige Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-2 an gegenüberliegenden Randbereichen 270-3A, 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 ausgebildet sind.According to embodiments, the sheet-like heating element may be formed polygenzug-shaped or rectangular, wherein the first and second planar contact terminal area 270-1 . 270-2 on opposite edge areas 270-3A . 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 are formed.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel können in dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 durch das Bauelement durchgängige Perforationen oder Durchgangsöffnungen 272 vorgesehen sind. Die Perforationen 272 können in dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 vorgesehen sind, um eine Luftströmung durch die Perforationen des flächigen Bauelements 260 vorzusehen, und um bei einer Bestromung des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine Erwärmung der Luftströmung durch das flächige Bauelement 260 zu erhalten.According to one embodiment, in the surface area 262 of the planar component 260 through the component continuous perforations or through holes 272 are provided. The perforations 272 can in the surface area 262 of the planar component 260 are provided to allow air flow through the perforations of the sheet-like component 260 provide, and at energizing the electrical Heizwiderstandselements 270-3 a heating of the air flow through the planar component 260 to obtain.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 einen gleichmäßigen Flächenwiderstand aufweisen, um eine gleichmäßige Heizwirkung an dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 vorzusehen.According to one embodiment, the planar, electrically conductive layer region of the electrical Heizwiderstandselements 270-3 have a uniform sheet resistance to a uniform heating effect on the surface area 262 of the planar component 260 provided.

Wie in 6a beispielhaft dargestellt ist, kann das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 bis auf die optionalen Perforationen 272 eine gleichmäßige Schichtverteilung aufweisen, so dass bei einer Bestromung des elektrischen Heizwiderstands 270-3 eine gleichmäßige Erwärmung des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 außerhalb des Überdeckungsbereichs mit den Kontaktanschlussflächen 270-1, 270-2 erfolgt.As in 6a is exemplified, the electrical Heizwiderstandselement 270-3 except for the optional perforations 272 have a uniform layer distribution, so that when energizing the electrical heating resistor 270-3 a uniform heating of the electrical Heizwiderstandselements 270-3 outside the coverage area with the contact pads 270-1 . 270-2 he follows.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-3 des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine vorgegebene Verteilung des Flächenwiderstands an dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 aufweist, um bei einer Bestromung des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine bereichsweise unterschiedliche Heizwirkung des flächigen Heizelements an dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten.According to one exemplary embodiment, the planar, electrically conductive layer region 270 - 3 of the electrical heating resistor element 270 - 3 may have a predetermined distribution of surface resistance at the surface region 262 of the planar component 260 in order to provide a region-wise different heating effect of the planar element when the electrical heating resistor element 270-3 is energized Heating element to the surface region 262 of the device 260 to obtain.

Anhand der 6b-e werden nun in Form schematischer Darstellungen in einer Draufsicht einige mögliche geometrische Ausgestaltungen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 zwischen den beiden Kontaktanschlussflächen 270-1, 270-2 beispielhaft dargestellt. Die nachfolgende Darstellung von unterschiedlichen geometrischen Ausgestaltungen des elektrischen Heizelements 270-3 ist lediglich als beispielhaft und nicht als abschließend anzusehen, da im Wesentlichen beliebige Ausgestaltungen und nach dem jeweiligen Anwendungsfall angepasste geometrische Ausgestaltungen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 und der Kontaktbereiche 270-1, 270-2 eingesetzt werden können.Based on 6b-e Now, in the form of schematic representations in a plan view, some possible geometrical configurations of the electrical heating resistance element 270-3 between the two contact pads 270-1, 270-2 are shown by way of example. The following description of different geometrical configurations of the electrical heating element 270-3 is merely to be regarded as exemplary and not as conclusive, since essentially any configurations and geometrical configurations of the electrical heating resistance element 270-3 and the contact regions 270-1, 270 adapted to the respective application -2 can be used.

Wie in 6b dargestellt ist, kann das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 in eine Mehrzahl von zum Beispiel parallel angeordneten Leiterstreifen A, B, C zwischen den beiden Kontaktanschlussflächen 270-1, 270-2 unterteilt sein. Weisen die linearen Schichtbereiche A, B, C der als elektrisches Heizelement aufgebrachten Schichtstrukturen 270-3 einen gleichen Schichtwiderstand auf, wird bei einer elektrischen Bestromung der Schichtbereiche A, B, C eine im Wesentlichen gleiche Heizwirkung der Streifenstrukturen A, B, C des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 entstehen. Weisen dagegen die unterschiedlichen Leitungselemente des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 unterschiedliche Schichtwiderstände auf, kann bei einer gleichen Bestromung desselben eine unterschiedliche Heizwirkung der flächigen zum Beispiel parallel ausgebildeten Heizleiterstreifen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 erreicht werden.As in 6b is shown, the electrical Heizwiderstandselement 270-3 in a A plurality of, for example, parallel conductor strips A, B, C between the two contact pads 270-1, 270-2 be divided. If the linear layer areas A, B, C of the layer structures 270-3 applied as an electrical heating element have the same sheet resistance, an electrical heating of the layer areas A, B, C results in a substantially equal heating effect of the strip structures A, B, C of the electrical heating resistance element 270-3 arise. If, on the other hand, the different line elements of the electrical heating resistance element 270-3 have different sheet resistances, a different heating effect of the flat, for example parallel, heating conductor strips of the electrical heating resistance element 270-3 can be achieved with the same current supply.

Wie in 6c beispielhaft dargestellt ist, kann das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 mäanderförmig zwischen den beiden Kontaktanschlussflächen in Bereichen 270-1, 270-2 ausgebildet sein.As in 6c is exemplified, the electrical heating resistor element 270-3 may be formed meandering between the two contact pads in areas 270-1, 270-2.

Wie in 6d beispielhaft dargestellt ist, kann das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 eine Mehrzahl von sich überkreuzenden Leiterbahnstrukturen zwischen den beiden Kontaktanschlussbereichen 270-1, 270-2 aufweisen, so dass der elektrisch leitfähige Schichtbereich des elektrischen Widerstandselements 270-3 als eine Gitter- bzw. Netzstruktur ausgebildet sein kann. Aufgrund der Vielzahl von Überkreuzungspunkten D der einzelnen Leitungsbereiche kann trotz einer Unterbrechung zum Beispiel eines einzelnen Leitungsbereichs die Funktionalität des gesamten elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 weiterhin beibehalten werden.As in 6d is exemplified, the electrical Heizwiderstandselement 270-3 may have a plurality of interconnecting interconnect structures between the two contact terminal regions 270-1, 270-2, so that the electrically conductive layer region of the electrical resistance element 270-3 formed as a grid structure can be. Due to the large number of crossover points D of the individual line regions, the functionality of the entire electrical heating resistor element 270-3 can still be maintained despite an interruption, for example of a single line region.

In 6e ist nun beispielhaft in einer schematischen Darstellung in einer Draufsicht des flächigen Heizelements 300 ein Ausführungsbeispiel für eine elektrisch leitfähige Widerstandsstruktur 270-3 dargestellt, bei dem die Kontaktanschlussbereiche 270-1, 270-2 beispielhaft als längliche Bereiche bzw. Inseln innerhalb der Widerstandsstruktur des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3, zum Beispiel an Randbereichen desselben, angeordnet sind. Da die zum Beispiel hochleitfähigen Kontaktflächenstrukturen 270-1, 270-2 für eine Lötmittelverbindung geeignet ausgebildet sind, können die Kontaktinseln 270-1, 270-2 beispielweise mittels eines üblichen Lotmaterials direkt mit einem Anschlussdraht (nicht gezeigt in 6e) zur elektrischen Energieversorgung bzw. Bestromung verbunden werden.In 6e an exemplary embodiment of an electrically conductive resistance structure 270-3 is shown by way of example in a schematic illustration in a plan view of the planar heating element 300, in which the contact connection regions 270-1, 270-2 are exemplified as elongated regions or islands within the resistance structure of the electrical heating resistance element 270-3, for example, at the edge regions thereof are arranged. For example, because the highly conductive pad structures 270-1, 270-2 are suitable for solder connection, the pads 270-1, 270-2 may be directly connected to a lead wire (not shown in FIG 6e) be connected to the electrical power supply or energization.

Die Widerstandsstruktur kann beispielsweise als eine mittels Plasmaspritzen aufgebrachte, flächige, elektrisch leitfähige Widerstandsschichtstruktur oder ferner auch als ein leitförmiger Volumenkörper mit im Wesentlichen beliebiger Ausgestaltung aus einem leitfähigen Material ausgebildet sein. Dabei weisen weiterhin der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich, die als Kontaktflächenbereich 270-1, 270-2 wirksam sind, eine zumindest doppelt, zumindest fünffach, zumindest zehnfach oder zumindest 100-fach so hohe Leitfähigkeit wie das Material des elektrischen Widerstandselements 270-3 auf.The resistance structure can be formed, for example, as a planar, electrically conductive resistance layer structure applied by means of plasma spraying or, furthermore, as a conductive solid body with essentially any desired configuration of a conductive material. In this case, furthermore, the first and second, planar, electrically conductive layer regions, which are effective as contact surface regions 270-1, 270-2, have an at least double, at least five times, at least ten times or at least 100 times higher conductivity than the material of the electrical resistance element 270-3 up.

Hinsichtlich der anhand der 6a-e beispielhaft beschriebenen Ausgestaltungen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 sollte deutlich werden, dass die unterschiedlichen Ausführungsbeispiele lediglich zur Verdeutlichung dargestellt sind, aber keine abschließende Aufzählung der möglichen geometrischen Ausgestaltungen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 darstellen sollen.Regarding the basis of the 6a-e By way of example, embodiments of the electrical heating resistor element 270-3, as described by way of example, should be clear that the different embodiments are shown only for clarity, but should not be an exhaustive list of possible geometrical configurations of the electrical heating resistor 270-3.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann das elektrisch Leitwiderstandselement 270-3 auch als ein Heizdraht ausgebildet ist.According to one embodiment, the electrically conductive resistance element 270-3 may also be designed as a heating wire.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann das flächige Heizelement 300 als ein Oberflächenbereich einer Innenraumverkleidung eines Kraftfahrzeugs ausgebildet sein. Ferner kann das flächige Heizelement als ein Oberflächenbereich eines Kleidungsstücks ausgebildet ist.According to one embodiment, the planar heating element 300 be designed as a surface area of an interior trim of a motor vehicle. Further, the sheet-like heating element may be formed as a surface area of a garment.

Wie bereits im Vorhergehenden angesprochen wurde, kann das beispielsweise mittels plasmainduzierter Schichtaufbringung hergestellte flächige Heizelement bei einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden.As already mentioned above, the planar heating element produced, for example, by means of plasma-induced layer deposition can be used in a large number of applications.

So kann das im Vorhergehende beschriebene flächige Heizelement 300 gemäß Ausführungsbeispielen bei der Beheizung und Belüftung im Kfz-Bereich eingesetzt werden. Ferner kann das flächige Heizelement 300 beispielsweise als eine Sitzheizung in Kraftfahrzeugen, Ski-Liften, Flugzeugen, etc., d. h. bei jeglichen Sitzanordnungen für Personen eingesetzt werden. Ferner kann das flächige Heizelement 300 im Kfz-Bereich ferner beispielsweise als Lenkradheizung, Dachhimmelheizung, Beheizung von Zierleisten bzw. Beheizung von beliebigen Oberflächen im Innenbereich eines Kfz und auch im Kofferraum desselben eingesetzt werden. Ferner ist eine Anwendung des flächigen Heizelements 300 auch als Heizung von Einrichtungsgegenständen denkbar, zum Beispiel als eine Schichtstruktur auf Oberflächen, wie zum Beispiel auf Holz, Furnier, Kunststoff, Metall, Glas, etc. Ferner kann das flächige Heizelement 300 auch in einem Gebäude zum Beispiel als eine „beheizbare Tapete“ eingesetzt werden.Thus, the above-described planar heating element 300 According to embodiments used in the heating and ventilation in the automotive sector. Furthermore, the flat heating element 300 For example, as a seat heater in motor vehicles, ski lifts, aircraft, etc., ie used in any seating arrangements for people. Furthermore, the flat heating element 300 In the automotive sector, for example, as the steering wheel heating, headliner heating, heating of trim or heating of any surfaces in the interior of a vehicle and in the trunk of the same are used. Furthermore, an application of the flat heating element 300 Also conceivable as heating of furnishings, for example as a layered structure on surfaces such as wood, veneer, plastic, metal, glass, etc. Furthermore, the flat heating element 300 also be used in a building for example as a "heated wallpaper".

Ferner ist die Anwendung des flächigen Heizelements 300 auch bei Kleidungsstücken denkbar, um Kleidungsstücke zumindest bereichsweise beheizbar zu machen. So kann das flächige Heizelement beispielweise in jeglichen Textilien oder auch in Schuhen bzw. der Schuhsohle angeordnet werden.Furthermore, the application of the flat heating element 300 even with garments conceivable to garments at least partially to make heated. Thus, the planar heating element can be arranged for example in any textiles or in shoes or the shoe sole.

Die obigen Darstellungen zeigen nur einen kleinen Überblick über die möglichen Anwendungsgebiete, wobei die obige Aufzählung von Anwendungsgebieten als beispielhaft und nicht als abschließend anzusehen ist, da im Wesentlichen beliebige zusätzliche Anwendungsgebiete für das flächige Heizelement 300 denkbar sind.The above representations show only a brief overview of the possible fields of application, with the above enumeration of application areas being regarded as exemplary and not as conclusive, since essentially any additional areas of application for the planar heating element 300 are conceivable.

Ferner kann das flächige Heizelement 300, bei dem das elektrische Widerstandselement 270-3 in einem Kleidungstück angeordnete Heizdrähte aufweist, äußerst wirksam die flächigen Kontaktanschlussbereiche 270-1, 270-2 zum elektrischen Kontaktieren der Heizdrähte 270-3 und zum Bereitstellen einer Lötmittelverbindung zum „Anlöten“ eines Anschlussdrahts an dem jeweiligen, flächigen Kontaktanschlussbereich einsetzen.Further, the sheet-like heating element 300 in which the electrical resistance element 270-3 has heating wires arranged in a garment can most effectively use the surface contact terminal portions 270-1, 270-2 for electrically contacting the heating wires 270-3 and providing a solder joint for soldering "Of a connecting wire to the respective, area contact connection area.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst ein Verfahren zur Herstellung eines flächigen Heizelements 300 folgende Schritte: Bereitstellen eines elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260, und Aufbringen eines ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereichs 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung oder mittels Plasmaspritzen auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 mit dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3, wobei zwischen dem ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist, wobei der erste flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem ersten Randbereich 270-3A des elektrischen Widerstandsheizelements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 aufgebracht und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, und wobei der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-31 aufweisen.According to one embodiment, a method for producing a planar heating element 300 comprises the following steps: providing an electrical heating resistance element 270-3 on a surface region 262 of a component 260, and applying a first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1, 270-2 a plasma coating or by means of plasma spraying on a surface region 262 of a component 260 with the electrical heating resistor element 270-3, wherein between the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1, 270-2, the electrical Heizwiderstandselement 270-3 is arranged, wherein the first planar electrically conductive layer region 270-1 as a first contact connection region is arranged at least in regions on a first edge region 270-3A of the electrical resistance heating element 270-3 and connected to the same electrically and materially, the second, planar e, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least partially applied to a second edge region 270-3B of the electrical Heizwiderstandselements 270-3 and connected to the same electrically and cohesively, and wherein the first and second, planar, electrically conductive layer region 270th -1, 270-2 have at least twice as high conductivity as the electrical heating resistor element 270-31.

Der erste flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 ist also zumindest bereichsweise oder vollständig mit dem ersten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-2 übereinanderliegend bzw. überlappend an dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-2 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise oder vollständig mit dem zweiten Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 übereinanderliegend bzw. überlappend an dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist.The first planar, electrically conductive layer region 270-1 is thus at least partially or completely with the first edge region of the electrical Heizwiderstandselements 270-2 superimposed or overlapping on the electrical Heizwiderstandselement 270-2 arranged and connected to the same electrically and cohesively, the second planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least partially or completely with the second edge region of the electrical Heizwiderstandselements 270-3 superimposed or overlapping on the electrical Heizwiderstandselement 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively.

Durch die äußerst exakte Dosierung der geforderten Pulvermenge zu der Pulververarbeitungseinrichtung, z. B. zu einer Plasmabeschichtungsanordnung bzw. einer Plasmadüse zum Plasmaspritzen, können im Wesentlichen beliebige Oberflächenstrukturen eines zu Bauelements äußerst gleichmäßig und exakt beschichtet werden, wobei ferner die elektrischen Eigenschaften der aufgebrachten Schichtstrukturen sehr exakt eingestellt und dimensioniert werden können. So können auf einem Oberflächenbereich eines Bauelements zum Beispiel flächige Kontaktbereiche plasmainduziert aufgebracht werden, die mit den Randbereichen eines dazwischen angeordneten, elektrischen (z. B. flächigen) Heizwiderstandselements elektrisch und stoffschlüssig verbunden sein können. Ferner können die aufgebrachten Schichtstrukturen mit dem zu beschichtenden Bauelement stoffschlüssig verbunden bzw. einstückig ausgebildet sein.Due to the extremely precise dosage of the required amount of powder to the powder processing device, eg. As to a plasma coating arrangement or a plasma nozzle for plasma spraying, substantially any surface structures of a component to be extremely uniformly and accurately coated, and further the electrical properties of the applied layer structures can be set and dimensioned very accurately. For example, flat contact areas can be applied to a surface area of a component in a plasma-induced manner, which can be electrically and materially connected to the edge areas of an electrical (eg areal) heating resistance element arranged therebetween. Furthermore, the applied layer structures can be integrally connected to the component to be coated or integrally formed.

Durch die bei dem Schwingförderer eingestellte Förderrate, d. h. durch die aufgebrachte Pulvermenge auf den Oberflächenbereich des Bauelements und der daraus resultierenden Partikelkonzentration, die beispielsweise ein leitfähiges Material aufweisen, kann der Widerstandsbelag bzw. der Schichtwiderstand (reziprok zur Leitfähigkeit) des jeweiligen flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereichs ausgebildet werden, so dass diese Schichtbereiche als Kontaktanschlussbereiche für das elektrische Heizwiderstandselement ausgebildet sein können. Insbesondere sind die Kontaktanschlussbereiche durch das Plasma-induzierte Schichtaufbringverfahren mit dem Randbereich des elektrischen Heizwiderstandselements sowohl elektrisch als auch stoffschlüssig, d. h. im Wesentlichen unlösbar, verbunden.By the set at the vibratory conveyor delivery rate, d. H. by the amount of powder applied to the surface region of the component and the resulting particle concentration, which comprise, for example, a conductive material, the resistance coating or the sheet resistance (reciprocal to the conductivity) of the respective planar, electrically conductive layer region can be formed, so that these layer regions as contact connection regions may be formed for the electrical Heizwiderstandselement. In particular, the contact terminal regions are both electrically and cohesively by the plasma-induced Schichtaufbringverfahren with the edge region of the electrical Heizwiderstandselements, d. H. essentially insoluble, connected.

Ferner ist es gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel möglich, sowohl für die Kontaktanschlussbereiche und für flächige Widerstandsstruktur, die als elektrisches Heizwiderstandselement zwischen den Kontaktanschlussbereichen ausgebildet ist, unterschiedliche Pulvermaterialien bzw. Schichtmaterialien mit unterschiedlich resultierenden Schichtwiderstandswerten (auch Flächenwiderstandswerten) bei dem Aufbringungsprozess zu verwenden.Further, according to a first embodiment, it is possible to use different powder materials or layer materials having different resulting sheet resistance values (also sheet resistance values) in the application process, both for the contact terminal regions and for the sheet-like resistor structure formed as the electrical heating resistor element between the contact terminal regions.

Ferner ist es möglich, sowohl für die Kontaktanschlussbereiche als auch für die flächige Widerstandsstruktur das gleiche Pulvermaterial bzw. Schichtmaterial einzusetzen, wobei die Kontaktanschlussbereiche mittels einer Mehrfachbeschichtung oder mittels mehreren Beschichtungsvorgängen eine „dichtere“ oder dickere Beschichtungslage erzeugt werden kann, die gegenüber der flächigen Widerstandsstruktur, die als elektrisches Heizwiderstandselement wirksam ist, eine erheblich höhere, z. B. zumindest um den Faktor zwei, fünf oder zehn höhere, Leitfähigkeit (Flächenleitfähigkeit) aufweist. Furthermore, it is possible to use the same powder material or layer material both for the contact connection regions and for the planar resistance structure, wherein the contact connection regions can be produced by means of a multiple coating or by means of a plurality of coating processes a "denser" or thicker coating layer which is opposite to the planar resistance structure, which is effective as an electrical Heizwiderstandselement, a considerably higher, z. B. at least by a factor of two, five or ten higher, conductivity (surface conductivity).

Ferner ist es auch möglich, dass die Kontaktanschlussbereiche als längliche Bereiche bzw. Inseln innerhalb der aufgebrachten, flächigen Widerstandsstruktur des elektrischen Heizwiderstandselements z.B. an Randbereichen desselben angeordnet sind.Furthermore, it is also possible for the contact connection regions to be in the form of elongated regions or islands within the applied planar resistance structure of the electrical resistance element, e.g. are arranged at the edge regions thereof.

Durch die flächig bzw. relativ großflächig ausgebildeten Kontaktanschlussbereiche für die als elektrisches Heizelement ausgebildete, flächige Widerstandsstruktur ist es möglich, eine ausreichend hohe Leistung großflächig in die als elektrische Heizwiderstandselement ausgebildete flächige Widerstandsstruktur einzukoppeln, um eine ausreichende Erwärmung aufgrund der Umwandlung elektrischer Energie in thermische Energie (Wärme) zu erhalten.Due to the planar or relatively large area formed contact terminal regions for the formed as an electric heating element, planar resistance structure, it is possible to couple a sufficiently high power over a large area in the electrical resistance element formed as a flat resistance structure to sufficient heating due to the conversion of electrical energy into thermal energy ( Heat).

Die als Kontaktanschlussbereiche wirksamen elektrisch leitfähigen Schichtbereiche können beispielsweise aufeinanderliegend mit der als elektrisches Heizwiderstandselement wirksamen, flächigen Widerstandsstruktur mittels eines Plasmabeschichtungsvorgangs ausgebildet sein.The electrically conductive layer regions which act as contact connection regions can be formed, for example, on one another with the planar resistance structure, which acts as an electrical heating resistance element, by means of a plasma coating process.

Gemäß einem ersten Aspekt kann eine Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 folgende Merkmale aufweisen: einen Pulvervorratsbehälter 110 zum Speichern und Bereitstellen von Pulver 112, einen Schwingförderer 120 mit einer Fördereinrichtung 122 mit einer einstellbaren Förderrate zum Abgeben des Pulvers 112 an einen Pulverauslass 124 mit der einstellbaren Förderrate, eine Leitungsanordnung 130 zum Befördern des von dem Schwingförderer 120 abgegebenen Pulvers 112 in einem Fördergas 114 als ein Pulver-Gas-Gemisch 116 und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches 116 zu einer Pulververarbeitungseinrichtung 200, wobei eine Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 vorgesehen ist, um einen definierten Anteil PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu entnehmen, eine Pulvermengenmessanordnung 140 zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen eines Pulvermengeninformationssignals S1, wobei die entnommene Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge PM1 des Schwingförderers 120 aufweist, und eine Steuerungseinrichtung 150, die ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung 140 bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal S1 die einstellbare Förderrate des Schwingförderers 120 auf einen vorgegebenen Sollwert einzustellen.According to a first aspect, a device 100 for the promotion and dosage of powder 112 have the following features: a powder reservoir 110 for storing and supplying powder 112 , a vibrating conveyor 120 with a conveyor 122 with an adjustable delivery rate for dispensing the powder 112 to a powder outlet 124 with the adjustable delivery rate, a line arrangement 130 for conveying the from the vibratory conveyor 120 discharged powder 112 in a conveying gas 114 as a powder-gas mixture 116 and for supplying the powder-gas mixture 116 to a powder processing device 200 , wherein a decoupling device 132 in the line arrangement 130 is provided to a defined proportion PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116 to take a powder flow measuring arrangement 140 for detecting the decoupled amount of powder PM2 per unit time and for providing a powder amount information signal S1 , wherein the amount of powder removed PM2 per unit of time within a tolerance range, a predetermined ratio to the amount of powder delivered PM1 of the vibratory conveyor 120 and a control device 150 configured to be based on that of the powder flow meter assembly 140 provided powder quantity information signal S1 the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor 120 to set to a predetermined setpoint.

Gemäß einem zweiten Aspekt unter Bezugnahme auf den ersten Aspekt kann die Auskoppeleinrichtung 132 ausgebildet sein, um einen vorgegebenen Anteil PM2 der von dem Schwingförderer 120 abgegebenen und in der Leitungsanordnung 130 in dem Pulver-Gas-Gemisch 116 transportierten Pulvermenge PM1 zu entnehmen.According to a second aspect with reference to the first aspect, the decoupling device 132 be trained to a predetermined proportion PM2 that of the vibratory conveyor 120 delivered and in the management order 130 in the powder-gas mixture 116 transported amount of powder PM1 refer to.

Gemäß einem dritten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis zweiten Aspekts kann die Auskoppeleinrichtung 132 entlang der Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches 116 in unterschiedliche Volumenbereiche 132-1, ..., 132-5 unterteilt sein, um eine homogene Verteilung des Pulver-Gas-Gemisches 116 in der Auskoppeleinrichtung 132 zu erhalten.According to a third aspect with reference to at least one of the first to second aspects, the decoupling device 132 may be subdivided along the flow direction of the powder-gas mixture 116 into different volume regions 132-1,..., 132-5 in order to obtain a homogeneous distribution of the To obtain powder-gas mixture 116 in the decoupler 132.

Gemäß einem vierten Aspekt unter Bezugnahme auf den dritten Aspekt kann die Auskoppeleinrichtung 132 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches 116 einen Einlassbereich 132-1, einen Expansionsbereich 132-2, einen Homogenisierungsbereich 132-3, einen Auskoppelbereich 132-4 und einen Ausgabebereich 132-5 aufweisen.According to a fourth aspect with reference to the third aspect, the decoupling device 132 in the flow direction of the powder-gas mixture 116, an inlet region 132-1, an expansion region 132-2, a homogenization region 132-3, a decoupling region 132-4 and an output region 132nd -5.

Gemäß einem fünften Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis vierten Aspekts kann die Pulvermengenmessanordnung 140 eine Wägezelle aufweisen, um das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge PM2 pro Zeiteinheit zu erfassen.According to a fifth aspect with reference to at least one of the first to fourth aspects, the powder quantity measuring arrangement 140 have a load cell to the weight of the decoupled amount of powder PM2 to be recorded per unit of time.

Gemäß einem sechsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis fünften Aspekts kann die Pulvermengenmessanordnung 140 ausgebildet sein, um die Anzahl und/oder Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen optisch zu erfassen.According to a sixth aspect with reference to at least one of the first to fifth aspects, the powder quantity measuring arrangement 140 be formed to optically detect the number and / or size of the decoupled powder particles.

Gemäß einem siebten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis sechsten Aspekts kann die Steuerungseinrichtung 150 ausgebildet sein, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal S1 die momentane Förderrate des Schwingförderers 120 zu ermitteln und bei einer Abweichung der momentanen Förderrate des Schwingförderers 120 von dem vorgegebenen Sollwert oder einer Zielförderrate den Schwingförderer 120 anzusteuern, um die Förderrate auf den Sollwert oder die Zielförderrate einzustellen.According to a seventh aspect with reference to at least one of the first to sixth aspects, the controller may 150 be configured to be based on the powder quantity information signal S1 the instantaneous delivery rate of the vibratory conveyor 120 to determine and a deviation of the current delivery rate of the vibratory conveyor 120 from the predetermined target value or a Zielförderrate the vibratory conveyor 120 to set the delivery rate to the target value or the target delivery rate.

Gemäß einem achten Aspekt unter Bezugnahme auf den siebten Aspekt kann die Steuerungseinrichtung 150 ausgebildet sein, um die momentane Förderrate des Schwingförderers 120 kontinuierlich auf die Zielförderrate einzustellen.According to an eighth aspect with reference to the seventh aspect, the controller 150 be educated to the momentary Delivery rate of the vibratory conveyor 120 continuously set to the Zielförderrate.

Gemäß einem neunten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis achten Aspekts kann die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers zur Förderung des Pulvers 112 zu einer Schwingungsbewegung senkrecht und parallel zur Förderrichtung angeregt werden, und der Schwingförderer 120 kann ausgebildet sein, eine Schwingungsbewegung der Fördereinrichtung 122 mit einer Schwingungsfrequenz oberhalb von 1 bis 1000 Hertz oder von 50 bis 300 Hertz bei einer Schwingweite oder Amplitude in einem Bereich von 1 µm bis 1000 µm oder von 5 µm bis 200 µm auszuführen.According to a ninth aspect with reference to at least one of the first to eighth aspects, the conveyor 122 the vibratory conveyor for conveying the powder 112 are excited to a vibratory motion perpendicular and parallel to the conveying direction, and the vibrating conveyor 120 can be formed, a vibration movement of the conveyor 122 with an oscillation frequency above 1 to 1000 hertz or from 50 to 300 hertz with an amplitude or amplitude in a range of 1 .mu.m to 1000 .mu.m or of 5 .mu.m to 200 .mu.m.

Gemäß einem zehnten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis neunten Aspekts kann der Schwingförderer 120 als ein piezoelektrisch oder magnetisch angetriebener Fördereinrichtung 122 ausgebildet sein.According to a tenth aspect with reference to at least one of the first to ninth aspects, the vibrating conveyor 120 as a piezoelectrically or magnetically driven conveyor 122 be educated.

Gemäß einem elften Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des siebten bis zehnten Aspekts kann die Steuerungseinrichtung 150 ausgebildet sein, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal S1 die Schwingungsbewegung der Förderereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 einzustellen, um die Zielförderrate zu erhalten.According to an eleventh aspect, with reference to at least one of the seventh to tenth aspects, the controller 150 be configured to be based on the powder quantity information signal S1 the oscillatory movement of the conveyor device 122 of the vibratory conveyor 120 to get the target production rate.

Gemäß einem zwölften Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis elften Aspekts kann der Pulvervorratsbehälter 110 einen Auslasseinrichtung 114 zum Bereitstellen des Pulvers 112 an die Fördereinrichtung 122 aufweisen, wobei die Vorrichtung ferner folgendes Merkmal aufweisen kann: eine Abstandseinstellungseinrichtung zum Einstellen eines Abstands zwischen einem Auslassende 114-A der Auslasseinrichtung 114 und einen Förderoberflächenbereich 122-A der Fördereinrichtung 122 zum Einstellen einer Vordosierung der von dem Pulvervorratsbehälter 110 an die Fördereinrichtung 122 des Schwingförderers 120 bereitgestellten Pulvermenge PM0.According to a twelfth aspect with reference to at least one of the first to eleventh aspects, the powder reservoir can 110 an outlet 114 to provide the powder 112 to the conveyor 122 The device may further comprise the following feature: distance adjusting means for adjusting a distance between an outlet end 114-A the outlet device 114 and a conveying surface area 122-A the conveyor 122 for adjusting a predosing of the powder reservoir 110 to the conveyor 122 of the vibratory conveyor 120 provided amount of powder PM0 ,

Gemäß einem dreizehnten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis zwölften Aspekts kann die Vorrichtung 100 ferner folgendes Merkmal aufweisen: eine Pulverweichenanordnung 160 in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches 116 nach der Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130, wobei die Pulverweichenanordnung 162 ausgebildet ist, um während einer Betriebspause AUS200 der Pulververarbeitungseinrichtung 200 die in der Leitungsanordnung 130 nach der Auskoppeleinrichtung 132 vorhandene Pulvermenge PM3 zu ermitteln und ein weiteres Pulvermengeninformationssignal S3 der Pulvermenge PM3 zur Auswertung an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.According to a thirteenth aspect with reference to at least one of the first to twelfth aspects, the device 100 further comprising: a powder diverter assembly 160 in the flow direction of the powder-gas mixture 116 after the decoupling device 132 in the line arrangement 130 wherein the powder diverter assembly 162 is designed to be OFF 200 during a break in operation of the powder processing device 200 the in the line arrangement 130 after the decoupling device 132 existing amount of powder PM3 to determine and another powder quantity information signal S3 the amount of powder PM3 for evaluation to the control device 150 provide.

Gemäß einem vierzehnten Aspekt unter Bezugnahme auf den dreizehnten Aspekt kann die Steuerungseinrichtung 150 ferner ausgebildet sein, um basierend auf dem von der Pulverweichenanordnung 160 bereitgestellten weiteren Pulvermengeninformationssignal S3 den von der Auskoppeleinrichtung 132 in der Leitungsanordnung 130 entnommenen Anteil PM2 des Pulvers 112 aus dem Pulver-Gas-Gemisch 116 zu bestimmen.According to a fourteenth aspect, with reference to the thirteenth aspect, the controller 150 further configured to be based on that of the powder diverter assembly 160 provided further powder quantity information signal S3 from the decoupling device 132 in the line arrangement 130 removed portion PM2 of the powder 112 from the powder-gas mixture 116 to determine.

Gemäß einem fünfzehnten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des ersten bis vierzehnten Aspekts kann die Pulververarbeitungseinrichtung 200 als eine Plasmaspritzeinrichtung oder Plasmadüse ausgebildet sein.According to a fifteenth aspect, with reference to at least one of the first to fourteenth aspects, the powder processing device 200 be designed as a plasma spraying device or plasma nozzle.

Gemäß einem sechzehnten Aspekt kann eine Vorrichtung 101 zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 200 folgende Merkmale aufweisen: eine Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 112 gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, zum Bereitstellen von Pulverteilchen 114 an eine Plasmaspritzanordnung 200; und eine Plasmaspritzanordnung 200 mit einer Plasmaquelle 208 zum Einbringen eines Plasmas 210 in einem Prozessbereich 206, um die bereitgestellten Pulverteilchen 114 in dem Prozessbereich 206 mit dem Plasma 210 zu aktivieren, und mit einer Aufbringeinrichtung 212 zum Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen 114 auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260, um die Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten.According to a sixteenth aspect, a device 101 for producing a layered structure 270 on a surface area 262 a component 200 have the following features: a device 100 for the promotion and dosage of powder 112 according to any of the preceding claims, for providing powder particles 114 to a plasma spraying assembly 200 ; and a plasma spray device 200 with a plasma source 208 for introducing a plasma 210 in a process area 206 to the powder particles provided 114 in the process area 206 with the plasma 210 to activate, and with an applicator 212 for applying the activated powder particles 114 on the surface area 262 of the component 260 to the layer structure 270 on the surface area 262 of the component 260 to obtain.

Gemäß einem siebzehnten Aspekt kann ein Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur 270 an einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 folgende Schritte aufweisen: Bereitstellen von Pulverteilchen in einem Prozessbereich einer Plasmaspritzeinrichtung mit der Vorrichtung 100 zur Förderung und Dosierung von Pulver 114 gemäß einem der Aspekte 1 bis 15, Aktivieren der bereitgestellten Pulverteilchen 114 in einem Prozessbereich 206 einer Plasmaspritzanordnung 200 mit dem Plasma 210 einer Plasmaquelle 208, und Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen 114 auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260, um die Schichtstruktur 270 auf dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten.According to a seventeenth aspect, a method for producing a layered structure 270 on a surface area 262 a component 260 comprising the steps of: providing powder particles in a process area of a plasma spraying device with the device 100 for the promotion and dosage of powder 114 according to one of the aspects 1 to 15 , Activating the provided powder particles 114 in a process area 206 a plasma spray arrangement 200 with the plasma 210 a plasma source 208 , and applying the activated powder particles 114 on the surface area 262 of the component 260 to the layer structure 270 on the surface area 262 of the component 260 to obtain.

Gemäß einem achtzehnten Aspekt kann ein flächiges Heizelement 300 folgende Merkmale aufweisen: ein elektrisches Heizwiderstandselement 270-3, und einen ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2, wobei zwischen dem ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist, wobei der erste flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem ersten Randbereich 270-3A des elektrischen Widerstandsheizelements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, und wobei der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 aufweisen.According to an eighteenth aspect, a planar heating element 300 have the following features: an electrical Heizwiderstandselement 270-3 , and a first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 , wherein between the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 the electrical heating resistor element 270-3 is arranged, wherein the first planar electrically conductive layer region 270-1 as a first Contact connection region at least partially on a first edge region 270-3A of the electrical resistance heating element 270-3 is arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least in regions at a second edge region 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively, and wherein the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 an at least twice as high conductivity as the electrical Heizwiderstandselement 270-3 exhibit.

Gemäß einem neunzehnten Aspekt unter Bezugnahme auf den achtzehnten Aspekt können der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung oder mittels Plasmaspritzen auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 mit dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3 aufgebracht sein.According to a nineteenth aspect with reference to the eighteenth aspect, the first and second sheet-like electrically conductive layer regions 270-1 . 270-2 by plasma coating or by plasma spraying on a surface area 262 a component 260 with the electrical heating resistor element 270-3 be upset.

Gemäß einem zwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis neunzehnten Aspekts kann das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 als eine flächige, mittels Plasmaspritzen aufgebrachte Widerstandsstruktur ausgebildet sein.According to a twentieth aspect with reference to at least one of the eighteenth to nineteenth aspects, the electric heating resistance element 270-3 be designed as a flat, applied by plasma spraying resistance structure.

Gemäß einem einundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf den zwanzigsten Aspekt können der erste und zweite Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-3 und der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-3 einstückig mit dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 ausgebildet sein.According to a twenty-first aspect with reference to the twentieth aspect, the first and second contact terminal regions 270-1 . 270-3 and the planar, electrically conductive layer region 270-3 integral with the surface area 262 of the component 260 be educated.

Gemäß einem zweiundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des zwanzigsten bis einundzwanzigsten Aspekts kann die flächige Widerstandsstruktur 270-3 ausgebildet sein, um bei einer elektrischen Bestromung als das elektrische Heizelement elektrische Energie in thermische Energie umzuwandeln.According to a twenty-second aspect, with reference to at least one of the twentieth to twenty-first aspects, the sheet resistance structure can 270-3 be formed to convert electrical energy into thermal energy in an electric current supply as the electric heating element.

Gemäß einem dreiundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis zweiundzwanzigsten Aspekts können der erste und zweite, flächige Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-2 als eine lötfähige Metallschicht ausgebildet sein.According to a twenty-third aspect, with reference to at least one of the eighteenth to twenty-second aspects, the first and second area contact terminal areas 270-1 . 270-2 be formed as a solderable metal layer.

Gemäß einem vierundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis dreiundzwanzigsten Aspekts kann das flächige Heizelement 300 kachelförmig ausgebildet sein und mit einer Mehrzahl von benachbart angeordneten, weiteren, flächigen Heizelementen 300 elektrisch in Serie oder parallel verschaltbar sein.According to a twenty-fourth aspect, with reference to at least one of the eighteenth to twenty-third aspects, the planar heating element 300 be formed trough-shaped and arranged with a plurality of adjacent, further, flat heating elements 300 be electrically connected in series or in parallel.

Gemäß einem fünfundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis vierundzwanzigsten Aspekts kann das flächige Heizelement Polygenzug-förmig oder rechteckig ausgebildet sein, wobei der erste und zweite flächige Kontaktanschlussbereich 270-1, 270-2 an gegenüberliegenden Randbereichen 270-3A, 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 ausgebildet sein können.According to a twenty-fifth aspect, with reference to at least one of the eighteenth to the twenty-fourth aspects, the sheet-like heating element may be formed in a polygonal or rectangular shape, wherein the first and second sheet-like contact terminal portions 270-1 . 270-2 on opposite edge areas 270-3A . 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 can be trained.

Gemäß einem sechsundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis fünfundzwanzigsten Aspekts können in dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 durch das Bauelement durchgängige Perforationen oder Durchgangsöffnungen 272 vorgesehen sein.According to a twenty-sixth aspect, with reference to at least one of the eighteenth to the twenty-fifth aspects, in the surface area 262 of the planar component 260 through the component continuous perforations or through holes 272 be provided.

Gemäß einem siebenundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf den sechsundzwanzigsten Aspekt können die Perforationen in dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 vorgesehen sein, um eine Luftströmung durch die Perforationen des flächigen Bauelements 260 vorzusehen, und um bei einer Bestromung des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine Erwärmung der Luftströmung durch das flächige Bauelement 260 zu erhalten.According to a twenty-seventh aspect, with reference to the twenty-sixth aspect, the perforations in the surface area 262 of the planar component 260 be provided to allow air flow through the perforations of the sheet-like device 260 provide, and at energizing the electrical Heizwiderstandselements 270-3 a heating of the air flow through the planar component 260 to obtain.

Gemäß einem achtundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis siebenundzwanzigsten Aspekts kann der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 einen gleichmäßigen Flächenwiderstand aufweisen, um eine gleichmäßige Heizwirkung an dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 vorzusehen.According to a twenty-eighth aspect, with reference to at least one of the eighteenth to twenty-seventh aspects, the sheet-like electrically conductive layer portion of the electric resistance heating element 270 - 3 have a uniform sheet resistance to a uniform heating effect on the surface area 262 of the planar component 260 provided.

Gemäß einem neunundzwanzigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis siebenundzwanzigsten Aspekts kann der flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-3 des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine vorgegebene Verteilung des Flächenwiderstands an dem Oberflächenbereich 262 des flächigen Bauelements 260 aufweisen, um bei einer Bestromung des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 eine bereichsweise unterschiedliche Heizwirkung des flächigen Heizelements an dem Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260 zu erhalten.According to a twenty-ninth aspect with reference to at least one of the eighteenth to twenty-seventh aspects, the sheet-like electrically conductive layer region 270-3 of the electrical heating resistor element 270-3 a predetermined distribution of sheet resistance at the surface area 262 of the planar component 260 to energize the electrical heating resistor element 270-3 a partially different heating effect of the planar heating element on the surface region 262 of the component 260 to obtain.

Gemäß einem dreißigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis neunundzwanzigsten Aspekts kann das flächige Heizelement als ein Oberflächenbereich einer Innenraumverkleidung eines Kraftfahrzeugs ausgebildet sein.According to a thirtieth aspect with reference to at least one of the eighteenth to twenty-ninth aspects, the sheet-like heating element may be formed as a surface portion of an interior trim panel of a motor vehicle.

Gemäß einem einunddreißigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis neunundzwanzigsten Aspekts kann das flächige Heizelement als ein Oberflächenbereich eines Kleidungsstücks ausgebildet sein.According to a thirty-first aspect, with reference to at least one of the eighteenth to the twenty-ninth aspects, the sheet-like heating element may be formed as a surface portion of a garment.

Gemäß einem zweiunddreißigsten Aspekt unter Bezugnahme auf zumindest einen des achtzehnten bis neunzehnten Aspekts kann das elektrische Leitwiderstandselement 270-3 als ein Heizdraht ausgebildet sein.According to a thirty-second aspect, with reference to at least one of the eighteenth to nineteenth aspects, the electrical conductive resistance element 270-3 be designed as a heating wire.

Gemäß einem dreiunddreißigsten Aspekt kann ein Verfahren zur Herstellung eines flächigen Heizelements 300 folgende Schritte aufweisen: Bereitstellen eines elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260, und Aufbringen eines ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereichs 270-1, 270-2 mittels einer Plasmabeschichtung oder mittels Plasmaspritzen auf einem Oberflächenbereich 262 eines Bauelements 260 mit dem elektrischen Heizwiderstandselement 270-3, wobei zwischen dem ersten und zweiten, flächigen, elektrisch leitfähigen Schichtbereich 270-1, 270-2 das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 angeordnet ist, wobei der erste flächige elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1 als ein erster Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem ersten Randbereich 270-3A des elektrischen Widerstandsheizelements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, wobei der zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-2 als ein zweiter Kontaktanschlussbereich zumindest bereichsweise an einem zweiten Randbereich 270-3B des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 angeordnet und mit demselben elektrisch und stoffschlüssig verbunden ist, und wobei der erste und zweite, flächige, elektrisch leitfähige Schichtbereich 270-1, 270-2 eine zumindest doppelt so hohe Leitfähigkeit wie das elektrische Heizwiderstandselement 270-3 aufweisen.According to a thirty-third aspect, a method of manufacturing a sheet-like heating element 300 comprising the steps of: providing an electrical heating resistor element 270-3 on a surface area 262 a component 260 , and applying a first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 by plasma coating or by plasma spraying on a surface area 262 a component 260 with the electrical heating resistor element 270-3 , wherein between the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 the electrical heating resistor element 270-3 is arranged, wherein the first planar electrically conductive layer region 270-1 as a first contact connection region at least in regions at a first edge region 270-3A of the electrical resistance heating element 270-3 is arranged and connected to the same electrically and cohesively, wherein the second, planar, electrically conductive layer region 270-2 as a second contact connection region at least in regions at a second edge region 270-3B of the electrical heating resistor element 270-3 arranged and connected to the same electrically and cohesively, and wherein the first and second, planar, electrically conductive layer region 270-1 . 270-2 an at least twice as high conductivity as the electrical Heizwiderstandselement 270-3 exhibit.

Gemäß einem vierunddreißigsten Aspekt unter Bezugnahme auf den dreiunddreißigsten Aspekt kann das Verfahren ferner folgenden Schritt aufweisen: Aufbringen mittels Plasmaspritzen des elektrischen Heizwiderstandselements 270-3 als eine flächige Widerstandsstruktur auf den Oberflächenbereich 262 des Bauelements 260.According to a thirty-fourth aspect with reference to the thirty-third aspect, the method may further include the step of applying by plasma spraying the electric resistance element 270-3 as a surface resistance structure on the surface area 262 of the component 260 ,

Obwohl einige Aspekte der vorliegenden Offenbarung als Merkmale im Zusammenhang einer Vorrichtung beschrieben wurden, ist es klar, dass eine solche Beschreibung ebenfalls als eine Beschreibung entsprechender Verfahrensmerkmale betrachtet werden kann. Obwohl einige Aspekte als Merkmale im Zusammenhang mit einem Verfahren beschrieben wurden, ist klar, dass eine solche Beschreibung auch als eine Beschreibung entsprechender Merkmale einer Vorrichtung bzw. der Funktionalität einer Vorrichtung betrachtet werden können.Although some aspects of the present disclosure have been described as features in the context of a device, it is to be understood that such description may also be considered as a description of corresponding method features. Although some aspects have been described as features associated with a method, it will be understood that such description may be considered as a description of corresponding features of a device and the functionality of a device, respectively.

In der vorhergehenden detaillierten Beschreibung wurden teilweise verschiedene Merkmale in Beispielen zusammen gruppiert, um die Offenbarung zu rationalisieren. Diese Art der Offenbarung soll nicht als die Absicht interpretiert werden, dass die beanspruchten Beispiele mehr Merkmale aufweisen als ausdrücklich in jedem Anspruch angegeben sind. Vielmehr kann, wie die folgenden Ansprüche wiedergeben, der Gegenstand in weniger als allen Merkmalen eines einzelnen offenbarten Beispiels liegen. Folglich werden die folgenden Ansprüche hiermit in die detaillierte Beschreibung aufgenommen, wobei jeder Anspruch als ein eigenes separates Beispiel stehen kann. Während jeder Anspruch als ein eigenes separates Beispiel stehen kann, sei angemerkt, dass, obwohl sich abhängige Ansprüche in den Ansprüchen auf eine spezifische Kombination mit einem oder mehreren anderen Ansprüchen zurückbeziehen, andere Beispiele auch eine Kombination von abhängigen Ansprüchen mit dem Gegenstand jedes anderen abhängigen Anspruchs oder einer Kombination jedes Merkmals mit anderen abhängigen oder unabhängigen Ansprüchen umfassen. Solche Kombinationen seien umfasst, es sei denn es ist ausgeführt, dass eine spezifische Kombination nicht beabsichtigt ist. Ferner ist beabsichtigt, dass auch eine Kombination von Merkmalen eines Anspruchs mit jedem anderen unabhängigen Anspruch umfasst ist, selbst wenn dieser Anspruch nicht direkt abhängig von dem unabhängigen Anspruch ist.In the foregoing detailed description, various features have been partially grouped together in examples to streamline the disclosure. This type of disclosure is not to be interpreted as the intention that the claimed examples have more features than are expressly stated in each claim. Rather, as the following claims reflect, the subject matter may be inferior to all features of a single disclosed example. Accordingly, the following claims are hereby incorporated into the Detailed Description, with each claim being construed as a separate example of its own. While each claim may be construed as a separate example of its own, it should be understood that although dependent claims in the claims refer back to a specific combination with one or more other claims, other examples also include a combination of dependent claims with the subject matter of any other dependent claim or a combination of each feature with other dependent or independent claims. Such combinations are included unless it is stated that a specific combination is not intended. It is also intended that a combination of features of a claim with any other independent claim be included even if that claim is not directly dependent on the independent claim.

Obwohl spezifische Ausführungsbeispiele hierin dargestellt und beschrieben wurden, wird einem Fachmann offensichtlich sein, dass eine Vielzahl von alternativen und/oder äquivalenten Implementierungen für die spezifischen dort gezeigten und dargestellten Ausführungsbeispiele ersetzt werden können, ohne von dem Gegenstand der vorliegenden Anmeldung abzuweichen. Dieser Anmeldungstext soll alle Adaptionen und Variationen der hierin beschriebenen und erörterten spezifischen Ausführungsbeispiele abdecken. Daher ist der vorliegende Anmeldungsgegenstand lediglich durch den Wortlaut der Ansprüche und den äquivalenten Ausführungsformen derselben begrenzt.Although specific embodiments have been illustrated and described herein, it will be apparent to those skilled in the art that a variety of alternative and / or equivalent implementations may be substituted for the specific embodiments shown and illustrated herein without departing from the subject matter of the present application. This application text is intended to cover all adaptations and variations of the specific embodiments described and discussed herein. Therefore, the present application is limited only by the literal language of the claims and the equivalent embodiments thereof.

Claims (17)

Vorrichtung (100) zur Förderung und Dosierung von Pulver (112), mit folgenden Merkmalen: einem Pulvervorratsbehälter (110) zum Speichern und Bereitstellen von Pulver (112), einem Schwingförderer (120) mit einer Fördereinrichtung (122) mit einer einstellbaren Förderrate zum Abgeben des Pulvers (112) an einen Pulverauslass (124) mit der einstellbaren Förderrate, einer Leitungsanordnung (130) zum Befördern des von dem Schwingförderer (120) abgegebenen Pulvers (112) in einem Fördergas (114) als ein Pulver-Gas-Gemisch (116) und zum Zuführen des Pulver-Gas-Gemisches (116) zu einer Pulververarbeitungseinrichtung (200), wobei eine Auskoppeleinrichtung (132) in der Leitungsanordnung (130) vorgesehen ist, um einen definierten Anteil (PM2) des Pulvers (112) aus dem Pulver-Gas-Gemisch (116) zu entnehmen, einer Pulvermengenmessanordnung (140) zum Erfassen der ausgekoppelten Pulvermenge (PM2) pro Zeiteinheit und zum Bereitstellen eines Pulvermengeninformationssignals (S1), wobei die entnommene Pulvermenge (PM2) pro Zeiteinheit innerhalb eines Toleranzbereichs ein vorgegebenes Verhältnis zu der geförderten Pulvermenge (PM1) des Schwingförderers (120) aufweist, und einer Steuerungseinrichtung (150), die ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulvermengenmessanordnung (140) bereitgestellten Pulvermengeninformationssignal (S1) die einstellbare Förderrate des Schwingförderers (120) auf einen vorgegebenen Sollwert einzustellen.A powder delivery and metering apparatus (100) comprising: a powder reservoir (110) for storing and providing powder (112), a vibratory conveyor (120) having a variable delivery rate conveyor (122) Delivering the powder (112) to a powder delivery (124) having the adjustable delivery rate, a conduit assembly (130) for conveying the powder (112) discharged from the vibratory conveyor (120) into a delivery gas (114) as a powder gas mixture ( 116) and for supplying the powder-gas mixture (116) to a powder processing device (200), wherein a decoupling device (132) in the line arrangement (130) is provided to a defined proportion (PM2) of the powder (112) from the Powder-gas mixture (116), a powder flow measuring device (140) for detecting the decoupled powder amount (PM2) per unit time and for providing a powder amount information signal (S1), wherein the amount of powder withdrawn (PM2) per unit time within a tolerance range of a predetermined ratio to the conveyed powder amount (PM1) of the vibratory conveyor (120), and a controller (150) configured to be based on the powder amount m Essanordnung (140) provided powder amount information signal (S1) set the adjustable delivery rate of the vibratory conveyor (120) to a predetermined desired value. Vorrichtung (100) gemäß Anspruch 1, wobei die Auskoppeleinrichtung (132) ausgebildet ist, um einen vorgegebenen Anteil (PM2) der von dem Schwingförderer (120) abgegebenen und in der Leitungsanordnung (130) in dem Pulver-Gas-Gemisch (116) transportierten Pulvermenge (PM1) zu entnehmen.Device (100) according to Claim 1 wherein the decoupling means (132) is adapted to extract a predetermined amount (PM2) of the amount of powder (PM1) discharged from the vibratory conveyor (120) and transported in the piping (130) in the powder-gas mixture (116). Vorrichtung (100) gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die Auskoppeleinrichtung (132) entlang der Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches (116) in unterschiedliche Volumenbereiche (132-1, ..., 132-5) unterteilt ist, um eine homogene Verteilung des Pulver-Gas-Gemisches (116) in der Auskoppeleinrichtung (132) zu erhalten.Device (100) according to Claim 1 or 2 in which the decoupling device (132) is subdivided along the flow direction of the powder-gas mixture (116) into different volume regions (132-1, ..., 132-5) in order to ensure homogeneous distribution of the powder-gas mixture (116 ) in the decoupling device (132). Vorrichtung (100) gemäß Anspruch 3, wobei die Auskoppeleinrichtung (132) in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches (116) einen Einlassbereich (132-1), einen Expansionsbereich (132-2), einen Homogenisierungsbereich (132-3), einen Auskoppelbereich (132-4) und einen Ausgabebereich (132-5) aufweist.Device (100) according to Claim 3 wherein the decoupling device (132) in the flow direction of the powder-gas mixture (116) an inlet region (132-1), an expansion region (132-2), a homogenization region (132-3), a decoupling region (132-4) and an output area (132-5). Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Pulvermengenmessanordnung (140) eine Wägezelle aufweist, um das Gewicht der ausgekoppelten Pulvermenge (PM2) pro Zeiteinheit zu erfassen.Apparatus (100) according to any one of the preceding claims, wherein the powder flow meter assembly (140) comprises a load cell for detecting the weight of the decoupled powder amount (PM2) per unit time. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Pulvermengenmessanordnung (140) ausgebildet ist, um die Anzahl und/oder Größe der ausgekoppelten Pulverteilchen optisch zu erfassen.Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the powder quantity measuring arrangement (140) is designed to optically detect the number and / or size of the decoupled powder particles. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Steuerungseinrichtung (150) ausgebildet ist, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal (S1) die momentane Förderrate des Schwingförderers (120) zu ermitteln und bei einer Abweichung der momentanen Förderrate des Schwingförderers (120) von dem vorgegebenen Sollwert oder einer Zielförderrate den Schwingförderer (120) anzusteuern, um die Förderrate auf den Sollwert oder die Zielförderrate einzustellen.Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the control device (150) is designed to determine the instantaneous delivery rate of the vibratory conveyor (120) based on the powder quantity information signal (S1) and if the actual delivery rate of the vibratory conveyor (120) deviates from the setpoint or a target delivery rate to control the vibratory conveyor (120) to adjust the delivery rate to the desired value or the Zielförderrate. Vorrichtung (100) gemäß Anspruch 7, wobei die Steuerungseinrichtung (150) ausgebildet ist, um die momentane Förderrate des Schwingförderers (120) kontinuierlich auf die Zielförderrate einzustellen.Device (100) according to Claim 7 wherein the control means (150) is adapted to continuously adjust the current delivery rate of the vibratory conveyor (120) to the target delivery rate. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Fördereinrichtung (122) des Schwingförderers zur Förderung des Pulvers (112) zu einer Schwingungsbewegung senkrecht und parallel zur Förderrichtung angeregt wird, und wobei der Schwingförderer (120) ausgebildet ist, eine Schwingungsbewegung der Fördereinrichtung (122) mit einer Schwingungsfrequenz oberhalb von 1 bis 1000 Hertz oder von 50 bis 300 Hertz bei einer Schwingweite oder Amplitude in einem Bereich von 1 µm bis 1000 µm oder von 5 µm bis 200 µm auszuführen.Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the conveying device (122) of the vibrating conveyor for conveying the powder (112) is excited to oscillate vertically and parallel to the conveying direction, and wherein the vibrating conveyor (120) is formed to oscillate the conveying device (122) with an oscillation frequency above 1 to 1000 hertz or from 50 to 300 hertz at an amplitude or amplitude in a range of 1 .mu.m to 1000 .mu.m or from 5 .mu.m to 200 .mu.m. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Schwingförderer (120) als ein piezoelektrisch oder magnetisch angetriebener Fördereinrichtung (122) ausgebildet ist.Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the vibratory conveyor (120) is designed as a piezoelectrically or magnetically driven conveyor (122). Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche 7 bis 10, wobei die Steuerungseinrichtung (150) ausgebildet ist, um basierend auf dem Pulvermengeninformationssignal (S1) die Schwingungsbewegung der Förderereinrichtung (122) des Schwingförderers (120) einzustellen, um die Zielförderrate zu erhalten.Device (100) according to one of the preceding Claims 7 to 10 wherein the control means (150) is adapted to adjust, based on the powder quantity information signal (S1), the oscillatory motion of the conveyor means (122) of the vibrating conveyor (120) to obtain the target conveying rate. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Pulvervorratsbehälter (110) einen Auslasseinrichtung (114) zum Bereitstellen des Pulvers (112) an die Fördereinrichtung (122) aufweist, ferner mit folgendem Merkmal: einer Abstandseinstellungseinrichtung zum Einstellen eines Abstands zwischen einem Auslassende (114-A) der Auslasseinrichtung (114) und einen Förderoberflächenbereich (122-A) der Fördereinrichtung (122) zum Einstellen einer Vordosierung der von dem Pulvervorratsbehälter (110) an die Fördereinrichtung (122) des Schwingförderers (120) bereitgestellten Pulvermenge (PMO).Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the powder reservoir (110) has an outlet device (114) for providing the powder (112) to the conveyor (122), further having the following feature: a gap adjusting means for adjusting a distance between an outlet end (114-A) of the outlet means (114) and a conveying surface area (122-A) of the conveyor (122) for adjusting a predosing of the powder reservoir (110) to the conveyor (122) of the Vibratory conveyor (120) provided powder amount (PMO). Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, ferner mit folgendem Merkmal: einer Pulverweichenanordnung (160) in Strömungsrichtung des Pulver-Gas-Gemisches (116) nach der Auskoppeleinrichtung (132) in der Leitungsanordnung (130), wobei die Pulverweichenanordnung (162) ausgebildet ist, um während einer Betriebspause (AUS200) der Pulververarbeitungseinrichtung (200) die in der Leitungsanordnung (130) nach der Auskoppeleinrichtung (132) vorhandene Pulvermenge (PM3) zu ermitteln und ein weiteres Pulvermengeninformationssignal (S3) der Pulvermenge PM3 zur Auswertung an die Steuerungseinrichtung 150 bereitzustellen.Apparatus (100) according to any one of the preceding claims, further comprising: a powder diverter assembly (160) downstream of the powder-gas mixture (116) in the flow direction Decoupling device (132) in the line arrangement (130), wherein the powder diverter arrangement (162) is designed to reduce the amount of powder (PM3) present in the line arrangement (130) downstream of the decoupling device (132) during an interruption in operation (AUS 200 ) of the powder processing device (200) ) and to provide a further powder quantity information signal (S3) of the powder quantity PM3 to the control device 150 for evaluation. Vorrichtung (100) gemäß Anspruch 13, wobei die Steuerungseinrichtung (150) ferner ausgebildet ist, um basierend auf dem von der Pulverweichenanordnung (160) bereitgestellten weiteren Pulvermengeninformationssignal (S3) den von der Auskoppeleinrichtung (132) in der Leitungsanordnung (130) entnommenen Anteil (PM2) des Pulvers (112) aus dem Pulver-Gas-Gemisch (116) zu bestimmen.Device (100) according to Claim 13 wherein the control device (150) is further configured to determine, based on the further powder quantity information signal (S3) provided by the powder diverter arrangement (160), the portion (PM2) of the powder (112) taken from the decoupling device (132) in the line arrangement (130). from the powder-gas mixture (116) to determine. Vorrichtung (100) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Pulververarbeitungseinrichtung (200) als eine Plasmaspritzeinrichtung oder Plasmadüse ausgebildet ist.Device (100) according to one of the preceding claims, wherein the powder processing device (200) is designed as a plasma spraying device or plasma nozzle. Vorrichtung (101) zur Herstellung einer Schichtstruktur (270) an einem Oberflächenbereich (262) eines Bauelements (200), mit folgenden Merkmalen: einer Vorrichtung (100) zur Förderung und Dosierung von Pulver (112) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, zum Bereitstellen von Pulverteilchen (114) an eine Plasmaspritzanordnung (200); und einer Plasmaspritzanordnung (200) mit einer Plasmaquelle (208) zum Einbringen eines Plasmas (210) in einem Prozessbereich (206), um die bereitgestellten Pulverteilchen (114) in dem Prozessbereich (206) mit dem Plasma (210) zu aktivieren, und mit einer Aufbringeinrichtung (212) zum Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen (114) auf den Oberflächenbereich (262) des Bauelements (260), um die Schichtstruktur (270) auf dem Oberflächenbereich (262) des Bauelements (260) zu erhalten.Device (101) for producing a layer structure (270) on a surface region (262) of a component (200), having the following features: a device (100) for conveying and metering powder (112) according to one of the preceding claims, for providing powder particles (114) to a plasma spraying device (200); and a plasma sprayer (200) having a plasma source (208) for introducing a plasma (210) into a process area (206) to activate the provided powder particles (114) in the process area (206) with the plasma (210); Applicator means (212) for applying the activated powder particles (114) to the surface region (262) of the device (260) to obtain the layered structure (270) on the surface region (262) of the device (260). Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur (270) an einem Oberflächenbereich (262) eines Bauelements (260), mit folgenden Schritten: Bereitstellen von Pulverteilchen in einem Prozessbereich einer Plasmaspritzeinrichtung mit der Vorrichtung (100) zur Förderung und Dosierung von Pulver (114) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15, Aktivieren der bereitgestellten Pulverteilchen (114) in einem Prozessbereich (206) einer Plasmaspritzanordnung (200) mit dem Plasma (210) einer Plasmaquelle (208), und Aufbringen der aktivierten Pulverteilchen (114) auf den Oberflächenbereich (262) des Bauelements (260), um die Schichtstruktur (270) auf dem Oberflächenbereich (262) des Bauelements (260) zu erhaltenA method for producing a layered structure (270) on a surface region (262) of a component (260), comprising the steps of: providing powder particles in a process area of a plasma spraying device with the device (100) for conveying and metering powder (114) according to one of Claims 1 to 15 Activating the powder particles (114) provided in a process area (206) of a plasma spraying arrangement (200) with the plasma (210) of a plasma source (208), and applying the activated powder particles (114) to the surface area (262) of the component (260) to obtain the layered structure (270) on the surface area (262) of the device (260)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114672804A (en) * 2022-04-26 2022-06-28 安徽中科春谷激光产业技术研究院有限公司 Continuous powder feeding device
CN116986321A (en) * 2023-08-14 2023-11-03 深圳市尚水智能股份有限公司 Powder conveying control method and related device
DE102022123552A1 (en) 2022-09-14 2024-03-14 HPL Technologies GmbH Measuring device for detecting a mass flow of a powder-gas stream
DE102022123551A1 (en) 2022-09-14 2024-03-14 HPL Technologies GmbH Powder transport device for a powder deposition welding device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3211712A1 (en) * 1981-04-01 1982-10-21 Castolin S.A., Lausanne, St. Sulpice, Vaud DEVICE FOR SUPPLYING A THERMAL SPRAYING SYSTEM WITH POWDERED SUBSTANCES
DE10234013A1 (en) * 2001-09-10 2003-06-05 Frederic Dietrich Device and method for transferring a dust, powder, granular or granular material to be conveyed from a storage container into a work or transfer container or the like. accommodation space
DE102004013153A1 (en) * 2004-03-17 2005-10-06 Itw Gema Ag Conveying powder for spray coating objects comprises producing a metered powder stream from a metered flow amount of powder per time unit and conveying the whole flow amount of powder across the flow direction

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3211712A1 (en) * 1981-04-01 1982-10-21 Castolin S.A., Lausanne, St. Sulpice, Vaud DEVICE FOR SUPPLYING A THERMAL SPRAYING SYSTEM WITH POWDERED SUBSTANCES
DE10234013A1 (en) * 2001-09-10 2003-06-05 Frederic Dietrich Device and method for transferring a dust, powder, granular or granular material to be conveyed from a storage container into a work or transfer container or the like. accommodation space
DE102004013153A1 (en) * 2004-03-17 2005-10-06 Itw Gema Ag Conveying powder for spray coating objects comprises producing a metered powder stream from a metered flow amount of powder per time unit and conveying the whole flow amount of powder across the flow direction

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Norm DIN EN 657 2005-06-00. Thermisches Spritzen - Begriffe, Einteilung; Deutsche Fassung EN 657:2005. S. 1-21 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114672804A (en) * 2022-04-26 2022-06-28 安徽中科春谷激光产业技术研究院有限公司 Continuous powder feeding device
DE102022123552A1 (en) 2022-09-14 2024-03-14 HPL Technologies GmbH Measuring device for detecting a mass flow of a powder-gas stream
DE102022123551A1 (en) 2022-09-14 2024-03-14 HPL Technologies GmbH Powder transport device for a powder deposition welding device
CN116986321A (en) * 2023-08-14 2023-11-03 深圳市尚水智能股份有限公司 Powder conveying control method and related device
CN116986321B (en) * 2023-08-14 2024-04-09 深圳市尚水智能股份有限公司 Powder conveying control method and related device

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