DE102018116693A1 - Lichtemittierende Vorrichtung - Google Patents

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Seiji Yamaguchi
Hiroshi Ito
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Abstract

Eine lichtemittierende Vorrichtung (1) weist auf: ein Basisbauteil (3); eine Isolierschicht (5), die auf einer Oberfläche des Basisbauteils (3) geschichtet ist, welche Isolierschicht (5) eine exzellente Anhaftung an einem Versiegelungsglas (9) aufweist; und ein lichtemittierendes Element (7), das auf der Isolierschicht (5) montiert ist, bei der: die Isolierschicht (5) durch direktes Zuführen eines Materials zu der Oberfläche des Basisbauteils (3) ausgebildet ist; und eine Porosität der Isolierschicht (5) 10% oder weniger ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine verbesserte lichtemittierende Vorrichtung.
  • Eine lichtemittierende Vorrichtung weist einen Substratabschnitt, ein lichtemittierendes Element, das auf einer Oberfläche des Substratabschnitts montiert ist, und einen transparenten Versiegelungsabschnitt auf, der das lichtemittierende Element bedeckt, so dass es eng/dicht an der Oberfläche des Substratabschnitts angebracht ist. In einem Fall, in dem ein Kurzwellenlängen- und Hochleistungslichtemissionselement (lichtemittierendes Element) verwendet wird, ist der Versiegelungsabschnitt wünschenswerterweise zum Verhindern, dass der Versiegelungsabschnitt verschlechtert wird und gelb wird, aus Glas gemacht ( japanisches Patent Nr. 5307364 ). Ein Glasversiegelungsabschnitt („Versiegelungsglas“ in dieser Spezifikation) und der Substratabschnitt haften zum Schützen des lichtemittierenden Elements eng/dicht an (sind eng/dicht verklebt).
  • In dem Substratabschnitt wird ein Tonerdesubstrat (Aluminiumoxidsubstrat) unter dem Gesichtspunkt eines Lichtreflexionsgrads, wirtschaftlicher Effizienz, Isolierung, Luftundurchlässigkeit und Anhaftung an dem Versiegelungsglas verwendet. Im Allgemeinen ist das Tonerdesubstrat aus einem gesinterten Körper gemacht. Andererseits muss der Substratabschnitt eine Funktion eines Abführens von Wärme (Hitze) des lichtemittierenden Elements aufweisen. Daher stellt das Tonerdesubstrat wünschenswerterweise mechanische Steifigkeit und Isolierung als ein Substrat sicher und ist so dünn wie möglich ausgebildet.
  • In der lichtemittierenden Vorrichtung der in Zusammenhang stehenden Technik ist beispielsweise in dem Tonerdesubstrat von 25 mm × 25 mm eine Mehrzahl lichtemittierender Elemente montiert, sind notwendige Verdrahtungen angeordnet, und sind die lichtemittierenden Elemente durch das Versiegelungsglas von 20 mm × 20 mm bedeckt. In einer derartigen lichtemittierenden Vorrichtung sind beispielsweise, wenn das Tonerdesubstrat die Dicke von 0,25 mm aufweist, mechanische Steifigkeit und ausreichende Wärmeabführung in dem Substratabschnitt vorgesehen.
  • Das Tonerdesubstrat wird im Allgemeinen auf einem Basisbauteil, das aus metallischem Material gemacht ist, das exzellent in einer thermischen Leitfähigkeit ist, angebracht und gehalten (siehe JP-A-2012-160534 ).
  • Ein Substratabschnitt einer gegenwärtigen lichtemittierenden Vorrichtung muss an Fläche vergrößert werden. Da der Substratabschnitt in einer großen Fläche ausgebildet ist, können viel mehr lichtemittierende Elemente montiert werden. Mit dieser Ausgestaltung wird eine Hochleistungslichtemissionsvorrichtung erhalten. Es wird in Betracht gezogen, dass eine Anzahl lichtemittierender Elemente zum Umschalten der Elemente bei der Verwendung in dem großflächigen Substratabschnitt montiert wird.
  • Dann haben die Erfinder das Tonerdesubstrat, das beispielsweise eine Dicke von 0,25 mm aufweist, das in der in Zusammenhang stehenden Technik verwendet wird, verbreitert und dementsprechend die Versiegelungsfläche unter Verwendung eines Versiegelungsglases ebenfalls verbreitert. Beispielsweise ist das Tonerdesubstrat (Dicke: 0,25 mm) in einer quadratischen Plattenform von 35 mm × 35 mm in einer Draufsicht ausgebildet und mit dem Versiegelungsglas einer quadratischen Form von 30 mm × 30 mm in einer Draufsicht bedeckt. Mit der lichtemittierenden Vorrichtung einer derartigen Ausgestaltung wird das Tonerdesubstrat aufgrund einer Differenz linearer Ausdehnungskoeffizienten (Längenausdehnungskoeffizienten) des Versiegelungsglases und des Tonerdesubstrats verbogen, wenn die lichtemittierende Vorrichtung abgekühlt wird, nachdem sie hergestellt wurde. Ferner treten Risse und Schäden auf. Der Grund dafür ist, dass eine mechanische Steifigkeit des Tonerdesubstrats unzureichend ist. Daher wird die Dicke des Tonerdesubstrats zum Verhindern des Verbiegens des Tonerdesubstrats viermal größer gemacht. Jedoch wird, da das Tonerdesubstrat unnötig dick wird, eine Wärmeabführung von dem lichtemittierenden Element unzureichend langgezogen.
  • Wenn das Versiegelungsglas ausgebildet wird, wird das Tonerdesubstrat nicht durch ein Basisbauteil abgestützt, und es ist nicht möglich, dass eine Verformung des Tonerdesubstrats, die durch die Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten des Versiegelungsglases und des Tonerdesubstrats verursacht wird, von dem Basisbauteil verhindert wird. Der Grund dafür ist, dass das Tonerdesubstrat und das Basisbauteil eine Formungs-/Gießtemperatur des Versiegelungsglases in einem Zustand, in dem das Tonerdesubstrat und das Basisbauteil angebracht sind, nicht aushalten können.
  • Die Erfinder haben zum Lösen der oben beschriebenen Probleme ernsthaft studiert und als ein Ergebnis die folgende Erfindung erreicht.
  • Gemäß einem ersten Aspekt der Offenbarung ist eine lichtemittierende Vorrichtung gemäß Anspruch 1 vorgesehen.
  • Gemäß der lichtemittierenden Vorrichtung des ersten Aspekts, die in Anspruch 1 definiert ist, wird ein Isoliermaterial, wie beispielsweise Tonerde (Aluminiumoxid), direkt der Oberfläche des Basisbauteils zum Ausbilden einer Isolierschicht, wie beispielsweise einer Tonerdeschicht, zugeführt, bevor das lichtemittierende Element montiert wird. Da das Basisbauteil ausreichende mechanische Steifigkeit aufweist, weist der Substratabschnitt, der aus einem geschichteten Körper des Basisbauteils und der Isolierschicht ausgebildet ist, auch wenn die Isolierschicht dünn ausgebildet ist, ebenfalls ausreichende mechanische Steifigkeit auf. Da das Isoliermaterial direkt der Oberfläche des Basisbauteils zugeführt wird, wird eine starke physikalische Bindung zwischen diesen zweien erhalten, und eine thermische Widerstandsfähigkeit wird ebenfalls erhalten. Daher ist es möglich, das Versiegelungsglas in Bezug auf den Substratabschnitt, der aus dem geschichteten Körper des Basisbauteils und der Isolierschicht ausgebildet ist, auszubilden.
  • Mit einer dünnen Isolierschicht ist es möglich, eine ausreichende Wärmeabführung von dem lichtemittierenden Element sicherzustellen.
  • Die Isolierschicht bedarf ebenfalls der Wärmeabführung (thermischen Leitfähigkeit), der Isolierung und der Luftundurchlässigkeit zusammen mit Anhaftung (Haftvermögen) an dem Versiegelungsglas.
  • Hierin ist die Porosität der Isolierschicht, die durch direktes Zuführen eines Isoliermaterials zu der Oberfläche des Basisbauteils ausgebildet ist, auf 10% oder weniger festgelegt, können die Wärmeabführung, die Isolierung und die Luftundurchlässigkeit zusammen sichergestellt werden.
  • Wenn die Porosität der Isolierschicht 10% überschreitet, wird ein Anteil eines Hohlraums in der Isolierschicht erhöht, wird die thermische Leitfähigkeit verringert, und wird die Luftundurchlässigkeit unzureichend. Wenn Wasser in den Hohlraum eintritt, ist die Isolierung kaum sichergestellt. Die Anhaftung an der Versiegelungsglasschicht hängt von einem Material, das für die Isolierschicht ausgewählt wird, ab. Ein linearer Ausdehnungskoeffizient des Materials der Isolierschicht ist wünschenswerterweise auf einen Wert so nahe wie möglich an jenem des Materials des Versiegelungsglases (Dichtungsglases) festgelegt.
  • Eine untere Grenze der Porosität ist nicht besonders beschränkt. Der untere Grenzwert kann auf 0,1% festgelegt sein.
  • Die Porosität wird, wie folgt, erhalten. Die Isolierschicht wird in einer vertikalen Richtung in Bezug auf das Basisbauteil geschnitten, und ein Mikrofotogramm der Schnittoberfläche wird erfasst. Das erfasste Bild wird einer Bildverarbeitung zum Integrieren der Fläche eines Raums, der in einer vorherbestimmten Fläche enthalten ist, unterworfen, und ein Anteil/Verhältnis beider Flächen wird berechnet.
  • Gemäß einem zweiten Aspekt der Offenbarung ist in der lichtemittierenden Vorrichtung des ersten Aspekts die Isolierschicht aus Tonerde gemacht, ist das Basisbauteil aus einem Material gemacht, das eine höhere thermische Leitfähigkeit als jene von Tonerde aufweist, und weist die Isolierschicht einen Abschnitt auf, der eine Maximallänge von 35 mm oder mehr in einer Draufsicht aufweist, und ist eine Filmdicke (Schichtdicke) der Isolierschicht 0,5 mm oder weniger.
  • Die Offenbarung, die in dem zweiten Aspekt definiert ist, weist die folgende Bedeutung auf. In der lichtemittierenden Vorrichtung der in Zusammenhang stehenden Technik bestehen Bedenken, dass das Tonerdesubstrat verformt oder beschädigt wird, wenn die Breite des dünnen Tonerdesubstrats für die Wärmeabführung auf 35 mm oder mehr verbreitert wird, und dementsprechend die Breite des Versiegelungsglases ebenfalls verbreitert wird. Da dieses Problem auf der Differenz des linearen Wärmeausdehnungskoeffizienten des Tonerdesubstrats und des Versiegelungsglases basiert, ist es nicht möglich, das Problem zu vermeiden, solange das Tonerdesubstrat dünn ist.
  • In der Offenbarung wird, selbst wenn der Substratabschnitt, der dieselbe Wirkungsweise wie das Tonerdesubstrat aufweist (d.h. eine dünne Isolierschicht (Dicke: 0,5 mm oder weniger) zum Sicherstellen ausreichender Wärmeabführung), auf 35 mm oder mehr verbreitert wird, und dementsprechend eine Beschichtungsfläche der Versiegelungsglasschicht vergrößert wird, die Isolierschicht nicht verformt. Der Grund dafür ist, dass Teilchen (oder Atome) der Isolierschicht auf einem Teilchenniveau (oder einem Atomniveau) an die Oberfläche des Basisbauteils gebunden werden, die Isolierschicht und das Basisbauteil in einer festeren Weise aneinander gebunden werden, und die Isolierschicht durch das Basisbauteil abgestützt wird.
  • Gemäß einem dritten Aspekt der Offenbarung ist in der lichtemittierenden Vorrichtung des zweiten Aspekts eine Dicke der Isolierschicht 0,25 mm oder weniger.
  • Ein vierter Aspekt der Offenbarung ist, wie folgt, definiert. Mit anderen Worten ist in den lichtemittierenden Vorrichtungen, die in dem zweiten oder dem dritten Aspekt definiert sind, wenn die Isolierschicht aus Tonerde gemacht ist und das Basisbauteil durch ein Aluminiumplattenbauteil ausgebildet ist, das eine gute Anhaftung (Haftvermögen) an Tonerde aufweist, eine Dicke der Aluminiumplatte auf 0,25 mm oder mehr festgelegt. Wenn die Dicke geringer als 0,25 mm ist, wird die mechanische Steifigkeit des Basisbauteils unzureichend. Daher bestehen Bedenken, dass selbst das Basisbauteil durch eine Spannung, die durch die Differenz der linearen Ausdehnungskoeffizienten des Versiegelungsglases und der Isolierschicht verursacht wird, verformt wird. Die Dicke der Aluminiumplatte ist wünschenswerterweise auf 1 bis 30 mm festgelegt.
  • Eine Maximallänge des Basisbauteils ist auf 35 mm oder mehr festgelegt, und eine Maximallänge des Versiegelungsglases ist unter Berücksichtigung der Beziehung zwischen dem Basisbauteil und dem Versiegelungsglas auf 28 mm oder mehr festgelegt.
  • Die vorliegende Offenbarung wird aus der detaillierten Beschreibung, die hierin unten angegeben ist, und den beigefügten Zeichnungen, die lediglich veranschaulichenderweise angegeben sind und somit für die vorliegende Erfindung nicht beschränkend sind, vollständig verstanden, bei denen:
    • 1A bis 1C Ansichten sind, die eine Ausgestaltung einer lichtemittierenden Vorrichtung 1 einer Ausführungsform der Offenbarung darstellen, bei denen 1A eine Draufsicht ist, 1B eine Vorderansicht ist, und 1C eine Seitenansicht ist;
    • 2A und 2B Ansichten sind, die eine Ausgestaltung einer lichtemittierenden Vorrichtung 11 einer anderen Ausführungsform der Offenbarung darstellen, bei denen 2A eine Draufsicht ist und 2B eine Vorderansicht ist; und
    • 3A bis 3C Ansichten sind, die eine lichtemittierende Vorrichtung 21 noch einer anderen Ausführungsform der Offenbarung darstellen, bei denen 3A eine Draufsicht ist, 3B eine Vorderansicht ist, und 3C eine Seitenansicht ist.
  • Als Nächstes werden Ausführungsformen der Offenbarung beschrieben. Eine lichtemittierende Vorrichtung 1 einer Ausführungsform weist ein Basisbauteil 3, eine Isolierschicht (isolierende Schicht, Isolationsschicht) 5, lichtemittierende Elemente 7 und ein Versiegelungsglas 9 auf, wie in 1A bis 1C dargestellt ist. Das Basisbauteil 3 und die Isolierschicht 5 stellen einen Substratabschnitt 6 dar.
  • Jegliches Material des Basisbauteils 3 kann ausgewählt werden, solange das Material eine gute thermische Leitfähigkeit aufweist. Beispielsweise kann ein metallisches Material, wie beispielsweise Aluminium, Kupfer, Stahl oder eine Legierung davon verwendet werden. Ein anorganisches Material, wie beispielsweise Aluminiumnitrid, kann verwendet werden. Zum Erhöhen einer hohen Wärmestrahlung ist die hintere Oberfläche (eine Oberfläche entgegengesetzt zu den lichtemittierenden Elementen 7) des Basisbauteils 3 an Fläche (Wärmestrahlungsoberfläche) breit (großflächig) gemacht. Beispielsweise können Lamellen vorgesehen sein.
  • In dem Basisbauteil 3 ist als ein Substratabschnitt der lichtemittierenden Vorrichtung 1 ausreichende mechanische Steifigkeit erforderlich. Die mechanische Steifigkeit bedeutet Steifigkeit, die für die lichtemittierende Vorrichtung 1 zum Ausüben ihrer eigenen Funktion unter den Verwendungsumgebungen der lichtemittierenden Vorrichtung 1 notwendig ist, und bedeutet auch mechanische Steifigkeit zum Verhindern einer Verformung, die durch eine Differenz eines linearen Ausdehnungskoeffizienten von anderen Bauteilen verursacht wird. Eine Dicke und eine Struktur können beliebig gemäß einem Material zum Sicherstellen der mechanischen Steifigkeit ausgewählt werden.
  • Eine Form des Basisbauteils wird gemäß einer Verwendung und einem Zweck der lichtemittierenden Vorrichtung beliebig ausgewählt. Ein Durchgangsloch kann vorgesehen sein.
  • Die Isolierschicht 5 ist in der Gesamtheit oder einem Teil der Oberfläche des Basisbauteils 3 ausgebildet.
  • In dem Beispiel von 1A bis 1C ist die Isolierschicht 5 in einer Bandform in nahezu/annähernd dem Mittelabschnitt der Oberfläche des Basisbauteils 3 ausgebildet.
  • In diesem Beispiel wird Tonerde als ein Material der Isolierschicht 5 verwendet, aber das Material ist nicht darauf beschränkt. Jegliches Material kann verwendet werden, solange das Material als eine Basisschicht einer LED verwendet wird. Als ein anderes Material der Isolierschicht 5 können Aluminiumnitrid, Yttererde/Yttriumoxid, Zirkonerde und Titanoxid/Titandioxid verwendet werden.
  • Eine Dicke der Isolierschicht 5 ist wünschenswerterweise so dünn wie möglich innerhalb eines Bereichs ausgebildet, in dem die Isolierung sichergestellt ist. Beispielsweise kann die Dicke 0,01 mm bis 0,50 mm sein. Vorzugsweise ist die Dicke 0,05 mm bis 0,25 mm.
  • Die Isolierschicht 5 einer Filmform (Folienform) ist durch direktes Zuführen eines Materials auf die Oberfläche des Basisbauteils 3 ausgebildet. Als ein derartiges Ausbildungsverfahren gibt es wohlbekannte Schichtungs-/Stapelungstechniken, wie beispielsweise Sprühbeschichtung, Aufdampfung, Sputtern, Kalt-Sputtern und elektrochemische Bearbeitung auf einer Metalloberfläche oder Filmtechniken. Eine Maske wird in einem beliebigen Abschnitt der Oberfläche des Basisbauteils 3 zum Ausbilden der Isolierschicht 5 verwendet.
  • In der somit ausgebildeten Isolierschicht 5 sind Teilchen (oder Atome) in der Oberfläche des Basisbauteils 3 kombiniert. Daher ist eine hohe thermische Widerstandsfähigkeit zusammen mit einer hohen mechanischen Festigkeit vorgesehen.
  • Wenn eine Porosität der Isolierschicht 5 auf 10% oder weniger festgelegt ist, wird eine hohe thermische Leitfähigkeit in der Isolierschicht 5 erreicht, und eine Isolierung und Luftundurchlässigkeit werden sichergestellt.
  • Eine Form der Isolierschicht 5, d.h. eine Beschichtungsform des Basisbauteils 3 kann gemäß der Verwendung der lichtemittierenden Vorrichtung 1 beliebig ausgestaltet werden.
  • Die lichtemittierenden Elemente 7 sind in der Isolierschicht 5 montiert. Als das lichtemittierende Element 7 kann ein weißlichtemittierendes Element eines sogenannten Leuchtstoffverfahrens eingesetzt werden, in dem eine Lichtemissionsoberfläche eines ultraviolettlichtemittierenden LED-Chips mit einer Wellenlängenumwandlungsschicht beschichtet wird. Selbstverständlich kann eine Lichtemissionsfarbe beliebig ausgewählt werden, und es gibt keine Notwendigkeit, das gesamte lichtemittierende Element 7, das in der Isolierschicht 5 montiert ist, mit derselben Spezifikation auszubilden.
  • Jegliches Oberflächenmontageverfahren, wie beispielsweise ein Flip-Chip-Verfahren und ein Vorderseite-nach-oben-Verfahren, kann als ein Montageverfahren des lichtemittierenden Elements 7 eingesetzt werden.
  • Eine wohlbekannte Verdrahtung ist in der Isolierschicht 5 zum Zuführen notwendiger Leistung (Strom) zu dem lichtemittierenden Element 7 ausgebildet.
  • Jegliches Glasmaterial des Versiegelungsglases 9 kann ausgewählt werden, solange ein Glasübergangspunkt niedriger als eine Hitzebeständigkeitstemperatur des lichtemittierenden Elements 7 ist. Beispielsweise kann ZnO-B2O3-SiO2 eingesetzt werden. Ein Glas, das in dem Versiegelungsglas 9 verwendet wird, ist ein Glas, das durch Erhitzen in einem Erweichungszustand ausgebildet wird, und unterscheidet sich von einem Glas, das durch ein Sol-Gel-Verfahren ausgebildet wird. In dem Sol-Gel-Glas tritt eine große Volumenänderung zu der Zeit eines Ausbildens auf. Ferner werden leicht Risse erzeugt, und es ist schwierig, einen dicken Glasfilm auszubilden. Daher kann das Problem vermieden werden, wenn das Glas durch Hitze erweicht wird und mit der Isolierschicht 5 verschmolzen wird. Während das Sol-Gel-Glas Bedenken wegen einer Verschlechterung in einer Luftundurchlässigkeit aufgrund kleiner Hohlräume darin aufweist, weist das Glas der Ausführungsform kein Problem beim sicheren Versiegeln des lichtemittierenden Elements 7 auf.
  • Ein linearer Ausdehnungskoeffizient des Materials des Versiegelungsglases 9 ist wünschenswerterweise auf einen Wert so nahe wie möglich an jenem der Isolierschicht 5 oder des Basisbauteils 3 festgelegt.
  • Eine erste Ausführungsform der Offenbarung wird in Bezug auf 1A bis 1C beschrieben.
  • Eine Oberfläche des Basisbauteils 3, das aus einer Aluminiumplatte in einer rechteckigen Form (eine Dicke von 10 mm und eine Seite von 50 mm) in einer Draufsicht ausgebildet ist, wird einer Oberflächenbehandlung unterworfen (ein Oberflächenbehandlungvorgang ist eine Sprühbeschichtung). Eine Lamelle kann in der hinteren Oberfläche des Basisbauteils 3 ausgebildet sein, in dem die Dicke einschließlich der Lamelle 10 mm ist. In diesem Fall kann eine Dicke einer rechteckigen Deckplatte 1,2 mm sein.
  • In einem Abschnitt zwischen den gegenüberliegenden Seiten in der Oberfläche des Basisbauteils 3, und vorzugsweise in dem mittleren Abschnitt, ist die Tonerdeisolierschicht 5 einer Breite von 30 mm zwischen den gegenüberliegenden Seiten in einer Filmform von 0,05 mm Dicke durch ein Dichtsprühverfahren ausgebildet. Mit anderen Worten, eine maximale Breite der Isolierschicht 5 ist 50 mm. Man kann aus einem Mikrofotogramm eines vertikalen Querschnitts der erhaltenen Isolierschicht 5 sehen, dass die Porosität der Isolierschicht 5 3% ist.
  • Verdrahtungen sind in der Isolierschicht 5 vorgesehen, und die lichtemittierenden Elemente 7 sind in einem gleichmäßigen Abstand durch ein Flip-Chip- Verfahren montiert.
  • Eine Breite „b“ der Isolierschicht 5 und eine Breite „a“ des lichtemittierenden Elements 7 erfüllen wünschenswerterweise eine Beziehung von b > 2a.
  • Diese Beziehung dient zum Sicherstellen von Anhaftung zwischen einem Versiegelungsmaterial und dem Substrat (Isolierfilm).
  • Ein Niederschmelzpunktglas (zinkoxidbasiertes Glas) wird für das Versiegelungsglas 9 verwendet. Eine Breite „c“ des Versiegelungsglases 9 ist auf 20 mm festgelegt, ein 10 mm-Rand (nicht beschichtete Fläche) ist zwischen Kanten der Isolierschicht 5 vorgesehen.
  • Eine Höhe des Isolierglases 9 ist auf 0,7 mm festgelegt.
  • In der lichtemittierenden Vorrichtung 1 der Ausführungsform gibt es, auch wenn die dünne Isolierschicht 5 in einer Breite breit gemacht ist und das Versiegelungsglas 9 darauf breit ausgebildet ist, keine Verformung in dem Substratabschnitt 6. Eine Temperatur eines Ausbildens des Versiegelungsglases 9 ist auf 600°C festgelegt. Nach dem Ausbilden wird das Versiegelungsglas 9 in der Atmosphäre gelassen, so dass es natürlich bestrahlt wird/abstrahlt.
  • Gemäß den Studien der Erfinder ist, wenn die Porosität der Isolierschicht 5 10% überschreitet, die Luftundurchlässigkeit nicht sichergestellt. Es bestehen Bedenken, dass die Isolierung verschlechtert wird, wenn Wasser in einen Hohlraum eintritt. Wenn ein Sprühverfahren als ein Verfahren zum Ausbilden der Isolierschicht durch direktes Zuführen eines Materials der Isolierschicht zu der Oberfläche des Basisbauteils 3 eingesetzt wird, ist die Porosität der erhaltenen Isolierschicht 5% oder weniger.
  • Nachfolgend wird eine andere Ausführungsform der Offenbarung beschrieben. Dieselben Elemente wie jene der Ausführungsform von 1A bis 1C werden mit denselben Symbolen versehen, und die Beschreibungen werden weggelassen.
  • In der lichtemittierenden Vorrichtung 11, die in 2A und 2B dargestellt ist, wird eine Dicke einer Isolierschicht 15 beibehalten, eine Beschichtungsbreite bzw. -länge wird reduziert. Eine Maximallänge ist 35 mm. Dementsprechend wird die Breite bzw. Länge des Versiegelungsglases 19 ebenfalls reduziert.
  • Selbst in der lichtemittierenden Vorrichtung der Ausführungsform gibt es keinen Schaden in dem Substratabschnitt 6.
  • In der lichtemittierenden Vorrichtung 21, die in 3A bis 3C dargestellt ist, ist eine Dicke einer Isolierschicht 25 in einer Steigungsform vorgesehen. In einem Fall, in dem die Filmdicke in der Steigungsform vorgesehen ist, wird wünschenswerterweise die Sprühbeschichtung durchgeführt. Mit anderen Worten, die Dicke der Isolierschicht 25 des Mittelabschnitts wird auf dieselbe, wie in 1A bis 1C dargestellt ist, festgelegt, und die Dicke wird graduell dünn gemacht, wenn es zu der Seite geht. Mit dieser Ausgestaltung wird eine Verwindung, die zwischen der Isolierschicht und dem Basisbauteil verursacht wird, reduziert.
  • Selbst in der lichtemittierenden Vorrichtung der Ausführungsform gibt es keinen Schaden in dem Substratabschnitt 6.
  • Die Elemente der verschiedenen Ausführungsformen und Abwandlungen der oben beschriebenen Offenbarung können außer in einem nicht realisierbaren Fall miteinander kombiniert werden, und derartige Ausführungsformen sind ebenfalls in dem Umfang der Erfindung enthalten.
  • Die Erfindung ist nicht auf irgendeine der Erläuterungen der Aspekte, Ausführungsformen und Abwandlungen der Erfindung beschränkt. Verschiedene Abwandlungen in einem leicht erdenklichen Umfang gemäß dem Wissen einer Fachperson können ebenfalls in der Erfindung enthalten sein, ohne von dem Umfang der Ansprüche abzuweichen.
  • Es wird explizit erklärt, dass alle Merkmale, die in der Beschreibung und/oder den Ansprüchen offenbart sind, dazu bestimmt sind, separat und unabhängig voneinander sowohl für den Zweck der ursprünglichen Offenbarung als auch für den Zweck der Beschränkung der beanspruchten Erfindung unabhängig von der Zusammenstellung der Merkmale in den Ausführungsformen und/oder den Ansprüchen offenbart zu werden. Es wird explizit erklärt, dass alle Wertebereiche oder Angaben von Gruppen von Objekten jeden möglichen Zwischenwert oder jedes mögliche dazwischen liegende Objekt sowohl für den Zweck der ursprünglichen Offenbarung als auch für den Zweck der Beschränkung der beanspruchten Erfindung, insbesondere zur Bestimmung der Grenzen von Wertebereichen offenbaren.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 5307364 [0002]
    • JP 2012160534 A [0005]

Claims (4)

  1. Lichtemittierende Vorrichtung (1) mit: einem Basisbauteil (3); einer Isolierschicht (5), die auf einer Oberfläche des Basisbauteils (3) geschichtet ist, welche Isolierschicht (5) eine exzellente Anhaftung an einem Versiegelungsglas (9) aufweist; und einem lichtemittierenden Element (7), das auf der Isolierschicht (5) montiert ist, bei der: die Isolierschicht (5) durch direktes Zuführen eines Materials zu der Oberfläche des Basisbauteils (3) ausgebildet ist; und eine Porosität der Isolierschicht (5) 10% oder weniger ist.
  2. Lichtemittierende Vorrichtung (1) nach Anspruch 1, bei der: die Isolierschicht (5) aus Tonerde gemacht ist; das Basisbauteil (3) aus einem Material gemacht ist, das eine höhere thermische Leitfähigkeit als jene von Tonerde aufweist; und die Isolierschicht (5) einen Abschnitt aufweist, der eine Maximallänge von 35 mm oder mehr in einer Draufsicht aufweist, und eine Filmdicke der Isolierschicht (5) 0,5 mm oder weniger ist.
  3. Lichtemittierende Vorrichtung (1) nach Anspruch 1 oder 2, bei der eine Dicke der Isolierschicht (5) 0,25 mm oder weniger ist.
  4. Lichtemittierende Vorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der das Basisbauteil (3) aus Aluminium gemacht ist und eine Dicke von 0,25 mm oder mehr aufweist.
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