DE10121347A1 - Vorrichtung zur Halterung eines optischen Elements - Google Patents
Vorrichtung zur Halterung eines optischen ElementsInfo
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Abstract
Eine Vorrichtung dient zur Halterung eines optischen Elements (1), insbesondere als Fassung zur Halterung einer Linse in einem optischen System für die Halbleiter-Lithographie. Im Bereich einer Auflage des optischen Elements (1) auf der Halterung (3) sind Ausnehmungen (5) in der Halterung (3) angeordnet, in welchen Unterdruck (p¶1¶) herrscht.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Halterung eines op
tischen Elements, insbesondere eine Fassung zur Halterung einer
Linse in einem Objektiv für die Halbleiter-Lithographie.
Im Bereich der Halbleiter-Lithographie sind derart hohe Genau
igkeiten notwendig, daß es nicht möglich ist, optische Elemen
te, wie beispielsweise Spiegel oder Linsen im Bereich der Ob
jektive durch ein Verklemmen zwischen zwei geeigneten Elementen
zu halten, da dies zu einem sehr hohen Eintrag an Deformationen
in das optische Element führen würde, welche die optische Ab
bildungsqualität gravierend verschlechtern. Daher ist es allge
mein üblich, Linsen oder andere optische Elemente mit Halterun
gen bzw. in ihren Fassungen zu verkleben.
Nun kommt es jedoch sehr häufig vor, daß derartige optische
Elemente beim Aufbau, bei der Justage oder nach dem Durchlaufen
von bestimmten Versuchsstadien wieder von ihren Halterungen
entfernt werden müssen. Sind diese nun miteinander verklebt,
ergeben sich hier entscheidende Nachteile. Der verwendete Kle
ber muß über entsprechende Verfahren, beispielsweise Tempera
tureinwirkung oder die Einwirkung von Lösungsmittel, aufgelöst
werden. Die Halterungen und das optische Element können dann
voneinander entfernt werden, erfordern jedoch nachfolgend eine
Reinigung von zurückbleibenden Resten des Klebers. Neben der
sehr großen Gefahr, das optische Element bzw. die Paßflächen
zwischen dem optischen Element und der Halterung beim Trennen
durch Kratzer oder dergleichen zu beschädigen, besteht außerdem
die Gefahr, daß beim Reinigen des Klebers entsprechende Formge
bungen in der Art verändert werden, daß diese nicht mehr inner
halb ihrer vorgegebenen Toleranzen liegen.
Durch den Einsatz der Kleber, welche überwiegend auf organi
scher Basis ausgebildet sind, können außerdem unerwünschte
Kontaminationen von Linsen oder Räumen in den Objektiven mit
organischem Material erfolgen, wenn die Objektive mit entspre
chend aggressiven Strahlungen oder im Bereich von aggressiven
Medien, wie Gasen oder dergleichen, betrieben werden.
Es ist daher die Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zur
Halterung eines optischen Elements zu schaffen, welche die oben
genannten Nachteile vermeidet und eine sichere, genaue und ein
fache Halterung des optischen Elements ermöglicht, bei der
gleichzeitigen Möglichkeit, das optische Element jederzeit von
der Halterung zu entfernen, ohne die Gefahr, die Teile zu be
schädigen, zu verschmutzen oder dergleichen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden
Teil von Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.
Durch die Ausnehmungen in der Halterung, in welchen ein ent
sprechender Unterdruck herrscht, wird erreicht, daß das opti
sche Element durch den Umgebungsdruck auf die Halterung gepreßt
und dort festgehalten wird. Dadurch entsteht eine reproduzier
bare, jederzeit lösbare Verbindung zwischen dem optischen Ele
ment und der Halterung, Probleme hinsichtlich Kontaminationen
durch Kleber, Ausgasungen oder dergleichen können vermieden
werden. Weitere Vorteile entstehen hinsichtlich der Handhabung
von derartigen Aufbauten, da diese sehr schnell und einfach
montiert und demontiert werden können, ohne daß die Handhabung
eines entsprechenden gegebenenfalls giftigen oder umweltunver
träglichen Klebers erforderlich wäre, und ohne daß entsprechen
de Wartezeiten für eine Aushärtung des Klebers eingehalten wer
den müssen.
In einer besonders günstigen Ausgestaltung der Erfindung weisen
die Ausnehmungen dabei eine Verbindung mit wenigstens einer
Einrichtung zur Erzeugung des Unterdrucks auf. Hierdurch ist es
möglich, den Unterdruck gezielt ein- und auszuschalten, um eine
entsprechende Halterung bzw. ein Entfernen des optischen Ele
ments sehr schnell und einfach zu ermöglichen.
In einer besonders günstigen Weiterbildung hiervon ist es vor
gesehen, daß der Druck in den Ausnehmungen bei einem Transport
der Halterung gegenüber dem Druck im bestimmungsgemäßen Betrieb
der Halterung veränderbar ist.
So kann beispielsweise eine Erniedrigung des Drucks, also das
Einstellen eines größeren Unterdrucks, beim Transport sicher
stellen, daß das optische Element sicher und positionsgenau im
Bereich der Halterung gehalten wird. Im bestimmungsgemäßen Be
trieb, bei welchem das optische Element beispielsweise durch
seine eigene Schwerkraft auf seine Halterung gepreßt wird, ist
ein entsprechend kleinerer (Unter-)druck ausreichend, um die
Halterung sicherzustellen. Damit lassen sich jedoch auch die
auf das optische Element wirkenden Kräfte und die damit verur
sachten Deformationen vermeiden, so daß auf entsprechende Aus
gleichsmaßnahmen zum Erzielen einer guten Abbildungsgenauigkeit
verzichtet werden kann.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich
aus den restlichen Unteransprüchen und den anhand der Zeichnung
nachfolgend dargestellten Ausführungsbeispielen.
Es zeigt:
Fig. 1 einen Querschnitt durch einen Teil eines optischen
Elements und einen Teil einer Halterung;
Fig. 2 eine Draufsicht auf einen Teil einer Halterung;
Fig. 3 eine Draufsicht auf einen Teil einer Halterung in ei
ner alternativen Ausführungsform; und
Fig. 4 einen Schnitt gemäß der Linie IV-IV in Fig. 3 bei
aufgelegtem optischen Element.
Fig. 1 zeigt ein optisches Element 1, hier eine Linse 1, wel
che in einem Teilbereich einer ihrer polierten Oberflächen 2
auf einer Halterung 3, hier einer Fassung 3, aufliegt. Eine dem
optischen Element 1 zugewandte Fläche 4 der Fassung 3 ist in
zwei Teilflächen 4a, 4b unterteilt, zwischen welchen eine Aus
nehmung 5 angeordnet ist. Im Bereich der Ausnehmung 5 herrscht
zur Fixierung des optischen Elements 1 auf der Fassung 3 ein
Unterdruck p1, so daß das optische Element 1 durch den Umge
bungsdruck pu auf die Fassung 3 gepreßt und dort gehalten wird.
Zur Erzeugung des Unterdrucks p1 sind entsprechende, hier nur
symbolisch angedeutete Einrichtungen 6, beispielsweise eine Va
kuumpumpe mit den entsprechenden Ventileinrichtungen vorgese
hen.
Die Ausnehmungen 5 lassen sich in verschiedenen Arten in die
Fassung 3 integrieren. Fig. 2 zeigt in einer Draufsicht bei
abgenommener Linse 1 auf die Fassung 3 eine dieser Möglichkei
ten. Die Ausnehmungen 5 sind dabei als kreissegmentförmige nu
tenartige Ausnehmungen 5 zwischen die beiden Teilflächen 4a, 4b
der Fläche 4 der Fassung 3 integriert, wobei zwischen den ein
zelnen Ausnehmungen 5 jeweils Stege 7 angeordnet sind, so daß
die Fläche 4 eine einheitliche Fläche darstellt, welche ledig
lich durch die Ausnehmung 5 unterbrochen wird. Dies ermöglicht
in besonders günstiger Weise, daß die Oberflächenform und die
Oberflächengenauigkeit, wie beispielsweise die Ebenheit oder
die Formtreue, mittels interferometrischer Meßverfahren be
stimmt werden kann. Damit läßt sich in besonders günstiger Wei
se die erforderliche Genauigkeit erzielen, da die Flächen 4, um
eine ausreichende Dichtigkeit zu gewährleisten, über eine ent
sprechende Oberflächenqualität verfügen müssen und möglichst
exakt mit der Form der Oberfläche 2 zumindest in dem Teilbe
reich, in welchem diese die Fassung 3 berührt, übereinstimmen
sollte.
Fig. 3 zeigt eine alternative Möglichkeit, die Ausnehmungen 5
auszuführen, wobei diese hier als umlaufender Spalt ausgebildet
sind, welcher die Teilflächen 4a, 4b der Fassung 3 im Bereich
der Auflage der hier nicht dargestellten Linse 1 vollkommen
voneinander trennt. Aufgrund dieser Trennung kann die Ebenheit
der Flächen zueinander bzw. ihre Lage zueinander zwar nicht
mehr mittels interferometrischer Meßmethoden bestimmt werden,
der Aufbau bietet jedoch andere Vorzüge, welche nachfolgend er
läutert werden.
Fig. 4 zeigt in einem prinzipmäßig angedeuteten Querschnitt
gemäß der Linie IV-IV in Fig. 3 einen dieser oben angesproche
nen Vorzüge.
Die Teilfläche 4b, welche im Bereich eines äußeren Ringsegments
3b der Fassung 3 angeordnet ist, ist dabei in einem der Ober
fläche 4b abgewandten Bereich mittels eines weichen, verformba
ren Bereichs 8 in der Art ausgebildet, daß durch die Einwirkung
der durch das optische Element 1 ausgeübten Kraft die Lage der
Fläche 4b veränderbar ist. Die Fläche 4b kann sich somit der
polierten Oberfläche 2 des optischen Elements 1 sehr exakt an
passen, so daß eine hervorragende Paßgenauigkeit und die ent
sprechende gewünschte Abdichtung ohne die Verwendung von ent
sprechenden Dichtmaterialien, was jedoch prinzipiell selbstver
ständlich auch möglich wäre, zu erzielen.
Der Aufbau gemäß Fig. 4 muß sich selbstverständlich nicht auf
das äußere Ringsegment 3b der Fassung 3 beschränken, er könnte
ebenso ein inneres Ringsegment 3a der Fassung 3 umfassen, was
hier jedoch nicht dargestellt wurde.
Die hier dargestellte Fassung 3 muß dabei nicht die gesamte
Fassungstechnik der Linse 1 darstellen, es kann sich hierbei
auch um einen Fassungsring handeln, welcher über entsprechende
Aufnahmen an einem außerhalb liegenden Fassungsflansch, welcher
dann an dem Objektiv montiert wird, angebunden sein.
Claims (7)
1. Vorrichtung zur Halterung eines optischen Elements, insbe
sondere Fassung zur Halterung einer Linse in einem opti
schen System für die Halbleiter-Lithographie, dadurch ge
kennzeichnet, daß im Bereich der Auflage des optischen Ele
ments (1) auf der Halterung (3) Ausnehmungen (5) in der
Halterung (3) angeordnet sind, in welchen Unterdruck (p1)
herrscht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das optische Element (1) und die Halterung (3) im Bereich
der Auflage des optischen Elements (1) auf der Halterung
(3) jeweils polierte Oberflächen (2, 4) aufweisen.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ausnehmungen (5) eine Verbindung mit wenigstens ei
ner Einrichtung (6) zur Erzeugung des Unterdrucks (p1) auf
weisen.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der Unterdruck (p1) in den Ausnehmungen (5) bei einem
Transport der Halterung (3) gegenüber dem Unterdruck (p1)
im bestimmungsgemäßen Betrieb der Halterung (3) veränderbar
ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Ausnehmungen (5) in einer Fläche (4)
der Halterung (3) als mehrere Einzelausnehmungen ausgebil
det sind.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Ausnehmungen (5) als wenigstens ein
Spalt zwischen wenigstens zwei konzentrischen Ringsegmenten
(3a, 3b) ausgebildet sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens eines der Ringsegmente (3a, 3b) auf seiner dem
optischen Element (1) abgewandten Seite in der Art
(verformbarer Bereich 8) ausgebildet ist, daß seine Lage
durch die Einwirkung der durch das optische Element (1)
darauf ausgeübten Kraft veränderbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001121347 DE10121347A1 (de) | 2001-05-02 | 2001-05-02 | Vorrichtung zur Halterung eines optischen Elements |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2001121347 DE10121347A1 (de) | 2001-05-02 | 2001-05-02 | Vorrichtung zur Halterung eines optischen Elements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10121347A1 true DE10121347A1 (de) | 2002-11-07 |
Family
ID=7683375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2001121347 Withdrawn DE10121347A1 (de) | 2001-05-02 | 2001-05-02 | Vorrichtung zur Halterung eines optischen Elements |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10121347A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017200636A1 (de) | 2017-01-17 | 2018-07-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, mit einer Transportsicherung |
DE102023204744A1 (de) | 2023-05-22 | 2024-05-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system und projektionsbelichtungsanlage |
-
2001
- 2001-05-02 DE DE2001121347 patent/DE10121347A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017200636A1 (de) | 2017-01-17 | 2018-07-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, mit einer Transportsicherung |
US10761436B2 (en) | 2017-01-17 | 2020-09-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical arrangement, in particular lithography system, with a transport lock |
DE102023204744A1 (de) | 2023-05-22 | 2024-05-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system und projektionsbelichtungsanlage |
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