DE102017200636A1

DE102017200636A1 - Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, mit einer Transportsicherung

Info

Publication number: DE102017200636A1
Application number: DE102017200636.6A
Authority: DE
Inventors: Ralf Zweering; Steffen Fritzsche; Hendrik Wagner; Florian Ahles; Jens Prochnau; Michael Erath; Viktor Kulitzki; Marwene Nefzi
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2017-01-17
Filing date: 2017-01-17
Publication date: 2018-07-19
Also published as: WO2018134021A1; TWI781981B; US10761436B2; CN110337613A; CN110337613B; KR102501002B1; TW201841067A; US20190339625A1; KR20190102285A

Abstract

Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, beispielsweise ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13), insbesondere einen Spiegel, sowie mindestens einen Anschlag (20) mit mindestens einer Anschlagfläche (21a,b) zur Begrenzung der Bewegung der zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19). Bei einem Aspekt der Erfindung weist die optische Anordnung, bevorzugt der Anschlag (20), eine Fixiereinrichtung (23) zur Fixierung der zweiten Komponente (13) auf, die mindestens ein relativ zur Anschlagfläche (21a,b) des Anschlags (20) bewegbares Fixierelement (24) umfasst. Weitere Aspekte der Erfindung betreffen ebenfalls eine optische Anordnung mit einer Fixiereinrichtung bzw. mit einer Transportsicherung.

Description

Hintergrund der Erfindung
Ein Aspekt der Erfindung betrifft eine Vorrichtung, beispielsweise ein Lithographiesystem, insbesondere ein EUV-Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente, insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente bewegliche zweite Komponente, insbesondere einen Spiegel, sowie mindestens einen Anschlag mit mindestens einer Anschlagfläche zur Begrenzung der Bewegung der zweiten Komponente relativ zur ersten Komponente.
Unter einem Lithographiesystem wird im Sinne dieser Anmeldung ein optisches System bzw. eine optische Anordnung verstanden, welche bzw. welches auf dem Gebiet der Lithographie eingesetzt werden kann. Neben einer Lithographieanlage, die zur Herstellung von Halbleiterbauelementen dient, kann es sich bei dem optischen System beispielsweise um ein Inspektionssystem zur Inspektion einer in einer Lithographieanlage verwendeten Photomaske (im Folgenden auch Retikel genannt), zur Inspektion eines zu strukturierenden Halbleitersubstrats (im Folgenden auch Wafer genannt) oder um ein Metrologiesystem handeln, welches zur Vermessung einer Lithographieanlage oder von Teilen davon, beispielsweise zur Vermessung eines Projektionssystems, eingesetzt wird. Bei der optischen Anordnung bzw. bei dem Lithographiesystem kann es sich insbesondere um ein EUV-Lithographiesystem handeln, welches für Nutzstrahlung bei Wellenlängen im EUV-Wellenlängenbereich zwischen ca. 5 nm und ca. 30 nm ausgebildet ist.
Nachfolgend wird häufig von einer beweglichen (zweiten) Komponente bzw. einem bewegten/beweglichen Objekt in Form eines Spiegels, insbesondere eines EUV-Spiegels, gesprochen. Grundsätzlich kann es sich bei der beweglichen Komponente aber auch um ein beliebiges anderes Objekt bzw. um eine beliebige andere Komponente bzw. Baugruppe handeln, z.B. um optische Elemente wie Linsen oder Prismen, um Wafer-Stages, Teile von Werkzeugmaschinen, um weitere Tragrahmen bzw. Tragstrukturen für optische oder nicht-optische Komponenten, etc.
Bei der ersten Komponente kann es sich beispielsweise um einen Tragrahmen (so genannter „force frame“) der optischen Anordnung handeln, welcher im Wesentlichen alle auf die optische Anordnung wirkenden Kräfte aufnimmt. Die bewegliche Komponente ist typischerweise bezüglich des Tragrahmens gefedert gelagert bzw. mechanisch von diesem entkoppelt, so dass idealer Weise keine Kräfte bzw. Vibrationen von dem Tragrahmen auf die bewegliche Komponente übertragen werden. Bei der ersten Komponente kann es sich aber auch um eine andere Komponente handeln, beispielsweise um ein Trägerbauteil, das bezüglich des Tragrahmens der optischen Anordnung gefedert gelagert bzw. mechanisch von diesem entkoppelt ist.
Bei einer EUV-Lithographieanlage, speziell bei einem EUV-Objektiv zur Abbildung einer Maske auf ein lichtempfindliches Substrat, ist die Empfindlichkeit der Abbildungsqualität hinsichtlich der Verformung von optischen Oberflächen von EUV-Spiegeln besonders groß. Unter der Annahme, dass das optische Design eines solchen Objektivs auf ca. 10 mλ korrigiert ist, wobei λ die Betriebswellenlänge bezeichnet, folgt bei einer Betriebswellenlänge λ von ca. 13,5 nm ein maximal erlaubter Wellenfrontfehler von ca. 135 pm. Dies bedeutet, dass eine Verformung der Oberfläche eines EUV-Spiegels von ca. 50 pm bereits eine signifikante Wellenfrontänderung zur Folge hat. Daher werden EUV-Spiegel im Betrieb einer EUV-Lithographieanlage bzw. eines EUV-Objektivs in eine Art schwebenden Zustand versetzt, so dass die an dem EUV-Spiegel angreifenden Kräfte und Momente möglichst klein werden. Dieser schwebende bzw. mechanisch von der Umgebung entkoppelte Zustand hat zur Folge, dass die EUV-Spiegel zwischen ihren Endlagen, die typischerweise durch End-Anschläge definiert werden, effektiv frei fliegen und mit den End-Anschlägen kollidieren können. Besonders bei einem Transport einer EUV-Lithographieanlage, aber auch bei einem Erdbeben kann dies zu Beschädigungen an den EUV-Spiegeln oder an anderen Komponenten führen.
Bei herkömmlichen EUV-Objektiven wird dieses Problem dadurch gelöst, dass diese beim Transport auf den Kopf gedreht werden. In diesem Fall addieren sich die Kräfte, die in der Betriebslage des EUV-Objektivs bzw. der EUV-Lithographieanlage eine Gewichtskompensation bewirken und zu einem schwebenden Zustand der EUV-Spiegel führen, sowie die Gewichtskräfte der Spiegel zu einer Gesamtkraft bzw. Gesamtbeschleunigung, die in etwa dem Doppelten der Erdbeschleunigung (2 g) entspricht. Auf diese Weise liegen die Spiegel bis zu einer Beschleunigung in der Größenordnung von 2 g in der Regel fest in ihren vertikalen Endlagen. Bei höheren Beschleunigungen können die EUV-Spiegel jedoch die Endlagen verlassen und wieder zwischen den Endlagen frei liegen, d.h. die Fixierung der EUV-Spiegel ist bezüglich der verkraftbaren Schocklasten limitiert. Bei zukünftigen EUV-Objektiven sind ggf. die EUV-Spiegel so groß und schwer, dass ein Umdrehen des EUV-Objektivs nicht mehr sinnvoll bzw. möglich ist.
Aus der DE 10 2012 212 503 A1 ist eine Lithographieanlage bekannt geworden, welche eine erste Komponente und eine zweite Komponente sowie eine Kopplungseinrichtung aufweist, um die erste Komponente und die zweite Komponente miteinander zu koppeln. Die Lithographieanlage weist eine Erfassungseinrichtung zur Erfassung einer Bewegung eines Bodens auf, auf dem die Lithographieanlage steht, sowie eine Steuereinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, die Kopplungseinrichtung in Abhängigkeit von der erfassten Bewegung des Bodens anzusteuern, um eine Bewegung der zweiten Komponente relativ zur ersten Komponente zu begrenzen. Die Kopplungseinrichtung kann zu diesem Zweck mindestens einen verstellbaren Endanschlag aufweisen. Der verstellbare Endanschlag kann in Anlage mit einer zweiten Komponente in Form eines Spiegels gebracht werden, um eine formschlüssige Fixierung des Spiegels gegenüber einer ersten Komponente in Form eines Tragrahmens zu erzielen. Durch die Fixierung soll eine Beschädigung des Spiegels bei einem Schock bzw. bei einer Erschütterung durch ein Erdbeben vermieden werden.
In der DE 10 2014 215 159 A1 ist eine Optikanordnung mit mindestens einem optischen Element und mit einem Träger beschrieben, auf dem das optische Element relativ zu dem Träger bewegbar angeordnet ist. Eine Fixiereinrichtung, mit der das optische Element ortsfest zum Träger fixiert werden kann, weist mindestens einen Aktuator aus einer Formgedächtnislegierung auf. Die Fixiereinrichtung ist als Transportsicherung ausgebildet, welche das optische Element ortsfest zum Träger fixiert, wenn das optische Element nicht verwendet wird.
In der DE 10 2011 087 389 A1 ist ein Positioniersystem mit einem Anschlag für ein Bauteil, beispielsweise für ein optisches Element, beschrieben, wobei der Anschlag die Bewegungsbahn des Bauteils begrenzt und verstellbar ausgebildet ist. Der Anschlag kann so verstellt werden, dass der Abstand des Bauteils von einer Anschlagfläche des Anschlags in einem vordefinierten Bereich gehalten wird.
Aufgabe der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es, eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, bereitzustellen, die ausgebildet ist, die Beschädigung beweglicher Komponenten beim Transport der optischen Anordnung möglichst zu minimieren.
Gegenstand der Erfindung
Diese Aufgabe wird gemäß einem ersten Aspekt gelöst durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art, bei welcher die optische Anordnung, bevorzugt der Anschlag, eine Fixiereinrichtung zur Fixierung der zweiten Komponente aufweist, die mindestens ein relativ zur Anschlagfläche des Anschlags bewegbares Fixierelement umfasst.
Die Fixierung der relativ zur ersten Komponente beweglichen zweiten Komponente mit Hilfe der Fixiereinrichtung erfolgt derart, dass die zweite Komponente sich praktisch nicht (mehr) relativ zur ersten Komponente bewegen kann. Die Anschlagfläche bzw. der Anschlag kann starr mit der ersten Komponente verbunden sein, ggf. kann der Anschlag bzw. die Anschlagfläche aber auch an der zweiten Komponente angebracht bzw. starr mit dieser verbunden sein. Zur Bewegung der zweiten Komponente relativ zur ersten (im Folgenden als ortsfest angenommenen) Komponente kann die optische Anordnung einen oder mehrere Aktuatoren aufweisen, welche auf die zweite Komponente einwirken, um diese zu bewegen, beispielsweise um diese zu verschieben oder zu drehen bzw. zu verkippen.
Im Folgenden wird typischerweise davon ausgegangen, dass die zweite Komponente z.B. mit Hilfe von Aktuatoren relativ zur (ortsfesten) ersten Komponente beweglich ist, so dass die zweite Komponente auch als bewegliche Komponente bezeichnet wird. Dies ist aber nicht zwingend der Fall, d.h. an Stelle der zweiten Komponente kann ggf. die erste Komponente mit Hilfe von Aktuatoren bewegbar sein. Auch können beide Komponenten relativ zu einem ortsfesten Koordinatensystem bewegbar gelagert sein, beispielsweise wenn es sich bei den beiden Komponenten um zwei Tragstrukturen, beispielsweise um zwei Trag-Rahmen der optischen Anordnung handelt.
Bevorzugt ist die Fixiereinrichtung bzw. das Fixierelement ein Bestandteil des Anschlags, d.h. das Fixierelement und der Anschlag wirken typischerweise im Wesentlichen an derselben Stelle bzw. in einem (im Wesentlichen) zusammenhängenden Oberflächenbereich auf die bewegliche zweite Komponente ein. Die Kombination des (End-)Anschlags mit der Fixiereinrichtung bzw. dem Fixierelement, welches die bewegliche Komponente für den Transport der optischen Anordnung fixiert, bietet eine Vielzahl von Vorteilen: Einerseits wird die Zugänglichkeit der optischen Anordnung an deutlich weniger Stellen benötigt als bei einer Lösung, bei welcher die Fixiereinrichtung und der Anschlag räumlich getrennt angeordnet sind, andererseits lassen sich hierdurch auch die Anzahl der Schnittstellen bzw. der Oberflächenbereiche an der beweglichen Komponente minimieren, begrenzen bzw. für beide Funktionen nutzen.
Im Normal-Betrieb der optischen Anordnung hat die bewegliche Komponente typischerweise keinen Kontakt mit dem Anschlag, d.h. weder mit der Anschlagfläche noch mit dem Fixierelement des Anschlags. Während des Transports kann die Transportsicherungsfunktion durch die in den (End-)Anschlag integrierte Fixiereinrichtung, genauer gesagt durch das Fixierelement gewährleistet werden, welches im Transportfall die bewegliche Komponente, beispielsweise in Form eines Spiegels, fixiert. Hierbei kann die bewegliche Komponente gegen ein ortsfestes Bauteil, z.B. gegen den Tragrahmen, oder ggf. gegen andere (End-)Anschläge verklemmt oder ggf. formschlüssig fixiert werden.
Alternativ zur Kombination des Fixierelements bzw. der Fixiereinrichtung mit dem Anschlag ist es auch möglich, den Anschlag und das Fixierelement bzw. die Fixiereinrichtung räumlich zu separieren. In diesem Fall kann die Fixiereinrichtung beispielsweise einen Aktuator zur Bewegung des Fixierelements in eine Fixierstellung aufweisen, in der das Fixierelement in einem ersten Oberflächenbereich gegen die bewegliche Komponente andrückt, der von einem zweiten Oberflächenbereich räumlich getrennt ist, an dem die Anschlagfläche des Anschlags z.B. bei einem Schock gegen die bewegliche Komponente andrückt. In diesem Fall kann die Fixierung der beweglichen Komponente beispielsweise dadurch erfolgen, dass die Fixiereinrichtung die bewegliche Komponente in der Fixierstellung gegen die (ortsfesten) Anschläge bzw. gegen deren Anschlagflächen andrückt und diese festklemmt. Bei geeigneter Wahl der Kraftrichtung, die das Fixierelement auf die bewegliche Komponente ausübt, kann ggf. ein einziges Fixierelement ausreichend sein, um die bewegliche Komponente als Ganzes zu fixieren bzw. festzuklemmen.
Als Aktuator zur Bewegung des Fixierelements kann beispielsweise ein Druckzylinder dienen, der über eine Variation des Drucks in einer Zuleitung des Druckzylinders verfahren werden kann. Der verfahrende Druckzylinder kann auf ein Fixierelement beispielsweise in der Art eines Fixierbolzens einwirken, um die bewegliche Komponente zu fixieren. Über den gleichen Mechanismus, d.h. über den Druckzylinder, kann die bewegliche Komponente wieder freigegeben werden. An Stelle eines pneumatischen Aktuators kann auch ein elektromechanischer Aktuator auf das Fixierelement einwirken, beispielsweise ein Elektromotor oder ein Relais (Elektromagnet), um das Fixierelement von der Fixierstellung in die Betriebsstellung und umgekehrt zu bewegen. Auch eine Formgedächtnislegierung kann dazu verwendet werden, um einen einfachen und kostengünstigen „Elektromotor“ zu bilden, der als Aktuator für ein mechanisches Fixierelement oder ggf. selbst als Fixierelement dienen kann. Beispielsweise kann zu diesem Zweck durch einen Draht aus einer Formgedächtnislegierung ein elektrischer Strom geleitet werden, welcher bewirkt, dass der Draht versucht, wieder seine ursprüngliche Form einzunehmen.
Das Fixierelement kann auf die zweite, bewegliche Komponente mit einer direkten oder indirekten Krafteinwirkung einwirken. Bei der direkten Krafteinwirkung verlaufen bei dem zur Fixierung verwendeten Mechanismus die Zuführ- bzw. die Fixierrichtung und die Richtung der aufzunehmenden Schockkräfte parallel. Bei einer indirekten Kraftaufnahme stehen die aufzunehmenden Schockkräfte hingegen senkrecht zur Zuführ- bzw. zur Fixierrichtung.
Alternativ zur oben beschriebenen Ausführung der Transportsicherung, bei welcher die Komponente in einer vorgegebenen Position gepresst bzw. verklemmt wird und permanent ein bestimmter Druck auf die (fixierte) Komponente ausgeübt wird, ist auch eine Transportsicherung bzw. eine Fixierung möglich, bei der lediglich eine starke Begrenzung des Bewegungsbereichs der beweglichen Komponente erfolgt, um eine Bewegung der beweglichen Komponente zu minimieren, bei der aber „in Ruhe“, d.h. in der fixierten Stellung, keine Kräfte auf die bewegliche Komponente ausgeübt werden. In diesem Fall liegt das Fixierelement in der Fixierstellung ggf. nicht mit einer Fixierfläche vollständig an der beweglichen Komponente an, sondern ist in der Fixierstellung in einem geringen Abstand von z.B. weniger als ca. 10 µm von der beweglichen Komponente beabstandet. Auf diese Weise wird durch das Fixierelement in der Fixierstellung die Bewegungsmöglichkeit der beweglichen Komponente auf ein Minimum beschränkt, was ggf. ausreichend ist, um eine Beschädigung der zweiten Komponente beim Transport zu verhindern. In der Betriebsstellung ist das Fixierelement typischerweise weiter von der beweglichen Komponente beabstandet als in der Fixierstellung, um die Bewegungsmöglichkeit der zweiten Komponente nicht unnötig einzuschränken.
Bei einer Weiterbildung ist das Fixierelement insbesondere manuell zwischen einer Fixierstellung, in der das Fixierelement (mit einer Fixierfläche) an der zweiten Komponente anliegt, und einer Betriebsstellung bewegbar, in der das Fixierelement von der ersten Komponente (weiter) beabstandet ist. Unter dem Anliegen des Fixierelements an der zweiten Komponente wird im Sinne dieser Anmeldung eine Berührung, d.h. ein in der Regel flächiger Kontakt, zwischen dem Fixierelement und der zweiten Komponente oder die Anordnung des Fixierelements bzw. dessen Fixierfläche in einem geringen Abstand von weniger als ca. 10 µm vor der beweglichen Komponente verstanden (s.o.). In beiden Fällen kann durch das Bewegen des Fixierelements in die Fixierstellung der Anschlag als Transportsicherung genutzt werden. Das Fixierelement wird zu diesem Zweck von der Betriebsstellung in die Fixierstellung bewegt. Die Bewegung des Fixierelements von der Betriebsstellung, in welcher die Komponente relativ zu dem Tragrahmen bewegt werden kann, in die Fixierstellung (und umgekehrt) kann beispielsweise manuell erfolgen, z.B. indem das Fixierelement ggf. unter Verwendung von Fixierschrauben oder unter Zuhilfenahme eines Werkzeuges, z.B. mit Hilfe eines Stabes oder dergleichen bewegt bzw. verschoben wird.
Bei einer Weiterbildung weist die optische Anordnung bzw. der Anschlag mindestens einen Aktuator zur Bewegung des Fixierelements zwischen der Fixierstellung und der Betriebsstellung auf. Bei dem Aktuator zur Bewegung des Fixierelements kann es sich beispielsweise um einen Piezo-Aktuator handeln, aber auch andere Antriebskonzepte, beispielsweise die Verwendung von elektromotorischen Antrieben etc. ist möglich.
Bei einer Ausführungsform weist der Anschlag einen stabförmigen Abschnitt mit einem Kopfbereich auf, an dem mindestens eine Anschlagfläche gebildet ist und das Fixierelement ist in Längsrichtung des stabförmigen Abschnitts verschiebbar geführt. Die bzw. eine Anschlagfläche des Anschlags kann an dem Kopfbereich beispielsweise stirnseitig angebracht sein oder an dem Kopfbereich umlaufen. Der Kopfbereich kann eine Dämpfungseinrichtung, beispielsweise in Form von einer oder mehreren Elastomer-Elementen aufweisen, die in dem Kopfbereich an dem typischerweise metallischen stabförmigen Abschnitt gebildet sind. Die Anschlagflächen sind in diesem Fall an den dämpfenden Elastomer-Elementen gebildet, um den Aufprall der beweglichen Komponente gegen die Anschlagfläche bei einer plötzlichen Erschütterung, z.B. bei einem Erdbeben, zu dämpfen.
Bei einer Weiterbildung umgibt das Fixierelement, insbesondere zumindest dessen Fixierfläche, den stabförmigen Abschnitt des Anschlags ringförmig, insbesondere kreisringförmig. Auf diese Weise kann ein besonders kompakter Anschlag mit integrierter Transportsicherungs-Funktion realisiert werden.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist die bewegliche Komponente eine Ausnehmung auf, in die der Anschlag mit dem Kopfbereich eingreift, wobei der Rand der Ausnehmung bevorzugt eine Fase zur Anlage des Fixierelements, genauer gesagt einer Fixierfläche des Fixierelements, in der Fixierstellung des Fixierelements aufweist. Die Ausnehmung kann beispielsweise als zylindrische Bohrung ausgebildet sein, in die der Kopfbereich des Anschlags eingreift. Eine z.B. (kreis-)ringförmig umlaufende Anschlagfläche des Kopfbereichs kann in diesem Fall die Bewegung der Komponente z.B. in XY-Richtung begrenzen, während eine weitere Anschlagfläche, die an der Stirnseite des Anschlags bzw. des Kopfbereichs gebildet ist, deren Bewegung z.B. in Z-Richtung begrenzt, wenn die Komponente am Grund der Ausnehmung bzw. der Bohrung gegen die Anschlagfläche anschlägt. Die typischerweise ringförmig umlaufende Fixierfläche kann z.B. konisch zulaufend ausgebildet sein und in die am Rand der Ausnehmung gebildete Fase eingreifen. Auf diese Weise kann die Fixiereinrichtung in der Fixierstellung die Bewegung der beweglichen Komponente in allen drei Raumrichtungen begrenzen und diese in allen drei Raumrichtungen fixieren.
Bei einer Weiterbildung ist das Fixierelement zum Aufspreizen des Kopfbereichs des Anschlags gegen eine Mantelfläche der Ausnehmung bzw. der Bohrung ausgebildet. In diesem Fall kann der Kopfbereich oder ggf. der gesamte Anschlag aus einem oder aus mehreren Bauteilen bestehen, die mit Hilfe des Fixierelements aufgespreizt werden, so dass diese an der Mantelfläche der Ausnehmung anliegen bzw. gegen die Mantelfläche der Ausnehmung angepresst werden. Das Aufspreizen des Kopfbereichs kann auch dazu dienen, um die Breite des Spalts zwischen dem Anschlag und der Mantelfläche der Ausnehmung einzustellen und auf diese Weise den Bewegungsbereich der Komponente geeignet einzuschränken.
Bei einer Weiterbildung weist der Kopfbereich des Anschlags mindestens zwei relativ zueinander bewegliche Kopf-Abschnitte auf, zwischen die das Fixierelement in der Fixierstellung eingreift. Bei dieser Weiterbildung ist der Anschlag typischerweise zwei- oder mehrteilig ausgebildet. Während des Betriebs entspricht die Form des Anschlags im Wesentlichen der Form eines herkömmlichen End-Anschlags. Im Transportfall, bei der sich das Fixierelement in der Fixierstellung befindet, werden die relativ zueinander beweglichen Kopf-Abschnitte von dem Fixierelement gegen die Mantelfläche der Ausnehmung gedrückt und verklemmen die bewegliche Komponente. Bei ausreichend hoher Reibung zwischen den Kopf-Abschnitten und der Mantelfläche der beweglichen Komponente wirkt der Anschlag als Transportsicherung sowohl in XY-Richtung als auch in Z-Richtung. Die beiden Kopf-Abschnitte können hierbei jeweils an einem eigenen stabförmigen Abschnitt des Anschlags angebracht sein, dessen dem Kopf-Abschnitt abgewandtes Ende über ein Gelenk an dem Tragrahmen gelagert sein kann, um das Aufspreizen durch das Fixierelement zu ermöglichen.
Es ist ebenfalls möglich, dass zwei oder mehr der Anschläge mindestens einen Aktuator aufweisen, um die Anschlagfläche relativ zu der beweglichen Komponente bzw. zu dem Tragrahmen zu bewegen bzw. zu verschieben, so dass diese in einer Fixierstellung gegen die bewegliche Komponente drückt, um auf diese Weise die bewegliche Komponente zwischen den Anschlagflächen der Anschläge zu verklemmen, wie dies beispielsweise in der eingangs zitierten DE 10 2012 212 503 A1 beschrieben ist. Bei zwei oder mehr End-Anschlägen, deren Anschlagflächen sich nicht wie in der DE 10 2012 212 503 A1 beschrieben unmittelbar gegenüber liegen, kann es ggf. günstig sein, neben einer Verschiebung in Längsrichtung des stabförmigen Abschnitts durch den Aktuator auch eine Verschiebung quer zu dessen Längsrichtung zu ermöglichen, um auf diese Weise die bewegliche Komponente zwischen den Anschlägen bzw. zwischen den Anschlagflächen der Anschläge festzuklemmen.
Bei einer weiteren Ausführungsform drückt das Fixierelement in der Fixierstellung die zweite Komponente gegen mindestens eine Anschlagfläche eines Anschlags. Bei dieser Ausführungsform bildet das Fixierelement keinen Teil des Anschlags, d.h. dieses wirkt nicht an einem Oberflächenbereich bzw. nicht in der Nähe eines Oberflächenbereichs auf die bewegliche Komponente ein, an dem auch der Anschlag, genauer gesagt die Anschlagfläche, auf die bewegliche Komponente einwirkt. Bei geeigneter Wahl der Richtung, in der das Fixierelement auf die bewegliche Komponente einwirkt, kann ggf. ein einziges Fixierelement ausreichend sein, um die gesamte Komponente zu fixieren.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft eine optische Anordnung der eingangs genannten Art, insbesondere wie weiter oben beschrieben, weiter umfassend: einen Aktuator mit einem Antrieb zur Bewegung des Anschlags zwischen einer Fixierstellung, in der die Anschlagfläche an der zweiten Komponente anliegt, und einer Betriebsstellung, in welcher die Anschlagfläche von der zweiten Komponente beabstandet ist, wobei der Aktuator ausgebildet ist, den Anschlag (auch) bei ausgeschaltetem Antrieb, d.h. energielos, in der Fixierstellung zu halten. Bei dem Antrieb kann es sich beispielsweise um einen Spindelantrieb, einen Linear-Direkt-Antrieb, einen elektromotorischen Antrieb etc. oder ggf. um einen nicht elektrisch betriebenen Antrieb bzw. Motor handeln.
Durch den motorisch bzw. durch einen Antrieb angetriebenen Aktuator, welcher auf den Anschlag einwirkt, kann das Problem gelöst werden, dass der Anschlag in der optischen Anordnung für eine manuelle Betätigung in der Regel nur schwer zugänglich ist. Durch die Möglichkeit der motorischen Betätigung des Anschlags kann dieser auch an einer unzugänglichen, aber für die Funktion als End-Anschlag günstigen Position angebracht werden, die insbesondere hinsichtlich der Kontaktkraft sowie hinsichtlich der von der Komponente beim Aufprall zurückgelegten Wegstrecke optimiert ist. Es ist zu diesem Zweck lediglich erforderlich, dass ein Kabel oder dergleichen zum Anschluss der Stellelektronik des Aktuators an einer leicht zugänglichen Position angebracht ist. Die Kabelverbindung von dem Aktuator kann zu dieser leicht zugänglichen Stelle geroutet werden, d.h. es ist nicht zwingend erforderlich, dass eine elektrische Verbindung zwischen dem Aktuator und dem Rest der optischen Anordnung besteht, auch wenn eine solche Verbindung ebenfalls möglich ist. Durch eine geeignete Ansteuerung mit Hilfe eines Steuersignals kann der Antrieb des Aktuators und somit der Anschlag in die gewünschte Stellung, beispielsweise in die Fixierstellung, bewegt werden. Der in der Fixierstellung befindliche Anschlag kann durch die selbsthemmende Wirkung des Aktuators bzw. des Antriebs energielos in der Fixierstellung sowie ggf. in weiteren Stellungen gehalten werden (s.u.).
Der Aktuator ist bevorzugt ausgebildet, den Anschlag auch in der Betriebsstellung, d.h. bei ausgeschaltetem Antrieb, energielos zu halten, d.h. auch in der Betriebsstellung kann der Antrieb bzw. der Motor von der Stromversorgung getrennt werden, ohne dass der Anschlag die Betriebsstellung verlässt. In der Betriebsstellung befindet sich die Anschlagfläche des Anschlags idealerweise in einem vorgegebenen Abstand zur beweglichen Komponente. Mit Hilfe des Aktuators kann der Abstand zwischen der beweglichen Komponente und der Anschlagfläche während des Betriebs in gewissen Grenzen korrigiert bzw. variiert werden, sofern dies erforderlich ist.
Bei herkömmlichen Anschlägen, bei denen eine Transportsicherung von zwei Komponenten in Form von Tragstrukturen, beispielsweise einem Tragrahmen („force frame“) und einem Sensorrahmen („sensor frame“), erreicht werden soll, wird zu diesem Zweck vor dem Transport zwischen den in der Betriebsstellung befindlichen Anschlag und die bewegliche Komponente ein Kontaktteil eingeschraubt, bis dieses die Anschlagfläche berührt. Nach dem Transport wird das Kontaktteil wieder herausgeschraubt. Bei nicht zugänglichen End-Anschlägen muss man sich in diesem Fall darauf verlassen, dass die Breite des Spalts bzw. der Abstand zwischen der beweglichen Komponente und der Anschlagfläche nach dem Transport wieder hergestellt wird. Eine Kontrolle des Abstands, z.B. mit Hilfe einer Schieblehre, kann nur dort durchgeführt werden, wo die Anschläge zugänglich sind. Ist der Spalt zwischen dem Anschlag und der beweglichen Komponente zu gering, kann es zu einem mechanischen Kurzschluss kommen, der das Dynamikverhalten der beweglichen Komponente bzw. der optischen Anordnung stört und der im schlimmsten Fall dazu führt, dass die bewegliche Komponente, beispielsweise in Form eines Spiegels, nicht mehr bewegt bzw. nicht mehr aktuiert werden kann.
Bei einer Weiterbildung weist der Anschlag eine Kontaktfläche auf, die in der Betriebsstellung an der ersten Komponente anliegt, wobei die Kontaktfläche bevorzugt an einer der Anschlagfläche gegenüber liegenden Seite des Anschlags gebildet ist. Mit Hilfe der Kontaktfläche wird bei einem in der Betriebsstellung befindlichem Anschlag, gegen dessen Anschlagfläche die zweite, bewegliche Komponente anschlägt, die auf die Anschlagfläche wirkende Kraft direkt auf die erste Komponente übertragen, so dass der Antrieb die auf den Anschlag wirkende Kraft nicht aufnehmen muss. Die Kontaktfläche kann beispielsweise an einem umlaufenden Flansch bzw. Kragen des Anschlags gebildet sein, an dessen gegenüber liegender Seite die Anschlagfläche gebildet ist.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist der Aktuator zur Kraftübertragung des Antriebs auf den Anschlag ein Getriebe, bevorzugt einen Hebelmechanismus, auf. Durch das Getriebe bzw. den Hebelmechanismus kann die auf den Anschlag übertragene Kraft vergrößert werden. Bei geeigneter Auslegung des Hebelmechanismus ist es auch möglich, durch den Hebelmechanismus in der Fixierstellung eine selbsthemmende Wirkung des Aktuators zu erzeugen, wie weiter unten näher dargestellt wird. Auch andere Getriebe, beispielsweise Parallelogramm-Getriebe, können eine selbsthemmende Wirkung aufweisen.
Bei einer Weiterbildung bildet der Hebelmechanismus einen Kniehebel mit zwei über ein gemeinsames Gelenk verbundenen Schenkeln, wobei der Anschlag bevorzugt über ein weiteres Gelenk mit einem der beiden Schenkel verbunden ist. Der Kniehebel kann beispielsweise mittels eines Antriebs in der Art eines Spindelantriebs oder dergleichen angetrieben werden.
Bevorzugt befindet sich der Kniehebel in der Fixierstellung des Anschlags in einer Strecklage, einer Decklage oder in einer überstreckten Stellung. Hat der Kniehebel den Totpunkt überschritten bzw. erreicht den Totpunkt, wie dies in der Strecklage (Winkel zwischen den beiden Schenkeln bzw. Hebelarmen 180°), einer Decklage (Winkel zwischen den beiden Schenkeln bzw. Hebelarmen 0°) bzw. in einer überstreckten Stellung des Kniehebels der Fall ist, wird ein automatischer Verriegelungseffekt erreicht, wenn der Kniehebel den Anschlag gegen die zweite, bewegliche Komponente drückt. Selbst wenn in der Fixierstellung die Betätigungskraft des Antriebs abfällt, bleibt die Spannkraft des Kniehebels erhalten und dieser kann sich nicht selbsttätig lösen. Daher kann der Antrieb typischerweise von der Stromversorgung getrennt werden, sobald die Fixierstellung erreicht wird. In der gestreckten bzw. in der überstreckten Stellung des Kniehebels sind zudem die auf den Antrieb wirkenden Kräfte auch in dem Fall sehr gering, dass es beim Transport zu Erschütterungen kommt. An Stelle des hier beschriebenen Kniehebels können auch andere motorisch angetriebene Mechanismen verwendet werden, die eine Selbsthemmung bzw. eine automatische Verriegelung ermöglichen, beispielsweise ein durch eine geeignet gewählte Steigung der Spindel selbsthemmender Spindelantrieb.
Bei einer weiteren Weiterbildung ist der Anschlag bei der Bewegung zwischen der Fixierstellung und der Betriebsstellung verdrehsicher geführt. Der Anschlag wird in diesem Fall kinematisch derart geführt, dass er bei der Bewegung zwischen der Fixierstellung und der Betriebsstellung, bei der es sich typischerweise um eine Linearbewegung handelt, nicht um seine Längsachse gedreht wird. Dies ist günstig, da sich bei einer Drehbewegung des Anschlags, insbesondere beim Andrücken der Anschlagfläche gegen die bewegliche Komponente Partikel bilden können, welche die Umgebung des Anschlags kontaminieren. Auch kann es beim Anlegen des Anschlags gegen die bewegliche Komponente durch die Drehbewegung zu Bauteil-Beschädigungen kommen. Die verdrehsichere Führung kann bei der Verwendung eines Kniehebels beispielsweise dadurch erreicht werden, dass das weitere Gelenk, an dem der Anschlag an einem der beiden Schenkel des Kniehebels gelagert ist, als Scharniergelenk ausgebildet ist. Typischerweise ist auch das Gelenk, welches die beiden Schenkel des Kniehebels verbindet, als Scharniergelenk ausgebildet, so dass der Anschlag kinematisch nur in einer Ebene bzw. bei der Verwendung einer Linearführung, beispielsweise in Form einer Lagerhülse, nur in einer vorgegebenen Richtung verschoben werden kann.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst die optische Anordnung zusätzlich eine Abschirmung bzw. Kapselung, die zumindest den Antrieb bzw. den Motor des Aktuators gegen die Umgebung kapselt. Die Abschirmung kann den Antrieb des Aktuators, insbesondere auch den Kniehebel, vakuumdicht von der Umgebung trennen, es ist aber ggf. ausreichend, wenn die Abschirmung bzw. die Kapselung den Austritt von Partikeln in die Umgebung verhindert bzw. unterdrückt und nicht vollständig vakuumdicht ist. Zwischen einer Linearführung, beispielsweise einer Lagerhülse, zur Führung des Anschlags und dem Anschlag selbst kann zu diesem Zweck eine Dichtung vorgesehen sein, die den Austritt von Partikeln in die Umgebung der Abschirmung verhindern soll. Die Dichtung kann beispielsweise als schleifende Dichtung oder als Labyrinth-Dichtung ausgebildet sein.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente, insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente bewegliche zweite Komponente, insbesondere einen Spiegel, wobei in einen Zwischenraum zwischen der ersten Komponente und der zweiten Komponente eine Flüssigkeit, insbesondere eine magnetorheologische Flüssigkeit, eine elektrorheologische Flüssigkeit oder eine thixotrope Flüssigkeit, eingebracht ist.
Bei diesem Aspekt der Erfindung wird in den Zwischenraum zwischen der ersten und der zweiten Komponente eine Flüssigkeit eingebracht, die eine Dämpfung der Bewegung der zweiten Komponente bewirken kann und deren Viskosität bevorzugt verändert werden kann. Handelt es sich um eine elektrorheologische oder eine magnetorheologische Flüssigkeit, kann eine einstellbare Bewegungsdämpfung zwischen der zweiten, beweglichen Komponente und der ersten Komponente erzeugt werden (s.u.).
Handelt es sich bei der Flüssigkeit um eine thixotrope Flüssigkeit, so ändert sich deren Viskosität in Abhängigkeit vom Lastfall, d.h. die thixotrope Flüssigkeit weist bei hohen Beschleunigungen der zweiten Komponente eine stark erhöhte Viskosität auf und verhält sich bei kleinen Beschleunigungen der zweiten Komponente wie eine niedrigviskose Flüssigkeit. Die Auswahl einer geeigneten thixotropen Flüssigkeit, beispielsweise in Form einer Knetmasse auf Silikonbasis, richtet sich nach den zu erwartenden Anregungsspektren (Vibrationsspektren) der zweiten Komponente beispielsweise beim Transport, seismischem Schock und beim Betrieb. Dabei ist zu erwarten, dass die Beschleunigungen bei den beiden ersten Anwendungsfällen um ca. einen Faktor 10 höher sind als während des Betriebs der optischen Anordnung. Die thixotrope Flüssigkeit sollte derart gewählt sein, dass beim Transport und beim seismischen Schock das thixotrope Material einen möglichst guten Kraftschluss zwischen den beiden Komponenten erzeugt, damit die entstehenden Beschleunigungskräfte der zweiten, beweglichen Komponente von der ersten Komponente aufgenommen werden können. Im Betrieb der optischen Anordnung soll die thixotrope Flüssigkeit andererseits die Bewegung der beweglichen Komponente nicht oder nur geringfügig hemmen.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist die optische Anordnung einen Behälter zur Aufbewahrung der Flüssigkeit sowie eine Zuführungseinrichtung zur Zuführung der Flüssigkeit aus dem Behälter in den Spalt (und ggf. umgekehrt, d.h. von dem Spalt in den Behälter) auf. Die Flüssigkeit, beispielsweise in Form der thixotropen Flüssigkeit, wird in diesem Fall nur dann in den Spalt eingebracht, wenn die optische Anordnung transportiert werden soll oder ggf. wenn ein bevorstehendes Erdbeben erkannt wird. Die Flüssigkeit wird kurz vor dem Betrieb wieder aus dem Zwischenraum bzw. aus dem zur Aufnahme der Flüssigkeit vorgesehenen Kammer-Volumen entfernt, beispielsweise indem diese in den Behälter zurückgepumpt wird oder ggf. auf andere Weise aus der optischen Anordnung entfernt wird. Auf diese Weise kann die Flüssigkeit einerseits die beim Transport oder bei einem seismischen Schock auftretenden Beschleunigungen aufnehmen und andererseits ist während des Betriebs der optischen Anordnung sichergestellt, dass es nicht zu einer unerwünschten Übertragung von Kräften bzw. Vibrationen zwischen den beiden Komponenten kommt.
Um Kontaminationen der (Vakuum-)Umgebung zu vermeiden, sollte das thixotrope Material sehr schwer flüchtig sein und/oder sich in einem gegenüber der Vakuum-Umgebung z.B. durch eine Membran, abgeschlossenen Volumen befinden. Ggf. können in der beweglichen Komponente eine oder mehrere Ausnehmungen gebildet sein, um die Flüssigkeit aufzunehmen, wobei die Ausnehmungen ggf. durch eine Membran abgedichtet werden.
Bei einer Weiterbildung weist die erste Komponente mindestens ein stabförmiges Bauteil, insbesondere einen Anschlag, mit einem Kopfbereich auf, der in die Flüssigkeit eintaucht. Über das stabförmige Bauteil kann die Kraft von der Flüssigkeit auf die erste Komponente übertragen und von dieser aufgenommen werden. Bei dem stabförmigen Bauteil kann es sich um einen (End-)Anschlag handeln, an dem eine Anschlagfläche für die bewegliche Komponente gebildet ist, dies ist aber nicht zwingend der Fall, d.h. das in die Flüssigkeit eintauchende Bauteil muss nicht zwingend als Anschlag zur Begrenzung des Bewegungsbereichs bzw. des vorgegebenen Stellbereichs der zweiten Komponente dienen. In diesem Fall dient die (thixotrope) Flüssigkeit als (Stoß-)Dämpfungselement und nicht als Arretierung für die bewegliche Komponente. Sofern der Zwischenraum zwischen der ersten und der zweiten Komponente vollständig mit der Flüssigkeit gefüllt ist, kann auf ein solches stabartiges Bauteil ggf. verzichtet werden.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist die optische Anordnung mindestens eine Felderzeugungs-Einrichtung zur Erzeugung eines elektrischen oder magnetischen Feldes zur Veränderung der Viskosität der magnetorheologischen Flüssigkeit oder der elektrorheologischen Flüssigkeit auf. In diesem Fall ist die Flüssigkeit typischerweise auch während des Betriebs der optischen Anordnung in den Zwischenraum eingebracht und kann zur Dämpfung der Bewegung der beweglichen Komponente dienen. Durch die Einrichtung bzw. durch die Wahl der Feldstärke sowie ggf. der Ausrichtung eines jeweiligen elektrischen oder magnetischen Feldes kann die Viskosität der Flüssigkeit gezielt verändert werden. Mit Hilfe der Felderzeugungs-Einrichtung kann die Viskosität der Flüssigkeit so groß gemacht werden, dass diese als Transportsicherung bzw. als Dämpfer zur Aufnahme von Kräften beispielsweise bei Schockbelastungen dient. Die Felderzeugungs-Einrichtung kann beispielsweise ausgebildet sein, für den Transport ein elektrisches Feld zu erzeugen, zu dessen Aufrechterhaltung keine Energie erforderlich ist. Zu diesem Zweck können beispielsweise Ladungen auf elektrisch leitfähige Körper, beispielsweise Kondensatorplatten, übertragen werden, zwischen denen die elektrorheologische Flüssigkeit eingebracht ist, so dass diese in der Art eines Kondensators wirken.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente, insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente bewegliche zweite Komponente, insbesondere einen Spiegel, ein Gehäuse, insbesondere ein Vakuum-Gehäuse, mit einem Innenraum, in dem die mindestens eine bewegliche zweite Komponente angeordnet ist, sowie eine Fixiereinrichtung zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente relativ zur ersten Komponente, wobei die Fixiereinrichtung mindestens ein Fixierelement aufweist, das in einer Betriebsstellung von der beweglichen Komponente beabstandet ist und das in einer Fixierstellung an der beweglichen Komponente anliegt, wobei das Fixierelement durch eine Veränderung des Innendrucks in dem Gehäuse von der Betriebsstellung in die Fixierstellung bewegbar ist, und umgekehrt.
Bei diesem Aspekt der Erfindung wird ausgenutzt, dass sich der Druck im Innenraum des Gehäuses im Betrieb der optischen Anordnung typischerweise vom Druck in dem Innenraum während des Transports der optischen Anordnung unterscheidet, insbesondere wenn die in dem Gehäuse angeordneten Komponenten unter Vakuum-Bedingungen betrieben werden, wie dies typischerweise bei EUV-Spiegeln in EUV-Lithographiesystemen, insbesondere in EUV-Lithographieanlagen, der Fall ist. In diesem Fall herrscht im Betrieb in dem Vakuum-Gehäuse ein geringer Druck von beispielsweise nicht mehr als ca. 10^-3 mbar, während beim Transport in der Regel in dem Gehäuse, beispielsweise einem Gehäuse eines Projektionssystems, ein Gesamtdruck von ca. 1 bar, d.h. Atmosphärendruck, herrscht. Das Bewegen des Fixierelements von der Betriebsstellung in die Fixierstellung kann bei der hier beschriebenen Fixiereinrichtung vollautomatisch durch die Veränderung des Drucks in dem Gehäuse bzw. des Drucks in der Umgebung der zweiten Komponente erfolgen. Für die Bewegung des Fixierelements sind daher keine Zuführungsleitungen - welcher Art auch immer - notwendig, die aufwändige Verrohrungen, Durchführungen, Verlegungen und/oder Ansteuerungen erfordern.
Bei einer Weiterbildung ist die Fixiereinrichtung ausgebildet, das Fixierelement bei einer Zunahme des Drucks in dem Innenraum des Gehäuses von der Betriebsstellung in die Fixierstellung zu bewegen. Entsprechend wird bei einer Abnahme des Drucks in dem Innenraum des Gehäuses das Fixierelement von der Fixierstellung in die Betriebsstellung bewegt. Wie weiter oben beschrieben wurde, werden die Spiegel in einer optischen Anordnung in Form einer EUV-Lithographieanlage unter Vakuum-Bedingungen betrieben, während der Transport der EUV-Lithographieanlage bei Umgebungsdruck erfolgt, so dass es sinnvoll ist, wenn das Fixierelement bei der Zunahme des Drucks von der Betriebsstellung in die Fixierstellung bewegt wird und bei einer Abnahme des Drucks in umgekehrter Richtung, d.h. von der Fixierstellung in die Betriebsstellung, bewegt wird.
Bei einer Weiterbildung weist die Fixiereinrichtung ein gegen den Innenraum des Gehäuses abgedichtetes Gas-Volumen auf, das beispielsweise in einem weiteren Gehäuse gebildet sein kann, sowie ein in Abhängigkeit von einer Differenz zwischen dem Innendruck in dem Gehäuse und einem Druck in dem Gas-Volumen bewegbares Bauteil, das mit dem Fixierelement bewegungsgekoppelt ist oder das Fixierelement bildet. Der Druck in dem abgedichteten Gas-Volumen kann beispielsweise bei ca. 500 mbar liegen, aber auch größer oder kleiner sein. Die Größe des Gas-Volumens legt die Federkonstante bzw. die Empfindlichkeit der Fixiereinrichtung gegenüber Änderungen der Druckdifferenz fest. Typischerweise ist eine große Federkonstante günstig, was durch ein möglichst kleines gegen die Umgebung abgedichtetes Gas-Volumen erreicht werden kann. Das abgedichtete Gas-Volumen kann beispielsweise eine Kammer in einem Pneumatik-Kolben bilden, dessen Kolbenstange das bewegbare Bauteil bildet und der eine weitere Kammer aufweist, die mit dem Innenraum des Gehäuses in Verbindung steht, in dem die zweite Komponente angeordnet ist. Unter einer Bewegungskopplung des Fixierelements mit dem bewegbaren Bauteil wird auch eine starre Kopplung des Fixierelements mit dem bewegbaren Bauteil verstanden.
Geht man zur Abschätzung der für die Bewegung des Fixierelements erreichbaren pneumatischen Kräfte davon aus, dass die Druckdifferenz zwischen dem Druck in dem Innenraum des Gehäuses während des Transports und dem Druck in dem Gas-Volumen bei ca. 0,5 bar liegt, ergibt sich für eine Komponente, beispielsweise einen Spiegel, mit einem Durchmesser von ca. 4 cm eine Gewichtskraft von ca. 6 kg Masse. Diese Kraft ist zwar in der Regel nicht ausreichend, um die bewegliche Komponente als Ganzes zu halten, diese Kraft ist aber sehr wohl ausreichend, um ein vergleichsweise leichtes Fixierelement wie beispielsweise einen Fixierbolzen zur Fixierung der beweglichen Komponente zu bewegen und auf diese Weise z.B. über eine indirekte Kraftaufnahme die Position der beweglichen Komponente räumlich festzulegen.
Bei einer Weiterbildung ist das bewegbare Bauteil als flexible Membran ausgebildet, die einen Wandbereich eines weiteren Gehäuses bildet, in dem sich das Gas-Volumen befindet. Das Fixierelement kann an der flexiblen Membran befestigt sein, die sich in Abhängigkeit von der Druckdifferenz, die auf die beiden einander gegenüber liegenden Seiten der Membran wirkt, entsprechend durchbiegt und hierbei das Fixierelement von der Fixierstellung in die Betriebsstellung und umgekehrt bewegt. Der Weg, den das Fixierelement zwischen der Fixierstellung und der Betriebsstellung zurücklegt, ist typischerweise vergleichsweise gering, so dass dieser durch die Veränderung der Krümmung der Membran erreicht werden kann. Die Membran kann beispielsweise aus einem metallischen Material gebildet sein, da dieses vakuumtauglich ist und daher typischerweise keine Partikel in die Vakuum-Umgebung in dem Innenraum des Gehäuses abgibt. Das weitere Gehäuse ist typischerweise starr mit der ersten, ortsfesten Komponente verbunden.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente, insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente bewegliche zweite Komponente, insbesondere einen Spiegel, mindestens einen Aktuator zur Bewegung der zweiten, beweglichen Komponente relativ zu der ersten Komponente, sowie eine Fixiereinrichtung zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente relativ zur ersten Komponente, welche ein erstes, an der ersten Komponente angebrachtes Fixierelement und ein zweites, an der zweiten Komponente angebrachtes Fixierelement aufweist, wobei der Aktuator ausgebildet ist, die bewegliche zweite Komponente in eine Fixierstellung zu bewegen, in welcher das erste Fixierelement und das zweite Fixierelement zum Halten der zweiten Komponente in der Fixierstellung formschlüssig und/oder kraftschlüssig zusammenwirken, typischerweise indem diese eine mechanische Verriegelung bilden (Schlüssel-Schloss-Prinzip).
Bei diesem Aspekt wird vorgeschlagen, dass mindestens ein Aktuator, der dazu verwendet wird, die bewegliche zweite Komponente, beispielsweise einen Spiegel, innerhalb eines im Betrieb verwendeten Bewegungsraums („operating ränge“) zu bewegen, auch dazu verwendet wird, die bewegliche Komponente in eine Fixierstellung zu bewegen, die typischerweise außerhalb des im Betrieb verwendeten Bewegungsraums, aber innerhalb des mechanisch möglichen Bewegungsraums („mechanical ränge“) der beweglichen Komponente liegt. Der mechanisch mögliche Bewegungsraum der beweglichen zweiten Komponente wird typischerweise durch die weiter oben beschriebenen End-Anschläge begrenzt.
Die Fixierstellung wird im Normal-Betrieb der optischen Anordnung nicht erreicht und kann bei einer Weiterbildung nur entlang einer vorgegebenen Bahnkurve der beweglichen zweiten Komponente angefahren werden und nur durch eine vorgegebene (nicht zwingend identische) Bahnkurve wieder verlassen werden. Die benötigte Bahnkurve kann in der Regel direkt durch den bzw. durch die Aktuatoren erzeugt werden, welche auch zur Bewegung der zweiten Komponente innerhalb des im Betrieb verwendeten Bewegungsraums dienen, d.h. es sind typischerweise keine zusätzlichen Aktuatoren zu diesem Zweck erforderlich. Hierbei wirkt sich günstig aus, dass die Aktuatoren typischerweise ausgebildet sind, die bewegliche Komponente in drei translatorischen und in drei rotatorischen Freiheitsgraden zu bewegen, so dass nahezu beliebige Bewegungsbahnen mit Hilfe der Aktuatoren erzeugt werden können.
Für die Erzeugung der Bewegungsbahn können beispielsweise Lorentz-Aktuatoren dienen, bei denen durch einen kurzzeitig höheren Strom durch deren Spulen eine so große Kraft auf die bewegliche Komponente erzeugt wird, dass der im Betrieb verwendete Bewegungsraum verlassen wird und die Fixierstellung erreicht wird. In der Fixierstellung können die beiden Fixierelemente z.B. in der Art einer mechanischen Verriegelung ineinander greifen (Schlüssel-Schloss-Prinzip).
Bei einer Weiterbildung sind das erste Fixierelement und das zweite Fixierelement hakenförmig ausgebildet und die beiden hakenförmigen Fixierelemente greifen in der Fixierstellung ineinander. Die hakenförmigen Fixierelemente stellen eine Möglichkeit dar, um eine mechanische Verriegelung in der Art eines Schlüssel-Schloss-Prinzips zu realisieren. Es versteht sich, dass eine Vielzahl von anderen Möglichkeiten existiert, um zwei Fixierelemente durch einen Formschluss eine mechanische Verriegelung bilden zu lassen, so dass diese ohne eine erneute Bewegung der zweiten Komponente nicht aus der Fixierstellung gelöst werden können.
Bei einer Weiterbildung ist der mindestens eine Aktuator ausgebildet, zum Verlassen der Fixierstellung (und typischerweise auch zum Bewegen des Fixierelements in die Fixierstellung) das zweite Fixierelement in mindestens zwei unterschiedliche Richtungen zu bewegen. Auf diese Weise kann typischerweise verhindert werden, dass sich die bewegliche zweite Komponente beispielsweise bei einer Erschütterung ungewollt aus der Fixierstellung löst, da die auf die zweite Komponente einwirkende Kraft nur in einer Richtung ausgeübt wird.
Bei einer alternativen Ausführungsform ist das erste Fixierelement ausgebildet, das zweite Fixierelement in der Fixierstellung durch das Aufbringen einer Kraft entlang einer Fixierrichtung zu fixieren und das zweite Fixierelement durch das erneute Aufbringen einer Kraft entlang der Fixierrichtung aus der Fixierstellung zu lösen. In diesem Fall weist das erste Fixierelement ähnlich wie bei einem Kugelschreibermechanismus oder bei einer Arretierung für einen SD-Kartenschacht einen Verriegelungsmechanismus mit einem bistabilen Zustand auf. Das zweite Fixierelement, welches beispielsweise in der Art eines geeignet ausgestalteten Zapfens ausgebildet sein kann, wird mit einer gewissen Kraft in einer linearen Bewegung entlang der Fixierrichtung bewegt und in den Mechanismus gedrückt, so dass das zweite Fixierelement, z.B. in Form des Zapfens, in der Fixierstellung umklammert wird und nicht entgegen der Fixierrichtung gelöst werden kann. Nach einer erneuten Kraftwirkung auf das zweite Fixierelement in die Fixierrichtung (d.h. in dieselbe Richtung) wird die Umklammerung wieder gelöst. Die entsprechende Mechanik kann beispielsweise über eine Kurvenscheibe bzw. über ein Kurven-Getriebe in Kombination mit einer Sägezahnform zur Fixierung des zweiten Fixierelements ausgebildet sein. Die Kräfte für die Bewegung der zweiten Komponente bzw. des zweiten Fixierelements können wie weiter oben beschrieben durch Aktuatoren z.B. in Form von Lorentz-Aktuatoren aufgebracht werden.
Bei einer weiteren Ausgestaltung der optischen Anordnung weist diese eine Fixiereinrichtung mit mindestens einer Kontaktfläche zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente relativ zur ersten Komponente auf, wobei ein Oberflächenbereich der zweiten Komponente in einer Fixierstellung an der Kontaktfläche anliegt und die zweite Komponente durch Adhäsion an der Kontaktfläche fixiert.
Bei dem Oberflächenbereich der zweiten Komponente sowie bei der Kontaktfläche handelt es sich typischerweise um sehr glatte Oberflächen, bei denen die Fixierung durch Adhäsion bzw. durch das so genannte Ansprengen („optical contact bounding“) erfolgt. Handelt es sich bei der zweiten Komponente um einen Spiegel für die EUV-Lithographie, ist der Oberflächenbereich, welcher mit der Kontaktfläche in Berührung kommt, typischerweise an einem Substratmaterial gebildet, bei dem es sich beispielsweise um Zerodur® oder um ULE® handeln kann, welches bei entsprechender Politur eine sehr geringe Oberflächenrauheit aufweist. Die Kontaktfläche kann beispielsweise aus einem Polymer-Material bzw. einem Elastomer-Material gebildet sein, z.B. aus einem Ethylen-Propylen-Dien-Kautschuk (EPDM), welches ebenfalls eine sehr glatte Oberfläche aufweist. Die Kontaktfläche kann beispielsweise eine Anschlagfläche eines End-Anschlags bilden, welcher die Bewegung der zweiten Komponente begrenzt. Insbesondere wenn die optische Anordnung z.B. in Form einer EUV-Lithographieanlage für den Transport auf den Kopf gedreht wird, wirkt aufgrund der Schwerkraftkompensation auf den End-Anschlag bzw. auf die Anschlagfläche, welche die Kontaktfläche bildet die doppelte Gewichtskraft (2 g). Die bewegliche Komponente wird somit mit ca. 2 g gegen die Kontaktfläche gepresst, was aufgrund der Adhäsionskräfte bei geeignet dimensionierter Größe der Kontaktfläche ausreichend ist, um die gesamte Komponente zu fixieren bzw. zu halten. Die Kontaktfläche muss nicht zwingend an einem Anschlag gebildet sein, sondern kann auch an einem eigens zu diesem Zweck in der optischen Anordnung vorgesehenen Bauteil gebildet sein.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.
Figurenliste
Ausführungsbeispiele sind in der schematischen Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Es zeigt

1a eine schematische Darstellung einer EUV-Lithographieanlage mit einer Mehrzahl von beweglichen Komponenten in Form von Spiegeln,
1b eine schematische Darstellung eines Spiegelmoduls mit einem der EUV-Spiegel von 1a sowie mit zwei (End-)Anschlägen zur Begrenzung von dessen Bewegungsweg,
2a,b schematische Darstellungen eines Anschlags mit einer Fixiereinrichtung zur Fixierung eines EUV-Spiegels, die ein relativ zu einer Anschlagfläche des Anschlags bewegliches Fixierelement aufweist,
3a-c schematische Darstellungen des Anschlags von 2a,b mit drei unterschiedlichen Ausgestaltungen eines Aktors zur Bewegung des Fixierelements,
4a,b schematische Darstellungen eines Fixierelements, welches in einer Fixierstellung einen Kopfbereich eines mehrteiligen Anschlags aufspreizt und gegen die Mantelfläche einer in dem EUV-Spiegel gebildeten Ausnehmung drückt,
5a,b schematische Darstellungen eines Fixierelements, welches in einer Fixierstellung den EUV-Spiegel zur Fixierung gegen die Anschlagfläche eines Anschlags bzw. mehrerer Anschläge drückt,
6a,b schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels mit aktuierbaren End-Anschlägen, um den EUV-Spiegel zwischen den Anschlagflächen der End-Anschläge zu verklemmen,
7a,b, schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels bei einer direkten bzw. einer indirekten Kraftaufnahme durch ein Fixierelement,
8a,b schematische Darstellungen eines Anschlags in einer Betriebsstellung sowie in einer Fixierstellung zur Fixierung eines Sensorrahmens, wobei der Anschlag mittels eines Kniehebels in der Fixierstellung gehalten wird,
9 eine schematische Darstellung eines EUV-Spiegels, bei dem in einen Zwischenraum zwischen einem Tragrahmen und den EUV-Spiegel eine elektrorheologische Flüssigkeit eingebracht ist,
10 eine schematische Darstellung eines EUV-Spiegels, bei dem in einem Zwischenraum zwischen einem Tragrahmen und dem EUV-Spiegel eine thixotrope Flüssigkeit eingebracht ist,
11a,b schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels, bei dem ein Fixierelement in Abhängigkeit von einem Umgebungsdruck des EUV-Spiegels von einer Betriebsstellung in eine Fixierstellung und umgekehrt bewegt werden kann,
12a,b schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels, der mittels eines Aktuators entlang einer gekrümmten Bewegungsbahn bewegbar ist, um ein hakenförmiges Fixierelement des EUV-Spiegels in eine Fixierstellung zu bewegen, in der dieses in ein weiteres hakenförmiges Fixierelement eingreift,
13a,b schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels mit einem Fixierelement, das mittels eines Aktuators in einer linearen Bewegung durch das Aufbringen einer Kraft entlang einer Fixierrichtung in eine Fixierstellung bewegbar und durch das erneute Aufbringen einer Kraft entlang der Fixierrichtung aus der Fixierstellung lösbar ist, sowie
14a,b schematische Darstellungen eines EUV-Spiegels mit einem polierten Oberflächenbereich, der in einer Fixierstellung an einer Kontaktfläche einer Fixiereinrichtung anliegt und durch Adhäsionskräfte an der Kontaktfläche gehalten wird.

In der folgenden Beschreibung der Zeichnungen werden für gleiche bzw. funktionsgleiche Bauteile identische Bezugszeichen verwendet.
In 1a ist schematisch ein EUV-Lithographiesystem in Form einer EUV-Lithographieanlage 1 gezeigt. Die EUV-Lithographieanlage 1 weist ein Strahlerzeugungssystem 2, ein Beleuchtungssystem 3 und ein Projektionssystem 4 auf, die in separaten Vakuum-Gehäusen untergebracht und aufeinander folgend in einem von einer EUV-Lichtquelle 5 des Strahlformungssystems 2 ausgehenden Strahlengang von EUV-Strahlung 6 angeordnet sind. Zur Vereinfachung werden nachfolgend unter dem Strahlerzeugungssystem 2, dem Beleuchtungssystem 3 und dem Projektionssystem 4 auch die entsprechenden Vakuum-Gehäuse 2, 3, 4 verstanden. Als EUV-Lichtquelle 5 kann beispielsweise eine Plasmaquelle oder ein Synchrotron dienen. Die aus der EUV-Lichtquelle 5 austretende Strahlung im Wellenlängenbereich zwischen ca. 5 nm und ca. 20 nm wird zunächst in einem Kollimator 7 gebündelt. Mit Hilfe eines nachfolgenden Monochromators 8 wird die gewünschte Betriebswellenlänge λ_B herausgefiltert, die im vorliegenden Beispiel bei ca. 13,5 nm liegt. Der Kollimator 7 und der Monochromator 8 sind als reflektive optische Elemente ausgebildet.
Die im Strahlerzeugungssystem 2 im Hinblick auf Wellenlänge und räumliche Verteilung behandelte EUV-Strahlung wird in das Beleuchtungssystem 3 eingeführt, welches ein erstes und zweites reflektives optisches Element 9, 10 aufweist. Die beiden reflektiven optischen Elemente 9, 10 leiten die EUV-Strahlung 6 auf eine Photomaske 11 als weiterem reflektiven optischen Element, welches eine Struktur aufweist, die mittels des Projektionssystems 4 in verkleinertem Maßstab auf ein lichtempfindliches Substrat in Form eines Wafers 12 abgebildet wird. Hierzu sind im Projektionssystem 4 ein drittes und viertes reflektives optisches Element 13, 14 vorgesehen.
Die reflektiven optischen Elemente 9, 10, 11, 13, 14 weisen jeweils eine optische Oberfläche auf, die der EUV-Strahlung 6 der Lichtquelle 5 ausgesetzt ist. Die optischen Elemente 9, 10, 11, 13, 14 werden in der EUV-Lithographieanlage 1 unter VakuumBedingungen betrieben. Im Projektionssystem 4, genauer gesagt in dem Innenraum 4a des entsprechenden Vakuum-Gehäuses 4 herrscht beispielsweise ein Druck p₁ von z.B. weniger als ca. 10^-1 mbar, d.h. ein Druck, der deutlich kleiner ist als Atmosphärendruck.
1b zeigt beispielhaft ein Spiegelmodul 15, welches eine bewegliche Komponente in Form des ersten EUV-Spiegels 13 des Projektionssystems 4 von 1a aufweist. Das Spiegelmodul 15 weist mehrere Spiegel-Aktuatoren 16 auf, die zur Bewegung des EUV-Spiegels 13 dienen und die jeweils eine Kraft F₁, ..., F_n auf den EUV-Spiegel 13 ausüben, um diesen in allen sechs Freiheitsgraden, d.h. sowohl in allen drei translatorischen Freiheitsgraden (T_X, T_Y, T_Z) als auch in allen drei rotatorischen Freiheitsgraden (R_X, R_Y, R_Z) im dreidimensionalen Raum zu positionieren bzw. auszurichten sowie zu manipulieren. Zusätzlich sind Sensoren 17 zur Detektion von Informationen Z₁, ..., Z_n über die Position und die Orientierung des EUV-Spiegels 13 im Raum vorgesehen. Sowohl die Aktuatoren 16 als auch die Sensoren 17, genauer gesagt deren Sensorrahmen 18 („sensor frame“), ist an einer Tragstruktur bzw. einem Tragrahmen 19 („force frame“) mechanisch entkoppelt (gefedert) gelagert. Der Tragrahmen 19 nimmt im Wesentlichen alle auf das Spiegelmodul 15 wirkenden Kräfte auf. Der Tragrahmen 19 kann sich über die gesamte EUV-Lithographieanlage 1 erstrecken, in der das Spiegelmodul 15 verbaut ist, es ist aber auch möglich, dass der Tragrahmen 19 selbst an einer weiteren Tragstruktur befestigt oder gefedert gelagert ist. Bei dem in 1b gezeigten Beispiel sind an dem Tragrahmen 19 zwei Endstopps angebracht, die nachfolgend auch als Anschläge bzw. als End-Anschläge 20 bezeichnet werden.
Die Anzahl der Aktuator- und der Sensorachsen ergibt sich aus der Anzahl der zu manipulierenden Freiheitsgrade. Sollen alle sechs Freiheitsgrade manipuliert werden, sind mindestens sechs Aktuator- und Sensorachsen mit einer entsprechenden Anordnung notwendig. Die eigentliche Anordnung der Aktuatoren 16 bzw. der Aufbau der Lagerung des EUV-Spiegels 13 entspricht in diesem Fall im Wesentlichen einem Hexapod.
Wie weiter oben beschrieben wurde, ist der EUV-Spiegel 13 an dem Tragrahmen 19 mechanisch entkoppelt bzw. gefedert („schwebend“) gelagert. Zur „schwebenden“ Lagerung des EUV-Spiegels 13 an dem Tragrahmen 19 können beispielweise so genannte Gewichtskraftkompensatoren auf Basis von Permanentmagneten verwendet werden, wie dies beispielsweise in der US 2013/0314681 A1 beschrieben ist, welche durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird. Als Aktuatoren 16 für den Spiegel 13 können beispielsweise Lorentz-Aktuatoren verwendet werden, die typischerweise eine bestrombare Spule sowie einen von dieser beabstandeten Permanentmagneten aufweisen, beispielsweise wie dies in der DE 10 2011 004 607 A1 beschrieben ist, welche durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird.
Die Verfahrwege bzw. der im Betrieb verwendete Bewegungsraum des EUV-Spiegels 13 beträgt üblicher Weise einige wenige bis hin zu einigen 100 Mikrometern (µm) translatorisch bzw. einige Milli-Rad (mrad) rotatorisch. Die End-Anschläge 20 dienen dazu, ungewollte und kritische Kollisionen des EUV-Spiegels 13 zu vermeiden und begrenzen bzw. definieren den maximal möglichen mechanischen Bewegungsraum des EUV-Spiegels 13. Bevor der EUV-Spiegel 13 irgendwo in der EUV-Lithographieanlage 1 anstößt, wird die Bewegung des EUV-Spiegels 13 mit Hilfe der End-Anschläge 20 abgefangen. Besonders bei einem Transport der EUV-Lithographieanlage 1 kann das wiederholte, unkontrollierte Anschlagen des EUV-Spiegels 13 bzw. der EUV-Spiegel 9, 10, 13, 14 an den End-Anschlägen 20, insbesondere bei großen Beschleunigungen (>2g), zu Beschädigungen führen.
Daher ist es günstig, den bzw. die EUV-Spiegel 9, 10, 13, 14 sowie ggf. weitere in der EUV-Lithographieanlage 1 vorhandene bewegliche Komponenten wie beispielsweise Sensorrahmen, etc. vor dem Transport der EUV-Lithographieanlage 1 zu fixieren, so dass diese nicht mehr frei zwischen den End-Anschlägen 20 beweglich sind. Für eine solche Transportsicherung besteht eine Vielzahl von Möglichkeiten, von denen nachfolgend mehrere beschrieben werden.
2a,b zeigen einen End-Anschlag 20, der einen stabförmigen Abschnitt 20a aufweist, der mit einem Ende starr an dem Tragrahmen 19 befestigt ist. Am freien Ende (Kopfende 20b) des stabförmigen Abschnitts 20a des Anschlags 20 ist eine erste, leicht gekrümmte Anschlagfläche 21a gebildet, die zur Aufnahme von Schockkräften in Schwerkraftrichtung (Z-Richtung) dient, wenn der EUV-Spiegel in 2a in (negativer) Z-Richtung gegen den Anschlag 20 beschleunigt wird. Am Kopfende 20b des Anschlags 20 bzw. des stabförmigen Abschnitts 20a ist zudem eine zweite, ringförmig umlaufende Anschlagfläche 21b gebildet, gegen die der EUV-Spiegel 13 anschlägt, wenn dieser senkrecht zur Z-Richtung (in X-Richtung bzw. in Y-Richtung) beschleunigt wird. Um zu vermeiden, dass der EUV-Spiegel 13 beim Anschlagen gegen die Anschlagflächen 21a,b beschädigt wird, sind diese jeweils an einem vakuumtauglichen Elastomer-Element gebildet, welches das freie Ende des typischerweise metallischen stabförmigen Abschnitts 20a des Anschlags 20 umgibt.
Bei dem in 2a,b gezeigten Beispiel ragt das freie Ende bzw. das Kopfende des End-Anschlags 20 in eine Ausnehmung 22 des EUV-Spiegels 13 hinein. Im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 ist sowohl zwischen der ersten Anschlagfläche 21a und dem Boden der Ausnehmung 22 als auch zwischen der umlaufenden zweiten Anschlagfläche 21b und der Mantelfläche der ringförmigen Ausnehmung 22 ein Spalt gebildet, so dass der EUV-Spiegel 13 relativ zur Tragstruktur 19 bewegt werden kann.
Im gezeigten Beispiel weist der End-Anschlag 20 als Transportsicherung eine Fixiereinrichtung 23 mit einem Fixierelement 24 auf, das in 2a in einer Betriebsstellung B gezeigt ist, in welcher das Fixierelement 24 von dem EUV-Spiegel 13 beabstandet ist. Das Fixierelement 24 kann aus der Betriebsstellung B in eine in 2b gezeigte Fixierstellung F bewegt werden, in welcher das Fixierelement 24, genauer gesagt eine im Wesentlichen konische, umlaufende Fixierfläche 25 des Fixierelements, an dem EUV-Spiegel 13, genauer gesagt an einer umlaufenden, im Wesentlichen konischen Fase 26 der Ausnehmung 22 anliegt. Die Anlage der umlaufenden Fase 26 an der umlaufenden konischen Fixierfläche 25 des in der Fixierstellung F angeordneten Fixierelements 24 ermöglicht einen Formschluss, welcher den EUV-Spiegel 13 in allen drei Raumrichtungen, d.h. sowohl in Z-Richtung als auch in X- und Y-Richtung, für den Transport fixiert.
Das Fixierelement 24 ist bei dem in 2a,b gezeigten Beispiel in Längsrichtung des stabförmigen Abschnitts 20a verschiebbar geführt und weist mehrere sich in Längsrichtung des Anschlags 20 erstreckende stabförmige Elemente auf, die an einem ringförmigen Kopfbereich des Fixierelements 24 starr befestigt sind, an dem auch die Fixierfläche 25 gebildet ist. Die stabförmigen Elemente verlaufen im gezeigten Beispiel durch Bohrungen in dem Tragrahmen 19 hindurch, die sich wie der Anschlag 20 in Z-Richtung erstrecken und die in einer regelmäßigen Anordnung in Umfangsrichtung radial versetzt zu einer Mittelachse des stabförmigen Abschnitts 20a des Anschlags 20 angeordnet sind.
Um die Bewegung des Fixierelements 24 aus der in 2a gezeigten Betriebsstellung B in die in 2b gezeigte Fixierstellung F automatisiert, d.h. mit Hilfe eines Aktuators 27 zu bewirken, bestehen mehrere Möglichkeiten, von denen beispielhaft drei in 3a-c dargestellt sind. Bei allen drei in 3a-c gezeigten Anschlägen 20 weist das Fixierelement 24 an seinem dem Kopfabschnitt mit der Fixierfläche 25 gegenüber liegenden Ende eine ringförmige Platte 28 auf, an welcher der Aktuator 27 angreift. Bei dem in 3a gezeigten Beispiel liegt an der ringförmigen Platte 28 eine Stirnseite eines ebenfalls ringförmig ausgebildeten Piezoaktors 27 an, dessen Länge in Längsrichtung des Anschlags (d.h. in Z-Richtung) durch das Anlegen einer elektrischen Spannung verändert (im gezeigten Beispiel verkürzt) werden kann, um das Fixierelement 24 aus der in 3a gezeigten Fixierstellung F in die Betriebsstellung B zu bewegen.
Bei dem in 3b gezeigten Beispiel ist zwischen der ringförmigen Platte 28 und dem Tragrahmen 19 eine Feder 29 eingebracht, welche das Fixierelement 23 gegen einen sich radial nach innen erstreckenden Flanschabschnitt 30 eines zylindrischen Bauteils drückt, welches an der dem Kopfbereich 20b des Anschlags 20 abgewandten Ende des Tragrahmens 19 angebracht ist. Zur Bewegung des Fixierelements 24 aus der in 3b gezeigten Betriebsstellung B kann ein in 3b nicht dargestellter Aktuator 27 an der dem Flanschabschnitt 30 zugewandten Seite gegen die ringförmige Platte 28 andrücken, um diese und somit das Fixierelement 24 gegen die Wirkung der Federkraft in die Fixierstellung F zu verschieben.
Bei dem in 3c gezeigten Beispiel ist die ringförmige Platte 28 mit Hilfe von mehreren Piezo-Aktuatoren 27 an der dem Kopfbereich 20b des Anschlags 20 abgewandten Seite des Tragrahmens 19 befestigt. Die Piezo-Aktoren 27 weisen jeweils einen Kopfbereich auf, der an der dem Kopfabschnitt 20b des Anschlags 20 abgewandten Seite der ringförmigen Platte 28 anliegt. Durch das Anlegen einer Spannung können wie bei dem in 3a gezeigten Beispiel die Piezo-Aktoren 27 in ihrer Länge in Z-Richtung, d.h. in Längsrichtung des stabförmigen Abschnitts 20a des Anschlags 20, verändert werden, um das Fixierelement 24 aus der in 3c gezeigten Betriebsstellung B in die Fixierstellung F zu bewegen. Alternativ zu den in 3a-c gezeigten Beispielen können Piezo-Aktoren in der Art von Piezo-Schreitantrieben bzw. von so genannten „inchworm“-Piezoantrieben eingesetzt werden, die auf einem raupenähnlichen Fortbewegungsprinzip beruhen. Auch kann eine Bewegung des Fixierelements 24 von der Betriebsstellung B in die Fixierstellung F und umgekehrt manuell, d.h. ohne die Verwendung eines Aktuators erfolgen, beispielsweise durch das Anziehen bzw. Lösen von zu diesem Zweck vorgesehenen Fixierschrauben.
4a,b zeigen ein Beispiel für einen zweiteiligen Anschlag 20, dessen Kopfbereich 20b zwei Kopf-Abschnitte 31a,b aufweist und dessen stabförmiger Abschnitt 20a aus zwei Stäben 32a,b gebildet ist, die über ein jeweiliges Gelenk 33a,b an dem Tragrahmen 19 befestigt sind. Der Anschlag 20 weist eine Fixiereinrichtung 23 mit einem Fixierelement 24 auf, das zwischen der in 4a gezeigten Betriebsstellung B und der in 4b gezeigten Fixierstellung F bewegbar, genauer gesagt in Z-Richtung (Schwerkraftrichtung) verschiebbar ist. Das Fixierelement 24 ist im gezeigten Beispiel als Fixierstift ausgebildet und greift in der Fixierstellung F zwischen die beiden Kopf-Abschnitte 31a,b des Kopfbereichs 20b ein, wodurch diese aufgespreizt werden, so dass diese bzw. der Kopfbereich 20b in radialer Richtung gegen die Mantelfläche 22a der Ausnehmung 22 gedrückt wird, wodurch der EUV-Spiegel 13 festgeklemmt wird. Sofern die Reibung zwischen den Anschlagflächen 21a,b der beiden Kopf-Abschnitte 31a,b an der Mantelfläche 22a der Ausnehmung 22 hinreichend groß ist, kann der aufgespreizte Anschlag 20 eine Fixierung des EUV-Spiegels 13 nicht nur in X-Richtung und in Y-Richtung, sondern auch in Z-Richtung bewirken, d.h. der EUV-Spiegel 13 kann in allen drei Raumrichtungen fixiert werden. Alternativ zu dem in 4a,b gezeigten Anschlag 20, bei dem ein Aufspreizen von zwei Kopf-Abschnitten 31a,b erfolgt, kann ein einteilig ausgebildeter Anschlag 20 verwendet werden, bei dem ein beispielsweise ringförmig ausgebildeter, zumindest teilweise aus einem elastischen Material gebildeter Kopfbereich 20b aufgespreizt wird, indem wie bei dem in 4a,b gezeigten Beispiel ein Fixierelement 24 in den ringförmigen Kopfbereich 20b eingeführt wird. In diesem Fall kann der stabförmige Abschnitt 20a beispielsweise eine zentrische Bohrung aufweisen, in dem das Fixierelement 24 bei seiner Verschiebung geführt ist.
Die in Zusammenhang mit 2a,b, 3a-c und 4a,b gezeigten Beispiele für einen (End-)Anschlag 20, der eine Fixiereinrichtung 23 mit einem relativ zur Anschlagfläche 21a,b beweglichen, genauer gesagt verschiebbaren Fixierelement 24 aufweist, sind günstig, da eine Zugänglichkeit der EUV-Lithographieanlage 1 an einer geringeren Anzahl von Stellen erforderlich ist als bei einer Lösung, bei welcher die Fixiereinrichtung 23 räumlich getrennt von dem (End-)Anschlag 20 angeordnet ist. Dennoch kann es sinnvoll sein, die Fixiereinrichtung 23 und die Anschläge 20 räumlich zu trennen, wie nachfolgend anhand von 5a,b näher beschrieben wird.
5a zeigt das in Z-Richtung verschiebbare Fixierelement 24 einer Fixiereinrichtung 23 in der Fixierstellung F, in der das Fixierelement 24 an dem EUV-Spiegel 13 anliegt und eine Kraft auf diesen ausübt, so dass der EUV-Spiegel 13 gegen eine zylindrisch umlaufende Anschlagfläche 21b eines End-Anschlags 20 gedrückt wird, d.h. in seine Endanschlags-Position. Entsprechend zeigt 5b die Fixierung des EUV-Spiegels 13 in der XY-Ebene, d.h. senkrecht zur Z-Richtung, bei welcher das Fixierelement 24 in seiner Fixierstellung F seitlich gegen den EUV-Spiegel 13 drückt, so dass dieser zwischen dem Fixierelement 24 und drei End-Anschlägen 20 fixiert wird. Zur Verschiebung des Fixierelements 24 kann wie bei dem in 4a,b gezeigten Beispiel ein in 5a,b nicht näher beschriebener Aktuator verwendet werden.
6a zeigt eine weitere Möglichkeit zur Fixierung eines EUV-Spiegels 13 zu Transportzwecken, bei welcher alle drei End-Anschläge 20 mit Hilfe von durch Pfeile angedeuteten Aktuatoren 34 entlang ihrer Längsrichtung von der Betriebsstellung B in die in 6a gezeigte Fixierstellung F bewegt werden, in der diese an dem EUV-Spiegel 13 anliegen, um diesen zwischen den End-Anschlägen 20 zu verklemmen. Bei dem in 6b gezeigten Beispiel ist lediglich einer der drei End-Anschläge 20 mit Hilfe eines Aktuators 34 verschiebbar, um den EUV-Spiegel 13 gegen die beiden ortsfesten End-Anschläge 20 zu drücken und diesen auf diese Weise für den Transport zu fixieren.
7a,b zeigen die beiden grundsätzlichen Möglichkeiten, wie eine Schockwirkung bzw. eine Kraft F auf einen EUV-Spiegel 13 von einem Fixierelement 24 aufgenommen werden kann, das mittels eines Aktuators entlang einer Zuführ- bzw. Fixierrichtung R in eine Fixierstellung bewegt wird: Bei der in 7a gezeigten direkten Kraftaufnahme verlaufen die Fixierrichtung R und die Richtung der Kraft F parallel, während bei der in 7b gezeigten indirekten Kraftaufnahme die Richtung der Kraft F und die Fixierrichtung R senkrecht aufeinander stehen. Es versteht sich, dass auch Mischformen zwischen direkter und indirekter Kraftaufnahme möglich sind, wie dies beispielsweise bei den in 6a,b gezeigten Beispielen der Fall ist.
8a,b zeigen einen Anschlag 20, welcher mit Hilfe eines Aktuators 34 zwischen einer in 8a gezeigten Betriebsstellung B, in welcher der Anschlag 20, genauer gesagt dessen gekrümmte Anschlagfläche 21, von einer beweglichen Komponente in Form eines Tragrahmens 35 beabstandet ist, in eine in 8b gezeigte Fixierstellung F bewegt werden kann, in welcher der Anschlag 20, genauer gesagt dessen Anschlagfläche 21, an dem Tragrahmen 35 anliegt, um diesen relativ zu dem Sensorrahmen 19 z.B. für den Transport zu fixieren. Wie in 8a,b ebenfalls zu erkennen ist, dient der Tragrahmen 35 zur mechanisch entkoppelten bzw. gefederten Halterung eines EUV-Spiegels 13. Im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 ist der Tragrahmen 35 in einem vorgegebenen Abstand s (Spaltbreite) von dem Sensorrahmen 19 beabstandet.
Der in 8a,b gezeigte Aktuator 34 zur Bewegung des Anschlags 20 weist einen Antrieb 36 in Form eines Spindelantriebs auf, der auf einen Hebelmechanismus in Form eines Kniehebels 37 einwirkt, der zur Übertragung der Kraft von dem Spindelantrieb 36 auf den Anschlag 20 dient. Der Kniehebel 37 weist einen ersten und zweiten Schenkel 38a,b auf, die jeweils an einem ersten Ende über ein gemeinsames Gelenk 39 miteinander verbunden sowie um dieses drehbar gelagert sind. Das zweite Ende des ersten Schenkels 38a ist über ein weiteres Gelenk 40 mit einer Abschirmung 41 (Gehäuse) verbunden, welches den Aktuator 34, genauer gesagt den Kniehebel 37 mit dem Antrieb 36, gegen die Vakuum-Umgebung abdichtet, in welcher der EUV-Spiegel 13 angeordnet ist, um eine Kontamination durch bei der Betätigung des Aktuators 34 z.B. aufgrund von Reibungskräften auftretende Partikel zu verhindern.
Das zweite Ende des ersten Schenkels 38a des Kniehebels 37 ist über ein weiteres Gelenk 42 mit dem Anschlag 20 verbunden, an dem die Anschlagfläche 21 gebildet ist. Der Anschlag 20 wird in einer Lagerhülse 43 verschiebbar geführt. Bei dem Gelenk 39 sowie bei den weiteren Gelenken 40, 42 handelt es sich jeweils um Scharniergelenke, so dass der Anschlag 20 sich bei der Bewegung zwischen der Fixierstellung F und der Betriebsstellung B nicht verdreht, d.h. der Anschlag 20 wird bezüglich seiner Mittelachse 45 verdrehsicher geführt. Zwischen der Lagerhülse 43 und dem Anschlag 20 ist ein Dichtungselement 46 eingebracht, welches dazu dient, das Austreten von Partikeln durch den Zwischenraum zwischen der Lagerhülse 43 und dem Anschlag 20 zu verhindern. Das Dichtungselement 46 dient auch zur Lagerung des Anschlags 20 in der Lagerhülse 43 und kann beispielsweise als schleifende Dichtung ausgebildet sein.
Der Kniehebel 37 des Aktuators 34 ist bei der in 8b gezeigten Fixierstellung F durchgestreckt und ermöglicht es daher, den Anschlag 20 auch bei ausgeschaltetem Antrieb 36 in der Fixierstellung F zu halten. Es versteht sich, dass der Kniehebel 37 zu diesem Zweck auch in eine überstreckte Stellung bewegt werden kann, bei welcher der Totpunkt ebenfalls bereits überwunden wurde. Die in 8b gezeigte durchgestreckte Stellung (Strecklage) des Kniehebels 37 ermöglicht es, dass Kräfte, die bei einer Schockbelastung auf den Anschlag 20 einwirken, über den Kniehebel 37 auf die starr mit dem Tragrahmen 19 verbundene Abschirmung 41 übertragen und von dem Tragrahmen 19 aufgenommen werden, ohne dass hierbei große Kräfte auf die Spindel des Antriebs 36 einwirken. In 8a ist der Winkel, den die beiden Schenkel 38a,b in der Betriebsstellung B miteinander einschließen, übertrieben groß dargestellt. In der Regel liegt die Wegstrecke, die das Gelenk 39 zwischen der Fixierstellung F und der Betriebsstellung B zurücklegt, im Bereich von Mikrometern, so dass der Winkel zwischen den beiden Schenkeln 38a,b auch in der Betriebsstellung B nur geringfügig kleiner als 180° ist. Alternativ zu der in 8b gezeigten Fixierstellung F, in welcher der Kniehebel 37 sich in der Strecklage befindet (Winkel von 180° zwischen den beiden Schenkeln 38a,b bzw. geringfügig überstreckt) kann die Fixierstellung F des Kniehebels 37 auch in der (nicht gezeigten) Decklage (Winkel von 0° zwischen den beiden Schenkeln 38a,b bzw. geringfügig überstreckt) eingenommen werden.
Um den Anschlag 20 vor dem Transport in die in 8b gezeigte Fixierstellung F zu bewegen, muss der Antrieb 36 nur kurz mit der Stromversorgung verbunden werden und kann aufgrund der selbsthemmenden Eigenschaft des Anschlags 20 unmittelbar nach dem Erreichen der Fixierstellung F von der Stromversorgung getrennt werden. Auch bei der Bewegung in die umgekehrte Richtung, d.h. wenn der Anschlag 20 in die Betriebsstellung B bewegt wird, kann der Antrieb 36 unmittelbar nach dem Erreichen der Betriebsstellung B abgeschaltet werden. Neben der Fixierwirkung durch die (Über-)Streckung des Kniehebels 37 kann auch durch eine geeignete Wahl der Gewinde-Steigung des Gewindes der Spindel des Antriebs 36 eine Selbsthemmung erreicht werden, d.h. bei einer Krafteinwirkung auf die Anschlagfläche 21 kann sich die Spindel nicht drehen, sodass der Kniehebel 37 in der Betriebsstellung B verbleibt. Der Antrieb 36 muss lediglich aktiviert werden, um den Anschlag 20 zwischen den beiden Stellungen (B, F) zu bewegen, aber nicht, um diesen in der jeweiligen Stellung B, F zu halten. Für die Aktivierung des Antriebs 36 kann ein (nicht gezeigtes) Steuerkabel verwendet werden.
Auch bei der in 8a gezeigten Betriebsstellung B können beispielsweise bei einem Erdbeben Schockkräfte auftreten, die auf den Anschlag 20 einwirken. Um diese Kräfte in den Tragrahmen 19 einzuleiten, weist der Anschlag 20 einen Kragen bzw. einen Flansch 47 mit einer Kontaktfläche 48 auf, die an einer der Anschlagfläche 21 abgewandten Seite am Kopfende des Anschlags 20 gebildet ist. Die Kontaktfläche 48 liegt bei der in 8a gezeigten Betriebsstellung B des Anschlags 20 an der Stirnseite der Lagerhülse 43 an, welche die Schockkraft aufnimmt und an den starr mit dieser verbundenen Tragrahmen 19 überträgt.
9 zeigt ein Detail eines EUV-Spiegels 13 sowie eines Tragrahmens 19, an dem ein Anschlag 20 angebracht ist. Im gezeigten Beispiel ragt der Anschlag 20 mit dem Kopfbereich 20b des stabförmigen Abschnitts 20a in eine Ausnehmung 22 an dem EUV-Spiegel 13 hinein. Zwischen dem EUV-Spiegel 13 und dem Tragrahmen 19 ist ein Zwischenraum 50 gebildet, in den eine Flüssigkeit 51 eingebracht ist, wobei sich der Zwischenraum 50 auch in die Ausnehmung 22 erstreckt. Die in den Zwischenraum 50 eingebrachte Flüssigkeit 51 ermöglicht eine Dämpfung der Bewegung des EUV-Spiegels 13 im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1.
Bei dem in 9 gezeigten Beispiel handelt es sich bei der Flüssigkeit 51 um eine elektrorheologische Flüssigkeit, beispielsweise um in Silikonöl dispergierte Polyurethanparikel, deren Viskoelastizität bzw. deren Viskosität η sich beim Anlegen eines elektrischen Feldes E verändert, welches im gezeigten Beispiel von einer Felderzeugungs-Einrichtung 52 erzeugt wird. Die Felderzeugungs-Einrichtung 52 weist zu diesem Zweck zwei Kondensator-Platten 53a,b sowie eine steuerbare Spannungsquelle 54 zur Erzeugung einer Spannung zwischen den Kondensator-Platten 53a,b, auf. Die Felderzeugungs-Einrichtung 52 ermöglicht die Erzeugung eines im Wesentlichen homogenen elektrischen Feldes E in der elektrorheologischen Flüssigkeit 51, dessen Feldstärke durch einen einstellbaren Wert für die Spannung zwischen den Kondensator-Platten 53a,b verändert werden kann, wodurch sich auch die Viskosität η der elektrorheologischen Flüssigkeit 51 verändert. Durch die Veränderung der Viskosität η kann die Dämpfung der Bewegung des EUV-Spiegels 13 gezielt verändert werden, beispielsweise indem die Viskosität η erhöht wird, um den EUV-Spiegel 13 schnell abzubremsen, oder die Viskosität η reduziert wird, wenn eine schnelle Bewegung des EUV-Spiegels 13 zur Korrektur von Aberrationen erforderlich ist. Die Felderzeugungs-Einrichtung 52 kann zu diesem Zweck beispielsweise durch eine (nicht bildlich dargestellte) Steuereinrichtung der EUV-Lithographieanlage 1 angesteuert werden, welche auch die Bewegung der EUV-Spiegel 9, 10, 13, 14 mit Hilfe der in 1b gezeigten Aktuatoren 16 ermöglicht.
Es versteht sich, dass an Stelle einer elektrorheologischen Flüssigkeit 51 auch eine magnetorheologische Flüssigkeit in den Zwischenraum 50 eingebracht werden kann, um eine einstellbare Bewegungsdämpfung des EUV-Spiegels 13 zu erzeugen. In diesem Fall kann eine Felderzeugungs-Einrichtung, beispielsweise unter Verwendung einer bestrombaren Spule, zur Erzeugung eines magnetischen Feldes mit einstellbarer Feldstärke verwendet werden, um die Viskosität η der magnetorheologischen Flüssigkeit zu verändern. Bei der magnetorheologischen Flüssigkeit kann es sich beispielsweise um eine Suspension mit Carbonyleisenpulver handeln.
Insbesondere kann die Einstellung der Viskosität η der elektrorheologischen Flüssigkeit 51 (und entsprechend einer magnetorheologischen Flüssigkeit) auch dazu verwendet werden, die Viskosität η so groß zu wählen, dass sich der EUV-Spiegel 13 praktisch nicht mehr bewegen lässt, d.h. die Flüssigkeit 51 kann zur Fixierung des EUV-Spiegels 13 dienen. Dies ist insbesondere für die Realisierung einer Transportsicherung günstig, bei welcher die Position des EUV-Spiegels 13 relativ zu dem Tragrahmen 19 konstant gehalten werden soll, um ein ggf. mehrfaches Anschlagen des EUV-Spiegels 13 gegen die Anschlagflächen 21a,b, des Anschlags 20 zu verhindern. Auf diese Weise kann die elektrorheologische Flüssigkeit gemeinsam mit der Felderzeugungs-Einrichtung 52 als Fixiereinrichtung zur Fixierung des EUV-Spiegels 13 relativ zur Tragstruktur 19 verwendet werden. Anders als in 9 dargestellt ist, ist es nicht zwingend erforderlich, dass die elektrorheologische Flüssigkeit 51 in einem Bereich in den Zwischenraum 50 eingebracht ist, in dem sich ein Anschlag 20 befindet.
10 zeigt ein Beispiel eines EUV-Spiegels 13, bei dem ebenfalls in einen Zwischenraum 50 zwischen dem Tragrahmen 19 und dem EUV-Spiegel 13 eine Flüssigkeit, im gezeigten Beispiel eine thixotrope Flüssigkeit 55, eingebracht ist. Die thixotrope Flüssigkeit 55 weist eine Viskosität η auf, die abhängig vom Lastfall, d.h. abhängig von den auf die thixotrope Flüssigkeit 55 wirkenden Scherkräften, variiert. Bei einer hohen Beschleunigung des EUV-Spiegels 13 weist die thixotrope Flüssigkeit 55 eine stark erhöhte Viskosität auf, während diese sich bei niedrigen Beschleunigungen wie eine niedrigviskose Flüssigkeit verhält. Die thixotrope Flüssigkeit 55 kann aus mehreren unterschiedlichen Flüssigkeits-Bestandteilen zusammengesetzt sein, beispielsweise aus einer Knetmasse auf Basis von Bor und Silikon. Die thixotrope Flüssigkeit 55 bzw. deren Dämpfungsspektrum kann hierbei insbesondere an das zu erwartende Anregungs- bzw. Schwingungsspektrum des EUV-Spiegels 13 beim Transport, bei einem seismischen Schock oder beim Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 angepasst werden.
Bei den ersten beiden Anwendungsfällen (Transport und seismischer Schock) sind die zu erwartenden Beschleunigungen typischerweise um einen Faktor Zehn größer als im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1. Bei den ersten beiden Anwendungsfällen sollte die thixotrope Flüssigkeit 55 daher einen möglichst guten Kraftschluss zwischen dem EUV-Spiegel 13 und dem Tragrahmen 19 bewirken, damit die entstehenden Beschleunigungskräfte von dem Tragrahmen 19 aufgenommen werden können. Im Betrieb sollte die thixotrope Flüssigkeit 55 die Bewegung des EUV-Spiegels 13 möglichst wenig hemmen. Zusätzlich oder alternativ zu einer thixotropen Flüssigkeit 55 kann ggf. auch eine rheopexe Flüssigkeit verwendet werden, bei der die Viskosität η mit zunehmenden Scherkräften abnimmt, was ggf. während des Betriebs der EUV-Lithographieanlage 1 günstig sein kann.
Um zu vermeiden, dass im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 über die thixotrope Flüssigkeit 55 Vibrationen von dem Tragrahmen 19 auf den EUV-Spiegel 13 übertragen werden, kann die thixotrope Flüssigkeit 55 erst kurz vor dem Transport der EUV-Lithographieanlage 1 in den Zwischenraum 50 eingebracht werden, und zwar über eine Zu- und Abführungseinrichtung 56, welche eine Zu- und Abführungsleitung 57 sowie eine Pumpe 58 aufweist, wobei letztere die thixotrope Flüssigkeit 55 aus einem VorratsBehälter 59 in den Zwischenraum 50, genauer gesagt in die Ausnehmung 22 pumpt. Nach dem Transport kann die thixotrope Flüssigkeit 56 mit Hilfe der Pumpe 58 aus dem Zwischenraum 50 bzw. aus der Ausnehmung entfernt werden, es ist aber ggf. auch möglich, die thixotrope Flüssigkeit 55 auf andere Weise aus dem Zwischenraum 50 zu entfernen, beispielsweise indem eine Ummantelung, beispielsweise in der Art einer Membran, geöffnet wird, welche ansonsten den Zwischenraum 50 gegen die Vakuum-Umgebung im Wesentlichen gasdicht abschließt. Gegebenenfalls kann auf eine solche gasdichte Ummantelung bzw. Abschirmung verzichtet werden, wenn die thixotrope Flüssigkeit 55 nur sehr schwer flüchtig ist und der Zwischenraum 50 wie bei dem in 10 gezeigten Beispiel eine Ausnehmung 22 in dem EUV-Spiegels 13 aufweist, die nur nach oben hin offen ist und in welche die thixotrope Flüssigkeit 55 eingebracht ist.
Bei dem in 10 gezeigten Beispiel können die Ausnehmungen 22, in welche die thixotrope Flüssigkeit 55 eingebracht wurde, ggf. durch eine (nicht gezeigte) Membran verschlossen werden, so dass die thixotrope Flüssigkeit 55 in jedem Fall nicht aus der jeweiligen Ausnehmung 22 austreten kann. Um schnelle Bewegungen des EUV-Spiegels 13 auf den Tragrahmen 19 zu übertragen, sind bei dem in 10 gezeigten Beispiel zwei stabförmige Bauteile 60 (Stempel) vorgesehen, die mit ihrem jeweiligen Kopfbereich 61 in die thixotrope Flüssigkeit 55 innerhalb der jeweiligen Ausnehmung 22 eintauchen, um die Kraft von dem in die thixotrope Flüssigkeit 55 eingetauchten Stempel 60 auf den Tragrahmen 19 zu übertragen.
Die in 10 gezeigten stabförmigen Bauteile 60 dienen nicht als End-Anschläge, d.h. diese sind so weit von dem EUV-Spiegel 13 entfernt, dass dieser die stabförmigen Bauteile 60 bei seiner Bewegung nicht erreicht. Zur Begrenzung der Bewegung des EUV-Spiegels 13 dienen wie bei den weiter oben beschriebenen Beispielen mehrere End-Anschläge, die in 10 zur Vereinfachung nicht dargestellt sind.
11a,b zeigen eine Fixiereinrichtung 70 zur Fixierung eines EUV-Spiegels 13, die ein Fixierelement 62 aufweist, das zwischen einer in 11b gezeigten Betriebsstellung B in eine (in 11a,b nicht bildlich dargestellte) Fixierstellung F bewegbar ist, in der das Fixierelement 62 an dem EUV-Spiegel 13 anliegt und diesen gegen die in 11a,b nicht gezeigten End-Anschläge oder ggf. gegen andere Bauteile drückt und dabei fixiert. Im gezeigten Beispiel kann das Fixierelement 62 durch eine Veränderung des Innendrucks p₁ in einem Innenraum 4a des Vakuum-Gehäuses 4 (vgl. 1a) des Projektionssystems, in dem der EUV-Spiegel 13 angeordnet ist, von der Betriebsstellung B in die Fixierstellung F bewegt werden, und umgekehrt. Zu diesem Zweck weist die Fixiereinrichtung 70 ein gegen den Innenraum 4a des (Vakuum-)Gehäuses 4 abgedichtetes Gas-Volumen 63 auf, welches in einem weiteren Gehäuse 65 gebildet ist, das einen Wandungsbereich aus einer (Metall-)Membran 64 aufweist. Die Membran 64 ist in Abhängigkeit von einer Differenz p₁ - p₂ zwischen dem Innendruck p₁ in dem Gehäuse 4 und einem Druck p₂ in dem Gas-Volumen 63 in dem weiteren Gehäuse 65 elastisch verformbar und biegt sich durch, um das im gezeigten Beispiel fest mit der Membran 64 verbundene Fixierelement 62 zwischen der in 11b gezeigten Betriebsstellung B nach links in die (nicht gezeigte) Fixierstellung F zu bewegen. Das weitere Gehäuse 65 ist über drei in 11a angedeutete Befestigungsschrauben fest mit dem Tragrahmen 19 verbunden und der EUV-Spiegel 13 ist an dem weiteren Gehäuse 65 beweglich gelagert. Wie weiter oben beschrieben wurde, bewirkt die Druckänderung eine Relativbewegung des Fixierelements 62 zu dem weiteren Gehäuse 65 nach links in die Fixierstellung F, in der das Fixierelement 62 an der Rückseite des EUV-Spiegels 13 anliegt, um diesen für den Transport zu fixieren.
Die Bewegung des in 11a,b gezeigten Fixierelements 62 in die Fixierstellung F erfolgt, wenn die Kraft F₁, die der Innendruck p₁ in dem Gehäuse 4 auf die Außenseite der Membran 64 ausübt, größer ist als die Kraft F₂, die durch den Druck p₂ in dem Gas-Volumen 63 auf die Innenseite der Membran 64 ausgeübt wird. Im gezeigten Beispiel herrscht in dem Gas-Volumen 63 in dem weiteren Gehäuse 65 ein permanenter statischer Druck p₂ von ca. 500 mbar. Der Innendruck p₁ in dem Innenraum 4a des Gehäuses 4 liegt im gezeigten Beispiel während des Betriebs der EUV-Lithographieanlage 1 bei ca. 10^-1 mbar und ist damit deutlich kleiner als der Druck p₂ in dem Gas-Volumen 63, so dass sich das Fixierelement 62 im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 in der Betriebsstellung B befindet. Wird die EUV-Lithographieanlage 1 transportiert, herrscht in dieser und somit auch in dem Gehäuse 4 typischerweise ein Innendruck p₁, der im Wesentlichen mit dem Umgebungsdruck (ca. 1 bar) übereinstimmt. Die in 11a,b gezeigte Fixiereinrichtung 70 ermöglicht es daher, eine Transportsicherung bereitzustellen, welche voll automatisch, d.h. lediglich aufgrund des sich verändernden Umgebungsdrucks der EUV-Lithographieanlage 1 und somit des sich verändernden Innendrucks p₁ in dem Gehäuse 4, in dem der EUV-Spiegel 13 angeordnet ist, zwischen der Fixierstellung F und der Betriebsstellung B hin- und her bewegt.
12a,b zeigen einen EUV-Spiegel 13 mit einer Fixiereinrichtung 70 zu dessen Fixierung an einem Tragrahmen 19. Die Fixiereinrichtung 70 weist ein erstes, hakenförmiges Fixierelement 71 auf, das starr an dem Tragrahmen 19 befestigt ist. Ein zweites hakenförmiges Fixierelement 72 der Fixiereinrichtung 70 ist starr an dem EUV-Spiegel 13 befestigt. Zur Bewegung des EUV-Spiegels 13 im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 ist ein Aktuator 16 vorgesehen. Der Aktuator 16 dient dazu, den EUV-Spiegel 13 innerhalb eines vorgegebenen Bewegungsbereichs zu bewegen, um Aberrationen zu korrigieren. Der EUV-Spiegel 13 wird mit Hilfe des Aktuators 16 in eine in 11b gezeigte Fixierstellung F bewegt, in der die beiden hakenförmigen Fixierelemente 71, 72 ineinander eingreifen, d.h. die beiden Fixierelemente 71, 72 bilden eine mechanische Verriegelung (Schlüssel-Schloss-Prinzip).
Die Fixierstellung F kann bei dem in 12a,b gezeigten Beispiel nur erreicht werden, wenn der EUV-Spiegel 13 entlang einer vorgegebenen, in 12a gezeigten Bahnkurve K bewegt wird. Zu diesem Zweck kann über den Aktuator 16, der im gezeigten Beispiel als Lorentz-Aktuator ausgebildet ist, durch die kurzzeitige Beaufschlagung mit einem höheren Strom bzw. einem Stromimpuls auf den EUV-Spiegel 13 kurzzeitig eine so große Kraft ausgeübt werden, dass dieser den eigentlichen Bewegungsbereich verlässt und in negativer Z-Richtung (d.h. nach oben) beschleunigt wird. Zu einem geeigneten Zeitpunkt wird der EUV-Spiegel 13 durch einen weiteren Stromimpuls in Y-Richtung (d.h. nach rechts) beschleunigt, bis das zweite hakenförmige Fixierelement 72 teilweise oberhalb des ersten hakenförmigen Fixierelements 71 angeordnet ist und aufgrund der Schwerkraftwirkung mit diesem in Eingriff kommt.
Der EUV-Spiegel 13 kann aus der in 12b gezeigten Fixierstellung F nur gelöst werden, wenn dieser die Bahnkurve K in umgekehrter Richtung durchläuft, wobei dieser zur Überwindung der Schwerkraft zunächst durch einen Stromimpuls auf den Aktuator 16 eine kurze Strecke nach oben, d.h. in negative Z-Richtung, beschleunigt wird, bevor dieser nach links, d.h. in negativer Y-Richtung, beschleunigt wird und nachfolgend durch Schwerkraftwirkung in die in 12a gezeigte Betriebsstellung B abgesenkt wird. 13a,b zeigen eine Fixiereinrichtung 70, die wie bei dem in 12a,b gezeigten Beispiel ein erstes, an dem Tragrahmen 19 angebrachtes Fixierelement 71 sowie ein zweites, an dem EUV-Spiegel 13 angebrachtes Fixierelement 72 in der Art eines Zapfens aufweist. Das zapfenförmige zweite Fixierelement 72 wird mit Hilfe des Aktuators 16 in einer Fixierrichtung (hier: negative Z-Richtung) in die in 13b gezeigte Fixierstellung F bewegt, indem dieses unter Aufbringung einer Kraft F in das erste Fixierelement 71 gedrückt wird. In der Fixierstellung F wird das zweite Fixierelement 72 von dem ersten Fixierelement 71 umklammert. Nach erneuter Einwirkung einer Kraft F auf das zweite Fixierelement 72 in derselben Richtung (negative Z-Richtung) wird das zweite Fixierelement 72 aus der Fixierstellung F gelöst und in die in 13a gezeigte Betriebsstellung B bewegt. Das erneute Aufbringen der Kraft auf das zweite Fixierelement 72 erfolgt ebenfalls mit Hilfe des Lorentz-Aktuators 16. Das erste Fixierelement 71 weist zu diesem Zweck ähnlich wie bei einem Kugelschreibermechanismus oder bei einer Arretierung für einen SD-Kartenschacht einen Verriegelungsmechanismus mit einem bistabilen Zustand auf. Die entsprechende Mechanik kann beispielsweise über eine Kurvenscheibe bzw. über ein Kurven-Getriebe zur Erzeugung einer ungleichförmigen Bewegung in Kombination mit einer Sägezahnform für die Fixierung ausgebildet sein.
14a,b zeigen ein weiteres Beispiel einer Fixiereinrichtung 80 zur Fixierung eines EUV-Spiegels 13, welche zur Fixierung des EUV-Spiegels 13 an dem Tragrahmen 19 eine Kontaktfläche 81 aufweist. Die Kontaktfläche 81 ist im gezeigten Beispiel an einem stabförmigen Bauteil 60 gebildet, welches einen Kopfbereich 61 aus einem Elastomer-Material, beispielsweise aus einem Ethylen-Propylen-Dien-Kautschuk (EPDM) mit einer sehr geringen Oberflächenrauheit aufweist. Das optische Element 13 weist auf seiner Rückseite, genauer gesagt auf der Rückseite seines Spiegel-Substrats, bei dem es sich beispielsweise um ein titandotiertes Quarzglas wie ULE® oder um eine Glaskeramik, beispielsweise um Zerodur®, handeln kann, einen polierten Oberflächenbereich 82 auf, der ebenfalls eine geringe Rauigkeit aufweist.
Bei der in 14a gezeigten Betriebsstellung B ist die Kontaktfläche 81 von dem EUV-Spiegel 13 beabstandet, während in dem in 14b gezeigten Beispiel der EUV-Spiegel 13, genauer gesagt der polierte Oberflächenbereich 82, an der Kontaktfläche 81 anliegt. Wird der EUV-Spiegel 13 mit ausreichender Kraft gegen die Kontaktfläche 81 gepresst, bleibt die Adhäsion zwischen der Kontaktfläche 81 und dem EUV-Spiegel 13 auch nach dem Lösen der Anpresskraft erhalten, d.h. der EUV-Spiegel 13 wird durch Adhäsion an der Kontaktfläche 81 fixiert. Das Anpressen des EUV-Spiegels 13 gegen die Kontaktfläche 81 kann mit Hilfe eines Aktuators 16 erfolgen, welcher den EUV-Spiegel 13 in negativer Z-Richtung bewegt und gegen die Kontaktfläche 81 andrückt. Das Anpressen kann ggf. auch erfolgen, wenn die EUV-Lithographieanlage 1 zum Transport auf den Kopf gestellt wird, wobei in diesem Fall der EUV-Spiegel 13 aufgrund der Schwerkraftkompensation (s.o.) ungefähr mit der doppelten Erdbeschleunigung 2 g gegen die Kontaktfläche 81 gepresst wird.
Bei dem stabförmigen Bauteil 60 mit dem Kopfbereich 61 kann es sich um einen der weiter oben beschriebenen End-Anschläge 20 handeln, bei dem das Elastomer-Material, an dem die Anschlagfläche 21a,b gebildet ist, geeignet gewählt wird. Bei dem stabförmigen Bauteil 60 muss es sich jedoch nicht zwingend um einen End-Anschlag handeln, welcher den Bewegungsbereich des EUV-Spiegels 13 begrenzt, vielmehr kann es sich bei dem stabförmigen Bauteil 60 mit der Kontaktfläche 81 um eine von den End-Anschlägen 20 räumlich getrennte Transportsicherung handeln.
Die meisten der weiter oben beschriebenen Beispiele wurden anhand einer beweglichen Komponente in Form eines EUV-Spiegels 13 beschrieben, es versteht sich aber, dass es sich bei der beweglichen Komponente auch um ein nahezu beliebiges anderes Bauteil handeln kann, beispielsweise um einen Sensorrahmen, eine Halterung für ein optisches oder nicht-optisches Element, etc. Auch bei der in den obigen Beispielen als ortsfest angenommenen Komponente muss es sich nicht zwingend um den Tragrahmen 19 handeln, vielmehr kann es sich ggf. um eine weitere, relativ zum Boden bzw. zu einem ortsfesten Bezugssystem bewegliche Komponente handeln. Es versteht sich ebenfalls, dass die weiter oben beschriebenen Beispiele lediglich beispielhaft im Zusammenhang mit einer EUV-Lithographieanlage 1 beschrieben wurden und auch bei anderen optischen Anordnungen zum Einsatz kommen können.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102012212503 A1 [0007, 0027]
DE 102014215159 A1 [0008]
DE 102011087389 A1 [0009]
US 2013/0314681 A1 [0069]
DE 102011004607 A1 [0069]

Claims

Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem (1), umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13), insbesondere einen Spiegel, mindestens einen Anschlag (20) mit mindestens einer Anschlagfläche (21a,b) zur Begrenzung der Bewegung der zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19), dadurch gekennzeichnet, dass die optische Anordnung, bevorzugt der Anschlag (20), eine Fixiereinrichtung (23) zur Fixierung der zweiten Komponente (13) aufweist, die mindestens ein relativ zur Anschlagfläche (21a,b) des Anschlags (20) bewegbares Fixierelement (24) umfasst.
Optische Anordnung nach Anspruch 1, bei der das Fixierelement (24) insbesondere manuell zwischen einer Fixierstellung (F), in der das Fixierelement (24) an der zweiten Komponente (13) anliegt, und einer Betriebsstellung (B) bewegbar ist, in der das Fixierelement (24) von der zweiten Komponente (13) beabstandet ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 2, weiter umfassend: mindestens einen Aktuator (27) zur Bewegung des Fixierelements (24) zwischen der Fixierstellung (F) und der Betriebsstellung (B).
Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher der Anschlag (20) einen stabförmigen Abschnitt (20a) mit einem Kopfbereich (20b) aufweist, an dem mindestens eine Anschlagfläche (21a,b) gebildet ist, und bei der das Fixierelement (24) in Längsrichtung (Z) des stabförmigen Abschnitts (20a) verschiebbar geführt ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 4, bei der das Fixierelement (24) den stabförmigen Abschnitt (20a) des Anschlags (20) ringförmig umgibt.
Optische Anordnung nach Anspruch 4 oder 5, bei der die zweite Komponente (13) eine Ausnehmung (22) aufweist, in die der Anschlag (20) mit dem Kopfbereich (20b) eingreift.
Optische Anordnung nach Anspruch 6, bei welcher das Fixierelement (24) zum Aufspreizen des Kopfbereichs (20b) des Anschlags (20) gegen die Mantelfläche (22a) der Ausnehmung (22) ausgebildet ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 7, bei welcher der Kopfbereich (20b) des Anschlags (20) mindestens zwei relativ zueinander bewegliche Kopf-Abschnitte (31a,b) aufweist, zwischen die das Fixierelement (24) in der Fixierstellung (F) eingreift.
Optische Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher das Fixierelement (24) in der Fixierstellung (F) die zweite Komponente (13) gegen mindestens eine Anschlagfläche (21a,b) eines Anschlags (20) drückt.
Optische Anordnung nach dem Oberbegriff von Anspruch 1, insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: einen Aktuator (34) mit einem Antrieb (36) zur Bewegung des Anschlags (20) zwischen einer Fixierstellung (F), in der die Anschlagfläche (21a) an der zweiten Komponente (35) anliegt, und einer Betriebsstellung (B), in welcher die Anschlagfläche (21a) von der zweiten Komponente (35) beabstandet ist, wobei der Aktuator (34) ausgebildet ist, den Anschlag (20) bei ausgeschaltetem Antrieb (36) in der Fixierstellung (F) zu halten.
Optische Anordnung nach Anspruch 10, bei welcher der Anschlag (20) eine Kontaktfläche (48) aufweist, die in der Betriebsstellung (B) an der ersten Komponente (19) anliegt, wobei die Kontaktfläche (48) bevorzugt an einer der Anschlagfläche (21) gegenüber liegenden Seite des Anschlags (20) gebildet ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, bei welcher der Aktuator (34) zur Kraftübertragung des Antriebs (36) auf den Anschlag (20) ein Getriebe, bevorzugt einen Hebelmechanismus (37), aufweist.
Optische Anordnung nach Anspruch 12, bei welcher der Hebelmechanismus einen Kniehebel (37) mit zwei über ein gemeinsames Gelenk (39) verbundenen Schenkeln (38a,b) bildet, wobei der Anschlag (20) bevorzugt über ein weiteres Gelenk (42) mit einem der beiden Schenkel (38a, 38b) verbunden ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 12 oder 13, bei welcher sich der Kniehebel (37) in der Fixierstellung (F) des Anschlags (20) in einer Strecklage, in einer Decklage oder in einer überstreckten Stellung befindet.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 14, bei welcher der Anschlag (20) bei der Bewegung zwischen der Fixierstellung (F) und der Betriebsstellung (B) verdrehsicher geführt ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, weiter umfassend: eine Abschirmung (41), die zumindest den Antrieb (36) des Aktuators (34) gegen die Umgebung kapselt.
Optische Anordnung (1), insbesondere Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente bewegliche zweite Komponente (13), insbesondere einen Spiegel, wobei in einen Zwischenraum (50) zwischen der ersten Komponente (19) und der zweiten Komponente (13) eine Flüssigkeit, insbesondere eine magnetorheologische Flüssigkeit, eine elektrorheologische Flüssigkeit (51) oder eine thixotrope Flüssigkeit (55) eingebracht ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 17, weiter umfassend: einen Behälter (59) zur Aufbewahrung der Flüssigkeit (55), sowie eine Zuführungseinrichtung (56) zur Zuführung der Flüssigkeit (55) aus dem Behälter (59) in den Zwischenraum (50).
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 17 oder 18, bei welcher die erste Komponente (19) mindestens ein stabförmiges Bauteil (60), insbesondere einen Anschlag (20), mit einem Kopfbereich (20b, 61) aufweist, der in die Flüssigkeit (51, 55) eintaucht.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 17 bis 19, weiter umfassend: mindestens eine Felderzeugungs-Einrichtung (52) zur Erzeugung eines magnetischen oder elektrischen Feldes (E) zur Veränderung der Viskosität (η) der magnetorheologischen oder der elektrorheologischen Flüssigkeit (51).
Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13), insbesondere einen Spiegel, ein Gehäuse, insbesondere ein Vakuum-Gehäuse (4), mit einem Innenraum (4a), in dem die mindestens eine bewegliche zweite Komponente (13) angeordnet ist, eine Fixiereinrichtung (70) zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19), wobei die Fixiereinrichtung (70) mindestens ein Fixierelement (62) aufweist, das in einer Betriebsstellung (B) von der beweglichen Komponente (13) beabstandet ist und das in einer Fixierstellung (F) an der beweglichen Komponente (13) anliegt, wobei das Fixierelement (62) durch eine Veränderung des Innendrucks (p₁) in dem Gehäuse (4) von der Betriebsstellung (B) in die Fixierstellung (F) bewegbar ist und umgekehrt.
Optische Anordnung nach Anspruch 21, bei welcher die Fixiereinrichtung (70) ausgebildet ist, das Fixierelement (62) bei einer Zunahme des Drucks (p₁) in dem Innenraum (4a) des Gehäuses (4) von der Betriebsstellung (B) in die Fixierstellung (F) zu bewegen.
Optische Anordnung nach Anspruch 21 oder 22, bei welcher die Fixiereinrichtung (70) einen gegen den Innenraum (4a) des Gehäuses (4) abgedichtetes Gas-Volumen (63) sowie ein in Abhängigkeit von einer Differenz (p₁ - p₂) zwischen dem Innendruck (p₁) in dem Gehäuse (4) und einem Druck (p₂) in dem Gas-Volumen (63) bewegbares Bauteil (64) aufweist, das mit dem Fixierelement (62) bewegungsgekoppelt ist oder das Fixierelement (62) bildet.
Optische Anordnung nach Anspruch 23, bei der das bewegbare Bauteil als flexible Membran (64) ausgebildet ist, die einen Wandbereich eines weiteren Gehäuses (65) bildet, in dem sich das abgedichtete Gas-Volumen (63) befindet.
Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zu der ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13), insbesondere einen Spiegel, mindestens einen Aktuator (16) zur Bewegung der zweiten, beweglichen Komponente (13) relativ zu der ersten Komponente (19), gekennzeichnet durch eine Fixiereinrichtung (70) zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19), welche ein erstes, an der ersten Komponente (19) angebrachtes Fixierelement (71) und ein zweites, an der zweiten, beweglichen Komponente (13) angebrachtes Fixierelement (72) aufweist, wobei der Aktuator (16) ausgebildet ist, die bewegliche zweite Komponente (13) in eine Fixierstellung (F) zu bewegen, in welcher das erste Fixierelement (71) und das zweite Fixierelement (72) zum Halten der zweiten Komponente (13) in der Fixierstellung (F) formschlüssig und/oder kraftschlüssig zusammenwirken.
Optische Anordnung nach Anspruch 25, bei welcher das erste Fixierelement (71) und das zweite Fixierelement (72) hakenförmig ausgebildet sind und in der Fixierstellung (F) ineinandergreifen.
Optische Anordnung nach Anspruch 25 oder 26, bei welcher der mindestens eine Aktuator (16) ausgebildet ist, die zweite Komponente (13) zum Bewegen in die Fixierstellung (F) in mindestens zwei unterschiedliche Richtungen (Z, Y) zu bewegen.
Optische Anordnung nach Anspruch 25, bei welcher das erste Fixierelement (71) ausgebildet ist, das zweite Fixierelement (72) in der Fixierstellung (F) durch das Aufbringen einer Kraft (F) entlang einer Fixierrichtung (Z) zu fixieren und das zweite Fixierelement (72) durch das erneute Aufbringen einer Kraft (F) entlang der Fixierrichtung (Z) aus der Fixierstellung (F) zu lösen.
Optische Anordnung nach dem Oberbegriff von Anspruch 25, gekennzeichnet durch eine Fixiereinrichtung (80) mit mindestens einer Kontaktfläche (81) zur Fixierung der beweglichen zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19), wobei mindestens ein Oberflächenbereich (82) der zweiten Komponente (13) in einer Fixierstellung (F) an der Kontaktfläche (81) anliegt und die zweite Komponente (13) durch Adhäsion an der Kontaktfläche (81) fixiert.