DE102014114330A1

DE102014114330A1 - Solar-Control-Schichtsystem mit neutraler schichtseitiger Reflexionsfarbe und Glaseinheit

Info

Publication number: DE102014114330A1
Application number: DE102014114330.2A
Authority: DE
Inventors: Christoph Köckert; Markus Berendt
Original assignee: Von Ardenne GmbH
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2014-10-02
Filing date: 2014-10-02
Publication date: 2016-04-07
Anticipated expiration: 2034-10-03
Also published as: CN105481266B; CN105481266A; DE102014114330B4

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat sowie eine Glaseinheit. Damit ein solches Schichtsystem möglichst neutrale schichtseitige Reflexionsfarbwerte sowie Transmissionsfarbwerte aufweist, umfasst das Schichtsystem zumindest folgende Schichten vom Substrat S aufwärts betrachtet: eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht GS, eine erste Funktionsschicht FS 1, eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht ZS 1, eine zweite Funktionsschicht FS 2, eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht DS.

Description

Die Erfindung betrifft allgemein ein Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat sowie eine Glaseinheit.
Derartige Solar-Control-Schichtsysteme, nachfolgend auch nur als Schichtsysteme bezeichnet, werden, z. B. auf Glas mittels Vakuumbeschichtung aufgebracht, hauptsächlich in der Architekturglasindustrie zur Fenster- und Fassadengestaltung und in der Automobilindustrie verwendet. Ziel ist eine Reduzierung des Gesamtenergiedurchlassgrades g. Die Gesamtenergie setzt sich zusammen aus dem Teil der Solarstrahlungsenergie, der direkt durch das Glas mittels Transmission von sichtbarem Licht (380 nm bis 780 nm) und Strahlung im Wellenlängenbereich des nahen Infrarots (ca. 780 nm bis 3 µm) in das Innere des Raumes gelangt und der Energie, die nach vorheriger Glaserwärmung nach innen abgegeben wird, wobei maximal der Anteil abgegeben werden kann, der zuvor absorbiert wurde. Je kleiner der g-Wert, desto höher ist die Sonnenschutzwirkung.
Das typische Schichtsystem reduziert durch seinen Aufbau die Transmission nichtselektiv, d. h. über den gesamten Wellenlängenbereich der Solarstrahlung gleichermaßen, wobei je nach konkreter Anwendung ein bestimmter Transmissionsgrad erwünscht ist.
Zudem kann ein vorzugebendes Maß an Reflexions- und/oder Absorptionsvermögen für Strahlung im sichtbaren spektralen sowie nahen Infrarotbereich gefordert sein, um einen Wärmeeintrag von außen zu verringern.
Das übliche Solar-Control-Schichtsystem umfasst meist drei Schichten, wobei die Funktionsschicht dabei regelmäßig zwischen zwei dielektrischen Schichten, einer Grundschicht und einer Deckschicht beispielsweise aus Siliziumnitrid Si₃N₄, eingebettet ist, die z. B. der Entspiegelung, Verhinderung von Diffusionsprozessen, der Haftungsverbesserung und/oder der Erhöhung der mechanischen Stabilität des Schichtsystems dienen. Als Funktionsschicht dient dabei eine Schicht, die eine relativ hohe Absorption und geringe Reflexion im solaren Bereich (sichtbares Licht und nahes Infrarot bis λ < 3 µm) aufweist. Diese Reflexion und/oder Absorption der Infrarotstrahlung wird innerhalb des Schichtsystems hauptsächlich durch eine metallische oder metallnitridische Funktionsschicht, nachfolgend nur als Funktionsschicht bezeichnet, beispielsweise aus CrN, NiCr, Cr, Ni, NiNx, CrNx oder NiCrNx, realisiert.
Eine weitere Eigenschaft der beschriebenen Schichtsysteme ist deren Eignung für eine Wärmebehandlung (Tempern), z. B. bei der Herstellung von Sicherheitsglas im Architektur- und Fahrzeugbereich und der Formgebung, z. B. bei der Herstellung von Windschutzscheiben. Da die Beschichtung der Substrate aus prozesstechnischen sowie Kostengründen zumeist vor der Wärmebehandlung stattfindet, kommen vorrangig Schichtsysteme zum Einsatz, deren mechanische und optische Eigenschaften sich durch die Wärmebehandlung nicht oder nicht wesentlich verschlechtern.
In dieser Ausführung werden zur Vermeidung von überwiegend temperaturinduzierten, die Funktionsschicht beeinträchtigenden Diffusions- und Oxidationsvorgänge kann ein- oder beidseitig der Funktionsschicht eine Blockerschicht abgeschieden, die als Puffer für die diffundierenden Komponenten dient. Diese Blockerschichten sind entsprechend der auftretenden Temperaturbelastung angeordnet und schützen die empfindliche, oft sehr dünne Funktionsschicht vor dem Einfluss benachbarter Schichten.
Ein Solar-Control-Schichtsystem wird im Bereich Architekturverglasung in der Regel auf Position 2, das heißt auf der Innenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, aufgebracht. In besonderen Fällen ist jedoch auch ein Aufbringen auf Position 1, das heißt auf der Außenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, möglich.
Insbesondere für Architekturverglasungen spielt der Farbeindruck der beschichteten Substrate eine wichtige Rolle. Neutrale Farben sind im CIE L*a*b*-Farbsystem durch a*- und b*-Farbwerte von ca. Null gekennzeichnet, während grüne Farben durch negative a*-Farbwerte, blaue Farben durch negative b*-Farbwerte, rote Farben durch positive a*-Farbwerte und gelbe Farben durch positive b*-Farbwerte charakterisiert sind.
Alternativ zum CIE L*a*b*-Farbsystem können Farbwerte auch im Yxy-System angegeben werden, wobei die Y-Koordinate den Helligkeits- oder Intensitätswert beschreibt. Je größer der zu einer Farbe gehörige Y-Wert ist, desto intensiver erscheint die Farbe.
Mitunter ist beispielsweise für die Verkleidung von Gebäudefassaden eine ganz bestimmte, mitunter auch intensive, substratseitige Reflexionsfarbe, gekennzeichnet durch bestimmte a*(Rg)- und b*(Rg)-Werte gewünscht, um eine bestimmte Farbassoziation, das heißt eine bestimmte emotionale und psychologische Wirkung, hervorzurufen oder eine harmonische Anpassung an die Umgebung zu bewirken. Beispielsweise ist in der bisher unveröffentlichten Anmeldung DE 10 2013 112 990 ein Solar-Control-Schichtsystem mit einem intensiven Farbeindruck beschrieben.
Vor allem bei Schichtsystemen mit gezielt farblichen Rg-Werten, z. B. mit einem blauen, grünen oder goldenen substratseitigen Farbeindruck, d. h. im Falle einer Architekturverglasung von außen betrachtet, ergeben sich oft unvorteilhafte, z. B. gelb-braune oder rötliche, schichtseitige Farbwerte (Reflexionsfarbwerte a*(Rf) und b*(Rf) sowie Transmissionsfarbwerte a*(T) und b*(T)). Dies ist visuell außerordentlich unangenehm und daher höchst unerwünscht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein auf einem Substrat abgeschiedenes Solar-Control-Schichtsystem anzugeben, welches möglichst neutrale schichtseitige Reflexionsfarbwerte sowie Transmissionsfarbwerte aufweist. Weiterhin sollen der Transmissionsgrad und die substratseitigen Farbwerte eines solchen Schichtsystems einstellbar sein.
Insbesondere ist gewünscht, ein derartiges Schichtsystem anzugeben, dessen Y(Rg)-Wert möglichst hoch ist, damit der substratseitige Farbeindruck möglichst intensiv ist. Das Schichtsystem soll zudem eine hohe chemische und mechanische Stabilität, auch hinsichtlich der Farbe, aufweisen sowie temperbar und kostengünstig herstellbar sein.
Weiterhin soll die Emissivität des Schichtsystems, d. h., das Maß für die Fähigkeit einer Oberfläche absorbierte Wärme wieder als Strahlung abzugeben, möglichst gering sein.
Zur Lösung der Aufgabe werden ein Solar-Control-Schichtsystem mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 sowie eine Glaseinheit mit den Merkmalen des Anspruchs 12 angegeben.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Das erfindungsgemäße Solar-Control-Schichtsystem ist auf einem transparenten dielektrischen Substrat, insbesondere aus Glas oder einem Polymermaterial, angeordnet.
Das Schichtsystem umfasst eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht. Sie dient insbesondere der Verminderung von unerwünschten Diffusionsvorgängen aus dem Substrat in das darüber liegende Schichtsystem und hier insbesondere in die Funktionsschichten und trägt dadurch zur Stabilität des gesamten Schichtsystems bei. Zudem sorgt die Grundschicht für eine gute Haftung der nachfolgenden Schichten. Die Grundschicht beeinflusst zusammen mit der Deckschicht mit ihrer Schichtdicke und ihren Dispersionsverläufen der optischen Daten Brechungsindex und Extinktionskoeffizient dabei die Farbeinstellung in hohem Maß.
Eine gute Barrierewirkung, welche insbesondere für zu tempernde Schichtsysteme aufgrund der erhöhten Diffusionsneigung bei höheren Temperaturen wichtig ist, wird insbesondere durch solche Schichten erzielt wird, welche neben den spezifischen Ionenfängern speziell für Natriumionen auch eine dichte Struktur aufweisen.
Aufgrund seiner dichten Struktur und der damit verbundenen guten Barriereeigenschaften gegenüber einer Diffusion von Natriumionen sowie seiner Temperaturstabilität der Aufwachsstruktur ist insbesondere Si₃N₄ für temperbare Schichtsysteme geeignet.
Die Schichtdicke der Grundschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 9 und 115 nm.
Über der Grundschicht ist eine erste Funktionsschicht angeordnet, welche die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der ersten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 15 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 3 und 7 nm.
Über der ersten Funktionsschicht ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht angeordnet. Niedrigbrechend bedeutet, dass der Brechungsindex der Zwischenschicht bei einer Wellenlänge von 550 nm kleiner als der Brechungsindex der Grund- und Deckschicht ist. Die Schichtdicke der Zwischenschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 30 und 100 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 45 und 100 nm.
Über der Zwischenschicht ist eine zweite Funktionsschicht angeordnet, welche ebenfalls die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der zweiten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 15 und 40 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 15 und 30 nm.
Optional können über der zweiten Funktionsschicht eine oder mehrere weitere Funktionsschichten angeordnet sein, wobei die einzelnen Funktionsschichten jeweils durch niedrigbrechende dielektrische Zwischenschichten voneinander getrennt sind.
Nach oben abgeschlossen wird das Schichtsystem mittels einer siliziumhaltigen dielektrischen Deckschicht, welche beispielsweise aus Si₃N₄ oder Siliziumoxinitrid bestehen kann. Die Deckschicht dient insbesondere dem mechanischen und chemischen Schutz des Schichtsystems und der Einstellung der Farbe. Mit Si₃N₄ als Material der Deckschicht können aufgrund seiner dichten Struktur besonders stabile Schichtsysteme erzeugt werden. Die Schichtdicke der Deckschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 25 und 100 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 35 und 70 nm.
Das erfindungsgemäße Schichtsystem kann optional weitere Schichten wie z. B. Haft-, Keim- und/oder Blockerschichten enthalten, welche die Funktion der beschriebenen Schichten unterstützen.
Es kann beispielsweise mittels physikalischer Gasphasenabscheidung auf dem Substrat abgeschieden werden. Vorzugsweise erfolgt die Abscheidung mittels Magnetronsputtern, was die Erzeugung von dichten Einzelschichten auch mit geringen Schichtdicken ermöglicht.
Die Schichteigenschaften können dabei sehr gut und reproduzierbar mittels der Art des Sputterverfahrens, wie z. B. DC(Gleichspannungs)-, MF(Mittelfrequenz)-, pulsed DC(gepulstes Gleichspannungs)- oder DAS-(Dual-Anode-Sputtering) Sputtern, und den Sputterparametern eingestellt werden. Außerdem können sowohl rohrförmige Targets als auch planare Targets eingesetzt werden.
„Bestehend aus“ schließt auf alle Schichten des Schichtsystems bezogen ein, dass technologisch bedingte Verunreinigungen oder technologisch bedingte Beimengungen, die zur Prozessführung während der Abscheidung oder, z. B. bei der Kathodenzerstäubung, zur Targetherstellung dienlich sind, enthalten sein können. Derartige Verunreinigungen oder technologische Beimengungen liegen meist im Bereich von kleiner 1 At.-%, können aber auch einige wenige Prozent betragen. Die genannten stöchiometrischen Verbindungen schließen geringfügige stöchiometrische Abweichungen ein, sofern damit keine wesentlichen Eigenschaftsänderungen verbunden sind. Zudem können auch sogenannte Gradientenschichten eingesetzt werden, das heißt Schichten, deren Zusammensetzung sich über die Schichtdicke ändert. Alternativ kann insbesondere die Funktionsschicht aus mehreren Teilschichten unterschiedlicher Materialien aufgebaut sein.
Das erfindungsgemäße Schichtsystem zeichnet sich durch eine weitgehend neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Bevorzugt liegt der Farbwert a*(Rf) im Bereich zwischen –4 und 4, bevorzugt im Bereich zwischen –4 und 0. Der Farbwert b*(Rf) liegt bevorzugt im Bereich zwischen –7 und 0, bevorzugt im Bereich zwischen –4 und 0. Die Transmissions-Farbwerte des Schichtsystems lagen mit den erzielbaren Werten von –4 ≤ a*(T) ≤ 0 und –6 ≤ b*(T) ≤ 2 ebenfalls im neutralen Bereich. Zudem lassen sich der Transmissionsgrad und die substratseitige Reflexionsfarbe einstellen, wobei die substratseitige Reflexionsfarbe vorrangig über die Dicken der Grund- und Deckschichten eingestellt wird, während die Materialien der einzelnen Schichten für den erzielbaren Farbeindruck lediglich eine untergeordnete Rolle spielen. Mit den beschriebenen Schichtdicken sind sehr unterschiedliche substratseitige Reflexionsfarben erzielbar, beispielsweise Blau, Grün und ebenso Gold.
Weiterhin weist das erfindungsgemäße Schichtsystem einen hohen Y(Rg)-Wert auf, der die substratseitige Reflexionsfarbe besonders intensiv erscheinen lässt. Es konnten Werte bis 23 erzielt werden, im Vergleich zu Y(Rg) von 16 für das zu 1 beschriebene, bekannte Schichtsystem.
Das erfindungsgemäße Schichtsystem ist zudem chemisch und mechanisch beständig gemäß den gegenwärtigen Standards und lässt sich aufgrund des einfachen Aufbaus effektiv bezüglich Zeit- und Materialbedarf und damit kostengünstig herstellen. Auf die Kosteneffizienz wirkt sich weiter positiv aus, dass die Herstellung des Schichtsystems mit der gewünschten Farbe mit solchen Materialien erfolgen kann, die in ihrer Verarbeitung und Variabilität bekannt und erprobt sind, und die in regelmäßigen Anlagenkonfigurationen verwendet werden. Damit kann, auch bei einer gewünschten Reflexionsfarbe, häufig auf Umbauten verzichtet werden, was die Auslastung einer Anlage erhöht.
Bei Verwendung von Si₃N₄ als Material der Grundschicht ist das erfindungsgemäße Schichtsystem zudem temperfähig, was die gleiche oder zumindest eine optisch nicht wahrnehmbare Veränderung der Reflexionsfarbe eines getemperten im Vergleich zum ungetemperten Schichtsystem einschließt.
Die Funktionsschichten des Schichtsystems können wahlweise aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen.
Als Material für die Funktionsschichten sind besonders Metalle, Metalllegierungen, Halbleiter oder Verbindungen von Metallen, Metalllegierungen oder Halbleitern, insbesondere stöchiometrische oder unterstöchiometrische Nitride, geeignet. Bevorzugt können die Funktionsschichten beispielsweise aus Chrom, Nickel-Chrom NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden bestehen.
Besonders geeignet ist stöchiometrisches Titannitrid TiN, da mit einem derartigen Schichtsystem eine im Vergleich zum Stand der Technik deutlich höhere elektrische Leitfähigkeit erreicht werden kann. Damit einher geht eine gewünschte Verringerung der Emissivität des Schichtsystems. Beispielsweise können je nach konkreter Ausführung des Schichtsystems nach dem Tempern Emissivitäten kleiner 0,6 und bei Verwendung von zusätzlichen Blockerschichten sogar kleiner 0,5 erzielt werden. Übliche Solar-Control-Schichtsysteme weisen hingegen eine viel geringere Leitfähigkeit auf und zeigen daher die gleiche Emissivität wie das unbeschichtete Substrat, im Falle von Glas ca. 0,87.
Gemäß einer Ausführungsvariante besteht die niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht aus Al₂O₃, einem Aluminiumoxinitrid, SiO₂ oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Bevorzugt besteht die Zwischenschicht aus Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Für den Fall, dass das Schichtsystem mehrere Zwischenschichten umfasst, können auch mehrere oder auch alle Zwischenschichten aus einem der genannten Materialien bestehen.
Optional kann das Schichtsystem eine oder mehrere Blockerschichten umfassen, welche benachbart, insbesondere in direktem Kontakt, zu zumindest einer Funktionsschicht angeordnet sind. Derartige Blockerschichten verhindern eine Farbveränderung aufgrund eines Temperprozesses. Die Blockerschichten können beispielsweise aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid bestehen. Die Schichtdicke einer solchen Blockerschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 5 nm.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung ist lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht eine Blockerschicht aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid angeordnet, welche das Schichtsystem während eines Temperprozesses insbesondere vor Oxidationsprozessen mit der umgebenden Atmosphäre noch besser schützt.
Eine erfindungsgemäße Glaseinheit weist zumindest zwei Glassubstrate auf, die mit oder ohne Abstand miteinander über geeignete Mittel zur Verbindung verbunden sind. Die Glaseinheit kann beispielsweise als Isolierglaseinheit fungieren oder aber auch als Verbundglaseinheit, z. B. als Fahrzeug- oder Sicherheitsverglasungen, bei denen zwei Glassubstrate als Scheiben ohne Zwischenraum über ein Verbindungsmittel, z. B. eine Folie, direkt miteinander verbunden sind.
Eines der Glassubstrate weist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem auf, wobei das beschichtete Glassubstrat innerhalb der Glaseinheit meist so angeordnet ist, dass die Beschichtung zwischen den Substraten, bevorzugt auf Position 2 der Glaseinheit, liegt.
Nachfolgend soll die Erfindung anhand von zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die dazugehörigen Zeichnungen zeigen in
1 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem Stand der Technik,
2 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel,
3 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel,
4 Gegenüberstellung der erreichbaren Farbwerte, Widerstände und Emissivitäten der ungetemperten Einzelscheibe.
Ein Solar-Control-Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik (1) weist vom Substrat S (6 mm dickes Glas) aufwärts betrachtet folgende Schichten auf: eine Grundschicht GS aus Si₃N₄ mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 228 nm, eine Funktionsschicht FS aus einem Chromnitrid CrN_x mit einer Schichtdicke zwischen 9 und 17 nm und darüber eine Deckschicht DS ebenfalls aus Si₃N₄ mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 54 nm. Für ein derartiges Schichtsystem ergeben sich die in 4 angegebenen Farbwerte sowie ein Widerstand größer als 1000 Ω, so dass das Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik als nicht leitfähig eingestuft wird.
Gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems (2) ist auf einem 6 mm dicken Glassubstrat S eine Grundschicht GS aus Si₃N₄ mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 9 und 15 nm angeordnet. Direkt darüber folgt eine erste Funktionsschicht FS 1 aus einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrN_x oder einem Chromnitrid CrN_x mit einer Schichtdicke zwischen 4 und 7 nm. Direkt oberhalb der ersten Funktionsschicht FS 1 ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht ZS aus einem Siliziumoxinitrid SiO_xN_y mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 90 und 100 nm angeordnet. Der Brechungsindes der Zwischenschicht ZS beträgt bei einer Wellenlänge von 550 nm zwischen 1,75 und 1,95.
Direkt oberhalb der Zwischenschicht ZS befindet sich die zweite Funktionsschicht FS 2 aus einem Titannitrid TiN_x mit einer Schichtdicke zwischen 25 und 30 nm. Direkt oberhalb der zweiten Funktionsschicht FS 2 ist eine Deckschicht DS aus Si₃N₄ mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 30 und 45 nm angeordnet.
Mit dem genannten Schichtaufbau lassen sich die in 4 unter „Ausführungsbeispiel 1“ angegebenen Farbwerte für die substratseitige und schichtseitige Reflexion sowie für die Transmission erreichen. Bei Variation der Schichtdicken in den angegebenen Bereichen wurde beispielsweise festgestellt, dass sich bei gleichbleibend neutraler schichtseitiger Reflexionsfarbe mit zunehmender Schichtdicke der Grundschicht die substratseitigen Farbwerte b*(Rg) in Richtung der positiven Werte verschieben. Hingegen wurde mit der höchsten Schichtdicke der Deckschicht die niedrigsten a*(Rg) und der höchste Wert für Y(Rg) erzielt.
Im Vergleich zum Stand der Technik weist das erfindungsgemäße Schichtsystem eine neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Zudem weist das Schichtsystem gemäß Ausführungsbeispiel 1 einen deutlich verringerten Widerstand auf, was sich in einer verringerten Emissivität widerspiegelt.
Das zweite Ausführungsbeispiel (3) unterscheidet sich vom ersten Ausführungsbeispiel dadurch, dass zwischen zweiter Funktionsschicht FS und der Deckschicht DS eine Blockerschicht BS aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrN_x angeordnet ist. Die Schichtdicke der Blockerschicht BS liegt im Bereich zwischen 1 und 3 nm, die übrigen Schichtdicken sind dem Ausführungsbeispiel 1 entsprechend ausgebildet.
Auch die zum zweiten Ausführungsbeispiel zugehörigen Farbwerte können 4 entnommen werden. Die substratseitige Reflexionsfarbe ist vergleichbar dem Ausführungsbeispiel 1 einstellbar. Im Vergleich zum Ausführungsbeispiel 1 sind der Widerstand und damit die Emissivität nochmals verringert.
Bezugszeichenliste

S

Substrat

GS

Grundschicht

FS

Funktionsschicht

ZS

Zwischenschicht

BS

Blockerschicht

DS

Deckschicht

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102013112990 [0011]

Claims

Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten dielektrischen Substrat (S) mit zumindest folgenden Schichten vom Substrat (S) aufwärts betrachtet: – eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht (GS), – eine erste Funktionsschicht (FS 1), – eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS 1), – eine zweite Funktionsschicht (FS 2), – eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht (DS).
Schichtsystem nach Anspruch 1, wobei über der zweiten Funktionsschicht (FS 2) eine oder mehrere weitere Funktionsschichten (FS x mit x = 3, 4, ...) angeordnet sind, die von der jeweils darunterliegenden Funktionsschicht (FS x –1) durch eine weitere niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS) getrennt sind.
Schichtsystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Funktionsschichten (FS) aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Funktionsschichten (FS) aus einem Metall, einer Metalllegierung, einem Halbleiter oder einer Metall- oder Halbleiterverbindung, insbesondere einem stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitrid, bestehen.
Schichtsystem nach Anspruch 4, wobei die Funktionsschichten (FS) aus Chrom, NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden, insbesondere TiN, bestehen.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei zumindest eine der niedrigbrechenden dielektrischen Zwischenschichten (ZS) aus Al₂O₃, einem Aluminiumoxinitrid, SiO₂ oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0, insbesondere einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95, bei einer Wellenlänge von 550 nm besteht.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Grund- und Deckschicht (GS, DS) aus Si₃N₄ besteht.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei eine oder mehrere Blockerschichten (BS) benachbart zu zumindest einer Funktionsschicht (FS) angeordnet sind.
Schichtsystem nach Anspruch 8, wobei lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht (FS) eine Blockerschicht (BS) aus NiCr oder Nickelchromnitrid angeordnet ist.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Farbwert a*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(Rf) ≤ 4 und der Farbwert a*(T) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(T) ≤ 0 liegt.
Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Farbwert b*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –7 ≤ b*(Rf) ≤ 0 und der Farbwert b*(T) des Schichtsystems im Bereich –6 ≤ b*(T) ≤ 2 liegt.
Glaseinheit mit zumindest zwei Glassubstraten (S, S1), die mit oder ohne Abstand zueinander über Mittel zur Verbindung der Glassubstrate (S, S1) miteinander verbunden sind, wobei eines der Glassubstrate (S, S1) ein Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche aufweist.